JPH05312526A - レーザー計測器 - Google Patents

レーザー計測器

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JPH05312526A
JPH05312526A JP14663092A JP14663092A JPH05312526A JP H05312526 A JPH05312526 A JP H05312526A JP 14663092 A JP14663092 A JP 14663092A JP 14663092 A JP14663092 A JP 14663092A JP H05312526 A JPH05312526 A JP H05312526A
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JP
Japan
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measured
laser beam
air
sensor
laser
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Application number
JP14663092A
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English (en)
Inventor
Tamotsu Kurita
田 保 栗
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SpeedFam Co Ltd
Original Assignee
SpeedFam Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 被測定物の表面の位置を、該表面に付着した
付着物の影響を受けることなく高精度に検出することが
できるレーザー計測器を提供すること。 【構成】 被測定物12の表面にレーザービームを投射
してその反射ビームから該被測定物の表面の位置を検出
するセンサ10に、被測定物にエアを噴射して付着物を
除去するためのブロー機構14を設け、該ブロー機構に
おけるエアブロー用ノズル40とレーザービームの投射
及び反射ビームの受光を行うための導通孔27,28と
を共通化することにより、エアの噴流内においてレーザ
ービームの投受光を行うようにした。 【効果】 被測定物の表面の付着物をブロー機構により
除去しながら高精度の測定を行うことができる。しか
も、エアの噴流内においてレーザービームの投受光を行
うことにより、エアブローで周囲に飛散した付着物の影
響を受けることがない。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、金属、ガラス、合成樹
脂等からなる各種工業製品や部品の位置や変位、厚さ等
を非接触で測定するためのレーザー計測器に関するもの
である。
【0002】
【従来の技術】金属、ガラス、合成樹脂等からなる各種
工業製品や部品の位置、変位、厚さ等を非接触で測定す
ることができる計測器として、従来、レーザービームを
使用するレーザー計測器が知られている。これは、図3
に示すように、レーザー発生手段と受光手段とを内蔵す
るセンサ1と、該センサ1からの測定信号を演算処理す
る演算器2とからなるもので、前記センサ1により被測
定物5の表面にレーザービーム3を投射すると共にその
反射ビーム4を受光して、該センサ1から被測定物5の
表面の位置に応じた信号を演算器2に出力し、該演算器
2においてその位置信号を演算処理して被測定物5の表
面の位置を算出するものである。被測定物の厚さは、図
4に示すように、二つのセンサ1,1を該被測定物5の
両側に配設し、その両面の位置を検出することにより測
定することができる。
【0003】しかしながら、かかるレーザー計測器は、
被測定物表面におけるレーザービームの反射を利用する
ものであるため、該表面の少なくともレーザービームを
投射する部分が清浄であることが必要であり、被測定物
に研磨材や洗浄剤、油、ごみ等の異物が付着している
と、それらの影響によって表面の位置を正確に測定する
ことが困難となり、測定精度の低下が避けられない。特
に、高度の寸法精度が要求される半導体ウエハの厚さを
研磨工程中に測定するような場合には、ウエハの表面に
研磨材スラリーが付着しているため、その影響で測定誤
差が生じ易い。
【0004】被測定物の表面に圧縮空気や水等を噴射し
て付着物を除去したあと、レーザービームを投射して測
定することが考えられるが、被測定物が研磨加工中であ
ったりコンベアで搬送中である場合には、瞬時に測定を
行う必要上、噴射と同時にレーザービームを投射しなけ
ればならないため、飛散した付着物によってレーザービ
ームが撹乱され、測定誤差を生じ易い。
【0005】本発明の解決課題は、被測定物の表面に付
着した付着物を除去しながら、飛散した付着物による影
響を受けることなく高精度の測定を行うことができるレ
ーザー計測器を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するた
め、本発明は、被測定物の表面にレーザービームを投射
して反射ビームを受光することにより、被測定物の表面
の位置に応じた信号を出力するセンサと、該センサから
の位置信号を演算処理して被測定物の表面の位置を算出
する演算器とからなるレーザー計測器において、前記セ
ンサが、被測定物にエアを噴射して付着物を除去するブ
ロー機構を備え、該ブロー機構におけるエアブロー用ノ
ズルとレーザービームの投射及び反射ビームの受光を行
うための導通孔とを共通化することにより、エアの噴流
内においてレーザービームの投受光を行う構成であるこ
とを特徴とするものである。
【0007】
【作用】測定時には、センサのエアブロー用ノズルから
被測定物の表面にエアが噴射されて付着物が除去される
と共に、その除去部分にレーザービームが投射されて反
射ビームが受光される。このとき、エアの噴流内におい
てレーザービームの投受光が行われるため、該噴流によ
り吹き飛ばされて周囲に飛散した付着物の影響を受ける
ことがない。
【0008】反射ビームを受光したセンサからは、被測
定物の表面の位置に応じた信号が出力され、該演算器に
おいて演算処理されることにより、被測定物の表面の位
置が算出される。
【0009】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照して説明
する。図1に示すレーザー計測器は、一対のセンサ1
0,10と演算器11とで構成され、これらのセンサ1
0,10を被測定物12の両側に配設することによって
該被測定物の厚さを測定するようにしたものである。前
記センサ10,10は、互いに同一構造を有していて、
被測定物12の表面に付着している研磨材スラリー等の
付着物13を局所的に除去するためのブロー機構14
と、付着物13が除去された部分で被測定物12の表面
位置をレーザービームにより検出する検出機構15とを
備えている。
【0010】前記検出機構15は、レーザービームの投
射と反射ビームの受光とを行うための光学手段を内蔵し
たセンサヘッド17を備えており、該センサヘッド17
はケーシング18内に納められ、付着物13に汚染され
ることのないよう密封されている。前記光学手段は、レ
ーザービームを発生する半導体レーザー20、該半導体
レーザー20からのレーザービームを集光して被測定物
12に投射する投光レンズ21、被測定物12で反射し
た反射ビームを集光する受光レンズ22、受光レンズ2
2からの反射ビームに応じた電気信号を出力する半導体
位置検出素子23から構成され、半導体レーザー20は
駆動回路24によって駆動される。
【0011】前記半導体レーザー20及び投光レンズ2
1は、それらの光軸がセンサ10,10の測定中心と一
致するように配設されており、半導体レーザー20より
発せられたレーザービームB1は、投光レンズ21によ
り集光されて光学ガラス板26、及びケーシング18の
前面板18aに形成された投光用導通孔27を通り、被
測定物12上にスポットとなって投射される。投射され
たレーザービームは、梨地状の被測定物表面で散乱光と
なって反射し、その一部が反射ビームB2として、ケー
シング18の前面板18aに形成された受光用導通孔2
8から光学ガラス板29、及び受光レンズ22を透過し
て、半導体位置検出素子23上に結像する。
【0012】前記位置検出素子23から結像位置に応じ
て発生する電気信号は、増幅回路32を経て演算器11
における信号処理回路33に送られる。いま、被測定物
12の表面Aで反射した反射ビームが位置検出素子23
上にa点で結像していた状態から、被測定物12の表面
の位置がBに変位すると、反射ビームも変位して位置検
出素子23上にb点で結像するため、該位置検出素子2
3で発生する電気信号もこれに応じて変化する。この変
化は増幅回路32により増幅され、信号処理回路33に
おいていわゆる三角測量方式に基づく処理がなされ、被
測定物表面の位置の変位量に変換される。従って、前記
表面Aの位置を基準面として零点調節しておくことによ
り、被測定物12の表面の位置Bを該基準面Aからの変
位量として求めることができる。
【0013】上下のセンサ10,10によって測定され
た前記変位量は、それぞれ信号処理回路33,33から
演算回路34に送られて処理され、ここで被測定物12
の厚さが演算される。この演算回路34は、上方のセン
サ10によってもたらされる変位量についての信号m
と、下方のセンサ10によってもたらされる変位量につ
いての信号nとを加算し、これから両センサ間の距離に
よって定まる定数Xを減ずることにより被測定物の厚さ
を算出するものである。
【0014】前記投受光用の導通孔27,28は、正確
な測定が可能なように必要なレーザービームを通し得る
孔径となっており、特に受光用導通孔28は、測定面の
変位により測定スポットが移動するのに追随して反射ビ
ームも移動するため、測定範囲に対応した孔径とするこ
とが必要である。これらの導通孔27,28は、被測定
物の表面に対向する先端部において互いに一体化し、一
つの開口部36を共有しており、該開口部36を通じて
レーザービームB1の投射と反射ビームB2の受光とが
行われるようになっている。該開口部36の口径は約3
mm程度に設定するのが好ましい。また、これらの導通
孔27,28におけるセンサヘッド17側の後端部は、
前記光学ガラス板27,29によって閉塞されており、
これらの光学ガラス板27,29は、図示しない押え部
材及びシール材によってケーシング18に流体密に固着
されている。これらの光学ガラス板27,29は、レー
ザービーム及び反射ビームを歪なく透過させ得るもので
あり、投光レンズ21及び受光レンズ22と同様、投射
ビーム及び反射ビームに対して傾きなく配置されてい
る。
【0015】一方、被測定物12の表面に付着した研磨
材等の付着物13を除去するための前記ブロー機構14
は、圧縮空気を噴出するエアブロー用ノズル40と、水
を噴出する水ブロー用ノズル41とを備えている。エア
ブロー用ノズル40は、前記投受光用の導通孔27,2
8と共用され、開口部36を通じて被測定物12にエア
を噴射するようになっており、このために、受光用導通
孔28が、供給通孔42及び供給パイプ43によりマニ
ホールド44に接続され、該マニホールド44から電磁
開閉弁45及び減圧弁46を介して圧縮空気供給源47
に連結されている。このように導通孔27,28とエア
ブロー用ノズル40とが共通化されることにより、エア
の噴流内においてレーザービームの投受光が行われる。
【0016】前記導通孔27,28には、前述したよう
に光学ガラス板26,29が流体密に取り付けられてい
るため、ブロー用の高圧のエアが該導通孔内に供給され
てもセンサヘッド17側に侵入することはなく、また、
付着物13の侵入も防止される。特に下方のセンサ10
において万一付着物13がノズル40内に侵入した場合
でも、該付着物13がセンサヘッド17を汚染すること
がない。
【0017】また、前記水ブロー用ノズル41は、エア
ブローによるスラリーの除去をより効果的に行うため、
必要に応じて備えられる。該水ブロー用ノズル41は、
ケーシング18に設けられたコネクタ50に接続され、
マニホールド51、電磁開閉弁52及び減圧弁53を介
して給水源54に連結されている。
【0018】前記構成を有するレーザー計測器によって
被測定物12の厚さを測定する際には、上下のセンサ1
0,10におけるエアブロー用ノズル40から被測定物
の表面にエアが噴射されて付着物13が除去される。こ
のとき、上方のセンサ10においては、減圧弁46によ
って例えば1Kg/cm2 程度に調圧されたエアが、供
給通孔42を通って導通孔27,28内に供給され、開
口部36より噴流となって噴出する。この噴流は、直下
に位置している被測定物12の表面に付着している付着
物13を吹き飛ばすか、或いは押し退けて被測定物12
の表面を露出させる。露出した被測定物表面の面積は、
ノズルの開口部36の口径と概ね同じくらいの面積とな
る。下方のセンサ10においても、上方のセンサ10と
同様の動作がなされるが、電磁開閉弁45などのエア供
給回路を共通にしておくことで、噴流を上下のセンサ1
0,10から同時に噴出させ、被測定物12にそれを損
傷させるような偏荷重がかかることを防ぐことができ
る。エアの圧力が比較的低い場合、付着物13が押し退
けられても被測定物の表面が完全に露出するには至らな
いこともあるが、このような状態であっても、被測定物
表面にある付着物13は噴流の作用によって一様な厚さ
の非常に薄い膜状となって安定するので、厚さ測定にお
ける大きな誤差となることはない。
【0019】被測定物表面の付着物13の除去をより効
果的にするため、前記エアブローとほぼ同時に、水のブ
ローも行われる。このとき、エアブローの場合と同様
に、給水源54から減圧弁53で調圧され水がマニホー
ルド51に供給され、ノズル41の開口部より被測定物
12に向けて吹き付けられる。このノズル41は、ノズ
ル40によりエアブローがなされる箇所の近傍に向けら
れており、ノズル41から吹き付られた水は、エアブロ
ーによって生起された噴流により霧状となり、エアと共
に被測定物表面部分に付着している付着物13を除去す
る。この水によるブローは、付着物13の粘度が比較的
高い場合に効果的である。
【0020】前述したように、エア及び水のブローによ
り被測定物12の表面は、エアブロー用ノズルの開口部
36の直前の箇所で局部的に露出され、この箇所にレー
ザービームが投射される。被測定物表面の露出箇所は、
例えば3mm程度の径であるが、レーザービームのスポ
ット径よりもはるかに大きく、被測定物の移動により露
出箇所がノズルの開口部36の直前の位置から多少ずれ
ても、レーザービームの投射スポットが被測定物表面の
露出箇所を外れることがない。
【0021】露出した被測定物12の表面に投射された
レーザービームは、ここで反射してその一部が反射ビー
ムとなり、受光レンズ22を通って位置検出素子23上
で結像する。前記レーザービームの投射及び反射ビーム
の受光は、エアの噴流内において該噴流に添って行われ
るものであり、このため、エアブローにより周囲に飛散
した付着物の影響を受けることがない。
【0022】反射ビームB2が結像した位置検出素子2
3では、結像位置に対応した電気信号が発生し、この信
号は増幅器32で増幅されて信号処理回路33に送ら
れ、変位量として出力される。この信号処理回路33か
らの信号は厚さ演算回路34に送られ、ここで演算処理
されることにより、被測定物の厚さが算出される。
【0023】図2にはセンサの他の実施例が示されてい
る。このセンサ60,60は、レーザービームの投射及
び反射ビームの受光を同一経路内で行う正反射タイプの
ものであって、レーザービームの光路内にプリズムある
いはミラー61を設けてビームを曲げることにより、セ
ンサヘッド62の配置を第1実施例のものとは異ならせ
ている。
【0024】なお、前記実施例の計測器は、被測定物の
厚さを測定するために二つのセンサを備えているが、被
測定物の表面の位置を測定する場合にはセンサが一つで
あっても良いことは言うまでもない。
【0025】
【発明の効果】このように本発明によれば、センサにエ
アブロー機構を設けたので、被測定物の表面に研磨材等
が付着していても、それを除去しながら高精度の測定を
行うことができる。しかも、エアブロー用ノズルとレー
ザービームの投射及び反射ビームの受光を行うための導
通孔とを共通化することにより、エアの噴流内において
レーザービームの投受光を行うようにしたので、エアブ
ローにより周囲に飛散した付着物の影響を受けることが
ない。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例を示す断面図である。
【図2】センサの別構成例を示す模式図である。
【図3】従来例の説明図である。
【図4】従来例の説明図である。
【符号の説明】
10 センサ 11 演算器 12 被測定物 14 ブロー機
構 27,28 導通孔 40 エアブロ
ー用ノズル

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 被測定物の表面にレーザービームを投射
    して反射ビームを受光することにより、被測定物の表面
    の位置に応じた信号を出力するセンサと、該センサから
    の位置信号を演算処理して被測定物の表面の位置を算出
    する演算器とからなるレーザー計測器において、 前記センサが、被測定物にエアを噴射して付着物を除去
    するブロー機構を備え、該ブロー機構におけるエアブロ
    ー用ノズルとレーザービームの投射及び反射ビームの受
    光を行うための導通孔とを共通化することにより、エア
    の噴流内においてレーザービームの投受光を行う構成で
    ある、ことを特徴とするレーザー計測器。
JP14663092A 1992-05-12 1992-05-12 レーザー計測器 Pending JPH05312526A (ja)

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JP14663092A JPH05312526A (ja) 1992-05-12 1992-05-12 レーザー計測器

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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Effective date: 20011127