JPH05310938A - ポリアミド・イミド類の製造方法 - Google Patents
ポリアミド・イミド類の製造方法Info
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- JPH05310938A JPH05310938A JP22849492A JP22849492A JPH05310938A JP H05310938 A JPH05310938 A JP H05310938A JP 22849492 A JP22849492 A JP 22849492A JP 22849492 A JP22849492 A JP 22849492A JP H05310938 A JPH05310938 A JP H05310938A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G73/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
- C08G73/06—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
- C08G73/10—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
- C08G73/1003—Preparatory processes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
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- C08G73/10—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
- C08G73/14—Polyamide-imides
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- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】イミド構造を与えるために重合後環化よりもむ
しろＨｅｃｋカルボニル化反応を利用するポリアミド・
イミド類の改良された製造方法を提供する。 【構成】それぞれ一般式 で示される反応体ペア、（例えば、 及び ） 等と一酸化炭素を反応させる工程を含むポリマーの製造
方法。
しろＨｅｃｋカルボニル化反応を利用するポリアミド・
イミド類の改良された製造方法を提供する。 【構成】それぞれ一般式 で示される反応体ペア、（例えば、 及び ） 等と一酸化炭素を反応させる工程を含むポリマーの製造
方法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、芳香族ポリマー類の製
造方法に関する。より詳細には、本発明はポリアミド・
イミド類の製造処理方法に関する。ポリアミド・イミド
類は、複合材料及び積層品に、並びに強化繊維及びフィ
ルムとして広範に用いられる。
造方法に関する。より詳細には、本発明はポリアミド・
イミド類の製造処理方法に関する。ポリアミド・イミド
類は、複合材料及び積層品に、並びに強化繊維及びフィ
ルムとして広範に用いられる。
【０００２】
【従来の技術】一般的には、ポリアミド・イミド類は、
以下に示されるような、無水４−トリメリトイル＝クロ
リドと適当なジアミンの反応により製造される。
以下に示されるような、無水４−トリメリトイル＝クロ
リドと適当なジアミンの反応により製造される。
【０００３】
【化５】
【０００４】その方法では、中間体ポリアミドカルボン
酸が水の除去を伴うイミド生成工程において環化され
る。この方法には、感湿性酸塩化物の使用及びイミド生
成工程における小分子の追い出しという短所が存在し、
ポリマー製品に欠損及び欠点を付与する可能性がある。
この方法により製造されるポリアミド・イミド類は、交
互のアミド単位及びイミド単位の主鎖を有する。
酸が水の除去を伴うイミド生成工程において環化され
る。この方法には、感湿性酸塩化物の使用及びイミド生
成工程における小分子の追い出しという短所が存在し、
ポリマー製品に欠損及び欠点を付与する可能性がある。
この方法により製造されるポリアミド・イミド類は、交
互のアミド単位及びイミド単位の主鎖を有する。
【０００５】特開平１−１２３８２３号公報及びYoneya
ma他、Macromolecules, Vol.21, 1988, 1908〜1911ペー
ジは、低分子量ポリアミド類の製造において、Ｈｅｃｋ
カルボニル化反応（すなわち遷移金属触媒カルボニル化
及びカプリング）の使用を開示している。米国特許第
４，９３３，４１９号；同４，９３３，４６６号及び同
４，９３３，４６７号；並びに同４，９３３，４６８号
明細書は、エステル類；イミド類；及びアミド・イミド
類をそれぞれ製造するのにＨｅｃｋカルボニル化反応を
利用する方法を開示している。
ma他、Macromolecules, Vol.21, 1988, 1908〜1911ペー
ジは、低分子量ポリアミド類の製造において、Ｈｅｃｋ
カルボニル化反応（すなわち遷移金属触媒カルボニル化
及びカプリング）の使用を開示している。米国特許第
４，９３３，４１９号；同４，９３３，４６６号及び同
４，９３３，４６７号；並びに同４，９３３，４６８号
明細書は、エステル類；イミド類；及びアミド・イミド
類をそれぞれ製造するのにＨｅｃｋカルボニル化反応を
利用する方法を開示している。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、イミ
ド構造を与えるために重合後環化よりもむしろＨｅｃｋ
カルボニル化反応を利用するポリアミド・イミド類の改
良された製造方法を提供することである。
ド構造を与えるために重合後環化よりもむしろＨｅｃｋ
カルボニル化反応を利用するポリアミド・イミド類の改
良された製造方法を提供することである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の広範な観点で
は、それぞれ一般式
は、それぞれ一般式
【０００８】
【化６】
【０００９】で示される反応体ペア、もしくはそれぞれ
一般式
一般式
【００１０】
【化７】
【００１１】で示される反応体ペア、又は一般式
【００１２】
【化８】
【００１３】で示される反応体、並びに一酸化炭素を反
応させる工程を含むポリマーの製造方法が提供される。
各々Ｘ，Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｒ3 及びｎは、独立して選ばれ
る。Ｘは、−Ｂｒ及び−Ｉより選ばれる非オルトハロゲ
ン化物である。ｎは、０から４までの整数であり、ｄ
は、０から１までの整数であり、そしてｅは、０から３
までの整数である。ｄが０である場合にはｅが０であ
る。Ｒ1 は、アルキル、アリールアルキル、アリール、
ヘテロアリール及びシクロアルキルから成る群より選ば
れる。Ｒ2 は、次式
応させる工程を含むポリマーの製造方法が提供される。
各々Ｘ，Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｒ3 及びｎは、独立して選ばれ
る。Ｘは、−Ｂｒ及び−Ｉより選ばれる非オルトハロゲ
ン化物である。ｎは、０から４までの整数であり、ｄ
は、０から１までの整数であり、そしてｅは、０から３
までの整数である。ｄが０である場合にはｅが０であ
る。Ｒ1 は、アルキル、アリールアルキル、アリール、
ヘテロアリール及びシクロアルキルから成る群より選ば
れる。Ｒ2 は、次式
【００１４】
【化９】
【００１５】（上式中、各々Ｒ5 は、独立してアルキル
及びアリールから成る群より選ばれ、ｍは、１から１２
までの整数であり、そしてｊは、０から３００までの間
の整数である）から成る群より選ばれる。Ｒ3 は、置換
アリール、未置換アリール、置換ヘテロアリール及び未
置換ヘテロアリールから成る群より選ばれる。
及びアリールから成る群より選ばれ、ｍは、１から１２
までの整数であり、そしてｊは、０から３００までの間
の整数である）から成る群より選ばれる。Ｒ3 は、置換
アリール、未置換アリール、置換ヘテロアリール及び未
置換ヘテロアリールから成る群より選ばれる。
【００１６】
【具体的な態様】本発明のポリアミド・イミド類の製造
方法は、溶剤中において、パラジウム触媒カルボニル化
及び縮合を利用して、一般式
方法は、溶剤中において、パラジウム触媒カルボニル化
及び縮合を利用して、一般式
【００１７】
【化１０】
【００１８】の繰り返し単位を有するポリアミド・イミ
ド類を提供する。これらのポリアミド・イミド類は、そ
れぞれ順に、一般式
ド類を提供する。これらのポリアミド・イミド類は、そ
れぞれ順に、一般式
【００１９】
【化１１】
【００２０】で示される反応体ペア、もしくは一般式
【００２１】
【化１２】
【００２２】で示される反応体ペア、又は一般式
【００２３】
【化１３】
【００２４】で示される反応体、並びに一酸化炭素の反
応により製造される。
応により製造される。
【００２５】各々Ｘ，Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｒ3 及びｎは、独立
して選ばれる。Ｘは、Ｂｒ及びＩより選ばれる非オルト
ハロゲン化物である。ポリマー構造式において、アミド
部分のカルボニルは非オルトである。
して選ばれる。Ｘは、Ｂｒ及びＩより選ばれる非オルト
ハロゲン化物である。ポリマー構造式において、アミド
部分のカルボニルは非オルトである。
【００２６】Ｒ1 はイミド環からＲ2 を隔てている。Ｒ
1 は、置換もしくは未置換であることができ、そしてア
ルキル、アリールアルキル、シクロアルキル、アリール
もしくはヘテロアリールであることができる。Ｒ1 基の
具体例としては、フェニル、ビフェニル、ナフタレン、
アントラセン、チオフェン、ベンゾチオフェン、ピリジ
ン、キノリン、フラン、ジベンゾフラン、芳香族スルホ
ン類、ジアリールエーテル類、及びジアリールカルボニ
ル類が挙げられる。これらの基は、１つ以上のアルキル
基、望ましくは炭素原子数１〜６個のアルキル基又より
望ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基及びブチ
ル基で置換されていてもよい。更なる置換基としては、
フェニル、ハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、炭素原子数
１〜６個のアルコキシ及びカルボキシレート基を包含し
てもよい。これらのＲ1 基は、未置換であるか、又は非
反応性である置換基、すなわち重合反応におけるジハロ
化合物の反応において、悪影響（例えば、立体障害もし
くは電子不活性化）を与えない置換基で置換される。
1 は、置換もしくは未置換であることができ、そしてア
ルキル、アリールアルキル、シクロアルキル、アリール
もしくはヘテロアリールであることができる。Ｒ1 基の
具体例としては、フェニル、ビフェニル、ナフタレン、
アントラセン、チオフェン、ベンゾチオフェン、ピリジ
ン、キノリン、フラン、ジベンゾフラン、芳香族スルホ
ン類、ジアリールエーテル類、及びジアリールカルボニ
ル類が挙げられる。これらの基は、１つ以上のアルキル
基、望ましくは炭素原子数１〜６個のアルキル基又より
望ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基及びブチ
ル基で置換されていてもよい。更なる置換基としては、
フェニル、ハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、炭素原子数
１〜６個のアルコキシ及びカルボキシレート基を包含し
てもよい。これらのＲ1 基は、未置換であるか、又は非
反応性である置換基、すなわち重合反応におけるジハロ
化合物の反応において、悪影響（例えば、立体障害もし
くは電子不活性化）を与えない置換基で置換される。
【００２７】Ｒ2 は、連結基であり、それは分子の別の
部分に連結することに加えて、また選ばれた官能価を提
供できる。このような反応が生じることを特に所望しな
い限り、重合反応においてこのような官能価は反応でき
ないが、その場合には、鎖の枝分れが生じるかもしれな
い。選ばれた官能価は、重合反応中の反応に対してジヨ
ードイミド化合物をひどく不活性化させることはでき
ず、又いずれかの方法で反応に干渉することもできな
い。Ｒ2 は、次式
部分に連結することに加えて、また選ばれた官能価を提
供できる。このような反応が生じることを特に所望しな
い限り、重合反応においてこのような官能価は反応でき
ないが、その場合には、鎖の枝分れが生じるかもしれな
い。選ばれた官能価は、重合反応中の反応に対してジヨ
ードイミド化合物をひどく不活性化させることはでき
ず、又いずれかの方法で反応に干渉することもできな
い。Ｒ2 は、次式
【００２８】
【化１４】
【００２９】から成る群より選ばれる。各々Ｒ5 は、独
立してアルキル及びアリールから成る群より選ばれ、ｍ
は１から１２までの整数であり、そしてｊは、０から３
００までの間の整数である。
立してアルキル及びアリールから成る群より選ばれ、ｍ
は１から１２までの整数であり、そしてｊは、０から３
００までの間の整数である。
【００３０】これらの式中、ｎは、０から４までの整数
であり、ｄは、０から１までの整数であり、そしてｅ
は、０から３までの整数である。ｄが０である場合、ｅ
は０である。
であり、ｄは、０から１までの整数であり、そしてｅ
は、０から３までの整数である。ｄが０である場合、ｅ
は０である。
【００３１】Ｒ3 は、アリールもしくはヘテロアリール
である。Ｒ3 基の具体例としては、フェニル、ビフェニ
ル、ナフタレン、アントラセン、チオフェン、ベンゾチ
オフェン、ピリジン、キノリン、フラン、ジベンゾフラ
ン、芳香族スルホン類、ジアリールエーテル類及びジア
リールカルボニル類が挙げられる。ハロ基に加えて、Ｒ
3 基は、未置換であるか、又は非反応性である置換基、
すなわち、重合反応におけるジハロ化合物の反応におい
て、悪影響（例えば立体障害もしくは電子不活性化）を
与えない置換基で置換されうる。
である。Ｒ3 基の具体例としては、フェニル、ビフェニ
ル、ナフタレン、アントラセン、チオフェン、ベンゾチ
オフェン、ピリジン、キノリン、フラン、ジベンゾフラ
ン、芳香族スルホン類、ジアリールエーテル類及びジア
リールカルボニル類が挙げられる。ハロ基に加えて、Ｒ
3 基は、未置換であるか、又は非反応性である置換基、
すなわち、重合反応におけるジハロ化合物の反応におい
て、悪影響（例えば立体障害もしくは電子不活性化）を
与えない置換基で置換されうる。
【００３２】適するジハロイミド反応体としては、１，
４−ビス（Ｎ−（４−ヨードフタルイミド））ベンゼ
ン、１，３−ビス（Ｎ−（４−ヨードフタルイミド））
ベンゼン、４，４′−ビス（Ｎ−（４−ヨードフタルイ
ミド））ジフェニルエーテル、４，４′−ビス（Ｎ−
（４−ヨードフタルイミド））ジフェニルスルホン及び
３，４′−ビス（Ｎ−（４−ヨードフタルイミド））ジ
フェニルエーテルが挙げられる。
４−ビス（Ｎ−（４−ヨードフタルイミド））ベンゼ
ン、１，３−ビス（Ｎ−（４−ヨードフタルイミド））
ベンゼン、４，４′−ビス（Ｎ−（４−ヨードフタルイ
ミド））ジフェニルエーテル、４，４′−ビス（Ｎ−
（４−ヨードフタルイミド））ジフェニルスルホン及び
３，４′−ビス（Ｎ−（４−ヨードフタルイミド））ジ
フェニルエーテルが挙げられる。
【００３３】適するジアミノ共反応体としては、１，４
−ジアミノベンゼン、１，３−ジアミノベンゼン、４，
４′−ジアミノジフェニルエーテル、３，４′−ジアミ
ノジフェニルエーテル、４，４′−ジアミノジフェニル
メタン、４，４′−ジアミノベンゾフェノン、４，４′
−ジアミノジフェニルスルホン、２，２−ビス（４−
（４−アミノフェノキシ）フェニル）プロパン、５−ア
ミノ−３−（４−アミノフェニル）−１，１，３−トリ
メチルインダン、１，４−ビス（２−（４−アミノフェ
ニル）プロピル）ベンゼン、４，４′−ビス（３−アミ
ノフェノキシ）ジフェニルスルホン、１，６−ジアミノ
ヘキサン及びビス（３−アミノプロピル）テトラメチル
ジシロキサンが挙げられる。
−ジアミノベンゼン、１，３−ジアミノベンゼン、４，
４′−ジアミノジフェニルエーテル、３，４′−ジアミ
ノジフェニルエーテル、４，４′−ジアミノジフェニル
メタン、４，４′−ジアミノベンゾフェノン、４，４′
−ジアミノジフェニルスルホン、２，２−ビス（４−
（４−アミノフェノキシ）フェニル）プロパン、５−ア
ミノ−３−（４−アミノフェニル）−１，１，３−トリ
メチルインダン、１，４−ビス（２−（４−アミノフェ
ニル）プロピル）ベンゼン、４，４′−ビス（３−アミ
ノフェノキシ）ジフェニルスルホン、１，６−ジアミノ
ヘキサン及びビス（３−アミノプロピル）テトラメチル
ジシロキサンが挙げられる。
【００３４】適するジアミノイミド共反応体としては、
１，４−ビス（Ｎ−（４−アミノフタルイミド））ベン
ゼン、１，３−ビス（Ｎ−（４−アミノフタルイミ
ド））ベンゼン、４，４′−ビス（Ｎ−（４−アミノフ
タルイミド））ジフェニルエーテル、３，４′−ビス
（Ｎ−（４−アミノフタルイミド））ジフェニルエーテ
ル、１，３−ビス（Ｎ−（３−アミノフタルイミド））
ベンゼン、２，２−ビス（４−（４−｛Ｎ−（４−アミ
ノフタルイミド）｝フェノキシ）フェニル）プロパン及
び４，４′−ビス（Ｎ−（３−アミノフタルイミド））
ベンゾフェノンが挙げられる。
１，４−ビス（Ｎ−（４−アミノフタルイミド））ベン
ゼン、１，３−ビス（Ｎ−（４−アミノフタルイミ
ド））ベンゼン、４，４′−ビス（Ｎ−（４−アミノフ
タルイミド））ジフェニルエーテル、３，４′−ビス
（Ｎ−（４−アミノフタルイミド））ジフェニルエーテ
ル、１，３−ビス（Ｎ−（３−アミノフタルイミド））
ベンゼン、２，２−ビス（４−（４−｛Ｎ−（４−アミ
ノフタルイミド）｝フェノキシ）フェニル）プロパン及
び４，４′−ビス（Ｎ−（３−アミノフタルイミド））
ベンゾフェノンが挙げられる。
【００３５】適するジハロ共反応体としては、１，４−
ジヨードベンゼン、１，３−ジヨードベンゼン、４，
４′−ジヨードジフェニルエーテル、４，４′−ジヨー
ドベンゾフェノン、２，６−ジヨードナフタレン、２，
８−ジヨードジベンゾフラン、４，４′−ジヨードジフ
ェニルスルホン、４，４′−ジヨードビフェニル、１，
４−ジブロモベンゼン、１，３−ジブロモベンゼン、
４，４′−ジブロモジフェニルメタン、４，４′−ジブ
ロモベンゾフェノン、２，６−ジブロモナフタレン、
４，４′−ジブロモジフェニル、２，５−ビス（４−ブ
ロモフェニル）−３，４−ジフェニルチオフェン、２，
５−ジヨードチオフェン及び２，６−ジヨードピリジン
が挙げられる。
ジヨードベンゼン、１，３−ジヨードベンゼン、４，
４′−ジヨードジフェニルエーテル、４，４′−ジヨー
ドベンゾフェノン、２，６−ジヨードナフタレン、２，
８−ジヨードジベンゾフラン、４，４′−ジヨードジフ
ェニルスルホン、４，４′−ジヨードビフェニル、１，
４−ジブロモベンゼン、１，３−ジブロモベンゼン、
４，４′−ジブロモジフェニルメタン、４，４′−ジブ
ロモベンゾフェノン、２，６−ジブロモナフタレン、
４，４′−ジブロモジフェニル、２，５−ビス（４−ブ
ロモフェニル）−３，４−ジフェニルチオフェン、２，
５−ジヨードチオフェン及び２，６−ジヨードピリジン
が挙げられる。
【００３６】適するハロ・アミノイミド反応体として
は、１−｛Ｎ−（４−アミノフタルイミド）｝−４−
｛Ｎ−（４−ヨードフタルイミド）｝ベンゼン、１−
｛Ｎ−（３−アミノフタルイミド）｝−３−｛Ｎ−（４
−ヨードフタルイミド）｝ベンゼン及び１−｛Ｎ−（４
−アミノフタルイミド）｝−４−｛Ｎ−（４−ブロモフ
タルイミド）｝ベンゼンが挙げられる。
は、１−｛Ｎ−（４−アミノフタルイミド）｝−４−
｛Ｎ−（４−ヨードフタルイミド）｝ベンゼン、１−
｛Ｎ−（３−アミノフタルイミド）｝−３−｛Ｎ−（４
−ヨードフタルイミド）｝ベンゼン及び１−｛Ｎ−（４
−アミノフタルイミド）｝−４−｛Ｎ−（４−ブロモフ
タルイミド）｝ベンゼンが挙げられる。
【００３７】イミド反応体及びいずれかの共反応体が、
ハロアリール類及びアミン類に関して２を越える原子価
を有さないことが望ましいが、しかしながら、ポリマー
の流動学的性質、物理学的性質及び加工的性質に影響を
及ぼすことのできる枝分かれを導入することを所望する
場合には、より多くのハロゲンもしくはアミンを担持す
るイミド反応体類及び共反応体類を使用できる。
ハロアリール類及びアミン類に関して２を越える原子価
を有さないことが望ましいが、しかしながら、ポリマー
の流動学的性質、物理学的性質及び加工的性質に影響を
及ぼすことのできる枝分かれを導入することを所望する
場合には、より多くのハロゲンもしくはアミンを担持す
るイミド反応体類及び共反応体類を使用できる。
【００３８】反応体類は、個別の化合物として本明細書
に記載されるとはいえ、この出願方法は、反応体類とし
て個別の化合物類を利用する反応に限定されるものでは
なく、また、反応体類として化合物の混合物を利用する
反応も包含する。本発明方法は、いずれか特定のイミド
反応体又はいずれか特定の共反応体に限定されるもので
はないが、しかしながら選ばれた共反応体及び／又はイ
ミド反応体が、使用される反応条件下で反応して、ポリ
アミド・イミドを生成することが必要である。受け入れ
られない量の副生成物の生成を防止するために、反応体
類が使用される反応条件下で十分に安定であること並び
に反応体類が受け入れられない量の望ましくない副反応
を受けることがないことが望ましい。また、例えば立体
障害もしくは触媒活性の低減により反応を甚だしく妨げ
る基を含まないことが望ましい。
に記載されるとはいえ、この出願方法は、反応体類とし
て個別の化合物類を利用する反応に限定されるものでは
なく、また、反応体類として化合物の混合物を利用する
反応も包含する。本発明方法は、いずれか特定のイミド
反応体又はいずれか特定の共反応体に限定されるもので
はないが、しかしながら選ばれた共反応体及び／又はイ
ミド反応体が、使用される反応条件下で反応して、ポリ
アミド・イミドを生成することが必要である。受け入れ
られない量の副生成物の生成を防止するために、反応体
類が使用される反応条件下で十分に安定であること並び
に反応体類が受け入れられない量の望ましくない副反応
を受けることがないことが望ましい。また、例えば立体
障害もしくは触媒活性の低減により反応を甚だしく妨げ
る基を含まないことが望ましい。
【００３９】反応体は、一酸化炭素と接触させる。反応
領域へ過剰の一酸化炭素を添加することは都合が良い。
過剰の一酸化炭素を測定する必要はなく、単に所望の反
応圧まで一酸化炭素でカマを加圧することができる。一
酸化炭素は大気圧以下もしくはより高圧であることがで
きる。２００気圧までもしくはより高圧の一酸化炭素圧
が、本方法で使用できる。反応体がヨード基を有する場
合には、一酸化炭素圧を増強することは、より速い反応
速度及びより大きな分子量のポリマー類を提供するであ
ろうことが予期される。反応体がクロロ基及びブロモ基
のみを担持する場合には、逆効果が予期される。
領域へ過剰の一酸化炭素を添加することは都合が良い。
過剰の一酸化炭素を測定する必要はなく、単に所望の反
応圧まで一酸化炭素でカマを加圧することができる。一
酸化炭素は大気圧以下もしくはより高圧であることがで
きる。２００気圧までもしくはより高圧の一酸化炭素圧
が、本方法で使用できる。反応体がヨード基を有する場
合には、一酸化炭素圧を増強することは、より速い反応
速度及びより大きな分子量のポリマー類を提供するであ
ろうことが予期される。反応体がクロロ基及びブロモ基
のみを担持する場合には、逆効果が予期される。
【００４０】開示される本発明の態様では、反応工程
は、両反応体をかなり溶解して液状反応媒体を提供しそ
して反応体及び触媒の接触を促進する有機溶剤の存在下
で実施される。溶剤が反応に対して「不活性」であるこ
と、すなわち、溶剤が望ましくない経路で反応に介入し
ないことが望ましい。本発明は、特定の溶剤もしくは溶
剤系に限られるものではなく、多種多様な有機化合物が
使用できる。本発明の特定の態様における具体的な溶剤
は、炭化水素溶剤類（例えばトルエン）並びにエーテル
溶剤類（例えば、テトラヒドロフラン、ジグリム（２−
メトキシエチルエーテル）及びグリム（１，２−ジメト
キシエタン））である。本発明の別の態様における望ま
しい溶剤は、二極性かつ非プロトン性である、すなわ
ち、溶剤は容易に脱離されない水素を有する高い極性分
子である。具体的な二極性非プロトン性溶剤としては、
ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチ
ルスルホキシド、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジ
ノン、ヘキサメチルホスホラアミド、Ｎ−メチルピロリ
ジノン、Ｎ−シクロヘキシルピロリジノン及びジメチル
イミダゾリジノンなどが挙げられる。
は、両反応体をかなり溶解して液状反応媒体を提供しそ
して反応体及び触媒の接触を促進する有機溶剤の存在下
で実施される。溶剤が反応に対して「不活性」であるこ
と、すなわち、溶剤が望ましくない経路で反応に介入し
ないことが望ましい。本発明は、特定の溶剤もしくは溶
剤系に限られるものではなく、多種多様な有機化合物が
使用できる。本発明の特定の態様における具体的な溶剤
は、炭化水素溶剤類（例えばトルエン）並びにエーテル
溶剤類（例えば、テトラヒドロフラン、ジグリム（２−
メトキシエチルエーテル）及びグリム（１，２−ジメト
キシエタン））である。本発明の別の態様における望ま
しい溶剤は、二極性かつ非プロトン性である、すなわ
ち、溶剤は容易に脱離されない水素を有する高い極性分
子である。具体的な二極性非プロトン性溶剤としては、
ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチ
ルスルホキシド、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジ
ノン、ヘキサメチルホスホラアミド、Ｎ−メチルピロリ
ジノン、Ｎ−シクロヘキシルピロリジノン及びジメチル
イミダゾリジノンなどが挙げられる。
【００４１】存在する溶剤の量は、反応に対して臨界的
ではないが、しかしながら反応を促進するのに十分な量
の溶剤を用いることが望ましい。特定のポリマーは、各
種の溶剤における最適濃度を有することができる。使用
される溶剤の量に理論的上限は存在しないが、しかしな
がら、実際の限度が、反応ガマのサイズ、反応媒体から
の生成物の分離のし易さ及び経費並びに別の要因により
課せられる。使用される溶剤の量が、使用されるイミド
反応体の重量に基づいて０．１〜１０００重量部の範囲
内であることが通常望ましい。また、例えば、一酸化炭
素の溶解を促進するために攪拌することにより、反応媒
体をかきまぜることが望ましい。
ではないが、しかしながら反応を促進するのに十分な量
の溶剤を用いることが望ましい。特定のポリマーは、各
種の溶剤における最適濃度を有することができる。使用
される溶剤の量に理論的上限は存在しないが、しかしな
がら、実際の限度が、反応ガマのサイズ、反応媒体から
の生成物の分離のし易さ及び経費並びに別の要因により
課せられる。使用される溶剤の量が、使用されるイミド
反応体の重量に基づいて０．１〜１０００重量部の範囲
内であることが通常望ましい。また、例えば、一酸化炭
素の溶解を促進するために攪拌することにより、反応媒
体をかきまぜることが望ましい。
【００４２】本発明方法は、触媒の存在下、実施され
る。優先的に、触媒はパラジウム化合物であり、反応工
程中では、パラジウムは０価もしくは２価の状態で存在
する。しかしながら、別の遷移金属触媒、例えば、白金
触媒及びニッケル触媒が使用できる。一般的にはパラジ
ウム触媒は、イオン結合もしくは共有結合により１つ以
上のパラジウム原子に結合した１つ以上のリガンドを担
持する。単純なパラジウム塩、例えばＰｄＸ2 （ここ
で、ＸはＣｌ，ＢｒもしくはＩである）が使用できる。
別の代表的なパラジウム触媒を以下に列挙する。
る。優先的に、触媒はパラジウム化合物であり、反応工
程中では、パラジウムは０価もしくは２価の状態で存在
する。しかしながら、別の遷移金属触媒、例えば、白金
触媒及びニッケル触媒が使用できる。一般的にはパラジ
ウム触媒は、イオン結合もしくは共有結合により１つ以
上のパラジウム原子に結合した１つ以上のリガンドを担
持する。単純なパラジウム塩、例えばＰｄＸ2 （ここ
で、ＸはＣｌ，ＢｒもしくはＩである）が使用できる。
別の代表的なパラジウム触媒を以下に列挙する。
【００４３】
【表１】
【００４４】触媒量の触媒が使用される。「触媒量」と
は、所望の程度に反応を触媒する触媒の量を意味する。
一般的には、触媒の量は、イミド反応体のモル量に基づ
いて少なくとも０．０１モルパーセントである。触媒の
量の真の上限もしくは下限は存在しないが、これは、経
費並びに生成物及び未反応の反応体からの触媒の分離の
容易さのような第２の考慮事項により規定される。好ま
しい触媒量は、イミド反応体１モル当り０．００５〜
０．２０モルである。触媒は支持体に結合されていても
よく、又は結合されていなくてもよい。
は、所望の程度に反応を触媒する触媒の量を意味する。
一般的には、触媒の量は、イミド反応体のモル量に基づ
いて少なくとも０．０１モルパーセントである。触媒の
量の真の上限もしくは下限は存在しないが、これは、経
費並びに生成物及び未反応の反応体からの触媒の分離の
容易さのような第２の考慮事項により規定される。好ま
しい触媒量は、イミド反応体１モル当り０．００５〜
０．２０モルである。触媒は支持体に結合されていても
よく、又は結合されていなくてもよい。
【００４５】反応は、活性化リガンド、例えばホスフィ
ンリガンド又はアルシンリガンドの存在下で実施でき
る。このようなリガンドは、触媒と共に（例えば、トリ
フェニルホスフィンをビス（トリフェニルホスフィン）
パラジウム（II）クロリドと共に）使用でき、触媒され
る反応の速度を増強できる。用いられるリガンドの量
は、金属触媒１モル当り０．０１モルから５．０モルの
間が望ましく、そして金属触媒１モル当り２モルがより
望ましい。活性化リガンドの存在は、触媒をより求核性
にすることにより、このような触媒の酸化的付加を迅速
にすると信じられている。
ンリガンド又はアルシンリガンドの存在下で実施でき
る。このようなリガンドは、触媒と共に（例えば、トリ
フェニルホスフィンをビス（トリフェニルホスフィン）
パラジウム（II）クロリドと共に）使用でき、触媒され
る反応の速度を増強できる。用いられるリガンドの量
は、金属触媒１モル当り０．０１モルから５．０モルの
間が望ましく、そして金属触媒１モル当り２モルがより
望ましい。活性化リガンドの存在は、触媒をより求核性
にすることにより、このような触媒の酸化的付加を迅速
にすると信じられている。
【００４６】好ましくは、本発明方法は、副生成物ハロ
ゲン化水素を中和するために塩基の存在下で実施され
る。塩基は、第三級アミン、例えば、トリブチルアミ
ン、ピリジン、１，８−ジアザビシクロ（５．４．０）
−７−ウンデセン（ＤＢＵ）もしくは１，５−ジアザビ
シクロ（４．３．０）ノナ−５−エン（ＤＢＮ）又は、
式ＮＲ3 （式中、各々Ｒは、独立して炭素原子数２〜６
個の低級アルキル基より選ばれる）であることができ
る。塩基は架橋ポリ（ビニルピリジン）ビーズのような
架橋ポリマー上に固定化できる。あるいは、ビーズは、
反応体と反応しない別の型の塩基性物質、例えば、金属
炭酸塩（例えば、Ｋ2 ＣＯ3 ）もしくは金属水酸化物
（例えば、Ｃａ（ＯＨ)2）又は金属酢酸塩（例えば、酢
酸ナトリウム）であることができる。一般的には、少な
くとも生成される副生成物ハロゲン化水素と反応するの
に十分な塩基が使用される。所望であれば、過剰に使用
できる。
ゲン化水素を中和するために塩基の存在下で実施され
る。塩基は、第三級アミン、例えば、トリブチルアミ
ン、ピリジン、１，８−ジアザビシクロ（５．４．０）
−７−ウンデセン（ＤＢＵ）もしくは１，５−ジアザビ
シクロ（４．３．０）ノナ−５−エン（ＤＢＮ）又は、
式ＮＲ3 （式中、各々Ｒは、独立して炭素原子数２〜６
個の低級アルキル基より選ばれる）であることができ
る。塩基は架橋ポリ（ビニルピリジン）ビーズのような
架橋ポリマー上に固定化できる。あるいは、ビーズは、
反応体と反応しない別の型の塩基性物質、例えば、金属
炭酸塩（例えば、Ｋ2 ＣＯ3 ）もしくは金属水酸化物
（例えば、Ｃａ（ＯＨ)2）又は金属酢酸塩（例えば、酢
酸ナトリウム）であることができる。一般的には、少な
くとも生成される副生成物ハロゲン化水素と反応するの
に十分な塩基が使用される。所望であれば、過剰に使用
できる。
【００４７】反応体、溶剤及び触媒のように、塩基の正
確な構造は臨界的ではないことは当業者に認識されるで
あろうし、そして上記化合物の具体例は、単に具体的に
示しただけであり、本発明に使用できる材料の具体例を
限定するものではない。当業者は、本発明において、別
の材料を置き換えて同様の結果が達成できることを認識
するであろう。
確な構造は臨界的ではないことは当業者に認識されるで
あろうし、そして上記化合物の具体例は、単に具体的に
示しただけであり、本発明に使用できる材料の具体例を
限定するものではない。当業者は、本発明において、別
の材料を置き換えて同様の結果が達成できることを認識
するであろう。
【００４８】好ましくは、本発明方法は、室温（すなわ
ち２０℃）から２５０℃までの範囲内の温度で実施され
る。望ましい温度範囲は、７０℃から１５０℃までであ
る。当業者は、反応温度が臨界的ではなく、所望であれ
ば、この範囲外の温度が使用できることを認識するであ
ろう。一般的には、適度の反応速度を与え、そして生成
物もしくは反応体の分解物を過量に与えない反応温度が
選択される。
ち２０℃）から２５０℃までの範囲内の温度で実施され
る。望ましい温度範囲は、７０℃から１５０℃までであ
る。当業者は、反応温度が臨界的ではなく、所望であれ
ば、この範囲外の温度が使用できることを認識するであ
ろう。一般的には、適度の反応速度を与え、そして生成
物もしくは反応体の分解物を過量に与えない反応温度が
選択される。
【００４９】反応時間は全く独立して変化可能ではな
く、少なくとも多少は、反応体の反応性、触媒の活性及
び量、反応温度並びに圧力などを初めとするものより選
ばれる別の反応パラメーターに依存する。一般的には、
０．１から１００時間の範囲内の反応時間が用いられ
る。
く、少なくとも多少は、反応体の反応性、触媒の活性及
び量、反応温度並びに圧力などを初めとするものより選
ばれる別の反応パラメーターに依存する。一般的には、
０．１から１００時間の範囲内の反応時間が用いられ
る。
【００５０】本発明方法により製造されるポリアミド・
イミド類は、反応混合物への塩の添加を必要としない。
これらのポリマーは、或る別の方法により製造されるポ
リマー中に見い出されるＣｌ汚染物を含まないことがで
きるので、これは、エレクトロニクスに用いられるポリ
アミド・イミド類に特に有利である。塩による汚染が問
題とならない用途の際には、本発明方法における反応媒
体に塩を添加できる。塩は、恐らくポリマー鎖上の水素
結合を開裂することにより、若干のポリマーに可溶性を
与える可能性がある。処理効率の観点から、溶液中にポ
リアミド・イミドを保持することは望ましい。適する塩
としては、リチウム塩（例えばＬｉＣｌ，ＬｉＢｒ）及
びＣａＣｌ2 が挙げられる。
イミド類は、反応混合物への塩の添加を必要としない。
これらのポリマーは、或る別の方法により製造されるポ
リマー中に見い出されるＣｌ汚染物を含まないことがで
きるので、これは、エレクトロニクスに用いられるポリ
アミド・イミド類に特に有利である。塩による汚染が問
題とならない用途の際には、本発明方法における反応媒
体に塩を添加できる。塩は、恐らくポリマー鎖上の水素
結合を開裂することにより、若干のポリマーに可溶性を
与える可能性がある。処理効率の観点から、溶液中にポ
リアミド・イミドを保持することは望ましい。適する塩
としては、リチウム塩（例えばＬｉＣｌ，ＬｉＢｒ）及
びＣａＣｌ2 が挙げられる。
【００５１】本発明方法は、特定の理論もしくは説明に
より限定されるものではないが、しかしながら、理論的
説明が提供される。本発明方法が、酸化的付加工程、一
酸化炭素挿入工程及びカプリング工程を更に含んで成る
下記反応機構系列を包含することが、信じられている。
より詳細には、パラジウム（０）複合体として導入され
るか、パラジウム（II）種として導入され次いで現場で
還元されうるパラジウム（０）触媒は、ハロ化合物に酸
化付加されて、アリールパラジウム（II）ハロ中間体を
生成する。パラジウム上のリガンドは、ＣＯ、ホスフィ
ンもしくはアミンであってもよい。パラジウム触媒はハ
ロ化合物に関してわずかな量で存在させるので、ビス
（アリールパラジウム（II）ハロ）中間体がいずれか大
量に生成されることはありそうもないことであるが、し
かし酸化的付加反応は、反応工程中幾つかのポイントで
ジハロ化合物の両ハロ部位で起きる。次いでＣＯ挿入に
よりアシルパラジウム（II）ハロ複合体を生成する。次
いでこの求電子性アシルパラジウム複合体は、カプリン
グ反応においてアミノ含有反応体により攻撃される。遊
離されたハロゲン化水素は、添加された塩基（ＤＢＵ）
により中和され、そしてパラジウム（０）触媒が再生さ
れる。この機構系列は、４，４′−ビス（Ｎ−｛４−ヨ
ードフタルイミド｝）ジフェニルエーテル及び４，４′
−ジアミノジフェニルエーテルの反応について、以下に
具体的に示される。
より限定されるものではないが、しかしながら、理論的
説明が提供される。本発明方法が、酸化的付加工程、一
酸化炭素挿入工程及びカプリング工程を更に含んで成る
下記反応機構系列を包含することが、信じられている。
より詳細には、パラジウム（０）複合体として導入され
るか、パラジウム（II）種として導入され次いで現場で
還元されうるパラジウム（０）触媒は、ハロ化合物に酸
化付加されて、アリールパラジウム（II）ハロ中間体を
生成する。パラジウム上のリガンドは、ＣＯ、ホスフィ
ンもしくはアミンであってもよい。パラジウム触媒はハ
ロ化合物に関してわずかな量で存在させるので、ビス
（アリールパラジウム（II）ハロ）中間体がいずれか大
量に生成されることはありそうもないことであるが、し
かし酸化的付加反応は、反応工程中幾つかのポイントで
ジハロ化合物の両ハロ部位で起きる。次いでＣＯ挿入に
よりアシルパラジウム（II）ハロ複合体を生成する。次
いでこの求電子性アシルパラジウム複合体は、カプリン
グ反応においてアミノ含有反応体により攻撃される。遊
離されたハロゲン化水素は、添加された塩基（ＤＢＵ）
により中和され、そしてパラジウム（０）触媒が再生さ
れる。この機構系列は、４，４′−ビス（Ｎ−｛４−ヨ
ードフタルイミド｝）ジフェニルエーテル及び４，４′
−ジアミノジフェニルエーテルの反応について、以下に
具体的に示される。
【００５２】
【化１５】
【００５３】本発明方法のポリアミド・イミドは、ホモ
ポリマー、ブロックコポリマーもしくはランダムコポリ
マー又は別の材料もしくはポリマーとのブレンドとして
有用である。このような目的上有用な範囲内、例えば１
０００から１５０，０００の間の数平均分子量を有する
ポリアミド・イミド類を製造することは、本発明方法の
範囲内である。本発明のポリマー類は、エンジニアリン
グプラスチックもしくは繊維または別の高性能用途に用
いてもよく、そして意図した用途に依存して１つ以上の
添加剤類、例えば、無機充填剤類、強化用繊維、二酸化
チタン、安定剤類、可塑剤類及び酸化防止剤類を含有し
てもよい。
ポリマー、ブロックコポリマーもしくはランダムコポリ
マー又は別の材料もしくはポリマーとのブレンドとして
有用である。このような目的上有用な範囲内、例えば１
０００から１５０，０００の間の数平均分子量を有する
ポリアミド・イミド類を製造することは、本発明方法の
範囲内である。本発明のポリマー類は、エンジニアリン
グプラスチックもしくは繊維または別の高性能用途に用
いてもよく、そして意図した用途に依存して１つ以上の
添加剤類、例えば、無機充填剤類、強化用繊維、二酸化
チタン、安定剤類、可塑剤類及び酸化防止剤類を含有し
てもよい。
【００５４】
【実施例】本発明を更に理解するために、以下の例を提
供する。
供する。
【００５５】ジハロアリールビスフタルイミド類の製造 本発明方法に有用なジハロアリールビスフタルイミド類
は、以下の製造方法により例示される方法を用いて製造
できる。
は、以下の製造方法により例示される方法を用いて製造
できる。
【００５６】４，４′−ビス（Ｎ−（４−ヨードフタル
イミド））ジフェニルエーテルの製造
イミド））ジフェニルエーテルの製造
【化１６】
【００５７】電磁攪拌器を備えた１００mLの丸底フラス
コに、４，４′−ジアミノジフェニルエーテル（１．０
ｇ，５．０ミリモル）及びＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミ
ド（ＤＭＡｃ）（４．５ｇ）を入れた。４−ヨードフタ
ル酸無水物（２．７４ｇ，１０ミリモル）を添加した。
油浴上、攪拌しながら約７５℃の温度まで反応溶液を加
熱した。ピリジン（４．０ｇ）を添加し、反応混合物を
１５分間攪拌し、次いで無水酢酸（６．０ｇ）を２０分
間に亘って滴下した。反応混合物を７５℃で３時間攪拌
し、そしてメタノール中へ注ぎ入れた。黄色固体生成物
を濾取し、アセトン（１００mL）中で粉砕した。生成物
を減圧下、６０℃で一晩乾燥した。収量は３．２１ｇで
あり、理論値の９０％であった。燃焼分析は、以下のと
おりであった。実験値：Ｎ＝３．９９，Ｃ＝４７．２
９，Ｈ＝２．１１。計算値：Ｎ＝３．９３，Ｃ＝４７．
２２，Ｈ＝１．９８。ＤＳＣにより測定した融点は、２
４７℃であった。
コに、４，４′−ジアミノジフェニルエーテル（１．０
ｇ，５．０ミリモル）及びＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミ
ド（ＤＭＡｃ）（４．５ｇ）を入れた。４−ヨードフタ
ル酸無水物（２．７４ｇ，１０ミリモル）を添加した。
油浴上、攪拌しながら約７５℃の温度まで反応溶液を加
熱した。ピリジン（４．０ｇ）を添加し、反応混合物を
１５分間攪拌し、次いで無水酢酸（６．０ｇ）を２０分
間に亘って滴下した。反応混合物を７５℃で３時間攪拌
し、そしてメタノール中へ注ぎ入れた。黄色固体生成物
を濾取し、アセトン（１００mL）中で粉砕した。生成物
を減圧下、６０℃で一晩乾燥した。収量は３．２１ｇで
あり、理論値の９０％であった。燃焼分析は、以下のと
おりであった。実験値：Ｎ＝３．９９，Ｃ＝４７．２
９，Ｈ＝２．１１。計算値：Ｎ＝３．９３，Ｃ＝４７．
２２，Ｈ＝１．９８。ＤＳＣにより測定した融点は、２
４７℃であった。
【００５８】例１ 乾燥箱(dry box）中、ヘリウム下、清潔な乾燥した圧力
ガマに以下の試薬を入れた：４，４′−ビス（Ｎ−（４
−ヨードフタルイミド））ジフェニルエーテル（２．０
ｇ，２．８ミリモル）、４，４′−ジアミノジフェニル
エーテル（０．５６８ｇ，２．８ミリモル）、Ｎ，Ｎ−
ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）（２５ｇ）、１，８
−ジアザビシクロ（５．４．０）ウンデカ−７−エン
（ＤＢＵ）（１．０５ｇ，６．９ミリモル）及びビス
（トリフェニルホスフィン）パラジウム（II）クロリド
（ＰｄＣｌ2 Ｌ2 ）（０．１ｇ，０．１２５ミリモ
ル）。そのカマに封をし、そして乾燥箱より取り出し
た。高純度一酸化炭素でカマを４回パージし、一酸化炭
素で７．７kg／cm2 まで加圧し、そして電磁的に攪拌し
ながら、油浴中１００℃で３時間維持した。粘稠なポリ
マー溶液をＤＭＡｃ（３０mL）で希釈し、濾過しそして
メタノール中に沈澱させた。沈澱を減圧濾過により採取
し、そして高度に減圧下、１１０℃で４８時間乾燥し
た。収量はほぼ定量的であった。ＤＭＦ／ＬｉＢｒ中ポ
リ（メチルメタクリレート）標準に対して較正された１
０6 ，１０5 ，１０4 ，１０3 オングストロームのμ−
styragelカラムを用いて Waters ＨＰＬＣよりサイズ排
除クロマトグラフィー（ＳＥＣ）データを得て、重量平
均分子量測定値（また、本明細書ではＭｎと称される）
１２１，０００を得た。
ガマに以下の試薬を入れた：４，４′−ビス（Ｎ−（４
−ヨードフタルイミド））ジフェニルエーテル（２．０
ｇ，２．８ミリモル）、４，４′−ジアミノジフェニル
エーテル（０．５６８ｇ，２．８ミリモル）、Ｎ，Ｎ−
ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）（２５ｇ）、１，８
−ジアザビシクロ（５．４．０）ウンデカ−７−エン
（ＤＢＵ）（１．０５ｇ，６．９ミリモル）及びビス
（トリフェニルホスフィン）パラジウム（II）クロリド
（ＰｄＣｌ2 Ｌ2 ）（０．１ｇ，０．１２５ミリモ
ル）。そのカマに封をし、そして乾燥箱より取り出し
た。高純度一酸化炭素でカマを４回パージし、一酸化炭
素で７．７kg／cm2 まで加圧し、そして電磁的に攪拌し
ながら、油浴中１００℃で３時間維持した。粘稠なポリ
マー溶液をＤＭＡｃ（３０mL）で希釈し、濾過しそして
メタノール中に沈澱させた。沈澱を減圧濾過により採取
し、そして高度に減圧下、１１０℃で４８時間乾燥し
た。収量はほぼ定量的であった。ＤＭＦ／ＬｉＢｒ中ポ
リ（メチルメタクリレート）標準に対して較正された１
０6 ，１０5 ，１０4 ，１０3 オングストロームのμ−
styragelカラムを用いて Waters ＨＰＬＣよりサイズ排
除クロマトグラフィー（ＳＥＣ）データを得て、重量平
均分子量測定値（また、本明細書ではＭｎと称される）
１２１，０００を得た。
【００５９】
【発明の効果】本発明は、イミド構造を提供するため
に、重合後環化よりもむしろＨｅｃｋカルボニル化反応
を利用するポリアミド・イミド類の改良された製造方法
を提供する優れた効果を生ずる。
に、重合後環化よりもむしろＨｅｃｋカルボニル化反応
を利用するポリアミド・イミド類の改良された製造方法
を提供する優れた効果を生ずる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 リチャード ウェイン ブレビンズ アメリカ合衆国，ニューヨーク 14618, ロチェスター，バーノン プレイス 233
Claims (1)
- 【請求項１】 それぞれ一般式 【化１】 で示される反応体ペア、もしくはそれぞれ一般式 【化２】 で示される反応体ペア、又は一般式 【化３】 で示される反応体（これらの上記式中、各々Ｘ，Ｒ1 ，
Ｒ2 ，Ｒ3 及びｎは、独立して選ばれ、 Ｘは、−Ｂｒ及び−Ｉより選ばれる非オルトハロゲン化
物であり、 ｎは、０から４までの整数であり、ｄは、０から１まで
の整数であり、そしてｅは、０から３までの整数であ
り、ｄが０である場合にｅが０であることを条件とし、 Ｒ1 は、アルキル、アリールアルキル、アリール、ヘテ
ロアリール及びシクロアルキルから成る群より選ばれ、 Ｒ2 は、次式 【化４】 （上式中、各々Ｒ5 は、独立してアルキル及びアリール
から成る群より選ばれ、ｍは、１から１２までの整数で
あり、そしてｊは、０から３００までの間の整数であ
る）から成る群より選ばれ、 Ｒ3 は、置換アリール、未置換アリール、置換ヘテロア
リール及び未置換ヘテロアリールから成る群より選ばれ
る） 並びに一酸化炭素を反応させる工程を含んで成る、触媒
及び溶剤の存在下におけるポリアミド・イミドの製造方
法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US75273791A | 1991-08-30 | 1991-08-30 | |
| US752737 | 1996-11-19 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05310938A true JPH05310938A (ja) | 1993-11-22 |
Family
ID=25027605
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22849492A Pending JPH05310938A (ja) | 1991-08-30 | 1992-08-27 | ポリアミド・イミド類の製造方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0530705A1 (ja) |
| JP (1) | JPH05310938A (ja) |
| CA (1) | CA2074913A1 (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4933468A (en) * | 1989-01-17 | 1990-06-12 | Eastman Kodak Company | Preparation of amide-imides |
-
1992
- 1992-07-29 CA CA 2074913 patent/CA2074913A1/en not_active Abandoned
- 1992-08-27 JP JP22849492A patent/JPH05310938A/ja active Pending
- 1992-08-28 EP EP92114741A patent/EP0530705A1/en not_active Withdrawn
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CA2074913A1 (en) | 1993-03-01 |
| EP0530705A1 (en) | 1993-03-10 |
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