JPH05317704A - 窒素吸着−および脱着組成物および窒素の分離方法 - Google Patents
窒素吸着−および脱着組成物および窒素の分離方法Info
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/14—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols by absorption
- B01D53/1493—Selection of liquid materials for use as absorbents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B21/00—Nitrogen; Compounds thereof
- C01B21/04—Purification or separation of nitrogen
- C01B21/0405—Purification or separation processes
- C01B21/0433—Physical processing only
- C01B21/0488—Physical processing only by absorption in liquids
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F15/00—Compounds containing elements of Groups 8, 9, 10 or 18 of the Periodic Table
- C07F15/02—Iron compounds
- C07F15/025—Iron compounds without a metal-carbon linkage
-
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- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/28—Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
- C07F9/50—Organo-phosphines
- C07F9/5027—Polyphosphines
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B2210/00—Purification or separation of specific gases
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- C01B2210/0068—Organic compounds
- C01B2210/007—Hydrocarbons
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 窒素ガスを他のガスから選択的に分離する窒
素−吸着および−脱着組成物および方法を提供する。 【構成】 窒素−吸着および脱着組成物は五配位有機金
属錯体および≧20MPa1/2 の溶解度パラメータを有
する溶剤を含み、この溶剤は前記有機金属錯体を≧0.1
Mに溶解することができ、前記有機金属錯体はMo,W
および第7,8および9族から選択した遷移金属からな
り、および少なくとも1個の配位子は5の配位原子を前
記有機金属錯体に与えることができる。
素−吸着および−脱着組成物および方法を提供する。 【構成】 窒素−吸着および脱着組成物は五配位有機金
属錯体および≧20MPa1/2 の溶解度パラメータを有
する溶剤を含み、この溶剤は前記有機金属錯体を≧0.1
Mに溶解することができ、前記有機金属錯体はMo,W
および第7,8および9族から選択した遷移金属からな
り、および少なくとも1個の配位子は5の配位原子を前
記有機金属錯体に与えることができる。
Description
【0001】
【技術分野】本発明は窒素ガスを他のガスから、特に天
然ガスから選択的に分離することに関する。
然ガスから選択的に分離することに関する。
【0002】
【背景技術】世界中の天然ガスの25%は許容されない
高レベルの不燃性汚染物窒素を含んでいる。窒素を天然
ガスから除去する実験はメタン収着、および極低温蒸留
の種々の技術、例えば液化、ターボ極低温蒸留および
「コールド ボックス」分離を含んでいる。好結果で達
成されるとは云っても、これらのすべての実験は比較的
に高価で、かつ効率がよくない。それ故、窒素を天然ガ
スから選択的に除去する簡単で、効率よく、しかも低コ
ストの方法の必要性が望まれている。この必要性および
他の問題は本発明に応ずるものであり、以下において詳
述する。
高レベルの不燃性汚染物窒素を含んでいる。窒素を天然
ガスから除去する実験はメタン収着、および極低温蒸留
の種々の技術、例えば液化、ターボ極低温蒸留および
「コールド ボックス」分離を含んでいる。好結果で達
成されるとは云っても、これらのすべての実験は比較的
に高価で、かつ効率がよくない。それ故、窒素を天然ガ
スから選択的に除去する簡単で、効率よく、しかも低コ
ストの方法の必要性が望まれている。この必要性および
他の問題は本発明に応ずるものであり、以下において詳
述する。
【0003】
【発明の開示】本発明は窒素−吸着および−脱着組成物
(または「収着材料(sorption material )と称す
る)、およびこれを用いて窒素を他のガスから選択的に
除去する方法を含んでいる。特に、収着組成物は有機金
属錯体のみを含んでいるか、または比較的に不活性なマ
トリックス中での有機金属錯体を含んでおり、この場合
マトリックスは有機金属錯体を≧0.1Mに溶解すること
のできる液体、または重合体または多孔性無機材料のよ
うな固体であり、さらに有機金属錯体は遷移金属、およ
び5個の配位原子を与えることのできる少なくとも1個
の配位子を含んでいる。ある場合においては、1個の配
位子はアキシアル位置(axial position)にあり、「ア
キシアル ベース(axial base) 」と称されており、こ
のアキシアル ベースは配位原子を有機金属錯体に与え
ることができる。
(または「収着材料(sorption material )と称す
る)、およびこれを用いて窒素を他のガスから選択的に
除去する方法を含んでいる。特に、収着組成物は有機金
属錯体のみを含んでいるか、または比較的に不活性なマ
トリックス中での有機金属錯体を含んでおり、この場合
マトリックスは有機金属錯体を≧0.1Mに溶解すること
のできる液体、または重合体または多孔性無機材料のよ
うな固体であり、さらに有機金属錯体は遷移金属、およ
び5個の配位原子を与えることのできる少なくとも1個
の配位子を含んでいる。ある場合においては、1個の配
位子はアキシアル位置(axial position)にあり、「ア
キシアル ベース(axial base) 」と称されており、こ
のアキシアル ベースは配位原子を有機金属錯体に与え
ることができる。
【0004】本発明の方法は、窒素を酸素、一酸化炭
素、チオールおよびスルフィドを実質的に含有しない窒
素−含有供給流から、この供給流を窒素−収着および−
脱着材料と接触させ、次いで窒素を収着材料から脱着す
ることによって吸着することを含んでいる。脱着は温度
スィング(temperature swing )、圧力スィング(pres
sure swing)またはこれら両者の組合わせによって達成
することができる。窒素−収着能力は収着材料の分解に
より時間に伴って減少するから、効率を向上する随意の
段階はその窒素収着能力を種々の方法によって再生する
ことである。
素、チオールおよびスルフィドを実質的に含有しない窒
素−含有供給流から、この供給流を窒素−収着および−
脱着材料と接触させ、次いで窒素を収着材料から脱着す
ることによって吸着することを含んでいる。脱着は温度
スィング(temperature swing )、圧力スィング(pres
sure swing)またはこれら両者の組合わせによって達成
することができる。窒素−収着能力は収着材料の分解に
より時間に伴って減少するから、効率を向上する随意の
段階はその窒素収着能力を種々の方法によって再生する
ことである。
【0005】本発明においては、窒素を広範囲にわたる
種類の他のガスからの選択的に除去する有用性、および
窒素を自然に生ずる天然ガス混合物から除去する特異的
有用性を有する窒素−収着および脱着材料を提供する。
好適例によると、収着材料は2種の主要成分:すなわ
ち、溶剤および溶剤に≧0.1Mに溶解する有機金属錯体
を含む溶液である。一般的な用語において、溶剤は次の
特性を有する必要がある: ・親水性で、≧20MPa1/2 、好ましくは≧30MP
a1/2 の溶解度パラメータを有すること; ・有機金属錯体の窒素結合部位と配位結合しないか、ま
たは弱い程度に配位結合することができること; ・≧0.1M、好ましくは≧0.25Mであって、しかも最
低操作温度における溶解度限界の95%を越さないよう
にする有機金属錯体の溶解度、または操作温度において
≦100cpsの溶液粘度を与える濃度を有すること;
および ・種々カラムに進入する際、窒素含有供給流の温度およ
び圧力下で、有機金属錯体のモル当り≧0.1モルの窒素
の見掛け窒素溶解度、および脱着またはストリッピング
カラムにおける普通の温度および圧力条件下での実質
的に減少させた窒素溶解度を有することである。 また、溶剤は低い揮発性(b.p.>90℃)および低い毒
性を有するのが好ましい。
種類の他のガスからの選択的に除去する有用性、および
窒素を自然に生ずる天然ガス混合物から除去する特異的
有用性を有する窒素−収着および脱着材料を提供する。
好適例によると、収着材料は2種の主要成分:すなわ
ち、溶剤および溶剤に≧0.1Mに溶解する有機金属錯体
を含む溶液である。一般的な用語において、溶剤は次の
特性を有する必要がある: ・親水性で、≧20MPa1/2 、好ましくは≧30MP
a1/2 の溶解度パラメータを有すること; ・有機金属錯体の窒素結合部位と配位結合しないか、ま
たは弱い程度に配位結合することができること; ・≧0.1M、好ましくは≧0.25Mであって、しかも最
低操作温度における溶解度限界の95%を越さないよう
にする有機金属錯体の溶解度、または操作温度において
≦100cpsの溶液粘度を与える濃度を有すること;
および ・種々カラムに進入する際、窒素含有供給流の温度およ
び圧力下で、有機金属錯体のモル当り≧0.1モルの窒素
の見掛け窒素溶解度、および脱着またはストリッピング
カラムにおける普通の温度および圧力条件下での実質
的に減少させた窒素溶解度を有することである。 また、溶剤は低い揮発性(b.p.>90℃)および低い毒
性を有するのが好ましい。
【0006】特に、好ましい溶剤としては、水、ジメチ
ルホルムアミド(DMF)、ジメチルアセトアミド(D
MAc)、ホルムアミド、N−メチルホルムアミド、グ
リセロールおよびグリコール、例えばエチレングリコー
ル、プロピレングリコール、プチレングリコール、ジメ
チルエチレングリコールおよびグリコール オリゴマー
を例示することができる。一般的に云うと、有用な溶剤
としては、ある場合には非極性液体を用いることができ
るけれども、好ましくは極性および親水性である液体ま
たはその混合物を包含している。有用な溶剤としてはラ
クタム、スルホキシド、ニトリル、アミド、アミン、エ
ステルおよびエーテルを例示することができる。上述す
る好ましい溶剤のほかに、広範囲にわたる種類の溶剤の
好ましい例としてはジメチルスルホキシド(DMS
O)、ジエチルスルホキシド、プロピレンカーボネー
ト、エチレンカーボネート、ベンゾニトリル、トリブチ
ルホスフェート(TBP)および他のホスフェート、ア
ルコール、グリコール、N−エチルホルムアミドおよび
窒素含有複素環式化合物を挙げることができる。
ルホルムアミド(DMF)、ジメチルアセトアミド(D
MAc)、ホルムアミド、N−メチルホルムアミド、グ
リセロールおよびグリコール、例えばエチレングリコー
ル、プロピレングリコール、プチレングリコール、ジメ
チルエチレングリコールおよびグリコール オリゴマー
を例示することができる。一般的に云うと、有用な溶剤
としては、ある場合には非極性液体を用いることができ
るけれども、好ましくは極性および親水性である液体ま
たはその混合物を包含している。有用な溶剤としてはラ
クタム、スルホキシド、ニトリル、アミド、アミン、エ
ステルおよびエーテルを例示することができる。上述す
る好ましい溶剤のほかに、広範囲にわたる種類の溶剤の
好ましい例としてはジメチルスルホキシド(DMS
O)、ジエチルスルホキシド、プロピレンカーボネー
ト、エチレンカーボネート、ベンゾニトリル、トリブチ
ルホスフェート(TBP)および他のホスフェート、ア
ルコール、グリコール、N−エチルホルムアミドおよび
窒素含有複素環式化合物を挙げることができる。
【0007】錯体は少なくとも1個であるが、しかし6
個以上でない遷移金属を有する配位子を含んでいる。配
位子は5個の配位原子を遷移金属に与えることができる
ようにする。配位子としては、一座、二座、三座、四座
または五座配位子に、または金属と五配位錯体を形成す
る一座、二座、三座、四座または五座の任意の組合わせ
にすることができる。有機金属錯体としては第6配位座
部を生ずる結合窒素を有する五配位が好ましい。
個以上でない遷移金属を有する配位子を含んでいる。配
位子は5個の配位原子を遷移金属に与えることができる
ようにする。配位子としては、一座、二座、三座、四座
または五座配位子に、または金属と五配位錯体を形成す
る一座、二座、三座、四座または五座の任意の組合わせ
にすることができる。有機金属錯体としては第6配位座
部を生ずる結合窒素を有する五配位が好ましい。
【0008】好ましい有機金属錯体の部分を含む好まし
い遷移金属としては第6族の金属、および第7,8およ
び9族の金属のあるものを含んでおり、例えば初めの(e
arly)および第3の行の遷移金属Mo(0)、W
(0)、Re(I)、Re(II) 、Ru(II) 、Fe
(I)、Fe(II)、Co(0)、Co(I)、Os
(II)、Ir(I)、Rh(I)およびMn(I)を挙
げることができる。他の好ましい遷移金属としては第
3,4および5族の金属を例示することができる。一般
に、高いオキソフリシティ(oxophilicity)およびこの
結果として生ずる不可逆酸化に対する感受性を有する第
3〜5族のこれらの金属は避ける必要がある。また、第
3〜6族の金属の二窒素錯体は、一般に有機金属錯体の
窒素結合能力を失わしめる配位二窒素における化学反応
(例えばプロトン化)に影響を受けやすくならないよう
にするのが好ましい。
い遷移金属としては第6族の金属、および第7,8およ
び9族の金属のあるものを含んでおり、例えば初めの(e
arly)および第3の行の遷移金属Mo(0)、W
(0)、Re(I)、Re(II) 、Ru(II) 、Fe
(I)、Fe(II)、Co(0)、Co(I)、Os
(II)、Ir(I)、Rh(I)およびMn(I)を挙
げることができる。他の好ましい遷移金属としては第
3,4および5族の金属を例示することができる。一般
に、高いオキソフリシティ(oxophilicity)およびこの
結果として生ずる不可逆酸化に対する感受性を有する第
3〜5族のこれらの金属は避ける必要がある。また、第
3〜6族の金属の二窒素錯体は、一般に有機金属錯体の
窒素結合能力を失わしめる配位二窒素における化学反応
(例えばプロトン化)に影響を受けやすくならないよう
にするのが好ましい。
【0009】配位窒素に転位(trans )する配位子を
「アキシアル ベース」と称する。アキシアル ベース
は、通常エクアトリアル配位子(equatorial ligands)
より異なる部分 (moiety) であるから、実際にアキシア
ル ベースはエクアトリアル配位子である。典型的なア
キシアル ベースはハロゲンおよび擬ハロゲン(例えば
水素化物、シアン化物およびチオシアネートのよう
な)、アルシン、スチビン、ホスフィト、チオール、ス
ルフィド;ピリジン、イミダゾール、アミドおよびアミ
ンのような複素環式化合物を含む窒素含有塩基;チオフ
ェンのような硫黄含有複素環式化合物、一酸化炭素、窒
素、亜酸化窒素、ヒドロキシ、アルコキシ、アリールオ
キシおよびアルキル、アリールおよびオレフィン基のよ
うな炭化水素残基から選択することができる。また、ア
キシアル ベースは結合基を介して1または2個以上の
エクアトリアル配位子に共有結合することができる。適
当なアキシアル ベースを表1に示す。表2にはアキシ
アル ベースおよび多座(polydentate )配位子のR置
換基の定義を示しており、また表3には多座配位子の
R′結合基の定義を示している。
「アキシアル ベース」と称する。アキシアル ベース
は、通常エクアトリアル配位子(equatorial ligands)
より異なる部分 (moiety) であるから、実際にアキシア
ル ベースはエクアトリアル配位子である。典型的なア
キシアル ベースはハロゲンおよび擬ハロゲン(例えば
水素化物、シアン化物およびチオシアネートのよう
な)、アルシン、スチビン、ホスフィト、チオール、ス
ルフィド;ピリジン、イミダゾール、アミドおよびアミ
ンのような複素環式化合物を含む窒素含有塩基;チオフ
ェンのような硫黄含有複素環式化合物、一酸化炭素、窒
素、亜酸化窒素、ヒドロキシ、アルコキシ、アリールオ
キシおよびアルキル、アリールおよびオレフィン基のよ
うな炭化水素残基から選択することができる。また、ア
キシアル ベースは結合基を介して1または2個以上の
エクアトリアル配位子に共有結合することができる。適
当なアキシアル ベースを表1に示す。表2にはアキシ
アル ベースおよび多座(polydentate )配位子のR置
換基の定義を示しており、また表3には多座配位子の
R′結合基の定義を示している。
【0010】
【表1】
【0011】
【表2】
【0012】
【表3】
【0013】適当な一座エクアトリアル配位子は次に示
す4つのグループの有機化合物を含んでいる; 1.次の構造式のアルシン、アミン、ホスフィンおよび
スチビン:
す4つのグループの有機化合物を含んでいる; 1.次の構造式のアルシン、アミン、ホスフィンおよび
スチビン:
【化1】 (式中、ZはAs,N,PおよびSbから選択し、およ
び各Rは−Hまたは表2に示す任意の置換基、すなわち
置換基A,BまたはC(基として、3個のR置換基は−
Hまたは表2に示す置換基の任意の組合わせを含むこと
ができる)を示す); 2.次の構造式:
び各Rは−Hまたは表2に示す任意の置換基、すなわち
置換基A,BまたはC(基として、3個のR置換基は−
Hまたは表2に示す置換基の任意の組合わせを含むこと
ができる)を示す); 2.次の構造式:
【化2】R−S−R (式中、Rは上記と同様の意味を有する)のチオールお
よびスルフィド; 3.ハロゲンおよび擬ハロゲンH- , CN- およびSC
N- ;および 4.一酸化炭素および亜酸化窒素 適当な二座エクアトリアル配位子は次の4つのグループ
の有機化合物を含んでいる: 1.次の構造式のアミン、アルシン、ホスフィンおよび
スチビン:
よびスルフィド; 3.ハロゲンおよび擬ハロゲンH- , CN- およびSC
N- ;および 4.一酸化炭素および亜酸化窒素 適当な二座エクアトリアル配位子は次の4つのグループ
の有機化合物を含んでいる: 1.次の構造式のアミン、アルシン、ホスフィンおよび
スチビン:
【化3】 (式中、RおよびZは上記と同じ意味を有し、および
R′は表3に示す任意の結合配位子を示す); 2.次の構造式:
R′は表3に示す任意の結合配位子を示す); 2.次の構造式:
【化4】 (式中、RおよびR′は上記と同様の意味を有する)の
ホスフィト; 3.次の構造式:
ホスフィト; 3.次の構造式:
【化5】R−S−R′−S−R (式中、RおよびR′は上記と同様の意味を有する)の
チオールおよびスルフィド;および 4.表1のグループ3および4に示す置換および非置換
窒素−および硫黄−含有複素環式化合物。
チオールおよびスルフィド;および 4.表1のグループ3および4に示す置換および非置換
窒素−および硫黄−含有複素環式化合物。
【0014】適当な三座エクアトリアル配位子は次の4
つのグループの有機化合物を含んでいる: 1.次の構造式のアミン、アルシン、ホスフィンおよび
スチビン:
つのグループの有機化合物を含んでいる: 1.次の構造式のアミン、アルシン、ホスフィンおよび
スチビン:
【化6】 (式中、R,R′およびZは上記と同様の意味を有す
る); 2.次の構造式;
る); 2.次の構造式;
【化7】 (式中、RおよびR′は上記と同様の意味を有する)の
ホスフィト; 3.次の構造式:
ホスフィト; 3.次の構造式:
【化8】R−S−R′−S−R′−S−R (式中、RおよびR′は上記同様の意味を有する)のチ
オールおよびスルフィド;および 4.表1のグループ3および4に示す置換および非置換
窒素および硫黄−含有複素環式化合物。
オールおよびスルフィド;および 4.表1のグループ3および4に示す置換および非置換
窒素および硫黄−含有複素環式化合物。
【0015】適当な四座のエクアトリアル配位子は次の
6つのグループの有機化合物を含んでいる: 1.次の構造式のアミン、アルシン、ホスフィンおよび
スチビン:
6つのグループの有機化合物を含んでいる: 1.次の構造式のアミン、アルシン、ホスフィンおよび
スチビン:
【化9】 (式中、RおよびR′は上記と同様の意味を有する); 2.次の構造式:
【化10】 (式中、RおよびR′は上記と同様の意味を有する)の
ホスフィト; 3.次の構造式:
ホスフィト; 3.次の構造式:
【化11】 (式中、RおよびR′は上記と同様の意味を有する)の
チオールおよびスルスィド; 4.表1のグループ3および4に示す置換および非置換
窒素−および硫黄−含有複素環式化合物; 5.次の構造式:
チオールおよびスルスィド; 4.表1のグループ3および4に示す置換および非置換
窒素−および硫黄−含有複素環式化合物; 5.次の構造式:
【化12】 (式中、Rは上記と同様の意味を有する)の置換および
非置換ポルフィリン;および 6.次の構造式:
非置換ポルフィリン;および 6.次の構造式:
【化13】 (式中、Rは上記と同様の意味を有する)の置換および
非置換フタロシアニン。
非置換フタロシアニン。
【0016】結合窒素(N2 )に転位する配位子が金属
(「M」)に配位したアキシアルベース(「B」)であ
る種々のエクアトリアル配位子(「L」)の構造図形を
次に示す:
(「M」)に配位したアキシアルベース(「B」)であ
る種々のエクアトリアル配位子(「L」)の構造図形を
次に示す:
【化14】
【化15】
【0017】配位子(アキシアルベースを含む)は、こ
れらが5個の配位原子を錯体に供給するような任意の組
合わせとすることができる。従って、例えば以下の配位
子の任意の組み合わせが適切である:5個の一座配位
子;3個の一座配位子および1個の二座配位子;二座お
よび三座配位子各1個;一座および四座配位子各1個;
2個の一座配位子および1個の三座配位子;並びに1個
の五座配位子。
れらが5個の配位原子を錯体に供給するような任意の組
合わせとすることができる。従って、例えば以下の配位
子の任意の組み合わせが適切である:5個の一座配位
子;3個の一座配位子および1個の二座配位子;二座お
よび三座配位子各1個;一座および四座配位子各1個;
2個の一座配位子および1個の三座配位子;並びに1個
の五座配位子。
【0018】上記の通り、窒素吸着および脱着材は固体
または溶液とすることができる。固体の形態である際に
は、窒素吸着材は上記の構造を有する固体有機金属錯体
または比較的不活性な固体マトリックス中の有機金属錯
体のようなもののいずれかとすることができる。「不活
性」マトリックスは、ほとんど無反応性であり、供給流
中の著しい量の窒素または他のガスを吸収しない材料を
意味する。マトリックスは、気体窒素を多量に浸透して
これからの急速な拡散をさせるのが好ましい。適切なマ
トリックスの1つの群は重合体を含む;この例はポリジ
メチルシロキサン、ポリ(トリメチルシリルプロピ
ン)、ポリウレタン、ポリビニルアルコール、ポリ酢酸
ビニルおよびセルロースエステルを含む。適切なマトリ
ックスの他の1つの群は多孔性無機物質、例えば酸化物
またはセラミック物質である;適切な無機酸化物の例は
二酸化ケイ素および二酸化チタンを含む。
または溶液とすることができる。固体の形態である際に
は、窒素吸着材は上記の構造を有する固体有機金属錯体
または比較的不活性な固体マトリックス中の有機金属錯
体のようなもののいずれかとすることができる。「不活
性」マトリックスは、ほとんど無反応性であり、供給流
中の著しい量の窒素または他のガスを吸収しない材料を
意味する。マトリックスは、気体窒素を多量に浸透して
これからの急速な拡散をさせるのが好ましい。適切なマ
トリックスの1つの群は重合体を含む;この例はポリジ
メチルシロキサン、ポリ(トリメチルシリルプロピ
ン)、ポリウレタン、ポリビニルアルコール、ポリ酢酸
ビニルおよびセルロースエステルを含む。適切なマトリ
ックスの他の1つの群は多孔性無機物質、例えば酸化物
またはセラミック物質である;適切な無機酸化物の例は
二酸化ケイ素および二酸化チタンを含む。
【0019】窒素吸着材は、任意の圧力スイング吸収
(PSA)、温度スイング吸収(TSA)またはPSA
とTSAとの組み合わせにおいて用いることができる。
一般に、窒素吸着材が溶液の形態である際には、PSA
モードで用いるのが好ましい。PSAモードにおいて、
吸着工程と脱着工程との間の窒素分圧の差異は、0.7〜
28kg/cm2 (10〜400psi)の範囲内であるの
が好ましい。脱着工程における窒素分圧はまた不活性ス
ウィープガス(sweep gas) 例えば二酸化炭素、アルゴ
ン、水素、ヘリウムまたはメタンを、好ましくは向流モ
ードで用いることにより減少させることができる。スウ
ィープガスはまた、溶液中でまたは溶媒蒸気により吸着
された他のガス(例えばメタンまたは炭化水素)の放出
によりその場で効率的に発生することができる;この放
出または他の吸着されたガスは窒素分圧を効率的に低下
させる。全圧に関して、吸着工程は、脱着工程の全圧の
少なくとも20倍の全圧において実施するのが好まし
い。TSAモードにおいて用いる差異には、吸着工程と
脱着工程との間の好ましい温度差は、経済的効率を実現
させるために、20〜100℃の範囲内である。
(PSA)、温度スイング吸収(TSA)またはPSA
とTSAとの組み合わせにおいて用いることができる。
一般に、窒素吸着材が溶液の形態である際には、PSA
モードで用いるのが好ましい。PSAモードにおいて、
吸着工程と脱着工程との間の窒素分圧の差異は、0.7〜
28kg/cm2 (10〜400psi)の範囲内であるの
が好ましい。脱着工程における窒素分圧はまた不活性ス
ウィープガス(sweep gas) 例えば二酸化炭素、アルゴ
ン、水素、ヘリウムまたはメタンを、好ましくは向流モ
ードで用いることにより減少させることができる。スウ
ィープガスはまた、溶液中でまたは溶媒蒸気により吸着
された他のガス(例えばメタンまたは炭化水素)の放出
によりその場で効率的に発生することができる;この放
出または他の吸着されたガスは窒素分圧を効率的に低下
させる。全圧に関して、吸着工程は、脱着工程の全圧の
少なくとも20倍の全圧において実施するのが好まし
い。TSAモードにおいて用いる差異には、吸着工程と
脱着工程との間の好ましい温度差は、経済的効率を実現
させるために、20〜100℃の範囲内である。
【0020】供給ガスは、窒素と他のガス、代表的にメ
タンおよび他の炭化水素との混合物を含むのが好まし
く、混合物は酸素、一酸化炭素、チオールおよびスルフ
ィドをほとんど含まないのが好ましい。このような不純
物の好ましい限界は、ガスの分圧が以下のようになるよ
うなものである:酸素≦0.07kg/cm2 (≦1ps
i)、好ましくは7×10-5kg/cm2 (10-3ps
i);一酸化炭素≦0.7kg/cm2(≦10psi);ス
ルフィドおよびチオール≦7×10-5kg/cm2 (≦10
-3psi)。これらの好ましい限界にかかわらず、若干
の場合において、窒素吸着材はこのような不純物の存在
により比較的変化を受けず、従って供給ガスは顕著な
量、例えばこれらの10容量%までを含むことができ
る。一般に、非窒素成分は、溶媒に有機金属錯体の溶解
度の2倍より低い濃度で可溶でなければならない。供給
原料は事実上、−20〜100℃の範囲内の任意の温度
とすることができるが、若干の場合において、以下に述
べるが、より高い温度もまた用いることができる。一般
に、好ましい温度範囲は0〜100℃である。供給流中
の窒素の量は0.1〜80容量%の任意とすることができ
る。窒素は事実上、上記した不純物の限界により任意の
他のガスまたはガスの組み合わせと混合することができ
る。好ましい応用は、天然ガスを含む、1〜7個の炭素
を含む炭化水素と窒素との混合物および窒素と、1〜6
個の炭素原子を含む炭化水素の部分酸化から(石炭の酸
化からおよび炭化水素の酸化カップリングから)の炭化
水素との混合物を含む。供給流の温度範囲は0〜200
℃、好ましくは20〜150℃である。供給流は1.4〜
140kg/cm2 (20〜2000psi)の任意の圧力
において供給することができる。時間の経過に伴い、溶
液の窒素吸着能力は、有機金属錯体中の金属原子の形式
的酸化により減少しうる。溶液の窒素吸着能力は、以下
の種々の手法を用いて周期的に再生することができる。
タンおよび他の炭化水素との混合物を含むのが好まし
く、混合物は酸素、一酸化炭素、チオールおよびスルフ
ィドをほとんど含まないのが好ましい。このような不純
物の好ましい限界は、ガスの分圧が以下のようになるよ
うなものである:酸素≦0.07kg/cm2 (≦1ps
i)、好ましくは7×10-5kg/cm2 (10-3ps
i);一酸化炭素≦0.7kg/cm2(≦10psi);ス
ルフィドおよびチオール≦7×10-5kg/cm2 (≦10
-3psi)。これらの好ましい限界にかかわらず、若干
の場合において、窒素吸着材はこのような不純物の存在
により比較的変化を受けず、従って供給ガスは顕著な
量、例えばこれらの10容量%までを含むことができ
る。一般に、非窒素成分は、溶媒に有機金属錯体の溶解
度の2倍より低い濃度で可溶でなければならない。供給
原料は事実上、−20〜100℃の範囲内の任意の温度
とすることができるが、若干の場合において、以下に述
べるが、より高い温度もまた用いることができる。一般
に、好ましい温度範囲は0〜100℃である。供給流中
の窒素の量は0.1〜80容量%の任意とすることができ
る。窒素は事実上、上記した不純物の限界により任意の
他のガスまたはガスの組み合わせと混合することができ
る。好ましい応用は、天然ガスを含む、1〜7個の炭素
を含む炭化水素と窒素との混合物および窒素と、1〜6
個の炭素原子を含む炭化水素の部分酸化から(石炭の酸
化からおよび炭化水素の酸化カップリングから)の炭化
水素との混合物を含む。供給流の温度範囲は0〜200
℃、好ましくは20〜150℃である。供給流は1.4〜
140kg/cm2 (20〜2000psi)の任意の圧力
において供給することができる。時間の経過に伴い、溶
液の窒素吸着能力は、有機金属錯体中の金属原子の形式
的酸化により減少しうる。溶液の窒素吸着能力は、以下
の種々の手法を用いて周期的に再生することができる。
【0021】(1)金属を、溶液を30〜180℃に加
熱することにより形式的に還元し、この間、好ましくは
還元剤、例えば水素、マグネシウム、鉄またはチオサル
フェートイオンの存在下で酸化状態を防止すること; (2)溶媒を溶液からストリップし、次に残留有機金属
錯体を適切な溶媒から窒素または他の不活性ガス雰囲気
下で再結晶すること;並びに (3)溶液中の有機金属錯体を、強酸を加えることによ
り脱金属化し、酸化された遷移金属を不混和性有機溶媒
中に抽出し、次に還元された遷移金属をエカトリアル配
位子とアキシアルベースとの溶液で配位させ、再生した
有機金属錯体を再結晶すること。
熱することにより形式的に還元し、この間、好ましくは
還元剤、例えば水素、マグネシウム、鉄またはチオサル
フェートイオンの存在下で酸化状態を防止すること; (2)溶媒を溶液からストリップし、次に残留有機金属
錯体を適切な溶媒から窒素または他の不活性ガス雰囲気
下で再結晶すること;並びに (3)溶液中の有機金属錯体を、強酸を加えることによ
り脱金属化し、酸化された遷移金属を不混和性有機溶媒
中に抽出し、次に還元された遷移金属をエカトリアル配
位子とアキシアルベースとの溶液で配位させ、再生した
有機金属錯体を再結晶すること。
【0022】上記第1の再生方法に関連して、酸化状態
は、溶液を(a)0.2〜20cmHgの減圧下で約1〜4
8時間にわたり、(b)不活性雰囲気、例えば窒素また
はアルゴン雰囲気下で約1〜72時間にわたり、あるい
は(c)還元雰囲気、例えば水素雰囲気下で約1〜72
時間にわたり、還元触媒、例えば白金族金属の存在下ま
たは不存在下で加熱することにより防止することができ
る。
は、溶液を(a)0.2〜20cmHgの減圧下で約1〜4
8時間にわたり、(b)不活性雰囲気、例えば窒素また
はアルゴン雰囲気下で約1〜72時間にわたり、あるい
は(c)還元雰囲気、例えば水素雰囲気下で約1〜72
時間にわたり、還元触媒、例えば白金族金属の存在下ま
たは不存在下で加熱することにより防止することができ
る。
【0023】第2の再生方法に関連して、不活性有機金
属錯体を溶媒から溶媒の減圧または大気圧蒸留により単
離し、残留有機金属錯体を適切な溶媒から再結晶するこ
とができる。第3の再生方法に関して、適切な強酸は塩
酸、硫酸およびトリフルオロ酢酸を含む。酸化された金
属を不混和性有機溶媒、例えばトルエンおよび他の芳香
族溶媒並びにヘキサンおよび他の脂肪族溶媒中に、有機
可溶性金属抽出剤、例えばジアルキルリン酸、アルキル
アミン、第四アルキルアミンおよびアルキル−β−ジケ
トンを芳香族または脂肪族溶媒に加えることにより抽出
することができる。有機金属錯体の再結晶に適切な溶媒
は水、メタノール、エタノール、テトラヒドロフランお
よびアセトニトリルを含む。
属錯体を溶媒から溶媒の減圧または大気圧蒸留により単
離し、残留有機金属錯体を適切な溶媒から再結晶するこ
とができる。第3の再生方法に関して、適切な強酸は塩
酸、硫酸およびトリフルオロ酢酸を含む。酸化された金
属を不混和性有機溶媒、例えばトルエンおよび他の芳香
族溶媒並びにヘキサンおよび他の脂肪族溶媒中に、有機
可溶性金属抽出剤、例えばジアルキルリン酸、アルキル
アミン、第四アルキルアミンおよびアルキル−β−ジケ
トンを芳香族または脂肪族溶媒に加えることにより抽出
することができる。有機金属錯体の再結晶に適切な溶媒
は水、メタノール、エタノール、テトラヒドロフランお
よびアセトニトリルを含む。
【0024】ここで図面を参照して、図面中同一の符号
は同一の要素を示すが、PSAモードにおける本発明の
溶液の使用を図1に示す。ここで、窒素含有供給流10
を従来の気−液吸着カラム20に導入し、これによりガ
スを本発明の溶液に効率的に接触させる。吸着カラム2
0内において、窒素は溶液に選択的に吸着され、この結
果カラムを排出する「生成物」ガス25中の窒素濃度が
減少する(所望の分離に依存して窒素以外の事実上任意
のガスを生成物ガスと考えることができることがわか
る)。吸着カラム20中の溶媒の滞留時間は数分程度で
あり、一般に窒素を少なくとも10モル%の有機金属吸
着体に結合させるのに十分長くなければならない。カラ
ムは、液体吸収体の必要な容量および流速に適応して窒
素が液体に吸着されるのに十分な接触時間を有するのに
十分な寸法でなければならない。吸着カラム20の代わ
りに、他の気−液接触体、例えば中空繊維モジュール形
態の膜接触体を用いることができる。窒素複合液体吸収
体28をストリップカラム40に通じ、ここで窒素を液
体吸収体から脱着する。窒素脱着がストリップカラム内
で発生するように、ストリップカラム40を排出する窒
素含有流45における窒素の分圧は、吸着カラム20を
排出する生成物流25中の窒素の分圧より低くなければ
ならない。この状態は、ストリップカラム40を吸着カ
ラム20より低い圧力(代表的に0psigに近い全
圧)において操作するかまたはスウィープ流35を用い
てストリップカラム40を排出する窒素含有流45中の
窒素の分圧を低く維持することにより適合させる。液体
吸収体から脱着された窒素含有流45はストリップカラ
ム40から、ストリップカラムにおいて優勢である圧力
と同一の圧力であり、代表的に全圧が0psigに近い
圧力において排出する。若干の場合において、窒素含有
流45から脱着された窒素を、分離工程の最終生成物と
することができる。窒素をストリップカラム40中の液
体吸収体から脱着した後、窒素をストリップした液体吸
収体48を吸着カラム20に、ポンプ30を用いて戻
し、このサイクルをくり返す。
は同一の要素を示すが、PSAモードにおける本発明の
溶液の使用を図1に示す。ここで、窒素含有供給流10
を従来の気−液吸着カラム20に導入し、これによりガ
スを本発明の溶液に効率的に接触させる。吸着カラム2
0内において、窒素は溶液に選択的に吸着され、この結
果カラムを排出する「生成物」ガス25中の窒素濃度が
減少する(所望の分離に依存して窒素以外の事実上任意
のガスを生成物ガスと考えることができることがわか
る)。吸着カラム20中の溶媒の滞留時間は数分程度で
あり、一般に窒素を少なくとも10モル%の有機金属吸
着体に結合させるのに十分長くなければならない。カラ
ムは、液体吸収体の必要な容量および流速に適応して窒
素が液体に吸着されるのに十分な接触時間を有するのに
十分な寸法でなければならない。吸着カラム20の代わ
りに、他の気−液接触体、例えば中空繊維モジュール形
態の膜接触体を用いることができる。窒素複合液体吸収
体28をストリップカラム40に通じ、ここで窒素を液
体吸収体から脱着する。窒素脱着がストリップカラム内
で発生するように、ストリップカラム40を排出する窒
素含有流45における窒素の分圧は、吸着カラム20を
排出する生成物流25中の窒素の分圧より低くなければ
ならない。この状態は、ストリップカラム40を吸着カ
ラム20より低い圧力(代表的に0psigに近い全
圧)において操作するかまたはスウィープ流35を用い
てストリップカラム40を排出する窒素含有流45中の
窒素の分圧を低く維持することにより適合させる。液体
吸収体から脱着された窒素含有流45はストリップカラ
ム40から、ストリップカラムにおいて優勢である圧力
と同一の圧力であり、代表的に全圧が0psigに近い
圧力において排出する。若干の場合において、窒素含有
流45から脱着された窒素を、分離工程の最終生成物と
することができる。窒素をストリップカラム40中の液
体吸収体から脱着した後、窒素をストリップした液体吸
収体48を吸着カラム20に、ポンプ30を用いて戻
し、このサイクルをくり返す。
【0025】PSA/TSAの組み合わせのモードにお
ける本発明の窒素吸着および脱着溶液の使用を図2に図
式的に示す。ここで、ストリップカラム40を吸着カラ
ム20より高い温度で操作する以外は一般に図1と同様
にシステムを操作し、ストリップカラム40への熱の付
加を図式的に記号「+Q」で示した。あるいはまた、吸
収カラム20をストリップカラム40より低温としても
よく、これを図式的に記号「−Q」で示す。この操作の
組み合わせモードは、所定の窒素分圧における液体吸収
体の窒素結合能力が、窒素結合が典型的に若干の発熱反
応であるために温度上昇と共に減少するという事実を補
償するのに有用である。この結果、窒素含有吸収体との
平衡状態における窒素分圧は温度上昇と共に上昇する。
窒素脱着がストリップカラム40内で発生するように、
吸着カラム20内で優勢である温度および圧力において
吸着カラム20を排出する生成物ガス25の平衡状態に
おける吸収体中の濃度は、ストリップカラム40におい
て優勢である温度および圧力において窒素含有流45中
の窒素との平衡状態における吸収体中の窒素の濃度を超
過していなければならない。PSA/TSAの組み合わ
せモードの純粋なPSAモードに対する利点は、前者に
おいては窒素脱着がストリップカラム20中で、精密P
SAモードにおいて許容される分圧より高い窒素分圧に
おいて達成することができることである。PSAモード
に関して、PSA/TSAの組み合わせモードを用い
て、ストリップカラムを吸着カラムより低い圧力におい
て操作するかまたはスウィープガスを用いることにより
窒素脱着をストリップカラム40において達成すること
ができる。しかし、ストリップカラムが吸着カラムより
高い温度であるため、ストリップカラム40は吸着カラ
ムより低い圧力である必要はなく、吸着カラムと同一ま
たはこれより高い圧力とすることができる。高温におい
てストリップカラムを操作する他の利点は、窒素吸収体
からの窒素の脱着の速度の上昇が発生し、この結果スト
リップカラムにおける液体吸収体に必要な滞留時間を減
少させることができることである。
ける本発明の窒素吸着および脱着溶液の使用を図2に図
式的に示す。ここで、ストリップカラム40を吸着カラ
ム20より高い温度で操作する以外は一般に図1と同様
にシステムを操作し、ストリップカラム40への熱の付
加を図式的に記号「+Q」で示した。あるいはまた、吸
収カラム20をストリップカラム40より低温としても
よく、これを図式的に記号「−Q」で示す。この操作の
組み合わせモードは、所定の窒素分圧における液体吸収
体の窒素結合能力が、窒素結合が典型的に若干の発熱反
応であるために温度上昇と共に減少するという事実を補
償するのに有用である。この結果、窒素含有吸収体との
平衡状態における窒素分圧は温度上昇と共に上昇する。
窒素脱着がストリップカラム40内で発生するように、
吸着カラム20内で優勢である温度および圧力において
吸着カラム20を排出する生成物ガス25の平衡状態に
おける吸収体中の濃度は、ストリップカラム40におい
て優勢である温度および圧力において窒素含有流45中
の窒素との平衡状態における吸収体中の窒素の濃度を超
過していなければならない。PSA/TSAの組み合わ
せモードの純粋なPSAモードに対する利点は、前者に
おいては窒素脱着がストリップカラム20中で、精密P
SAモードにおいて許容される分圧より高い窒素分圧に
おいて達成することができることである。PSAモード
に関して、PSA/TSAの組み合わせモードを用い
て、ストリップカラムを吸着カラムより低い圧力におい
て操作するかまたはスウィープガスを用いることにより
窒素脱着をストリップカラム40において達成すること
ができる。しかし、ストリップカラムが吸着カラムより
高い温度であるため、ストリップカラム40は吸着カラ
ムより低い圧力である必要はなく、吸着カラムと同一ま
たはこれより高い圧力とすることができる。高温におい
てストリップカラムを操作する他の利点は、窒素吸収体
からの窒素の脱着の速度の上昇が発生し、この結果スト
リップカラムにおける液体吸収体に必要な滞留時間を減
少させることができることである。
【0026】図3は窒素をストリップした液体吸着剤4
8が上述の方法の1種により処理されてその窒素吸着能
が再生される再生ループ50の構成、ならびに他のエネ
ルギー損失を回収するための減圧タービン38の構成を
描いており、このエネルギーは液体ポンプ30を駆動す
るのに使用される。減圧の好ましい形式すなわち出力回
収タービンはオレゴン州,ポートランド所在のスルーザ
ー ビンガム社(Sulzer Bingham) から入手し得るもの
である。
8が上述の方法の1種により処理されてその窒素吸着能
が再生される再生ループ50の構成、ならびに他のエネ
ルギー損失を回収するための減圧タービン38の構成を
描いており、このエネルギーは液体ポンプ30を駆動す
るのに使用される。減圧の好ましい形式すなわち出力回
収タービンはオレゴン州,ポートランド所在のスルーザ
ー ビンガム社(Sulzer Bingham) から入手し得るもの
である。
【0027】窒素の吸着および脱着材料が固体である場
合、その材料は気−液接触器が固形材料を有する流動床
および向流で流れるのが好ましいストリッパーからの供
給ガスまたは脱着ガスを構成する場合を除き、液体吸収
剤のために上述した本質的に同様の方法で用いることが
できる。またこの固体は空気から窒素または酸素を生産
するようなゼオライトまたは炭素モレキュラーシーブを
用いて気体混合物を分離する方法と同様の方法で通常の
圧力スウィングまたは温度スウィング処理中に用いられ
る場合がある。
合、その材料は気−液接触器が固形材料を有する流動床
および向流で流れるのが好ましいストリッパーからの供
給ガスまたは脱着ガスを構成する場合を除き、液体吸収
剤のために上述した本質的に同様の方法で用いることが
できる。またこの固体は空気から窒素または酸素を生産
するようなゼオライトまたは炭素モレキュラーシーブを
用いて気体混合物を分離する方法と同様の方法で通常の
圧力スウィングまたは温度スウィング処理中に用いられ
る場合がある。
【0028】実施例1 水中、0.25Mの有機金属錯体〔Ru(H2 O){ヘッ
タ (Hedta)}〕- (カリウム塩として)の溶液を用いて
21℃および41℃の窒素結合の等温線を測定した(ヘ
ッタはモノプロトン化エチレン ジアミン四酢酸であ
る)。これは窒素圧のある範囲を超えた溶液を用いて窒
素の吸収を測定することにより実施した。得られた等温
線を図4に示す。これらの等温線から、窒素結合の平衡
定数が21℃で0.08(psi−M)-1として計算され
る。これらの平衡定数は次の認知された窒素結合反応に
基づいている。
タ (Hedta)}〕- (カリウム塩として)の溶液を用いて
21℃および41℃の窒素結合の等温線を測定した(ヘ
ッタはモノプロトン化エチレン ジアミン四酢酸であ
る)。これは窒素圧のある範囲を超えた溶液を用いて窒
素の吸収を測定することにより実施した。得られた等温
線を図4に示す。これらの等温線から、窒素結合の平衡
定数が21℃で0.08(psi−M)-1として計算され
る。これらの平衡定数は次の認知された窒素結合反応に
基づいている。
【化16】
【0029】これらのデータは21℃および高窒素圧
(300〜350psi)で、〔Ru(H2 O)(ヘッ
タ)〕- の溶液が錯体の1ミリモル当たり約0.5ミリモ
ルの窒素を吸収することを示す。しかし、21℃および
低窒素圧(<50psi)で、この溶液は錯体1ミリモ
ル当たり<0.2ミリモルの窒素を吸収する。このよう
に、この有機金属錯体の水溶液を用いて、最初にこの溶
液に窒素を高圧で吸収させ、次いで窒素を含んだ溶液を
低圧でストリップカラムに供給して、窒素を溶液から脱
着させることにより窒素を高圧ガス流から除去すること
ができる。例えば、約21℃の溶液温度で、脱着段階中
350psiから50psiの窒素分圧におけるスウィ
ングが〔Ru(ヘッタ)〕- の1ミリモル当たり0.3ミ
リモルより多い正味除去を招く。
(300〜350psi)で、〔Ru(H2 O)(ヘッ
タ)〕- の溶液が錯体の1ミリモル当たり約0.5ミリモ
ルの窒素を吸収することを示す。しかし、21℃および
低窒素圧(<50psi)で、この溶液は錯体1ミリモ
ル当たり<0.2ミリモルの窒素を吸収する。このよう
に、この有機金属錯体の水溶液を用いて、最初にこの溶
液に窒素を高圧で吸収させ、次いで窒素を含んだ溶液を
低圧でストリップカラムに供給して、窒素を溶液から脱
着させることにより窒素を高圧ガス流から除去すること
ができる。例えば、約21℃の溶液温度で、脱着段階中
350psiから50psiの窒素分圧におけるスウィ
ングが〔Ru(ヘッタ)〕- の1ミリモル当たり0.3ミ
リモルより多い正味除去を招く。
【0030】また、図4には有機金属錯体への窒素の配
位が発熱のプロセス、すなわち、温度が高くなるにつ
れ、有機金属錯体に配位した窒素の画分が減少するた
め、41℃の等温線が21℃の等温線の下にシクトす
る。この特性は、窒素を含んだ溶液から脱着される窒素
の量を増すのに用いられる場合がある。従って、組合わ
せPSA−TSAプロセスを用い窒素を錯体含有溶液に
約21℃の高圧で吸収させ、窒素を含んだ溶液を除去
し、さらにそれを約41℃に加熱し、次いで窒素を含ん
だ溶液を低圧でストリップカラムに供給し、これにより
窒素を溶液から脱着させることにより窒素を気体流から
除去する場合がある。例えば、吸収カラム中で約350
psiの窒素分圧および21℃の温度、ならびにストリ
ップカラム中で約50psiおよび40℃に維持するこ
とにより、1ミリモルの〔Ru(ヘッタ)〕- 当たり0.
45ミリモルの窒素が供給気体から除去される場合があ
る。
位が発熱のプロセス、すなわち、温度が高くなるにつ
れ、有機金属錯体に配位した窒素の画分が減少するた
め、41℃の等温線が21℃の等温線の下にシクトす
る。この特性は、窒素を含んだ溶液から脱着される窒素
の量を増すのに用いられる場合がある。従って、組合わ
せPSA−TSAプロセスを用い窒素を錯体含有溶液に
約21℃の高圧で吸収させ、窒素を含んだ溶液を除去
し、さらにそれを約41℃に加熱し、次いで窒素を含ん
だ溶液を低圧でストリップカラムに供給し、これにより
窒素を溶液から脱着させることにより窒素を気体流から
除去する場合がある。例えば、吸収カラム中で約350
psiの窒素分圧および21℃の温度、ならびにストリ
ップカラム中で約50psiおよび40℃に維持するこ
とにより、1ミリモルの〔Ru(ヘッタ)〕- 当たり0.
45ミリモルの窒素が供給気体から除去される場合があ
る。
【0031】実施例2 0.02Mの有機金属錯体〔Fe(H){ジホス(dipho
s) }2 〕+ (ジホス=Ph2 PCH2 CH2 PP
h2 )の溶液の21℃での窒素結合の等温線を測定し
た。これは窒素圧の機能として、2122cm-1の窒素−
窒素伸縮に対応する赤外吸収帯の強度を測定することに
より実施した。結果を図5に示す。この等温線から窒素
結合のための平衡定数が0.15(psi−M)-1である
と計算された。平衡定数の値は次の認知された窒素結合
反応に基づいている。
s) }2 〕+ (ジホス=Ph2 PCH2 CH2 PP
h2 )の溶液の21℃での窒素結合の等温線を測定し
た。これは窒素圧の機能として、2122cm-1の窒素−
窒素伸縮に対応する赤外吸収帯の強度を測定することに
より実施した。結果を図5に示す。この等温線から窒素
結合のための平衡定数が0.15(psi−M)-1である
と計算された。平衡定数の値は次の認知された窒素結合
反応に基づいている。
【化17】
【0032】〔Fe(H)(ジホス)2〕が〔Ru (H
2 O)(ヘッタ)〕- よりきつく窒素と結合するため、窒
素は比較的低い窒素分圧および/または高められた温度
で脱着されるだけである。例えば約21℃の温度で1ミ
ルモルの〔Fe (H)(ジホス)2〕 + 当たり0.5ミリモル
の窒素の正味除去を達成するために、脱着カラム中の窒
素分圧は約7psiaとするかまたは少なくとも200
psigの吸着カラム中の窒素圧より低くする必要があ
る。〔Ru (H2 O)(ヘッタ)〕- を用いる場合では、
〔Fe (H)(ジホス)2〕+ の溶液からの窒素の脱着は溶
液が窒素の脱着中に加熱(例えば約41℃に)される場
合、高い窒素圧を達成することができる。
2 O)(ヘッタ)〕- よりきつく窒素と結合するため、窒
素は比較的低い窒素分圧および/または高められた温度
で脱着されるだけである。例えば約21℃の温度で1ミ
ルモルの〔Fe (H)(ジホス)2〕 + 当たり0.5ミリモル
の窒素の正味除去を達成するために、脱着カラム中の窒
素分圧は約7psiaとするかまたは少なくとも200
psigの吸着カラム中の窒素圧より低くする必要があ
る。〔Ru (H2 O)(ヘッタ)〕- を用いる場合では、
〔Fe (H)(ジホス)2〕+ の溶液からの窒素の脱着は溶
液が窒素の脱着中に加熱(例えば約41℃に)される場
合、高い窒素圧を達成することができる。
【0033】実施例3 窒素およびメタンを含む気体混合物から窒素が選択的に
吸収されることを示すために、0.36M(7.2ミリモ
ル)の有機金属錯体〔Ru (H2 O)(ヘッタ)〕 - (カ
リウム塩として)の水溶液を518psiで7.5%窒素
含有窒素/メタン気体混合物に暴露した。窒素分圧の損
失は約0.24ミリモルの窒素気体が錯体含有溶液により
化合または吸収されることを示した。気体混合物の残留
物の単離および液体クロマトグラフィーによる分析はそ
の組成が0.5%(0.19ミリモル)の窒素を溶液から脱
着したことを示す、7.0±0.1%の窒素であることを示
した。
吸収されることを示すために、0.36M(7.2ミリモ
ル)の有機金属錯体〔Ru (H2 O)(ヘッタ)〕 - (カ
リウム塩として)の水溶液を518psiで7.5%窒素
含有窒素/メタン気体混合物に暴露した。窒素分圧の損
失は約0.24ミリモルの窒素気体が錯体含有溶液により
化合または吸収されることを示した。気体混合物の残留
物の単離および液体クロマトグラフィーによる分析はそ
の組成が0.5%(0.19ミリモル)の窒素を溶液から脱
着したことを示す、7.0±0.1%の窒素であることを示
した。
【0034】実施例4 本発明の有機金属錯体含有溶液は、再生可能であること
が示された。0.4Mの有機金属錯体〔Ru (H2 O)(ヘ
ッタ)〕- 水溶液を空気に24時間暴露した。〔Ru
(H2 O)(ヘッタ)〕- の好気的酸化は〔Ru (H2 O)
(ヘッタ)〕が生成するとして文献に報告されており、
それは窒素を吸収しない。すなわち空気との接触がRu
を+2から+3の酸化状態に酸化させることである。そ
の後、酸化された溶液は還元剤マグネシウムに接触して
〔Ru (H2 O)(ヘッタ)〕- を再生する。再生した溶
液は図4に示す結合等温線に従って可逆的に窒素を吸収
し、また実施例3に記載したようにN2 /CH4 から窒
素を選択的に吸収することが見出された。
が示された。0.4Mの有機金属錯体〔Ru (H2 O)(ヘ
ッタ)〕- 水溶液を空気に24時間暴露した。〔Ru
(H2 O)(ヘッタ)〕- の好気的酸化は〔Ru (H2 O)
(ヘッタ)〕が生成するとして文献に報告されており、
それは窒素を吸収しない。すなわち空気との接触がRu
を+2から+3の酸化状態に酸化させることである。そ
の後、酸化された溶液は還元剤マグネシウムに接触して
〔Ru (H2 O)(ヘッタ)〕- を再生する。再生した溶
液は図4に示す結合等温線に従って可逆的に窒素を吸収
し、また実施例3に記載したようにN2 /CH4 から窒
素を選択的に吸収することが見出された。
【0035】実施例5 本発明の固体の形態の有機金属錯体の可逆的に窒素を結
合する能力を示した。固形有機金属錯体Mo〔トリホス
(triphos)〕〔P(CH3)2 (C6 H5)〕2 (トリホス
=(C6 H5)2 PCH2 CH2 P(C6 H5 )CH2 C
H2 P(C6H5)2 )の1.86g(1.99ミリモル)部
分は純粋な窒素流に暴露され、淡黄色への転換により窒
素吸収が表わされた。次いで固形錯体を減圧下(1ト
ル)に50℃で3日間加熱し、淡黄色の固体を濃黄褐色
に変化させた。この色調変化はこの錯体の窒素脱着およ
び推定される5配位錯体Mo(トリホス)〔P(CH3)
2(C6 H5 )〕の形成を表わす。次いで一部(1.59
±0.01gまたは1.76±0.01ミリモル)のこの黄褐
色固形有機金属錯体を20±2℃で32psigの窒素
下のフィッシャーポーター(Fischer-Porter) 圧力ボド
ル中に静置した。25時間の反応時間にわたり、1.22
±0.14ミリモルの窒素を固形錯体(4.5±0.5psi
gの窒素分圧損失に相当する)を用いて吸収させ、初期
の錯体の淡黄色を再生させた。次いで固形錯体を1.62
±0.01g秤量し、これは0.03±0.02gの全重量増
加を示し、これは1.1±0.7ミリモルの窒素の吸収に対
応する。
合する能力を示した。固形有機金属錯体Mo〔トリホス
(triphos)〕〔P(CH3)2 (C6 H5)〕2 (トリホス
=(C6 H5)2 PCH2 CH2 P(C6 H5 )CH2 C
H2 P(C6H5)2 )の1.86g(1.99ミリモル)部
分は純粋な窒素流に暴露され、淡黄色への転換により窒
素吸収が表わされた。次いで固形錯体を減圧下(1ト
ル)に50℃で3日間加熱し、淡黄色の固体を濃黄褐色
に変化させた。この色調変化はこの錯体の窒素脱着およ
び推定される5配位錯体Mo(トリホス)〔P(CH3)
2(C6 H5 )〕の形成を表わす。次いで一部(1.59
±0.01gまたは1.76±0.01ミリモル)のこの黄褐
色固形有機金属錯体を20±2℃で32psigの窒素
下のフィッシャーポーター(Fischer-Porter) 圧力ボド
ル中に静置した。25時間の反応時間にわたり、1.22
±0.14ミリモルの窒素を固形錯体(4.5±0.5psi
gの窒素分圧損失に相当する)を用いて吸収させ、初期
の錯体の淡黄色を再生させた。次いで固形錯体を1.62
±0.01g秤量し、これは0.03±0.02gの全重量増
加を示し、これは1.1±0.7ミリモルの窒素の吸収に対
応する。
【0036】また本発明の構成はこの吸収様式中で例え
ば窒素検出器またはアルゴン気体流のような不活性気体
から少量の窒素を除去するための窒素ゲッターとして厳
密に用いられる場合がある。前記の記載中で使用した用
語および語句は記載のために用いたものであって、制限
するためのものではなく、さらに図示し記載した特徴ま
たはその部分を除き、かかる用語および語句の使用には
暗示的意味はなく、本発明の範囲は記載した特許請求の
範囲によって定められ、限定されるにすぎない。
ば窒素検出器またはアルゴン気体流のような不活性気体
から少量の窒素を除去するための窒素ゲッターとして厳
密に用いられる場合がある。前記の記載中で使用した用
語および語句は記載のために用いたものであって、制限
するためのものではなく、さらに図示し記載した特徴ま
たはその部分を除き、かかる用語および語句の使用には
暗示的意味はなく、本発明の範囲は記載した特許請求の
範囲によって定められ、限定されるにすぎない。
【図1】本発明における1例の圧力スイング吸着脱着プ
ロセスの工程図である。
ロセスの工程図である。
【図2】本発明における1例の組合わせ圧力/温度スイ
ング吸着/脱着プロセスの工程図である。
ング吸着/脱着プロセスの工程図である。
【図3】減圧タービンおよび再生ループを導入した図1
に示す1例のプロセスの工程図である。
に示す1例のプロセスの工程図である。
【図4】本発明の2つの例の吸着組成物について観察し
た等温曲線で示したグラフである。
た等温曲線で示したグラフである。
【図5】本発明の2つの例の吸着組成物について観察し
た等温曲線で示したグラフである。
た等温曲線で示したグラフである。
10 窒素含有供給流 20 気−液吸着カラム 25 生成物ガス 28 窒素複合液体吸収体 30 ポンプ 35 スウィープ流 40 ストリップカラム 45 窒素含有流 48 窒素をストリップした液体吸収体
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 B01D 53/14 102 C01B 21/04 B C10K 1/32 7106−4H (72)発明者 ウォルター シー バブコック アメリカ合衆国 オレゴン州 97701 ベ ンド ニコルス マーケット ロード 19970 (72)発明者 デイビッド ジェー エドルンド アメリカ合衆国 オレゴン州 97701 ベ ンド ニホワイトウィング コート 63278 (72)発明者 ウォーレン ケイ ミラー アメリカ合衆国 オレゴン州 97701 ベ ンド シーダー ラーン 19930
Claims (24)
- 【請求項1】 五配位有機金属錯体および≧20MPa
1/2 の溶解度パラメータを有する溶剤を含み、この溶剤
は前記有機金属錯体を≧0.1Mに溶解することができ、
前記有機金属錯体はMo,Wおよび第7,8および9族
から選択した遷移金属からなり、および少なくとも1個
の配位子は5個の配位原子を前記有機金属錯体に与える
ことができる窒素−吸着および脱着組成物。 - 【請求項2】 前記少なくとも1個の配位子は一座、二
座、三座、四座および五座配位子から選択した配位子を
含む請求項1記載の組成物。 - 【請求項3】 前記遷移金属はMo(0)、W(0)、
RI(I)、Re(II) 、Ru(II) 、Fe(I)、F
e(II)、Co(0)、Co(II)、Os(II)、Ir
(I)、Rh(I)およびMn(I)からなる群から選
択した請求項1記載の組成物。 - 【請求項4】 前記有機金属錯体は1個以上の配位子を
含み、その1つはハロゲン、水素化物、窒素、一酸化炭
素、窒素含有塩基、ホスフィン、ピリジンおよびイミダ
ゾールからなる群から選択したアキシアル ベースであ
る請求項1記載の組成物。 - 【請求項5】 少なくとも1個の配位子は一座であり、
ハロゲン、水素化物、一酸化炭素、アミンおよびホスフ
ィンからなる群から選択した請求項1記載の組成物。 - 【請求項6】 前記少なくとも1個の配位子は二座であ
り、ホスフィン ホスフィト、チオール、スルフィドお
よびアミンからなる群から選択した請求項1記載の組成
物。 - 【請求項7】 前記少なくとも1個の配位子は三座であ
り、ホスフィンおよびアミンからなる群から選択した請
求項1記載の組成物。 - 【請求項8】 前記少なくとも1個の配位子は四座であ
り、ホスフィンおよびアミンからなる群から選択した請
求項1記載の組成物。 - 【請求項9】 前記少なくとも1個の配位子は五座であ
り、ホスフィンおよびアミンからなる群から選択した請
求項1記載の組成物。 - 【請求項10】 前記溶剤は水、エチレン グリコール
およびプロピレンカーボネートからなる群から選択した
請求項1記載の組成物。 - 【請求項11】 (a)窒素を窒素含有供給原料から、
前記供給原料を請求項1の組成物で吸着し;および
(b)窒素を前記組成物から生成物流に脱着する段階か
らなることを特徴とする窒素の分離方法。 - 【請求項12】 段階(a)を段階(b)より低い温度
で行う請求項11記載の方法。 - 【請求項13】 段階(a)の温度と段階(b)の温度
の差を20〜100℃にする請求項12記載の方法。 - 【請求項14】 段階(a)を段階(b)の窒素分圧よ
り高い窒素分圧で行う請求項11記載の方法。 - 【請求項15】 段階(a)の窒素分圧と段階(b)の
窒素分圧の差を10〜400psiとする請求項14記
載の方法。 - 【請求項16】 段階(a)を段階(b)における全圧
の少なくとも20倍である全圧で行う請求項11記載の
方法。 - 【請求項17】 段階(a)を段階(b)の温度より低
い温度で行う請求項14記載の方法。 - 【請求項18】 段階(a)の温度と段階(b)の温度
の差を20〜100℃にする請求項17記載の方法。 - 【請求項19】 段階(b)をスィープ ガスを用いて
行う請求項11記載の方法。 - 【請求項20】 前記供給原料は窒素および主として1
〜7個の炭素原子を含有する炭化水素ガスを含む請求項
11記載の方法。 - 【請求項21】 前記炭化水素ガスは天然ガスである請
求項20記載の方法。 - 【請求項22】 前記溶液の窒素−吸着能力を周期的に
再生する請求項11記載の方法。 - 【請求項23】 前記再生は、前記溶液を不活性雰囲気
中で加熱することによって達成させる請求項22記載の
方法。 - 【請求項24】 前記再生は、前記溶液を還元剤の存在
において加熱することによって達成させる請求項22記
載の方法。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US07/805,586 US5225174A (en) | 1991-12-11 | 1991-12-11 | Nitrogen sorption |
US07/805586 | 1991-12-11 |
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05317704A true JPH05317704A (ja) | 1993-12-03 |
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JP33070592A Expired - Fee Related JP3411316B2 (ja) | 1991-12-11 | 1992-12-10 | 窒素吸着−および脱着組成物および窒素の分離方法 |
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US5902224A (en) * | 1997-03-14 | 1999-05-11 | Fuge Systems, Inc. | Mass-mass cell gas centrifuge |
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US6143655A (en) | 1998-02-25 | 2000-11-07 | Micron Technology, Inc. | Methods and structures for silver interconnections in integrated circuits |
US6492694B2 (en) | 1998-02-27 | 2002-12-10 | Micron Technology, Inc. | Highly conductive composite polysilicon gate for CMOS integrated circuits |
US6815303B2 (en) * | 1998-04-29 | 2004-11-09 | Micron Technology, Inc. | Bipolar transistors with low-resistance emitter contacts |
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EA024198B1 (ru) | 2011-03-01 | 2016-08-31 | Эксонмобил Рисерч Энд Инджиниринг Компани | Способ короткоцикловой адсорбции при переменном давлении и температуре для отделения тяжелых углеводородов от потоков природного газа |
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