JPH05314783A - Erasure method for nonvolatile semiconductor memory provided with erasure function and writing device - Google Patents

Erasure method for nonvolatile semiconductor memory provided with erasure function and writing device

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JPH05314783A
JPH05314783A JP14816992A JP14816992A JPH05314783A JP H05314783 A JPH05314783 A JP H05314783A JP 14816992 A JP14816992 A JP 14816992A JP 14816992 A JP14816992 A JP 14816992A JP H05314783 A JPH05314783 A JP H05314783A
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JP
Japan
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erasing
memory cell
erasure
writing
condition
Prior art date
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Application number
JP14816992A
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Japanese (ja)
Inventor
Kenichi Satori
謙一 佐鳥
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Publication date
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Publication of JPH05314783A publication Critical patent/JPH05314783A/en
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Abstract

PURPOSE:To correct excess erasure by detecting the excess erasure and writing for an excess erasure memory cell with a weaker condition than a normal writing condition. CONSTITUTION:When the memory cell of the memory cell array 1 of an E<2> PROM is erased, the memory cell is read through a sense amplifier 6 and compared with the data of a data latch part 8 by a comparator 7 and the presence of the excess erasure is detected. Then when the existence of the excess erasure is decided, a write control part 10 is controlled by the comparator 7 and the memory cell is written with the weaker condition than the normal condition and the excess erasure is corrected.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、不揮発性半導体記憶装
置の消去方法、特に消去により過剰消去のメモリセルが
生じた場合に過剰消去を是正することのできる不揮発性
半導体記憶装置の消去方法、過剰消去を是正できる消去
回路を備えた不揮発性半導体記憶装置及び過剰消去を是
正する消去機能を備えた書込装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for erasing a non-volatile semiconductor memory device, and more particularly, a method for erasing a non-volatile semiconductor memory device capable of correcting over-erasing when an over-erased memory cell is generated by erasing. The present invention relates to a non-volatile semiconductor memory device having an erasing circuit capable of correcting excessive erasing and a writing device having an erasing function for correcting excessive erasing.

【0002】[0002]

【従来の技術】スタックゲート型Flash E2 PR
OMは書換えができるが、書換えをするときは消去が必
要である。消去は具体的にはコントロールゲートに負の
絶対値の高い電圧をかけ、ソースに5V程度の正の電圧
をかけてフローティングゲート内のエレクトロンをソー
スにトンネル注入することにより行う。
2. Description of the Related Art Stack gate type Flash E 2 PR
The OM can be rewritten, but it must be erased when it is rewritten. Specifically, erasing is performed by applying a voltage with a high negative absolute value to the control gate and applying a positive voltage of about 5 V to the source to tunnel-inject the electrons in the floating gate to the source.

【0003】図8は従来の不揮発性半導体記憶装置の消
去方法の手順を示すフローチャートである。先ず、アド
レス及びデータをセットし、消去回数をカウントするカ
ウンタ(ハードによるカウンタもあればソフトウェアに
よるカウンタもある。)をリセットし、アドレスセット
されたワード線に属する全メモリセルに対して消去を行
う。そして、消去が完全に行われたかどうかを判定し、
判定結果がYesであればそのワード線のメモリセルに
対する消去を終了する。判定結果がNoであれば、Ye
sという判定結果が得られるまで消去を繰返す。
FIG. 8 is a flow chart showing the procedure of a conventional method of erasing a nonvolatile semiconductor memory device. First, an address and data are set, a counter that counts the number of times of erasing (there is a hardware counter or a software counter) is reset, and all memory cells belonging to the word line to which the address is set are erased. .. Then, determine whether the erasure has been completed,
If the determination result is Yes, erasing the memory cell of the word line is completed. If the determination result is No, then Ye
The erasing is repeated until the judgment result of s is obtained.

【0004】そして、所定回数、例えば3000回消去
を繰返しても完全な消去ができなかった場合には不良と
判断する。従来においては、一般に、消去が充分に行わ
れているか否かの判定は行われていたが、消去後に過剰
消去の有無について判定することは行われていなかっ
た。
If complete erasure cannot be performed even after erasing a predetermined number of times, for example, 3000 times, it is determined to be defective. In the past, in general, it was determined whether or not erasing was sufficiently performed, but it was not made to determine the presence or absence of excessive erasing after erasing.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】ところで、従来におい
ては消去後に過剰消去の有無の確認(ベリファイ)を行
っていなかったので下記の問題があった。先ず、過剰消
去について説明すると、これはフローティングゲートか
らソースへのエレクトロン抜き取りが過剰に行われてし
まい、ノーマルオンの状態になることをいう。即ち、0
Vよりも適宜高くなければならないしきい値が0V乃至
0V以下になる。そして、これは、読み出しとのときに
その過剰消去と同じビットラインのセル全部がすべてデ
ータが「1」が出力される不都合を招くことになり、動
作不良をもたらし、好ましくない。かかる過剰消去は、
各メモリセルのゲート絶縁膜の厚さ等が不均一となり特
性にバラツキが生じることに起因して生じ、製造技術の
発達に伴ってそのバラツキを小さくすることができるの
で、過剰消去を生じにくくすることができる。しかし、
完全になくすことは困難ないし不可能である。
By the way, in the prior art, since the presence or absence of overerase was not confirmed (verified) after erasing, there were the following problems. First, the excessive erase will be described. This means that the electrons are excessively extracted from the floating gate to the source, and a normal-on state is brought about. That is, 0
The threshold value, which must be appropriately higher than V, is 0V to 0V or less. Then, this causes an inconvenience that all the cells of the same bit line as that of the overerasure at the time of reading all output "1" as data, which causes a malfunction and is not preferable. Such overerasure is
This occurs because the thickness of the gate insulating film of each memory cell becomes non-uniform and the characteristics vary, and the variation can be reduced with the development of the manufacturing technology. be able to. But,
Complete elimination is difficult or impossible.

【0006】本発明はこのような問題点を解決すべく為
されたものであり、消去後に過剰消去のメモリセルの過
剰消去を是正できるようにすることを目的とする。
The present invention has been made to solve such a problem, and an object of the present invention is to make it possible to correct excessive erasing of overerased memory cells after erasing.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明は、消去処理を行
った後、その消去処理を行った各メモリセルに対して過
剰消去の有無を検出し、過剰消去のメモリセルに対して
通常の書込条件よりも弱い条件で書込みを行って過剰消
去を是正することを特徴とする。
According to the present invention, after erasing processing is performed, presence / absence of overerasure is detected for each memory cell subjected to the erasing processing, and normal operation is performed on the overerased memory cell. It is characterized in that overwriting is corrected by performing writing under a condition weaker than the writing condition.

【0008】[0008]

【作用】本発明によれば、過剰消去のメモリセルに対し
て軽い書込みを行うので、0V乃至それより低いしきい
値を高めて正常な消去状態にすることができる。
According to the present invention, since light writing is performed on an overerased memory cell, it is possible to raise the threshold value of 0 V or lower to obtain a normal erased state.

【0009】[0009]

【実施例】以下、本発明不揮発性半導体記憶装置の消去
方法、消去機能を備えた不揮発性半導体記憶装置及び書
込装置を図示実施例に従って詳細に説明する。図1は本
発明不揮発性半導体記憶装置の一つの実施例を示す回路
図、図2は消去動作を示すフローチャートである。図面
において、1はメモリセルアレイ、2はロウデコーダ、
3はカラムデコーダ、4は内部アドレス発生部、5はア
ドレスバッファ、6はセンスアンプ、7はデータラッチ
部8のデータとセンスアンプ6のデータとを比較する比
較器、9は入出力バッファである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A method of erasing a nonvolatile semiconductor memory device, a nonvolatile semiconductor memory device having an erasing function, and a writing device according to the present invention will be described in detail below with reference to illustrated embodiments. FIG. 1 is a circuit diagram showing one embodiment of a nonvolatile semiconductor memory device of the present invention, and FIG. 2 is a flow chart showing an erase operation. In the drawing, 1 is a memory cell array, 2 is a row decoder,
3 is a column decoder, 4 is an internal address generator, 5 is an address buffer, 6 is a sense amplifier, 7 is a comparator for comparing the data of the data latch unit 8 with the data of the sense amplifier 6, and 9 is an input / output buffer. ..

【0010】10は書込み制御部、11は書込みパルス
発生部、12は書込みベリファイパルス発生部、13は
消去制御部、14は消去パルス発生部、15は消去ベリ
ファイパルス発生部、16は全ビットを非選択にする全
ビット非選択回路である。図2はデータ書込みを含んだ
消去方法を示すフローチャートである。本不揮発性半導
体記憶装置の消去方法はワード線単位で消去を行い、図
2は1ワード線分の消去、データ書込みをどのように行
うかを示している。
Reference numeral 10 is a write controller, 11 is a write pulse generator, 12 is a write verify pulse generator, 13 is an erase controller, 14 is an erase pulse generator, 15 is an erase verify pulse generator, and 16 is all bits. This is an all-bit non-selection circuit that is deselected. FIG. 2 is a flowchart showing an erasing method including data writing. In the erasing method of the present nonvolatile semiconductor memory device, erasing is performed in word line units, and FIG. 2 shows how to erase one word line and write data.

【0011】先ず、消去しようとするアドレスを選択
し、データをセットし、消去回数をカウントするカウン
タをリセットする。次に、セットされたアドレスのワー
ド線に書込みパルスを1回入れる。即ち、プリライトす
る。これは、消去に先立って書込まれていないセルに対
して書込んで各セルのVthを揃えるために行う。次
に、セットされたアドレスのワード線を(ワード線の各
メモリセルを)消去し、その消去が行われたか否かを判
定する。判定結果がNoであれば消去回数をカウントす
る上記カウンタのカウント値が3000か否かを判定
し、判定結果がNoならばそのカウンタの値を1アップ
して再消去を行う。消去回数が3000に達したことを
意味するYesという判定結果が得られた場合には不良
と判断する。
First, an address to be erased is selected, data is set, and a counter for counting the number of erases is reset. Then, a write pulse is applied once to the word line of the set address. That is, prewriting is performed. This is performed in order to make Vth of each cell uniform by writing to a cell that has not been written before erasing. Then, the word line of the set address is erased (each memory cell of the word line), and it is determined whether or not the erase is performed. If the judgment result is No, it is judged whether or not the count value of the counter for counting the number of times of erasure is 3000, and if the judgment result is No, the value of the counter is incremented by 1 and re-erasure is performed. If a determination result of Yes, which means that the erase count has reached 3000, is determined to be defective.

【0012】ところで、消去が行われたか否かの判定の
結果がYesの場合には、データを書込み、その後、デ
ータの書込みにより「0」になるべきメモリセルが
「0」になっているか否かを判定し、Noという判定結
果が得られた場合には再度データを書く。そして、Ye
sという判定結果が得られた場合には全ビットを非選択
状態にする。このように図2に示すフローはデータ書込
みステップを有している。
By the way, when the result of the judgment as to whether or not the erasing is performed is Yes, data is written, and then, whether or not the memory cell which should be "0" by the data writing is "0". It is determined whether or not, and if a determination result of No is obtained, the data is written again. And Ye
When the determination result of s is obtained, all the bits are deselected. As described above, the flow shown in FIG. 2 has a data writing step.

【0013】次に、今消去したワード線を選択するロウ
アドレスをセットする。次に、ビット線のうち先頭ビッ
ト線を選択するカラムアドレスリセットを行う。次に、
メモリセルが過剰消去でないか否かを判定し、判定結果
がNo、即ちメモリセルが過剰消去である場合には、普
通の書込条件により弱い(軽い)条件で書込みをする。
これは、メモリセルの低過ぎるしきい値電圧を高めて正
常な消去状態にするために行う。
Next, a row address for selecting the word line just erased is set. Next, a column address reset is performed to select the first bit line among the bit lines. next,
It is determined whether the memory cell is not over-erased. If the determination result is No, that is, if the memory cell is over-erased, writing is performed under a weaker (lighter) condition than the normal write condition.
This is done in order to raise the threshold voltage of the memory cell which is too low to bring it into a normal erased state.

【0014】図3(A)は正常な書込条件を示し、図3
(B)乃至(D)は過剰消去を解消するために行う普通
の書込条件よりも軽い各別の条件例1〜3を示すもので
あり、図3(B)は書込電圧を本来の書込電圧(12
V)よりも低く(6V)した場合である。図3(C)は
書込電圧のパルス幅を本来の値(10μs)よりも狭く
(3μ)した場合を示し、図3(D)は書込電圧を低く
(6V)し且つパルス幅を狭く(3μs)した場合を示
す。
FIG. 3A shows a normal writing condition.
FIGS. 3B to 3D show Condition Examples 1 to 3 which are lighter than a normal write condition for eliminating excessive erase, and FIG. 3B shows the original write voltage. Write voltage (12
This is the case when the voltage is lower (6 V) than V). FIG. 3C shows the case where the pulse width of the write voltage is narrower (3 μ) than the original value (10 μs), and FIG. 3D shows the write voltage low (6 V) and the pulse width narrow. (3 μs) is shown.

【0015】過剰消去を是正する書込みが終了すると書
込回数が25回に達したか否かを判定し、Yesという
判定結果が得られた場合には不良として扱う。Noとい
う判定結果が得られた場合には書込回数カウンタのカウ
ント値を1つカウントアップし、再度過剰消去でないか
否かの判定を行う。
When the writing for correcting the excessive erasure is completed, it is judged whether or not the number of times of writing reaches 25 times, and if the judgment result of Yes is obtained, it is treated as defective. When the determination result of No is obtained, the count value of the write number counter is incremented by 1, and it is determined again whether it is over-erasure.

【0016】過剰消去でないか否かの判定結果がYes
であった場合には、セルが最終ビットのカラムアドレス
か否かを判定する。判定結果がNoの場合にはカラムア
ドレスを1アップしたうえ、書込回数をカウントするカ
ウンタをリセットし、過剰消去でないか否かの判定ステ
ップに戻る。セルが最終ビットのカラムアドレスか否か
を判定する判定ステップの判定結果がYesの場合、即
ち、当該ワード線についての全セル消去及びデータ書込
み、更に過剰消去の是正が終了した場合、アドレスリセ
ット、データリセットをして終了する。即ち、1ワード
分の消去、データ書込み、過剰消去是正が終了すること
になる。
The result of determination as to whether or not it is over-erased is Yes.
If it is, it is determined whether or not the cell is the column address of the last bit. If the determination result is No, the column address is incremented by 1, the counter that counts the number of times of writing is reset, and the process returns to the determination step as to whether or not it is over-erase. If the result of the determination step for determining whether or not the cell is the column address of the last bit is Yes, that is, if all cells are erased and data is written to the word line, and correction of excessive erase is completed, address reset, Reset the data and exit. That is, erasing of one word, writing of data, and correction of excessive erasing are completed.

【0017】図4は消去及び消去ベリファイ(確認)、
書込及び書込ベリファイの動作におけるタイムチャート
である。消去制御信号が消去制御部13から発生する
と、消去パルス発生部14から消去パルスが1パルス発
生する。すると、直ちに消去ベリファイパルスが発生し
てベリファイが行われる。若し、消去ができなかった場
合にはセンス出力が「0」になり、比較器出力は「0」
のままであり、再度消去、消去ベリファイが行われ、そ
して、センス出力が「1」になった場合、これは消去に
成功したことにほかならず(過剰消去か否かは別とし
て)、比較器の出力が「1」になる。すると次に、デー
タの書込み、書込ベリファイが行われる。
FIG. 4 shows erase and erase verify.
7 is a time chart in the write and write verify operations. When the erase control signal is generated from the erase controller 13, the erase pulse generator 14 generates one erase pulse. Then, the erase verify pulse is immediately generated and the verify is performed. If it cannot be erased, the sense output becomes "0" and the comparator output becomes "0".
If the erase operation is performed again, the erase verify is performed again, and the sense output becomes “1”, it means that the erase operation is successful (whether or not it is over-erased), and the comparator Output becomes "1". Then, next, data write and write verify are performed.

【0018】書込みのときは書込制御信号を発生し、書
込パルスを1パルス発生し、書込ベリファシパルスを1
パルス発生する。これはセンス出力が「0」になり、比
較器出力が「1」になるまで行う。図5は過剰消去が生
じているか否かのベリファイ及び過剰消去是正動作を示
すタイムチャートである。
At the time of writing, a write control signal is generated, one write pulse is generated, and one write verify pulse is generated.
Generates a pulse. This is performed until the sense output becomes "0" and the comparator output becomes "1". FIG. 5 is a time chart showing the verifying operation of whether or not overerasure has occurred and the overerasure correction operation.

【0019】先ず、カラムアドレスをリセットし、当該
ワード線の先頭アドレスを指定すると、全ビットを非選
択状態にし、センス出力が「0」になるとそれは合格と
いうことになる。そして、比較器出力が合格を示す
「1」になる。すると、次のアドレス(次のビット)に
進む。図5に示す例ではA3のアドレスのメモリセルに
過剰消去がある。過剰消去があって比較器出力が「1」
にならないと全ビット非選択状態を停止し、書込制御信
号を発生し、ロウアドレスをセットし、軽い書込みによ
る過剰消去の是正を行う。そして、過剰消去が是正され
たことが確認されると次のアドレスに移るのである。
First, when the column address is reset and the leading address of the word line is specified, all the bits are deselected, and when the sense output becomes "0", it means that the bit is passed. Then, the comparator output becomes "1" indicating acceptance. Then, it advances to the next address (next bit). In the example shown in FIG. 5, there is overerasure in the memory cell at the address A3. There is over-erasure and the comparator output is "1"
If it does not occur, the non-selected state of all bits is stopped, a write control signal is generated, a row address is set, and excessive erasing by light writing is corrected. Then, when it is confirmed that the over-erasure has been corrected, the process moves to the next address.

【0020】図6は消去及び過剰消去の是正のための軽
い書込みを行うフローチャートである。図2に示すフロ
ーチャートとの違いは、データ書込みを行うステップが
存在しないことだけである。尚、上記消去方法は不揮発
性半導体記憶装置に内蔵のCPU17により実行され、
そのプログラムは内蔵ROM18に格納されている。
尚、図7に示すように上記の過剰消去是正ができる消去
機能をROMライタに備えるようにすると、ROMライ
タにより消去及びデータ書込みを過剰消去を是正しなが
ら行うことができる。
FIG. 6 is a flowchart for performing a light write for correcting erase and overerase. The difference from the flowchart shown in FIG. 2 is that there is no step for writing data. The erasing method is executed by the CPU 17 incorporated in the nonvolatile semiconductor memory device,
The program is stored in the built-in ROM 18.
As shown in FIG. 7, if the ROM writer is provided with an erasing function capable of correcting the excessive erasure, erasing and data writing can be performed by the ROM writer while correcting the excessive erasure.

【0021】[0021]

【発明の効果】本発明不揮発性半導体記憶装置の消去方
法は、消去処理を行った後その消去処理を行った各メモ
リセルに対して過剰消去の有無を検出し、過剰消去のメ
モリセルに対して通常の書込条件よりも弱い条件で書込
みを行って過剰消去を是正することを特徴とするもので
ある。従って、本発明不揮発性半導体記憶装置の消去方
法によれば、過剰消去のメモリセルに対して書込みを行
うので、0V乃至それより低いしきい値を高めて正常な
消去状態にすることができる。
According to the erasing method of the non-volatile semiconductor memory device of the present invention, the presence or absence of over-erase is detected for each memory cell subjected to the erasing process, and the over-erasing memory cell is detected. It is characterized in that overwriting is corrected by performing writing under a condition weaker than the normal writing condition. Therefore, according to the erasing method of the nonvolatile semiconductor memory device of the present invention, since writing is performed to the overerased memory cell, it is possible to raise the threshold value of 0 V or lower to obtain a normal erased state.

【0022】本発明不揮発性半導体記憶装置は、消去処
理を行った後その消去処理を行った各メモリセルに対し
て過剰消去の有無を検出し、過剰消去のメモリセルに対
して通常の書込条件よりも弱い条件で書込みを行って過
剰消去を是正する消去回路を内蔵することを特徴とする
ものである。従って、本発明不揮発性半導体記憶装置に
よれば、不揮発性半導体記憶装置とは別の消去装置を用
いることなく自分自身の持つ機能により過剰消去が生じ
ないように消去できる。
The nonvolatile semiconductor memory device of the present invention detects the presence or absence of overerasure for each memory cell that has undergone the erase process and then performs the normal write operation for the overerased memory cell. It is characterized by incorporating an erasing circuit for correcting over-erase by performing writing under a condition weaker than the condition. Therefore, according to the nonvolatile semiconductor memory device of the present invention, it is possible to perform erasing without using an erasing device different from the nonvolatile semiconductor memory device and to prevent excessive erasing due to its own function.

【0023】本発明書込装置は、消去処理を行った後そ
の消去処理を行った各メモリセルに対して過剰消去の有
無を検出し、過剰消去のメモリセルに対して通常の書込
条件よりも弱い条件で書込みを行って過剰消去を解消す
る消去機能を備えたことを特徴とするものである。従っ
て、本発明書込装置によれば、過剰消去が生じないよう
にしつつ消去、データ書込みができる。
The erasing device of the present invention detects the presence or absence of excessive erasing in each memory cell that has undergone the erasing process and then performs the erasing process, and detects the excessive erasing memory cell from the normal writing condition. Is also equipped with an erasing function for performing overwriting by performing writing under weak conditions. Therefore, according to the writing device of the present invention, erasing and data writing can be performed while preventing excessive erasing.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明不揮発性半導体記憶装置の一つの実施例
を示す回路ブロック図である。
FIG. 1 is a circuit block diagram showing one embodiment of a nonvolatile semiconductor memory device of the present invention.

【図2】本発明不揮発性半導体記憶装置の消去方法の一
つの実施例を示すフローチャートである。
FIG. 2 is a flowchart showing one embodiment of an erasing method of the nonvolatile semiconductor memory device of the present invention.

【図3】(A)乃至(D)は各別の書込条件を示すタイ
ムチャートで、(A)は正常書込条件を示し、(B)乃
至(C)は正常な書込条件よりも軽い過剰消去の是正に
適した各別の条件1〜3を示す。
3A to 3D are time charts showing different write conditions, FIG. 3A showing a normal write condition, and FIGS. 3B to 3C showing a normal write condition. The different conditions 1 to 3 suitable for correcting the slight over-erasure are shown.

【図4】消去、消去ベリファイ及び書込、書込ベリファ
イを示すタイムチャートである。
FIG. 4 is a time chart showing erase, erase verify, write, and write verify.

【図5】過剰消去のベリファイ及び過剰消去是正書込を
示すタイムチャートである。
FIG. 5 is a time chart showing verification of overerasure and overerasure correction writing.

【図6】本発明不揮発性半導体記憶装置の消去方法の別
の実施例を示すフローチャートである。
FIG. 6 is a flowchart showing another embodiment of the erasing method of the nonvolatile semiconductor memory device of the present invention.

【図7】本発明書込装置の一つの実施例を示す回路ブロ
ック図である。
FIG. 7 is a circuit block diagram showing one embodiment of the writing device of the present invention.

【図8】不揮発性半導体記憶装置の消去方法の従来例を
示すフローチャートである。
FIG. 8 is a flowchart showing a conventional example of an erasing method of a nonvolatile semiconductor memory device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 メモリセルアレイ 2 ロウデコーダ 3 カラムデコーダ 7 比較器 10 書込制御部 12 書込ベリファイパルス発生部 13 消去制御部 15 消去ベリファイパルス発生部 19 書込装置 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 memory cell array 2 row decoder 3 column decoder 7 comparator 10 write controller 12 write verify pulse generator 13 erase controller 15 erase verify pulse generator 19 write device

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 29/792 H01L 29/78 371 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 5 Identification code Office reference number FI technical display location H01L 29/792 H01L 29/78 371

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 消去処理を行った後、その消去処理を行
った各メモリセルに対して過剰消去の有無を検出し、 過剰消去のメモリセルに対して通常の書込条件よりも弱
い条件で書込みを行って過剰消去を是正することを特徴
とする不揮発性半導体記憶装置の消去方法
1. After erasing processing, presence / absence of over-erasing is detected for each memory cell subjected to the erasing processing, and the over-erasing memory cell is detected under a condition weaker than a normal write condition. Erase method for a non-volatile semiconductor memory device characterized by performing overwriting to correct excessive erasure
【請求項2】 消去処理を行った後、その消去処理を行
った各メモリセルに対して過剰消去の有無を検出し、過
剰消去のメモリセルに対して通常の書込条件よりも弱い
条件で書込みを行って過剰消去を是正する消去回路を内
蔵することを特徴とする不揮発性半導体記憶装置
2. After performing the erasing process, the presence or absence of overerasing is detected for each memory cell that has undergone the erasing process, and the overerasing memory cell is detected under a condition weaker than a normal write condition. A non-volatile semiconductor memory device having a built-in erasing circuit for writing to correct excessive erasing
【請求項3】 消去処理を行った後、その消去処理を行
った各メモリセルに対して過剰消去の有無を検出し、過
剰消去のメモリセルに対して通常の書込条件よりも弱い
条件で書込みを行って過剰消去を是正する消去機能を備
えたことを特徴とする書込装置
3. After erasing processing, presence / absence of over-erasing is detected for each memory cell subjected to the erasing processing, and the over-erasing memory cell is detected under a condition weaker than a normal write condition. Writing device having an erasing function for writing to correct excessive erasing
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