JPH05313113A - 液晶表示素子用電極基板の製造方法、液晶表示素子用電極基板のパターン形成方法、液晶セルの製造方法及び液晶表示パネルの製造方法 - Google Patents
液晶表示素子用電極基板の製造方法、液晶表示素子用電極基板のパターン形成方法、液晶セルの製造方法及び液晶表示パネルの製造方法Info
- Publication number
- JPH05313113A JPH05313113A JP4148294A JP14829492A JPH05313113A JP H05313113 A JPH05313113 A JP H05313113A JP 4148294 A JP4148294 A JP 4148294A JP 14829492 A JP14829492 A JP 14829492A JP H05313113 A JPH05313113 A JP H05313113A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 ポリマーフィルムを基板とする液晶表示素子
用電極基板の製造、加工処理工程における傷付き、異物
付着、汚れ転移を防止する。 【構成】 製造装置や治工具の部分（ローラー、ステー
ジ等の表面）に接触するポリマーフィルム基板２の裏面
に保護フィルム１０を剥離可能に貼り合わせ、真空蒸着
装置などによって表面に透明電極膜１１を形成する。液
晶セルの形成まで保護フィルム１０は貼り付けたままに
しておき、偏光板や反射板３４を貼り付けて完成品とし
ての液晶パネルが得る際に剥がす。
用電極基板の製造、加工処理工程における傷付き、異物
付着、汚れ転移を防止する。 【構成】 製造装置や治工具の部分（ローラー、ステー
ジ等の表面）に接触するポリマーフィルム基板２の裏面
に保護フィルム１０を剥離可能に貼り合わせ、真空蒸着
装置などによって表面に透明電極膜１１を形成する。液
晶セルの形成まで保護フィルム１０は貼り付けたままに
しておき、偏光板や反射板３４を貼り付けて完成品とし
ての液晶パネルが得る際に剥がす。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はポリマーフィルムを基板
とする液晶表示素子用電極基板の製造方法及び同基板の
パターン形成方法、並びに同基板を用いる液晶セルの製
造方法及び液晶表示パネル（ＰＦ−ＬＣＤ）の製造方法
に関する。
とする液晶表示素子用電極基板の製造方法及び同基板の
パターン形成方法、並びに同基板を用いる液晶セルの製
造方法及び液晶表示パネル（ＰＦ−ＬＣＤ）の製造方法
に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来ＰＦ−ＬＣＤの製造方法としては、
長尺ロール状ポリマーフィルムに透明電極（通常ＩＴ
Ｏ）膜を蒸着して所望のパターンにパターニングし、パ
ターニングした基板（上下２枚）を使って液晶セルを形
成し、この液晶セルの上下面に、偏光板と反射板を貼り
合わせて完成品のパネルとする、という工程をとるのが
一般的である。
長尺ロール状ポリマーフィルムに透明電極（通常ＩＴ
Ｏ）膜を蒸着して所望のパターンにパターニングし、パ
ターニングした基板（上下２枚）を使って液晶セルを形
成し、この液晶セルの上下面に、偏光板と反射板を貼り
合わせて完成品のパネルとする、という工程をとるのが
一般的である。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】液晶表示素子を製造す
るときには、上記工程の各段階において基板の裏面がロ
ーラーやステージなどの装置の一部に接触する。これは
基板搬送、状態保持、冷却や加熱などの目的のために避
けられないことである。基板がガラス基板のようにそれ
自体が硬い場合は、上述のような装置との接触はほとん
ど問題にならない。ところがＰＦ−ＬＣＤの場合、基板
の裏面を従来のように何らの保護をせずに処理を行なっ
ていると、ポリマーフィルム基板に傷が付き易いことや
異物や汚れが転移し易いため、品質、歩留まりの低下を
引き起こすという問題がある。
るときには、上記工程の各段階において基板の裏面がロ
ーラーやステージなどの装置の一部に接触する。これは
基板搬送、状態保持、冷却や加熱などの目的のために避
けられないことである。基板がガラス基板のようにそれ
自体が硬い場合は、上述のような装置との接触はほとん
ど問題にならない。ところがＰＦ−ＬＣＤの場合、基板
の裏面を従来のように何らの保護をせずに処理を行なっ
ていると、ポリマーフィルム基板に傷が付き易いことや
異物や汚れが転移し易いため、品質、歩留まりの低下を
引き起こすという問題がある。
【０００４】本発明者の知るところでは基板裏面に傷を
付けないために、基板裏面に接触する製造装置や治工具
の部分（ローラー、ステージ等の表面）を可能な限り材
質の柔らかいプラスチックにしたり、ＳＵＳ、アルミ等
の金属を使用せざるを得ない場合は表面を研磨して鏡面
に仕上げたり、タフラム処理等の表面処理を行なったう
えで異物や汚れの付着と異物の挟み込みによる擦過傷を
防止するため頻繁に清掃（洗浄）して清浄な状態を保
つ、などの対策が実施されてきている。
付けないために、基板裏面に接触する製造装置や治工具
の部分（ローラー、ステージ等の表面）を可能な限り材
質の柔らかいプラスチックにしたり、ＳＵＳ、アルミ等
の金属を使用せざるを得ない場合は表面を研磨して鏡面
に仕上げたり、タフラム処理等の表面処理を行なったう
えで異物や汚れの付着と異物の挟み込みによる擦過傷を
防止するため頻繁に清掃（洗浄）して清浄な状態を保
つ、などの対策が実施されてきている。
【０００５】しかしながら、強度、精度が出せないため
柔らかい材質を使用できるケースは非常に限られてお
り、鏡面仕上げやタフラム処理等の表面仕上にはコスト
がかかり、また損傷したときの再処理などメンテナンス
が大変であり、頻繁に清掃（洗浄）するために装置を停
止しなければならず製造能力をが落ち、しかも、このよ
うな対策を施していてもまだ完全には防止しきれないと
いうのが現実であった。
柔らかい材質を使用できるケースは非常に限られてお
り、鏡面仕上げやタフラム処理等の表面仕上にはコスト
がかかり、また損傷したときの再処理などメンテナンス
が大変であり、頻繁に清掃（洗浄）するために装置を停
止しなければならず製造能力をが落ち、しかも、このよ
うな対策を施していてもまだ完全には防止しきれないと
いうのが現実であった。
【０００６】本発明は上記従来の問題点に鑑みてなした
もので、ポリマーフィルム基板に傷が付きにくくする容
易かつ安価な方法を提供することを目的とする。
もので、ポリマーフィルム基板に傷が付きにくくする容
易かつ安価な方法を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明に係る液晶表示素
子用電極基板の製造方法は上記問題点を解決するため
に、長尺ロール状ポリマーフィルムの裏面に保護フィル
ムを剥離可能に貼り合わせた後、表面に透明電極膜を蒸
着するようにしたものである。
子用電極基板の製造方法は上記問題点を解決するため
に、長尺ロール状ポリマーフィルムの裏面に保護フィル
ムを剥離可能に貼り合わせた後、表面に透明電極膜を蒸
着するようにしたものである。
【０００８】本発明に係る液晶表示素子用電極基板のパ
ターン形成方法は上記問題点を解決するために、裏面に
保護フィルムが剥離可能に貼り合わされ、表面に透明電
極膜を設けたポリマーフィルム製の液晶表示素子用電極
基板に、洗浄、レジスト塗布、プリベイク、露光、現
像、ポストベイク、エッチング、剥離等一連のパターニ
ング工程を施すようにしたものである。
ターン形成方法は上記問題点を解決するために、裏面に
保護フィルムが剥離可能に貼り合わされ、表面に透明電
極膜を設けたポリマーフィルム製の液晶表示素子用電極
基板に、洗浄、レジスト塗布、プリベイク、露光、現
像、ポストベイク、エッチング、剥離等一連のパターニ
ング工程を施すようにしたものである。
【０００９】本発明に係る液晶セルの製造方法は上記問
題点を解決するために、裏面に保護フィルムが剥離可能
に貼り合わされ、表面に透明電極がパターイングされた
ポリマーフィルム製の液晶表示素子用電極基板に、洗
浄、配向剤塗布、ベイク、ラビング、シール材印刷、ギ
ャップ材分散、上下基板張合せ、シール材ベイク、分割
カット、液晶注入、封止等一連のセル形成工程を施すよ
うにしたものである。
題点を解決するために、裏面に保護フィルムが剥離可能
に貼り合わされ、表面に透明電極がパターイングされた
ポリマーフィルム製の液晶表示素子用電極基板に、洗
浄、配向剤塗布、ベイク、ラビング、シール材印刷、ギ
ャップ材分散、上下基板張合せ、シール材ベイク、分割
カット、液晶注入、封止等一連のセル形成工程を施すよ
うにしたものである。
【００１０】本発明に係る液晶表示パネルの製造方法は
上記問題点を解決するために、上記液晶セルの製造方法
によって製造された液晶セルの上、下基板から上記保護
フィルムを剥離した後、偏光板、反射板等の積層部材を
張り付けるようにしたものである。
上記問題点を解決するために、上記液晶セルの製造方法
によって製造された液晶セルの上、下基板から上記保護
フィルムを剥離した後、偏光板、反射板等の積層部材を
張り付けるようにしたものである。
【００１１】
【実施例】以下本発明の実施例を図面を参照して説明す
る。図１ないし図４は本発明に係る液晶表示素子用電極
基板の製造方法を示す図である。
る。図１ないし図４は本発明に係る液晶表示素子用電極
基板の製造方法を示す図である。
【００１２】ポリマーフィルム基板上に透明電極膜を形
成する方式としては、真空蒸着法、スパッタリング法、
イオンプレーティング法等が知られているが、いずれ
も、真空チャンバー内でロール状に巻かれた長尺ポリマ
ーフィルム基板を走行させながら蒸発源（ターゲット）
から蒸発してくる電極材料を基板表面に堆積させるとい
うものである。図３は一般的な真空蒸着方式の装置でこ
の様子を示したもので、１が真空チャンバー、２が長尺
ポリマーフィルム基板、３が蒸発源（ターゲット）であ
る。長尺ポリマーフィルム基板２は、巻出し軸４からダ
ンサーロール５ａを経てクーリングドラム６に供給さ
れ、ここで電極材料の堆積を受け、さらにダンサーロー
ル５ｂを経て巻取り軸７に巻き取られる。
成する方式としては、真空蒸着法、スパッタリング法、
イオンプレーティング法等が知られているが、いずれ
も、真空チャンバー内でロール状に巻かれた長尺ポリマ
ーフィルム基板を走行させながら蒸発源（ターゲット）
から蒸発してくる電極材料を基板表面に堆積させるとい
うものである。図３は一般的な真空蒸着方式の装置でこ
の様子を示したもので、１が真空チャンバー、２が長尺
ポリマーフィルム基板、３が蒸発源（ターゲット）であ
る。長尺ポリマーフィルム基板２は、巻出し軸４からダ
ンサーロール５ａを経てクーリングドラム６に供給さ
れ、ここで電極材料の堆積を受け、さらにダンサーロー
ル５ｂを経て巻取り軸７に巻き取られる。
【００１３】長尺ポリマーフィルム基板２の裏面は、複
数の搬送用ローラー８・・・や、中央の大きなクーリン
グドラム６に接触することになる。この接触による損傷
や汚れを防ぐため、本実施例では図１に示すように、裏
面に保護フィルム１０を貼り合わせたものを、上記の装
置にかけて表面に透明電極膜１１を形成する。
数の搬送用ローラー８・・・や、中央の大きなクーリン
グドラム６に接触することになる。この接触による損傷
や汚れを防ぐため、本実施例では図１に示すように、裏
面に保護フィルム１０を貼り合わせたものを、上記の装
置にかけて表面に透明電極膜１１を形成する。
【００１４】なお、長尺ポリマーフィルム基板２への保
護フィルム１０の貼り合わせは図４に示すようなラミネ
ーターを用いれば容易である。即ち、長尺状の保護フィ
ルム１０を巻出し軸１３に保持し、エキスパンダーロー
ル１２を介して一対のゴムロール１４、１４間へ供給
し、そこで長尺ポリマーフィルム基板２の裏面に貼り合
わせる。
護フィルム１０の貼り合わせは図４に示すようなラミネ
ーターを用いれば容易である。即ち、長尺状の保護フィ
ルム１０を巻出し軸１３に保持し、エキスパンダーロー
ル１２を介して一対のゴムロール１４、１４間へ供給
し、そこで長尺ポリマーフィルム基板２の裏面に貼り合
わせる。
【００１５】図５ないし図８は、上述した実施例によっ
て形成した長尺ポリマーフィルム基板２への透明電極膜
のパターニング加工を示す図である。図５は、洗浄（ス
テップ１）、赤外／紫外オーブン入れ（ステップ２）、
レジスト塗布（ステップ３）、プリベイク（ステップ
４）、露光（ステップ５）、現像（ステップ６）、ポス
トベイク（ステップ７）、エッチング（ステップ８）、
剥離（ステップ９）という一連のパターニング工程から
なる一般的なパターニング加工を示している。長尺ポリ
マーフィルム基板２は、枚葉状または適当なサイズにカ
ッティングしてから処理を施す方式とロール状のまま処
理するいわゆるロールツーロール方式がある。いずれの
場合でも、ポリマーフィルム基板２０は図６のように搬
送用のローラー２１上を走行しながら加工・処理される
か、または図７のように平坦なステージ２２上に保持さ
れて、加工・処理される。そしてポリマーフィルム基板
２０は、裏面に保護フィルム１０を貼り合わせた状態で
上述一連の工程を通り、図８に示すように透明電極２３
が所望のパターンにパターニングされる。
て形成した長尺ポリマーフィルム基板２への透明電極膜
のパターニング加工を示す図である。図５は、洗浄（ス
テップ１）、赤外／紫外オーブン入れ（ステップ２）、
レジスト塗布（ステップ３）、プリベイク（ステップ
４）、露光（ステップ５）、現像（ステップ６）、ポス
トベイク（ステップ７）、エッチング（ステップ８）、
剥離（ステップ９）という一連のパターニング工程から
なる一般的なパターニング加工を示している。長尺ポリ
マーフィルム基板２は、枚葉状または適当なサイズにカ
ッティングしてから処理を施す方式とロール状のまま処
理するいわゆるロールツーロール方式がある。いずれの
場合でも、ポリマーフィルム基板２０は図６のように搬
送用のローラー２１上を走行しながら加工・処理される
か、または図７のように平坦なステージ２２上に保持さ
れて、加工・処理される。そしてポリマーフィルム基板
２０は、裏面に保護フィルム１０を貼り合わせた状態で
上述一連の工程を通り、図８に示すように透明電極２３
が所望のパターンにパターニングされる。
【００１６】図９及び図１０は、上述のように透明電極
２３がパターニングされたポリマーフィルム基板２０を
用いて液晶セルを加工形成する例を示す図である。図９
は、基板洗浄（ステップ１）、配向膜付け（ステップ
２）、配向膜焼成（ステップ３）、ラビング（ステップ
４）、ラビング洗浄（ステップ５）、シール銀点印刷
（ステップ６）、スペーサ塗布（ステップ７）、重ね合
わせ焼成（ステップ８）、縦方向分断（ステップ９）、
液晶注入（ステップ１０）、注入口封止（ステップ１
１）、紫外線硬化（ステップ１２）、配向検査（ステッ
プ１３）、横方向分断（ステップ１４）という一連の工
程からなる一般的なセル加工工程を示したものである。
ポリマーフィルム基板はパターニング加工と同様に搬送
用ローラーの上を走行しながら処理されるか、ステージ
上に保持されて処理されるかのどちらかの状態で各工程
を通り、図１０に示す液晶セル３０が形成される。図中
３１は液晶、３２はスペーサである。ポリマーフィルム
基板２０はもちろん保護フィルム１０を貼り合わせた裏
面側が表になるようにして用いる。
２３がパターニングされたポリマーフィルム基板２０を
用いて液晶セルを加工形成する例を示す図である。図９
は、基板洗浄（ステップ１）、配向膜付け（ステップ
２）、配向膜焼成（ステップ３）、ラビング（ステップ
４）、ラビング洗浄（ステップ５）、シール銀点印刷
（ステップ６）、スペーサ塗布（ステップ７）、重ね合
わせ焼成（ステップ８）、縦方向分断（ステップ９）、
液晶注入（ステップ１０）、注入口封止（ステップ１
１）、紫外線硬化（ステップ１２）、配向検査（ステッ
プ１３）、横方向分断（ステップ１４）という一連の工
程からなる一般的なセル加工工程を示したものである。
ポリマーフィルム基板はパターニング加工と同様に搬送
用ローラーの上を走行しながら処理されるか、ステージ
上に保持されて処理されるかのどちらかの状態で各工程
を通り、図１０に示す液晶セル３０が形成される。図中
３１は液晶、３２はスペーサである。ポリマーフィルム
基板２０はもちろん保護フィルム１０を貼り合わせた裏
面側が表になるようにして用いる。
【００１７】即ち、液晶セル３０の上、下表面には保護
フィルム１０が貼り合わされているわけであるから、加
工中の傷付きや異物、汚れの付着はすべてこの保護フィ
ルム１０が引き受ることになり、従って液晶セルとして
形成後にこの保護フィルム１０を剥がせば、傷のない清
浄な上、下面を有する液晶セル得られる。
フィルム１０が貼り合わされているわけであるから、加
工中の傷付きや異物、汚れの付着はすべてこの保護フィ
ルム１０が引き受ることになり、従って液晶セルとして
形成後にこの保護フィルム１０を剥がせば、傷のない清
浄な上、下面を有する液晶セル得られる。
【００１８】そして図１１に示すように、この液晶セル
３０の上、下両面から保護フィルム１０を剥離して偏光
板３３及び反射板３４を貼り付ければ、完成品としての
液晶パネルが得られる。
３０の上、下両面から保護フィルム１０を剥離して偏光
板３３及び反射板３４を貼り付ければ、完成品としての
液晶パネルが得られる。
【００１９】なお以上の説明においては保護フィルムの
特性、寸法等について言及しなかったが、例えば、材質
をポリマーフィルム基板の材質と同じにして、物性をほ
ぼ同一とし、加熱時の温度や時間、使用する薬液の種類
などの加工条件や、装置の構成を従来から変更しなくて
もよいようにすることができる。さらに具体的には、安
価に入手できるポリエステルフィルムのベース基材の片
面に粘着剤層を設けたものを用いるとよい。ベースとし
ては生産量も多く、製造技術もこなれているＰＥＴフィ
ルムを用いるとよい。また、厚みを１００μｍ以下とし
かつかつ厚みバラツキを±５μｍ以内として、保護フィ
ルムを貼り付けても、総厚の変化をほぼ２倍以内に抑
え、厚みばらつきもポリマーフィルム基板単体の場合と
大差のない状態にして、加工条件や装置に特別の変更を
要しないようにすることができる。
特性、寸法等について言及しなかったが、例えば、材質
をポリマーフィルム基板の材質と同じにして、物性をほ
ぼ同一とし、加熱時の温度や時間、使用する薬液の種類
などの加工条件や、装置の構成を従来から変更しなくて
もよいようにすることができる。さらに具体的には、安
価に入手できるポリエステルフィルムのベース基材の片
面に粘着剤層を設けたものを用いるとよい。ベースとし
ては生産量も多く、製造技術もこなれているＰＥＴフィ
ルムを用いるとよい。また、厚みを１００μｍ以下とし
かつかつ厚みバラツキを±５μｍ以内として、保護フィ
ルムを貼り付けても、総厚の変化をほぼ２倍以内に抑
え、厚みばらつきもポリマーフィルム基板単体の場合と
大差のない状態にして、加工条件や装置に特別の変更を
要しないようにすることができる。
【００２０】また液晶表示装置を製造する一連の工程中
には、基板に熱を加える工程が随所にある。そこでポリ
マーフィルム基板と保護フィルムの熱膨張（又は熱収
縮）率が違うと伸び縮み量にアンバランスを生じてカー
ルが発生し、加工に支障を来たすか、カールが大きい時
には加工不能になってしまう。従って、保護フィルムの
熱膨張（または熱収縮）率をポリマーフィルム基板のそ
れと概略一致させるとカールを防止できる。
には、基板に熱を加える工程が随所にある。そこでポリ
マーフィルム基板と保護フィルムの熱膨張（又は熱収
縮）率が違うと伸び縮み量にアンバランスを生じてカー
ルが発生し、加工に支障を来たすか、カールが大きい時
には加工不能になってしまう。従って、保護フィルムの
熱膨張（または熱収縮）率をポリマーフィルム基板のそ
れと概略一致させるとカールを防止できる。
【００２１】さらに保護フィルムとして、いわゆる静電
防止フィルムを使用することによって、基板単体の時よ
りも静電気の発生を抑え、搬送ローラーやステージへの
吸い付きや汚れの吸着を防止できるようにしてもよい。
さらに、搬送ローラーやステージと接触する側の面に、
いわゆる梨地状などの凸凹構造を設けることによって、
密着性を弱くすべり性を良くすることによってポリマー
フィルム基板の走行性を向上させ、傷付きや異物、汚れ
の付着を防ぐようにすることもできる。
防止フィルムを使用することによって、基板単体の時よ
りも静電気の発生を抑え、搬送ローラーやステージへの
吸い付きや汚れの吸着を防止できるようにしてもよい。
さらに、搬送ローラーやステージと接触する側の面に、
いわゆる梨地状などの凸凹構造を設けることによって、
密着性を弱くすべり性を良くすることによってポリマー
フィルム基板の走行性を向上させ、傷付きや異物、汚れ
の付着を防ぐようにすることもできる。
【００２２】
【発明の効果】本発明に係る液晶表示素子用電極基板の
製造方法、液晶表示素子用電極基板のパターン形成方
法、液晶セルの製造方法及び液晶表示パネルの製造方法
はそれぞれ以上説明してきたように、ＰＦ−ＬＣＤを製
造する一連のプロセスにおいて透明電極膜の形成されて
いないポリマーフィルム基板の裏面を保護フィルムを貼
り合わせて保護することによって、加工中に傷が付くこ
と及び異物、汚れの類が付着することを防止でき、高品
質、高歩留まりでＰＦ−ＬＣＤを製造することができる
ようになるという効果がある。また、保護フィルムを貼
り合わせるだけですむので、容易かつ安価に処理でき、
加工装置側に特別な対策を施さなくてもすむので、はる
かに低コストで製造することができるようになるという
効果がある。
製造方法、液晶表示素子用電極基板のパターン形成方
法、液晶セルの製造方法及び液晶表示パネルの製造方法
はそれぞれ以上説明してきたように、ＰＦ−ＬＣＤを製
造する一連のプロセスにおいて透明電極膜の形成されて
いないポリマーフィルム基板の裏面を保護フィルムを貼
り合わせて保護することによって、加工中に傷が付くこ
と及び異物、汚れの類が付着することを防止でき、高品
質、高歩留まりでＰＦ−ＬＣＤを製造することができる
ようになるという効果がある。また、保護フィルムを貼
り合わせるだけですむので、容易かつ安価に処理でき、
加工装置側に特別な対策を施さなくてもすむので、はる
かに低コストで製造することができるようになるという
効果がある。
【図１】本発明に係る液晶表示素子用電極基板の製造方
法を示す断面図である。
法を示す断面図である。
【図２】図１の液晶表示素子用電極基板への透明電極膜
の形成を示す断面図である。
の形成を示す断面図である。
【図３】一般的な真空蒸着方式の装置を示す断面図であ
る。
る。
【図４】長尺ポリマーフィルム基板への保護フィルムの
貼り合わせに用いるラミネーターを示す概念図である。
貼り合わせに用いるラミネーターを示す概念図である。
【図５】一連のパターニング工程からなる一般的なパタ
ーニング加工を示すフローチャートである。
ーニング加工を示すフローチャートである。
【図６】ポリマーフィルム基板の搬送、加工・処理を示
す側面図である。
す側面図である。
【図７】ポリマーフィルム基板の平坦なステージ上での
保持、加工・処理を示す側面図である。
保持、加工・処理を示す側面図である。
【図８】ポリマーフィルム基板への透明電極膜のパター
ニングを示す断面図である。
ニングを示す断面図である。
【図９】一般的なセル加工工程を示すフローチャートで
ある。
ある。
【図１０】本発明に係る液晶セルの製造方法を示す断面
図である。
図である。
【図１１】本発明に係る液晶表示装置の製造方法を示す
断面図である。
断面図である。
１ 真空チャンバー ２ 長尺ポリマーフィルム基板 ３ 蒸発源（ターゲット） １０ 保護フィルム １１ 透明電極膜 ２０ ポリマーフィルム基板 ２３ 透明電極（パターン） ３０ 液晶セル ３１ 液晶 ３２ スペーサ ３３ 偏光板 ３４ 反射板
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 鴨井 澄男 東京都大田区中馬込１丁目３番６号 株式 会社リコー内 (72)発明者 高橋 久雄 東京都大田区中馬込１丁目３番６号 株式 会社リコー内 (72)発明者 菊池 尚志 東京都大田区中馬込１丁目３番６号 株式 会社リコー内
Claims (4)
- 【請求項１】 長尺ロール状ポリマーフィルムの裏面に
保護フィルムを剥離可能に貼り合わせた後、表面に透明
電極膜を蒸着することを特徴とする液晶表示素子用電極
基板の製造方法。 - 【請求項２】 裏面に保護フィルムが剥離可能に貼り合
わされ、表面に透明電極膜を設けたポリマーフィルム製
の液晶表示素子用電極基板に、洗浄、レジスト塗布、プ
リベイク、露光、現像、ポストベイク、エッチング、剥
離等一連のパターニング工程を施すことを特徴とする液
晶表示素子用電極基板のパターン形成方法。 - 【請求項３】 裏面に保護フィルムが剥離可能に貼り合
わされ、表面に透明電極がパターイングされたポリマー
フィルム製の液晶表示素子用電極基板に、洗浄、配向剤
塗布、ベイク、ラビング、シール材印刷、ギャップ材分
散、上下基板張合せ、シール材ベイク、分割カット、液
晶注入、封止等一連のセル形成工程を施すことを特徴と
する液晶セルの製造方法。 - 【請求項４】 請求項３の方法によって製造された液晶
セルの上、下基板から上記保護フィルムを剥離した後、
偏光板、反射板等の積層部材を張り付けることを特徴と
する液晶表示パネルの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4148294A JPH05313113A (ja) | 1992-05-14 | 1992-05-14 | 液晶表示素子用電極基板の製造方法、液晶表示素子用電極基板のパターン形成方法、液晶セルの製造方法及び液晶表示パネルの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4148294A JPH05313113A (ja) | 1992-05-14 | 1992-05-14 | 液晶表示素子用電極基板の製造方法、液晶表示素子用電極基板のパターン形成方法、液晶セルの製造方法及び液晶表示パネルの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05313113A true JPH05313113A (ja) | 1993-11-26 |
Family
ID=15449564
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4148294A Pending JPH05313113A (ja) | 1992-05-14 | 1992-05-14 | 液晶表示素子用電極基板の製造方法、液晶表示素子用電極基板のパターン形成方法、液晶セルの製造方法及び液晶表示パネルの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05313113A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6839123B2 (en) | 1995-01-11 | 2005-01-04 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method and system for fabricating liquid crystal cells |
| JP2008024467A (ja) * | 2006-07-24 | 2008-02-07 | Miyako Roller Industry Co | ガイド用、搬送用ロール |
| JP2011079219A (ja) * | 2009-10-07 | 2011-04-21 | Gunze Ltd | ガスバリアフィルムおよびその製造方法 |
| WO2015152300A1 (ja) * | 2014-04-03 | 2015-10-08 | コニカミノルタ株式会社 | ガスバリア性フィルムの製造方法およびその製造方法によって製造されてなるガスバリア性フィルム |
-
1992
- 1992-05-14 JP JP4148294A patent/JPH05313113A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6839123B2 (en) | 1995-01-11 | 2005-01-04 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method and system for fabricating liquid crystal cells |
| US8493542B2 (en) | 1995-01-11 | 2013-07-23 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method and system for fabricating liquid crystal cells |
| US8593614B2 (en) | 1995-01-11 | 2013-11-26 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method and system for fabricating liquid crystal cells |
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| WO2015152300A1 (ja) * | 2014-04-03 | 2015-10-08 | コニカミノルタ株式会社 | ガスバリア性フィルムの製造方法およびその製造方法によって製造されてなるガスバリア性フィルム |
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