JPH05306172A - 高温強度および耐酸化性に優れた窒化ケイ素焼結体およびその製造方法 - Google Patents
高温強度および耐酸化性に優れた窒化ケイ素焼結体およびその製造方法Info
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- JPH05306172A JPH05306172A JP4137598A JP13759892A JPH05306172A JP H05306172 A JPH05306172 A JP H05306172A JP 4137598 A JP4137598 A JP 4137598A JP 13759892 A JP13759892 A JP 13759892A JP H05306172 A JPH05306172 A JP H05306172A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 耐熱部材、耐摩耗部材にセラミックスを適用
する際の課題である高温強度と耐酸化性を改善した材料
およびその製造方法を提供する。 【構成】 酸化イットリウム０．１―１５ｗｔ％および
酸化ハフニウム０．１―１５ｗｔ％を含み、残部が窒化
ケイ素よりなり、粒界にＹ2Ｈｆ2Ｏ7の結晶が存在する
ことを特徴とした高温強度および耐酸化性に優れた窒化
ケイ素焼結体であり、その製法として、前記の比率にな
るように酸化イットリウム、酸化ハフニウムおよび窒化
ケイ素の粉末を混合し、窒素ガス雰囲気中で１６００―
１８５０℃の温度、圧力２０―４０ＭＰａでホットプレ
ス焼結を行い、焼結体を得る。この窒化ケイ素焼結体
は、粒界にＹ2Ｈｆ2Ｏ7の結晶が生成しており、高温強
度に優れているとともに、耐酸化性に優れている。
する際の課題である高温強度と耐酸化性を改善した材料
およびその製造方法を提供する。 【構成】 酸化イットリウム０．１―１５ｗｔ％および
酸化ハフニウム０．１―１５ｗｔ％を含み、残部が窒化
ケイ素よりなり、粒界にＹ2Ｈｆ2Ｏ7の結晶が存在する
ことを特徴とした高温強度および耐酸化性に優れた窒化
ケイ素焼結体であり、その製法として、前記の比率にな
るように酸化イットリウム、酸化ハフニウムおよび窒化
ケイ素の粉末を混合し、窒素ガス雰囲気中で１６００―
１８５０℃の温度、圧力２０―４０ＭＰａでホットプレ
ス焼結を行い、焼結体を得る。この窒化ケイ素焼結体
は、粒界にＹ2Ｈｆ2Ｏ7の結晶が生成しており、高温強
度に優れているとともに、耐酸化性に優れている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、高温強度および耐酸
化性に優れた窒化ケイ素焼結体の製造に関するものであ
る。
化性に優れた窒化ケイ素焼結体の製造に関するものであ
る。
【０００２】本発明の窒化ケイ素焼結体は、構造用セラ
ミックス等として有用であり、特にエンジン用部材等に
適している。
ミックス等として有用であり、特にエンジン用部材等に
適している。
【０００３】
【従来の技術】窒化ケイ素（Ｓｉ3Ｎ4）においてその応
用が期待される部材としては、エンジン用部材や切削工
具のような高温での特性、特に強度や耐酸化性などの特
性の優れたものである。
用が期待される部材としては、エンジン用部材や切削工
具のような高温での特性、特に強度や耐酸化性などの特
性の優れたものである。
【０００４】従来の公開されている技術でも、窒化ケイ
素のこれらの特性を改善する目的のものが多くあるが、
実用的には不十分でさらに特性を向上させることが望ま
れている。
素のこれらの特性を改善する目的のものが多くあるが、
実用的には不十分でさらに特性を向上させることが望ま
れている。
【０００５】窒化ケイ素は、非酸化物セラミックスであ
り、共有結合性の強い物質であるため、単独で高密度焼
結体を得ることは困難であり、一般には焼結助剤を添加
することが不可欠となっている。
り、共有結合性の強い物質であるため、単独で高密度焼
結体を得ることは困難であり、一般には焼結助剤を添加
することが不可欠となっている。
【０００６】いわゆるエンジニアリングセラミックスと
して開発・商品化されている窒化ケイ素はこれら助剤を
含んだものであり、通常酸化アルミニウム（Ａｌ
2Ｏ3）、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）、酸化イットリウ
ム（Ｙ2Ｏ3）などの酸化物が数％から十数％助剤として
含有されている。
して開発・商品化されている窒化ケイ素はこれら助剤を
含んだものであり、通常酸化アルミニウム（Ａｌ
2Ｏ3）、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）、酸化イットリウ
ム（Ｙ2Ｏ3）などの酸化物が数％から十数％助剤として
含有されている。
【０００７】これらの酸化物は、Ｓｉ3Ｎ4粒子表面のＳ
ｉＯ2と反応して液相を形成することによって焼結を進
行させるが、融点及び軟化点の低いガラス相が、粒界に
残り高温強度を低下させる原因となる。
ｉＯ2と反応して液相を形成することによって焼結を進
行させるが、融点及び軟化点の低いガラス相が、粒界に
残り高温強度を低下させる原因となる。
【０００８】このため、ガラス相を残さずに粒界の結晶
化を促す助剤としてＡｌ2Ｏ3―Ｙ2Ｏ3系がよく用いられ
ている。
化を促す助剤としてＡｌ2Ｏ3―Ｙ2Ｏ3系がよく用いられ
ている。
【０００９】しかしながら、窒化ケイ素のその他の問題
点として挙げられるのが、耐酸化性である。
点として挙げられるのが、耐酸化性である。
【００１０】例えば、ホウ素（Ｂ），炭素（Ｃ）を助剤
として用いた炭化ケイ素の場合、酸化雰囲気では表面に
純粋なＳｉＯ2が生成し、優れた耐酸化性を示す事が知
られているが、窒化ケイ素のように助剤として酸化物を
用いると酸化表面には純粋なＳｉＯ2ではなく、ムライ
トのような複合酸化物が生成し耐酸化性を著しく低下さ
せる原因となっている。
として用いた炭化ケイ素の場合、酸化雰囲気では表面に
純粋なＳｉＯ2が生成し、優れた耐酸化性を示す事が知
られているが、窒化ケイ素のように助剤として酸化物を
用いると酸化表面には純粋なＳｉＯ2ではなく、ムライ
トのような複合酸化物が生成し耐酸化性を著しく低下さ
せる原因となっている。
【００１１】このようにＡｌ2Ｏ3―Ｙ2Ｏ3系助剤等で
は、耐酸化性に劣るため、エンジン部材のような高温酸
化雰囲気中での実用化が困難である。
は、耐酸化性に劣るため、エンジン部材のような高温酸
化雰囲気中での実用化が困難である。
【００１２】また、そのほかに窒化ケイ素焼結体の高温
強度を高めるために、助剤を工夫した従来技術として
は、特開昭５８―１８５４８３号公報などが知られてい
るが、十分な特性が得られているとはいえず、耐酸化性
の面での改善が要望されている。
強度を高めるために、助剤を工夫した従来技術として
は、特開昭５８―１８５４８３号公報などが知られてい
るが、十分な特性が得られているとはいえず、耐酸化性
の面での改善が要望されている。
【００１３】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、この
様な窒化ケイ素焼結体の問題点である、高温強度、耐酸
化性および破壊靭性の向上を意図したものである。
様な窒化ケイ素焼結体の問題点である、高温強度、耐酸
化性および破壊靭性の向上を意図したものである。
【００１４】
【課題を解決するための手段】本発明は、酸化イットリ
ウム０．１―１５ｗｔ％および酸化ハフニウム０．１―
１５ｗｔ％を含み、残部がβ―窒化ケイ素よりなり、粒
界にＹ2Ｈｆ2Ｏ7の結晶が存在することを特徴とする高
温強度および耐酸化性に優れた窒化ケイ素焼結体、さら
には前記の窒化ケイ素焼結体を製造する方法で、酸化イ
ットリウム０．１―１５ｗｔ％および酸化ハフニウム
０．１―１５ｗｔ％を含み、残部が窒化ケイ素よりなる
混合粉末を、窒素ガス雰囲気中で温度１６００―１８５
０℃、圧力２０―４０ＭＰａでホットプレス焼結するこ
とを特徴とする製造方法である。
ウム０．１―１５ｗｔ％および酸化ハフニウム０．１―
１５ｗｔ％を含み、残部がβ―窒化ケイ素よりなり、粒
界にＹ2Ｈｆ2Ｏ7の結晶が存在することを特徴とする高
温強度および耐酸化性に優れた窒化ケイ素焼結体、さら
には前記の窒化ケイ素焼結体を製造する方法で、酸化イ
ットリウム０．１―１５ｗｔ％および酸化ハフニウム
０．１―１５ｗｔ％を含み、残部が窒化ケイ素よりなる
混合粉末を、窒素ガス雰囲気中で温度１６００―１８５
０℃、圧力２０―４０ＭＰａでホットプレス焼結するこ
とを特徴とする製造方法である。
【００１５】以下に本発明の内容を詳細に説明する。
【００１６】Ｓｉ3Ｎ4の助剤としては、Ｙ2Ｏ3およびＨ
ｆＯ2を用いる。これは、焼結後の結晶粒界にＹ2Ｈｆ2
Ｏ7の結晶を生成させるために必要である。
ｆＯ2を用いる。これは、焼結後の結晶粒界にＹ2Ｈｆ2
Ｏ7の結晶を生成させるために必要である。
【００１７】一般に、粒界を結晶化させるとＳｉ3Ｎ4焼
結体の高温強度などの高温特性を向上させることができ
る。
結体の高温強度などの高温特性を向上させることができ
る。
【００１８】また、Ｙ2Ｈｆ2Ｏ7が粒界に存在すると、
Ｓｉ3Ｎ4焼結体が酸化されるときに、粒界相における金
属元素の拡散、例えばイットリウム（Ｙ）の表面への拡
散を抑制する効果が確認されている。
Ｓｉ3Ｎ4焼結体が酸化されるときに、粒界相における金
属元素の拡散、例えばイットリウム（Ｙ）の表面への拡
散を抑制する効果が確認されている。
【００１９】Ｙが拡散し易いと、酸化の際に表面にＹが
拡散してＹ2Ｓｉ2Ｏ7が生成する反応が進行するため、
表面が酸化によりどんどん侵食されていってしまう。
拡散してＹ2Ｓｉ2Ｏ7が生成する反応が進行するため、
表面が酸化によりどんどん侵食されていってしまう。
【００２０】これに対して本発明の窒化ケイ素焼結体
は、酸化の際にＹ2Ｓｉ2Ｏ7が生成せずに、ＳｉＣでの
例で知られているように酸化の進行を抑える働きをする
ＳｉＯ2の被膜が表面に形成されるため、耐酸化性を改
善することができる。
は、酸化の際にＹ2Ｓｉ2Ｏ7が生成せずに、ＳｉＣでの
例で知られているように酸化の進行を抑える働きをする
ＳｉＯ2の被膜が表面に形成されるため、耐酸化性を改
善することができる。
【００２１】助剤であるＹ2Ｏ3およびＨｆＯ2の粉末
は、市販の粉末を使用するが、粒界相の均一な生成を促
すために、１μｍ以下の平均粒径の粉末を使用すること
が望ましい。
は、市販の粉末を使用するが、粒界相の均一な生成を促
すために、１μｍ以下の平均粒径の粉末を使用すること
が望ましい。
【００２２】Ｓｉ3Ｎ4の原料粉末としては、α型のＳｉ
3Ｎ4粉末を用い、望ましくは０．５μｍ以下の平均粒径
の粉末を使用することがよい。
3Ｎ4粉末を用い、望ましくは０．５μｍ以下の平均粒径
の粉末を使用することがよい。
【００２３】また、添加するＹ2Ｏ3およびＨｆＯ2の量
は、いずれも０．１〜１５ｗｔ％の範囲とする。
は、いずれも０．１〜１５ｗｔ％の範囲とする。
【００２４】これより添加量が少ないと焼結が困難とな
り、また、これらの酸化物を加えた際の効果が現れな
い。
り、また、これらの酸化物を加えた際の効果が現れな
い。
【００２５】また、１５ｗｔ％より多く添加すると粒界
相の量が多くなりすぎるため、強度の低下等が起こる。
相の量が多くなりすぎるため、強度の低下等が起こる。
【００２６】Ｙ2Ｏ3およびＨｆＯ2の添加割合は、Ｙ2Ｈ
ｆ2Ｏ7を十分に生成させるために、ＨｆとＹのモル比で
１：１もしくはＹを多く添加することが望ましい。
ｆ2Ｏ7を十分に生成させるために、ＨｆとＹのモル比で
１：１もしくはＹを多く添加することが望ましい。
【００２７】ＨｆＯ2を多く添加した場合、ＨｆＯ2がそ
のまま焼結体中に残存することがあるため、焼結体の機
械的特性の面で良い材料を得ることが困難となる。
のまま焼結体中に残存することがあるため、焼結体の機
械的特性の面で良い材料を得ることが困難となる。
【００２８】Ｙ2Ｏ3およびＨｆＯ2の助剤粉末とＳｉ3Ｎ
4粉末を混合、乾燥しホットプレスにより焼結体を作製
する。
4粉末を混合、乾燥しホットプレスにより焼結体を作製
する。
【００２９】ホットプレスは、Ｓｉ3Ｎ4のα相からβ相
への転移を十分に進め緻密化させるために１６００―１
８５０℃の温度範囲で行う。
への転移を十分に進め緻密化させるために１６００―１
８５０℃の温度範囲で行う。
【００３０】１６００℃より低い温度では、α相からβ
相への相転移が起こらないため、針状粒であるβ型の結
晶粒が発達せず、高強度かつ高靭性というこの材料の特
性が発揮できない。
相への相転移が起こらないため、針状粒であるβ型の結
晶粒が発達せず、高強度かつ高靭性というこの材料の特
性が発揮できない。
【００３１】また、１８５０℃よりも高い温度では、Ｓ
ｉ3Ｎ4分解が起こるために、焼結させることが困難であ
る。
ｉ3Ｎ4分解が起こるために、焼結させることが困難であ
る。
【００３２】一軸加圧であるホットプレス法を用いるこ
とにより、β―Ｓｉ3Ｎ4の針状粒が２次元的に配向する
ため、通常の焼結方法に比べて高強度のものが得られ
る。このため、焼結方法には、ホットプレス法を用いる
ことが必要である。
とにより、β―Ｓｉ3Ｎ4の針状粒が２次元的に配向する
ため、通常の焼結方法に比べて高強度のものが得られ
る。このため、焼結方法には、ホットプレス法を用いる
ことが必要である。
【００３３】そして、圧力を効果を十分に発揮し、針状
粒を配向させ、機械的特性の優れた材料を得るために２
０ＭＰａ以上の圧力で行う必要がある。
粒を配向させ、機械的特性の優れた材料を得るために２
０ＭＰａ以上の圧力で行う必要がある。
【００３４】４０ＭＰａ以上の圧力を加えるためには、
ホットプレスのダイスに通常、使用される黒鉛よりも高
強度の材料を用いなければならない。
ホットプレスのダイスに通常、使用される黒鉛よりも高
強度の材料を用いなければならない。
【００３５】また、ホットプレスで加える圧力を、４０
ＭＰａ以上にしても焼結体の特性は、ほとんど変わらな
いため、生産性を良くし、十分な特性の材料を得るため
に２０〜４０ＭＰａの圧力でホットプレスを行う。
ＭＰａ以上にしても焼結体の特性は、ほとんど変わらな
いため、生産性を良くし、十分な特性の材料を得るため
に２０〜４０ＭＰａの圧力でホットプレスを行う。
【００３６】また、焼結時のＳｉ3Ｎ4の分解を防ぐため
に、ホットプレスは窒素ガス雰囲気中で行うようにす
る。
に、ホットプレスは窒素ガス雰囲気中で行うようにす
る。
【００３７】
【作用】窒化ケイ素の焼結助剤としてよく用いられるの
はＹ2Ｏ3，ＭｇＯ，Ａｌ2Ｏ3，ＣｅＯ2などであるが、
例えばＡｌ2Ｏ3―Ｙ2Ｏ3系を助剤として用いた場合、助
剤量の少ない方が酸化被膜厚さは薄くなり、耐酸化性に
優れている。
はＹ2Ｏ3，ＭｇＯ，Ａｌ2Ｏ3，ＣｅＯ2などであるが、
例えばＡｌ2Ｏ3―Ｙ2Ｏ3系を助剤として用いた場合、助
剤量の少ない方が酸化被膜厚さは薄くなり、耐酸化性に
優れている。
【００３８】これはＹ2Ｓｉ2Ｏ7等の生成と関連があ
り、酸化の際に窒化ケイ素粒子の表面にＹが拡散して、
Ｙ2Ｓｉ2Ｏ7を形成するという反応が進行してしまい、
助剤量の多い場合には、このような反応がどんどん進行
するために、助剤量の少ないものの方が酸化の進行が遅
く耐酸化性に優れた材料となる。
り、酸化の際に窒化ケイ素粒子の表面にＹが拡散して、
Ｙ2Ｓｉ2Ｏ7を形成するという反応が進行してしまい、
助剤量の多い場合には、このような反応がどんどん進行
するために、助剤量の少ないものの方が酸化の進行が遅
く耐酸化性に優れた材料となる。
【００３９】同じ非酸化物の珪素含有化合物であるＳｉ
Ｃの場合、ＢおよびＣを助剤として用いた場合、酸化し
た表面にはほぼ純粋なＳｉＯ2が形成され、耐酸化性が
極めて優れていることを考慮すると、窒化ケイ素セラミ
ックスの耐酸化性改善のためには助剤量を極力少なくす
ることが必要であると思われる。
Ｃの場合、ＢおよびＣを助剤として用いた場合、酸化し
た表面にはほぼ純粋なＳｉＯ2が形成され、耐酸化性が
極めて優れていることを考慮すると、窒化ケイ素セラミ
ックスの耐酸化性改善のためには助剤量を極力少なくす
ることが必要であると思われる。
【００４０】しかし、本発明のようにＹ2Ｏ3―ＨｆＯ2
系を助剤として用いた場合、助剤量の比較的多いセラミ
ックスでも耐酸化性が極めてすぐれていたものが得られ
る。
系を助剤として用いた場合、助剤量の比較的多いセラミ
ックスでも耐酸化性が極めてすぐれていたものが得られ
る。
【００４１】これは、粒界相にＹ2Ｈｆ2Ｏ7生成し、表
面の酸化によるＹの拡散が起こるのを抑制するため、酸
化の進行を抑える役割を果たすためである。
面の酸化によるＹの拡散が起こるのを抑制するため、酸
化の進行を抑える役割を果たすためである。
【００４２】この場合の酸化被膜は、被膜内におけるＹ
の偏析が起こらないため、Ｙ2Ｓｉ2Ｏ7が生成しないた
め、表面にほぼ純粋なＳｉＯ2の被膜を形成させること
ができる。
の偏析が起こらないため、Ｙ2Ｓｉ2Ｏ7が生成しないた
め、表面にほぼ純粋なＳｉＯ2の被膜を形成させること
ができる。
【００４３】このＳｉＯ2被膜が形成されると酸化の進
行が極めて遅くなるため、耐酸化性の優れた材料とな
る。
行が極めて遅くなるため、耐酸化性の優れた材料とな
る。
【００４４】また、粒界が結晶化しているために、高温
での粒界相の軟化に伴う高温強度の低下の少ない特性の
優れた材料を得ることができる。
での粒界相の軟化に伴う高温強度の低下の少ない特性の
優れた材料を得ることができる。
【００４５】
【実施例】Ｙ2Ｏ3―ＨｆＯ2系の助剤を用いた４種の窒
化ケイ素、及び比較例としてＹ2Ｏ3―Ａｌ2Ｏ3系 の助剤
を用いた窒化ケイ素２種を作製した。
化ケイ素、及び比較例としてＹ2Ｏ3―Ａｌ2Ｏ3系 の助剤
を用いた窒化ケイ素２種を作製した。
【００４６】組成は第１表に示した通りであり、それぞ
れ目的の組成となるように原料粉末を秤量し、アセトン
を溶媒に用いて遊星型ボールミルによって２４ｈｒ混合
し、乾燥、粉砕した後、１７７０℃×２ｈｒ、圧力４０
ＭＰａの条件でホットプレスを行ない、焼結体を作製し
た。
れ目的の組成となるように原料粉末を秤量し、アセトン
を溶媒に用いて遊星型ボールミルによって２４ｈｒ混合
し、乾燥、粉砕した後、１７７０℃×２ｈｒ、圧力４０
ＭＰａの条件でホットプレスを行ない、焼結体を作製し
た。
【００４７】得られた窒化ケイ素焼結体のそれぞれの機
械的特性は第１表に示す通りである。
械的特性は第１表に示す通りである。
【００４８】酸化試験は、５０×１０×３ｍｍの試験片
を用いて行なった。酸化は、両端が大気に開放されてい
るアルミナ管内で行い、シリコニット炉を用いて加熱し
た。
を用いて行なった。酸化は、両端が大気に開放されてい
るアルミナ管内で行い、シリコニット炉を用いて加熱し
た。
【００４９】試料は、２５ｍｉｎ程度の時間をかけて電
気炉内の均熱帯位置まで徐々に挿入したが、この際約７
００Ｋの温度に約１０ｍｉｎ、さらに約１０００Ｋの温
度に５ｍｉｎ保持した。
気炉内の均熱帯位置まで徐々に挿入したが、この際約７
００Ｋの温度に約１０ｍｉｎ、さらに約１０００Ｋの温
度に５ｍｉｎ保持した。
【００５０】酸化終了後の取り出しは、挿入の時と全く
逆の手順に従った。酸化後の断面観察から酸化の程度を
評価した。第２表に酸化の条件を示す。
逆の手順に従った。酸化後の断面観察から酸化の程度を
評価した。第２表に酸化の条件を示す。
【００５１】酸化後の試料断面のＥＰＭＡ分析による酸
素分布のマッピングから、酸化により酸素の濃度が高く
なった部分（酸化被膜）の厚みを測定した。第３表に１
２００℃での各時間における酸化被膜の厚さを示す。
素分布のマッピングから、酸化により酸素の濃度が高く
なった部分（酸化被膜）の厚みを測定した。第３表に１
２００℃での各時間における酸化被膜の厚さを示す。
【００５２】また、第４表に各温度における酸化被膜厚
さを示す。なお、酸化時間は１００ｈｒである。
さを示す。なお、酸化時間は１００ｈｒである。
【００５３】いずれのセラミックスも酸化時間の増大と
ともに酸化被膜厚さが増大しているが、酸化被膜厚さは
同一助剤成分では助剤量の少ない方が小さく耐酸化性に
優れている。
ともに酸化被膜厚さが増大しているが、酸化被膜厚さは
同一助剤成分では助剤量の少ない方が小さく耐酸化性に
優れている。
【００５４】また、Ｙ2Ｏ3―ＨｆＯ2系の助剤を用いた
の窒化ケイ素の方が、Ｙ2Ｏ3―Ａｌ2Ｏ3系の助剤を用い
た窒化ケイ素よりも優れた耐酸化性を示した。
の窒化ケイ素の方が、Ｙ2Ｏ3―Ａｌ2Ｏ3系の助剤を用い
た窒化ケイ素よりも優れた耐酸化性を示した。
【００５５】
【表１】
【００５６】
【表２】
【００５７】
【表３】
【００５８】
【表４】
【００５９】
【表５】
【００６０】
【発明の効果】本発明により、従来の技術では得られな
かった高温特性と耐酸化性に優れた窒化ケイ素セラミッ
クス材料を得ることができる。
かった高温特性と耐酸化性に優れた窒化ケイ素セラミッ
クス材料を得ることができる。
Claims (2)
- 【請求項１】 酸化イットリウム０．１―１５ｗｔ％お
よび酸化ハフニウム０．１―１５ｗｔ％を含み、残部が
β―窒化ケイ素よりなり、粒界にＹ2Ｈｆ2Ｏ7の結晶が
存在することを特徴とする高温強度および耐酸化性に優
れた窒化ケイ素焼結体。 - 【請求項２】 酸化イットリウム０．１―１５ｗｔ％お
よび酸化ハフニウム０．１―１５ｗｔ％を含み、残部が
窒化ケイ素よりなる混合粉末を、窒素ガス雰囲気中で温
度１６００―１８５０℃、圧力２０―４０ＭＰａでホッ
トプレス焼結することを特徴とした請求項１記載の高温
強度および耐酸化性に優れた窒化ケイ素焼結体の製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4137598A JPH05306172A (ja) | 1992-05-01 | 1992-05-01 | 高温強度および耐酸化性に優れた窒化ケイ素焼結体およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4137598A JPH05306172A (ja) | 1992-05-01 | 1992-05-01 | 高温強度および耐酸化性に優れた窒化ケイ素焼結体およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05306172A true JPH05306172A (ja) | 1993-11-19 |
Family
ID=15202445
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4137598A Withdrawn JPH05306172A (ja) | 1992-05-01 | 1992-05-01 | 高温強度および耐酸化性に優れた窒化ケイ素焼結体およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05306172A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2010150831A1 (ja) * | 2009-06-24 | 2010-12-29 | 旭硝子株式会社 | ハンガー組立体およびフロート板ガラス製造装置 |
| CN108863395A (zh) * | 2017-05-12 | 2018-11-23 | 中国科学院上海硅酸盐研究所 | 一种高热导率、高强度氮化硅陶瓷材料及其制备方法 |
-
1992
- 1992-05-01 JP JP4137598A patent/JPH05306172A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2010150831A1 (ja) * | 2009-06-24 | 2010-12-29 | 旭硝子株式会社 | ハンガー組立体およびフロート板ガラス製造装置 |
| JP5510454B2 (ja) * | 2009-06-24 | 2014-06-04 | 旭硝子株式会社 | ハンガー組立体およびフロート板ガラス製造装置 |
| CN108863395A (zh) * | 2017-05-12 | 2018-11-23 | 中国科学院上海硅酸盐研究所 | 一种高热导率、高强度氮化硅陶瓷材料及其制备方法 |
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