JPH05301847A - イソホロンジアミンの製造法 - Google Patents
イソホロンジアミンの製造法Info
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- JPH05301847A JPH05301847A JP4103142A JP10314292A JPH05301847A JP H05301847 A JPH05301847 A JP H05301847A JP 4103142 A JP4103142 A JP 4103142A JP 10314292 A JP10314292 A JP 10314292A JP H05301847 A JPH05301847 A JP H05301847A
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- Japan
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- catalyst
- reaction
- silica
- cobalt
- hydrogen
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【構成】触媒として、コバルトと銅、マンガン、貴金属
の少なくとも一種を含有するシリカ及びシリカ- アルミ
ナ微粒球状触媒を使用してカルボニル基及びニトリル基
を含有するイソホロンニトリルから、そのカルボニル基
の還元アミノ化とニトリル基の水素化を同時に行ってイ
ソホロンジアミンを製造する方法 【効果】連続反応における触媒回収の効率化(生産性の
向上)、触媒分離設備の省力化、反応収率の向上及び触
媒コスト面で著しく優れている。
の少なくとも一種を含有するシリカ及びシリカ- アルミ
ナ微粒球状触媒を使用してカルボニル基及びニトリル基
を含有するイソホロンニトリルから、そのカルボニル基
の還元アミノ化とニトリル基の水素化を同時に行ってイ
ソホロンジアミンを製造する方法 【効果】連続反応における触媒回収の効率化(生産性の
向上)、触媒分離設備の省力化、反応収率の向上及び触
媒コスト面で著しく優れている。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、カルボニル基及びニト
リル基を含有するイソホロンニトリルから、そのカルボ
ニル基の還元アミノ化とニトリル基の水素化を同時に行
ってイソホロンジアミンを製造する方法において、触媒
としてコバルトと銅、マンガン、白金、銀、パラジウ
ム、ルテニウム又はロジウムの少なくとも一種をシリカ
又はシリカ−アルミナに担持させた微粒球状触媒を使用
する方法に関するものである。
リル基を含有するイソホロンニトリルから、そのカルボ
ニル基の還元アミノ化とニトリル基の水素化を同時に行
ってイソホロンジアミンを製造する方法において、触媒
としてコバルトと銅、マンガン、白金、銀、パラジウ
ム、ルテニウム又はロジウムの少なくとも一種をシリカ
又はシリカ−アルミナに担持させた微粒球状触媒を使用
する方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】イソホロンニトリル(3−シアノ−3、
5、5−トリメチルシクロヘキサノン、以下、CIPと
称する。)のようなカルボニル基及びニトリル基を含有
する化合物を還元アミノ化と水素化を同時に行うことに
よってイソホロンジアミン(3−アミノメチル−3、
5、5−トリメチルシクロヘキシルアミン、以下、IP
DAと称する。)を製造する方法については、従来、特
公昭39−10923及び特開昭62−123154等
が知られている。特公昭39−10923の方法では、
コバルト、鉄またはニッケルをシリカゲルに担持した触
媒を用いているが、破砕した触媒なので粒子径の非常に
小さい触媒をかなりの割合で含んでおり、沈降性が悪く
触媒の反応液からの分離が困難であった。また、粉砕し
た触媒を篩い分けして大きな粒子径の触媒を使用した場
合でも反応中に摩耗、微粉化して上記と同様の問題を生
じ、触媒が微粉化することによる反応活性の低下も大き
い。また、CIPに対するアンモニアモル比が多すぎる
ためアンモニアの回収、再使用の面で非経済的である。
水素圧力は50気圧以上と記載されているが、低い水素
圧力ではCIPからシアン化水素が発生し、IPDAの
収率が低下することが知られているため、実施例ではシ
アン化水素の発生を抑え高収率でIPDAを得るために
140〜150気圧という水素過剰圧力を使用してい
る。また、シアン化水素は明らかに触媒を被毒する。反
応液へのコバルトの溶出量が多いため、反応の繰り返し
による触媒活性の低下が大きい等の難点がある。
5、5−トリメチルシクロヘキサノン、以下、CIPと
称する。)のようなカルボニル基及びニトリル基を含有
する化合物を還元アミノ化と水素化を同時に行うことに
よってイソホロンジアミン(3−アミノメチル−3、
5、5−トリメチルシクロヘキシルアミン、以下、IP
DAと称する。)を製造する方法については、従来、特
公昭39−10923及び特開昭62−123154等
が知られている。特公昭39−10923の方法では、
コバルト、鉄またはニッケルをシリカゲルに担持した触
媒を用いているが、破砕した触媒なので粒子径の非常に
小さい触媒をかなりの割合で含んでおり、沈降性が悪く
触媒の反応液からの分離が困難であった。また、粉砕し
た触媒を篩い分けして大きな粒子径の触媒を使用した場
合でも反応中に摩耗、微粉化して上記と同様の問題を生
じ、触媒が微粉化することによる反応活性の低下も大き
い。また、CIPに対するアンモニアモル比が多すぎる
ためアンモニアの回収、再使用の面で非経済的である。
水素圧力は50気圧以上と記載されているが、低い水素
圧力ではCIPからシアン化水素が発生し、IPDAの
収率が低下することが知られているため、実施例ではシ
アン化水素の発生を抑え高収率でIPDAを得るために
140〜150気圧という水素過剰圧力を使用してい
る。また、シアン化水素は明らかに触媒を被毒する。反
応液へのコバルトの溶出量が多いため、反応の繰り返し
による触媒活性の低下が大きい等の難点がある。
【0003】特開昭62−123154の方法では、触
媒としてラネーコバルト又はマンガンを付加したラネー
コバルトを採用している。ラネー触媒の優位性として特
公昭39−10923と比較して、水素圧力を下げるこ
とができる;触媒使用前に還元粉砕しなくてもよい;I
PDAの収率が向上することを挙げている。しかし、ラ
ネーコバルトを使用するため、その取扱に難点、例え
ば、空気中において乾燥するだけで発火ないし失活する
こと;反応液の仕込み量としてCIPに対する触媒量が
非常に多い;触媒量を減らすとIPDAの収率が低下
し、水素分圧を高くし、反応時間を長くしてもIPDA
の収率は回復されない;反応液へのコバルトの溶出量が
多いため、反応の繰り返しによる触媒活性の低下が大き
い等の難点がある。
媒としてラネーコバルト又はマンガンを付加したラネー
コバルトを採用している。ラネー触媒の優位性として特
公昭39−10923と比較して、水素圧力を下げるこ
とができる;触媒使用前に還元粉砕しなくてもよい;I
PDAの収率が向上することを挙げている。しかし、ラ
ネーコバルトを使用するため、その取扱に難点、例え
ば、空気中において乾燥するだけで発火ないし失活する
こと;反応液の仕込み量としてCIPに対する触媒量が
非常に多い;触媒量を減らすとIPDAの収率が低下
し、水素分圧を高くし、反応時間を長くしてもIPDA
の収率は回復されない;反応液へのコバルトの溶出量が
多いため、反応の繰り返しによる触媒活性の低下が大き
い等の難点がある。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は連続反
応における触媒回収の効率化(生産性の向上)、触媒分
離設備の省力化、反応収率の向上及び触媒コスト面で著
しく優れている触媒を開発せんとするものである。
応における触媒回収の効率化(生産性の向上)、触媒分
離設備の省力化、反応収率の向上及び触媒コスト面で著
しく優れている触媒を開発せんとするものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
め鋭意検討した結果、本発明を完成するに至った。即
ち、本発明は、イソホロンニトリルをコバルトと銅、マ
ンガン、白金、銀、パラジウム、ルテニウム又はロジウ
ムの少なくとも一種をシリカ又はシリカ−アルミナに担
持させた微粒球状触媒の存在下に水素及びアンモニアと
反応させることを特徴とするイソホロンジアミンの製造
法を提供するものである。
め鋭意検討した結果、本発明を完成するに至った。即
ち、本発明は、イソホロンニトリルをコバルトと銅、マ
ンガン、白金、銀、パラジウム、ルテニウム又はロジウ
ムの少なくとも一種をシリカ又はシリカ−アルミナに担
持させた微粒球状触媒の存在下に水素及びアンモニアと
反応させることを特徴とするイソホロンジアミンの製造
法を提供するものである。
【0006】本発明の球状触媒とは、どの角度から投影
してもその投影図がほぼ円形の触媒で、例えば楕円形、
円柱形、円錐形、ラグビーボール形や、鋭角及び鈍角面
を有する粒子の含有率が10%以下の触媒である。本発
明の触媒は、単位触媒当りの反応活性が高い;選択性が
高い;水素吸収速度が速く生産効率がよい;反応中の触
媒の摩耗、微粉化が少なく反応液中へのコバルトの溶出
が少ないことから、反応の繰り返しによる触媒活性の低
下及び選択性の低下が非常に少ない;触媒の沈降性が良
いため触媒を回収再使用する場合に触媒の分離、濾去が
非常に容易である等の生産性を向上に数々の優れた利点
がある。
してもその投影図がほぼ円形の触媒で、例えば楕円形、
円柱形、円錐形、ラグビーボール形や、鋭角及び鈍角面
を有する粒子の含有率が10%以下の触媒である。本発
明の触媒は、単位触媒当りの反応活性が高い;選択性が
高い;水素吸収速度が速く生産効率がよい;反応中の触
媒の摩耗、微粉化が少なく反応液中へのコバルトの溶出
が少ないことから、反応の繰り返しによる触媒活性の低
下及び選択性の低下が非常に少ない;触媒の沈降性が良
いため触媒を回収再使用する場合に触媒の分離、濾去が
非常に容易である等の生産性を向上に数々の優れた利点
がある。
【0007】本発明の触媒はコバルト源としては塩化コ
バルト、硝酸コバルト、硫酸コバルト、燐酸コバルト、
炭酸コバルト、酢酸コバルト、蓚酸コバルト、蟻酸コバ
ルト、水酸化コバルト等を用い、銅源、貴金属源及びマ
ンガン源もコバルト源同様の陰イオンとの組合せの塩を
用い、例えばシリカ又はシリカ−アルミナゾルと良くか
き混ぜて、水酸化ナトリウム又は炭酸ナトリウムの水溶
液などのアルカリで共沈させて得た5〜40%のスラリ
ーを噴霧乾燥して10〜60%コバルトイオン、0. 5
〜10%銅イオン、0. 1〜5%貴金属イオン及び0.
1〜5%マンガンイオンを担持したシリカ又はシリカ−
アルミナ微粒球状ゲル、或はシリカ又はシリカ−アルミ
ナゾルをアルカリで沈澱させたスラリーを噴霧乾燥して
得たシリカ又はシリカ−アルミナ微粒球状ゲルに含浸法
により10〜40%コバルトイオン、0. 5〜10%銅
イオン、0. 1〜5%貴金属イオン及び0. 1〜5%マ
ンガンイオンを担持したものを300℃で空気及び窒素
焼成後、250℃で水素還元し、金属コバルト、金属
銅、貴金属及び金属マンガンとして担持したシリカ微粒
球状触媒(またはシリカー アルミナ微粒球状触媒)であ
る。
バルト、硝酸コバルト、硫酸コバルト、燐酸コバルト、
炭酸コバルト、酢酸コバルト、蓚酸コバルト、蟻酸コバ
ルト、水酸化コバルト等を用い、銅源、貴金属源及びマ
ンガン源もコバルト源同様の陰イオンとの組合せの塩を
用い、例えばシリカ又はシリカ−アルミナゾルと良くか
き混ぜて、水酸化ナトリウム又は炭酸ナトリウムの水溶
液などのアルカリで共沈させて得た5〜40%のスラリ
ーを噴霧乾燥して10〜60%コバルトイオン、0. 5
〜10%銅イオン、0. 1〜5%貴金属イオン及び0.
1〜5%マンガンイオンを担持したシリカ又はシリカ−
アルミナ微粒球状ゲル、或はシリカ又はシリカ−アルミ
ナゾルをアルカリで沈澱させたスラリーを噴霧乾燥して
得たシリカ又はシリカ−アルミナ微粒球状ゲルに含浸法
により10〜40%コバルトイオン、0. 5〜10%銅
イオン、0. 1〜5%貴金属イオン及び0. 1〜5%マ
ンガンイオンを担持したものを300℃で空気及び窒素
焼成後、250℃で水素還元し、金属コバルト、金属
銅、貴金属及び金属マンガンとして担持したシリカ微粒
球状触媒(またはシリカー アルミナ微粒球状触媒)であ
る。
【0008】触媒の粒度分布は2〜500μmの範囲で
使用可能であるが、好ましくは40〜350μmであ
り、平均粒子径が100〜170μmの球状触媒であ
る。触媒粒子径が小さすぎると触媒分離に長時間かかり
非経済的である。また、触媒粒子径が大きすぎると触媒
分離は容易になるが、反応中の触媒の分散性が悪く反応
収率が低下する。触媒を球状にする方法としては、噴霧
乾燥法(触媒スラリー濃度が10〜60%のものを10
0〜150℃で乾燥)である。噴霧乾燥は、液状または
ディショウ状の材料を熱風中へ噴霧分散させ、熱風で搬
送しながら急速に乾燥して粉末状の製品を得る乾燥法を
いう。この乾燥法の特徴は、製品が中空または固形の球
状粒子で得られることにある。
使用可能であるが、好ましくは40〜350μmであ
り、平均粒子径が100〜170μmの球状触媒であ
る。触媒粒子径が小さすぎると触媒分離に長時間かかり
非経済的である。また、触媒粒子径が大きすぎると触媒
分離は容易になるが、反応中の触媒の分散性が悪く反応
収率が低下する。触媒を球状にする方法としては、噴霧
乾燥法(触媒スラリー濃度が10〜60%のものを10
0〜150℃で乾燥)である。噴霧乾燥は、液状または
ディショウ状の材料を熱風中へ噴霧分散させ、熱風で搬
送しながら急速に乾燥して粉末状の製品を得る乾燥法を
いう。この乾燥法の特徴は、製品が中空または固形の球
状粒子で得られることにある。
【0009】材料を微粒化する方法として、高速回転デ
ィスク上に材料を供給して遠心力により飛散微粒化する
方法(ディスクタイプ法)、材料を加圧してノズルのオ
リフィスから噴出微粒化する方法(ノズルタイプ法)、
圧縮空気、蒸気または、不活性ガスの噴流により霧吹き
の原理で材料を低圧で噴霧させる方法が主に使用され
る。高速回転ディスクの直径は通常10〜35cm、回
転数は3000〜15000rpm程度であり、加圧ノ
ズル式のオリフィス孔径は、0. 3〜5mm、圧力は2
0〜700kg/cm2 程度である。また、二流体ノズ
ル式の圧縮気体の圧力は、2〜8kg/cm2 、材料流
体の圧力は1〜5kg/cm2 程度である。熱風温度は
150〜550℃、噴霧の粒径範囲は2〜500μm、
乾燥時間は5〜20秒程度が一般的である。
ィスク上に材料を供給して遠心力により飛散微粒化する
方法(ディスクタイプ法)、材料を加圧してノズルのオ
リフィスから噴出微粒化する方法(ノズルタイプ法)、
圧縮空気、蒸気または、不活性ガスの噴流により霧吹き
の原理で材料を低圧で噴霧させる方法が主に使用され
る。高速回転ディスクの直径は通常10〜35cm、回
転数は3000〜15000rpm程度であり、加圧ノ
ズル式のオリフィス孔径は、0. 3〜5mm、圧力は2
0〜700kg/cm2 程度である。また、二流体ノズ
ル式の圧縮気体の圧力は、2〜8kg/cm2 、材料流
体の圧力は1〜5kg/cm2 程度である。熱風温度は
150〜550℃、噴霧の粒径範囲は2〜500μm、
乾燥時間は5〜20秒程度が一般的である。
【0010】本発明で使用するコバルト系触媒では、い
ずれの方法でも微粒化可能であるが、平均粒径が100
μm以上、粒度分布が狭い範囲にあって且つ乾燥収率を
高くするためには、ディスクタイプ法で微粒化すること
が好ましい。ディスクタイプの噴霧乾燥で製品の球状性
良否、粒度分布を決める主要因子としては、ディスクの
形状及び回転数、スラリーの物性、特にスラリー濃度、
粘度、比重等がある。本発明の触媒の場合、共沈法で得
られたコバルトイオン、銅イオン、貴金属イオン及びマ
ンガンイオン担持シリカゾル(またはコバルトイオン、
銅イオン、貴金属イオン及びマンガンイオン担持シリカ
ー アルミナゾル)をディスクの回転数8000〜100
00rpm、スラリー濃度15〜30重量%、粘度0.
5〜4ポアズの範囲で噴霧乾燥すると、球状性の良い微
粒子を製品として得ることができる。ディスクの形状
は、ベン、ケスナー、ピン型等様々なものが知られてい
るが、粒度分布をシャープにする点ではピン型ディスク
を用いるのが好ましい結果が得られる。
ずれの方法でも微粒化可能であるが、平均粒径が100
μm以上、粒度分布が狭い範囲にあって且つ乾燥収率を
高くするためには、ディスクタイプ法で微粒化すること
が好ましい。ディスクタイプの噴霧乾燥で製品の球状性
良否、粒度分布を決める主要因子としては、ディスクの
形状及び回転数、スラリーの物性、特にスラリー濃度、
粘度、比重等がある。本発明の触媒の場合、共沈法で得
られたコバルトイオン、銅イオン、貴金属イオン及びマ
ンガンイオン担持シリカゾル(またはコバルトイオン、
銅イオン、貴金属イオン及びマンガンイオン担持シリカ
ー アルミナゾル)をディスクの回転数8000〜100
00rpm、スラリー濃度15〜30重量%、粘度0.
5〜4ポアズの範囲で噴霧乾燥すると、球状性の良い微
粒子を製品として得ることができる。ディスクの形状
は、ベン、ケスナー、ピン型等様々なものが知られてい
るが、粒度分布をシャープにする点ではピン型ディスク
を用いるのが好ましい結果が得られる。
【0011】使用する触媒量はカルボニル基及びニトリ
ル基を含有する化合物に対して、0. 02等量以上で反
応が可能であるが、好ましくは0. 05〜0. 3等量が
経済的である。反応圧力は15〜160kg/cm2 で
反応可能であるが、好ましくは35〜80kg/cm2
の範囲が良い。この時、低圧力では反応中間体が残り、
高圧力では反応装置的に非経済的である。反応温度は2
5〜160℃で反応が可能であるが、好ましくは50〜
120℃の範囲が良い。この時、低温では反応速度が著
しく遅くなり、高温では反応速度は速くなるが、副生成
物が増加するので不都合である。アンモニアの使用量は
カルボニル基及びニトリル基を含有する化合物に対して
1〜40倍モル等量の範囲が可能であるが、好ましくは
2〜8倍モル等量の範囲が良い。この時、アンモニアが
多すぎると回収、再使用の面で非経済的であり、アンモ
ニアが少なすぎると副生成物が増加するので不都合であ
る。
ル基を含有する化合物に対して、0. 02等量以上で反
応が可能であるが、好ましくは0. 05〜0. 3等量が
経済的である。反応圧力は15〜160kg/cm2 で
反応可能であるが、好ましくは35〜80kg/cm2
の範囲が良い。この時、低圧力では反応中間体が残り、
高圧力では反応装置的に非経済的である。反応温度は2
5〜160℃で反応が可能であるが、好ましくは50〜
120℃の範囲が良い。この時、低温では反応速度が著
しく遅くなり、高温では反応速度は速くなるが、副生成
物が増加するので不都合である。アンモニアの使用量は
カルボニル基及びニトリル基を含有する化合物に対して
1〜40倍モル等量の範囲が可能であるが、好ましくは
2〜8倍モル等量の範囲が良い。この時、アンモニアが
多すぎると回収、再使用の面で非経済的であり、アンモ
ニアが少なすぎると副生成物が増加するので不都合であ
る。
【0012】溶媒の使用は任意であるが、溶媒を使用す
る場合には、例えば、メタノール、エタノール、プロパ
ノール等のアルコール類、エチレングリコール、プロピ
レングリコール、グリセリン等の多価アルコール類、テ
トラヒドロフラン、ジオキサン等の環状エーテル類、メ
チルセオソルブル、エチルセオソルブル等のセオソルブ
ル類、メチルセオソルブルアセテート、エチルセオソル
ブルアセテート等のセオソルブルアセテート類、ジグラ
イム、トリグライム等のポリエーテル類等から選ばれる
有機溶媒が好適に使用される。かくして得られたジアミ
ノ化合物の反応粗液は周知の精製手段、例えば減圧蒸留
を利用すれば純品の目的物を得ることができる。
る場合には、例えば、メタノール、エタノール、プロパ
ノール等のアルコール類、エチレングリコール、プロピ
レングリコール、グリセリン等の多価アルコール類、テ
トラヒドロフラン、ジオキサン等の環状エーテル類、メ
チルセオソルブル、エチルセオソルブル等のセオソルブ
ル類、メチルセオソルブルアセテート、エチルセオソル
ブルアセテート等のセオソルブルアセテート類、ジグラ
イム、トリグライム等のポリエーテル類等から選ばれる
有機溶媒が好適に使用される。かくして得られたジアミ
ノ化合物の反応粗液は周知の精製手段、例えば減圧蒸留
を利用すれば純品の目的物を得ることができる。
【0013】
【実施例】以下の例は、本発明の本質を例示するもので
あって、これらの例の範囲に限定されるものではない。 噴霧乾燥法−1(ディスクタイプ) シリカについて説明するが、シリカー アルミナでも同様
に行うことができる。ディスクタイプの噴霧乾燥機(直
径 2500 mm、高さ5500mm)を用いて、次
の条件で乾燥を行うと平均粒径116μmの球状品が得
られた。 スラリー成分;32%Co/3. 2%Cu担持シリカゾ
ル(共沈法で調整) スラリー濃度;22. 8重量%、比重;1. 22、粘
度;0. 65ポアズ ディスク形状;125mmのピンタイプ、回転数;80
00rpm、熱風温度;入口300℃、出口150℃、
原液処理量;17kg/hr
あって、これらの例の範囲に限定されるものではない。 噴霧乾燥法−1(ディスクタイプ) シリカについて説明するが、シリカー アルミナでも同様
に行うことができる。ディスクタイプの噴霧乾燥機(直
径 2500 mm、高さ5500mm)を用いて、次
の条件で乾燥を行うと平均粒径116μmの球状品が得
られた。 スラリー成分;32%Co/3. 2%Cu担持シリカゾ
ル(共沈法で調整) スラリー濃度;22. 8重量%、比重;1. 22、粘
度;0. 65ポアズ ディスク形状;125mmのピンタイプ、回転数;80
00rpm、熱風温度;入口300℃、出口150℃、
原液処理量;17kg/hr
【0014】噴霧乾燥法−2(ノズルタイプ) ノズルタイプの噴霧乾燥機(直径1800mm、高さ1
900mm)を用いて、次の条件で乾燥すると平均粒径
151μmの球状品が得られた。 スラリー成分;33%Co/0. 35%Pd担持シリカ
ゾル(共沈法で調整) 濃度;22. 2重量%、ノズル(二流体ノズル式);内
径1. 5mm、外形10mm、空気圧力;0. 33kg
/cm2 、液圧;0. 1kg/cm2 、熱風温度;入口
300℃、出口120℃、原液処理量;2kg/hr
900mm)を用いて、次の条件で乾燥すると平均粒径
151μmの球状品が得られた。 スラリー成分;33%Co/0. 35%Pd担持シリカ
ゾル(共沈法で調整) 濃度;22. 2重量%、ノズル(二流体ノズル式);内
径1. 5mm、外形10mm、空気圧力;0. 33kg
/cm2 、液圧;0. 1kg/cm2 、熱風温度;入口
300℃、出口120℃、原液処理量;2kg/hr
【0015】含浸乾固法 硝酸コバルト6水和物49. 4g及び硝酸銅3水和物
1. 0gを純水6. 0gに溶解し、平均粒子径100〜
170μmの微粒球状シリカゲル20gを加え、湯浴上
で攪拌しながら水分を蒸発させ、熱風乾燥器中110℃
で1夜乾燥した。
1. 0gを純水6. 0gに溶解し、平均粒子径100〜
170μmの微粒球状シリカゲル20gを加え、湯浴上
で攪拌しながら水分を蒸発させ、熱風乾燥器中110℃
で1夜乾燥した。
【0016】実施例1 電磁攪拌式オートクレーブ(容量0. 3l)に32%C
o/3. 2%Cu担持シリカ微粒球状触媒9. 0gを入
れ、CIP45. 0g、メタノール103. 5g及びア
ンモニア22. 8gを仕込み、水素圧70kg/cm
2 、温度100℃で反応を2時間行った(攪拌機回転数
850〜950rpm )。この時、オートクレーブ内の圧
力を70kg/cm2 に保った。反応のための水素の追
加供給は1時間以内で終了した。オートクレーブを冷却
した後、除圧し残圧を5kg/cm2 にして触媒を濾過
し、反応粗液をガスクロマトグラフィーで定量分析した
結果、IPDAは90. 9%であった。他の主な副生成
物はIPAA(2. 4%)と1、3、3−トリメチル−
6−アザビシクロ[3. 2. 1]オクタン(以下TMA
Bと略す、5. 8%)であった。反応粗液を触媒濾去
し、溶媒を留去後減圧蒸留した。主留分は、イソホロン
ジアミン:bp20=128℃、IPAA:bp20=14
2℃、TMAB:bp20=77℃
o/3. 2%Cu担持シリカ微粒球状触媒9. 0gを入
れ、CIP45. 0g、メタノール103. 5g及びア
ンモニア22. 8gを仕込み、水素圧70kg/cm
2 、温度100℃で反応を2時間行った(攪拌機回転数
850〜950rpm )。この時、オートクレーブ内の圧
力を70kg/cm2 に保った。反応のための水素の追
加供給は1時間以内で終了した。オートクレーブを冷却
した後、除圧し残圧を5kg/cm2 にして触媒を濾過
し、反応粗液をガスクロマトグラフィーで定量分析した
結果、IPDAは90. 9%であった。他の主な副生成
物はIPAA(2. 4%)と1、3、3−トリメチル−
6−アザビシクロ[3. 2. 1]オクタン(以下TMA
Bと略す、5. 8%)であった。反応粗液を触媒濾去
し、溶媒を留去後減圧蒸留した。主留分は、イソホロン
ジアミン:bp20=128℃、IPAA:bp20=14
2℃、TMAB:bp20=77℃
【0017】実施例2 33%Co/0. 35%Pd担持シリカ微粒球状触媒媒
9. 0gを用いた他は実施例1と同様の反応を行った。
反応粗液をガスクロマトグラフィーで定量分析した結
果、IPDAは89. 1%であった。他の主な副生成物
はIPAA(6.5%)とTMAB(4. 2%)であっ
た。
9. 0gを用いた他は実施例1と同様の反応を行った。
反応粗液をガスクロマトグラフィーで定量分析した結
果、IPDAは89. 1%であった。他の主な副生成物
はIPAA(6.5%)とTMAB(4. 2%)であっ
た。
【0018】実施例3 実施例1と同じ反応器を用い33%Co/0. 65%R
u担持シリカ−アルミナ微粒球状触媒9. 0gを入れ、
CIP45. 0g、メタノール103. 5g及びアンモ
ニア21. 5gを仕込、水素圧70kg/cm2 、温度
100℃で反応を2時間行った。反応のための水素の追
加供給は40分以内に終了した。反応粗液を分析した結
果、IPDA92. 8%、IPAA2. 4%、TMAB
4. 0%であった。
u担持シリカ−アルミナ微粒球状触媒9. 0gを入れ、
CIP45. 0g、メタノール103. 5g及びアンモ
ニア21. 5gを仕込、水素圧70kg/cm2 、温度
100℃で反応を2時間行った。反応のための水素の追
加供給は40分以内に終了した。反応粗液を分析した結
果、IPDA92. 8%、IPAA2. 4%、TMAB
4. 0%であった。
【0019】実施例4 実施例1と同じ反応器を用い31%Co/0. 6%Rh
担持シリカ−アルミナ微粒球状触媒9. 0gを入れ、C
IP45. 0g、メタノール103. 5g及びアンモニ
ア22. 2gを仕込、水素圧70kg/cm2 、温度8
0℃で反応を2時間行った。反応のための水素の追加供
給は30分以内で終了した。反応粗液を分析した結果、
IPDA88. 7%、IPAA4. 4%、TMAB4.
4%であった。
担持シリカ−アルミナ微粒球状触媒9. 0gを入れ、C
IP45. 0g、メタノール103. 5g及びアンモニ
ア22. 2gを仕込、水素圧70kg/cm2 、温度8
0℃で反応を2時間行った。反応のための水素の追加供
給は30分以内で終了した。反応粗液を分析した結果、
IPDA88. 7%、IPAA4. 4%、TMAB4.
4%であった。
【0020】実施例5 実施例1と同じ反応器を用い33%Co/1. 3%Pt
担持シリカ微粒球状触媒9. 0gを入れ、CIP45.
0g、メタノール103. 5g及びアンモニア22. 2
gを仕込、水素圧70kg/cm2 、温度80℃で反応
を2時間行った。反応のための水素の追加供給は40分
以内で終了した。反応粗液を分析した結果、IPDA9
2. 7%、IPAA3. 8%、TMAB3. 2%であっ
た。
担持シリカ微粒球状触媒9. 0gを入れ、CIP45.
0g、メタノール103. 5g及びアンモニア22. 2
gを仕込、水素圧70kg/cm2 、温度80℃で反応
を2時間行った。反応のための水素の追加供給は40分
以内で終了した。反応粗液を分析した結果、IPDA9
2. 7%、IPAA3. 8%、TMAB3. 2%であっ
た。
【0021】実施例6 実施例1と同じ反応器を用い32%Co/0. 7%Au
担持シリカ微粒球状触媒9. 0gを入れ、CIP45.
0g、メタノール105. 3g及びアンモニア21.9
gを仕込、水素圧70kg/cm2 、温度100℃で反
応を2時間行った。 反応のための水素の追加供給は1
時間以内で終了した。反応粗液を分析した結果、IPD
A87. 6%、IPAA3. 6%、TMAB4. 9%で
あった。
担持シリカ微粒球状触媒9. 0gを入れ、CIP45.
0g、メタノール105. 3g及びアンモニア21.9
gを仕込、水素圧70kg/cm2 、温度100℃で反
応を2時間行った。 反応のための水素の追加供給は1
時間以内で終了した。反応粗液を分析した結果、IPD
A87. 6%、IPAA3. 6%、TMAB4. 9%で
あった。
【0022】実施例7 実施例1と同じ反応器を用い33%金属Co/0. 35
%Pd担持シリカ微粒球状触媒9. 0gを入れ、CIP
45. g、メタノール104. 3g及びアンモニア2
1. 1gを仕込、水素圧30kg/cm2 、温度120
℃で反応を2時間行った。反応のための水素の追加供給
は40分以内で終了した。反応粗液を分析した結果、I
PDA87. 8%、IPAA4. 6%、TMAB5. 7
%であった。
%Pd担持シリカ微粒球状触媒9. 0gを入れ、CIP
45. g、メタノール104. 3g及びアンモニア2
1. 1gを仕込、水素圧30kg/cm2 、温度120
℃で反応を2時間行った。反応のための水素の追加供給
は40分以内で終了した。反応粗液を分析した結果、I
PDA87. 8%、IPAA4. 6%、TMAB5. 7
%であった。
【0023】実施例8 実施例1と同じ反応器を用い33%Co/0. 35%P
d担持シリカ微粒球状触媒9. 0gを入れ、CIP4
5. 0g、メタノール103. 5g及びアンモニア2
2. 0gを仕込、水素圧50kg/cm2 、温度120
℃で反応を2時間行った。反応のための水素の追加供給
は30分以内で終了した。反応粗液を分析した結果、I
PDA89. 3%、IPAA3. 5%、TMAB5. 5
%であった。
d担持シリカ微粒球状触媒9. 0gを入れ、CIP4
5. 0g、メタノール103. 5g及びアンモニア2
2. 0gを仕込、水素圧50kg/cm2 、温度120
℃で反応を2時間行った。反応のための水素の追加供給
は30分以内で終了した。反応粗液を分析した結果、I
PDA89. 3%、IPAA3. 5%、TMAB5. 5
%であった。
【0024】実施例9 実施例1と同じ反応器を用い33%Co/0. 35%P
d/1. 6%Cu担持シリカ微粒球状触媒9. 0gを入
れ、CIP45. 0g、メタノール103. 5g及びア
ンモニア21. 4gを仕込、水素圧70kg/cm2 、
温度100℃で反応を2時間行った。反応のための水素
の追加供給は40分以内で終了した。反応粗液を分析し
た結果、IPDA89. 8%、IPAA3. 5%、TM
AB5.7%であった。
d/1. 6%Cu担持シリカ微粒球状触媒9. 0gを入
れ、CIP45. 0g、メタノール103. 5g及びア
ンモニア21. 4gを仕込、水素圧70kg/cm2 、
温度100℃で反応を2時間行った。反応のための水素
の追加供給は40分以内で終了した。反応粗液を分析し
た結果、IPDA89. 8%、IPAA3. 5%、TM
AB5.7%であった。
【0025】実施例10 実施例1と同じ反応器を用い31%Co/1. 6%Cu
/3. 2%Mn担持シリカ微粒球状触媒9. 0gを入
れ、CIP45. 0g、メタノール103. 5g及びア
ンモニア22. 2gを仕込、水素圧70kg/cm2 、
温度100℃で反応を2時間行った。反応のための水素
の追加供給は1時間以内で終了した。反応粗液を分析し
た結果、IPDA90. 6%、IPAA2. 4%、TM
AB6. 1%であった。
/3. 2%Mn担持シリカ微粒球状触媒9. 0gを入
れ、CIP45. 0g、メタノール103. 5g及びア
ンモニア22. 2gを仕込、水素圧70kg/cm2 、
温度100℃で反応を2時間行った。反応のための水素
の追加供給は1時間以内で終了した。反応粗液を分析し
た結果、IPDA90. 6%、IPAA2. 4%、TM
AB6. 1%であった。
【0026】実施例11 実施例1と同じ反応器を用い32%Co/0. 66%R
h/1. 6%Cu担持シリカ微粒球状触媒9. 0gを入
れ、CIP45. 0g、メタノール103. 5g及びア
ンモニア22. 8gを仕込、水素圧70kg/cm2 、
温度100℃で反応を2時間行った。反応のための水素
の追加供給は40分以内で終了した。反応粗液を分析し
た結果、IPDA91. 4%、IPAA2. 8%、TM
AB5. 6%であった。
h/1. 6%Cu担持シリカ微粒球状触媒9. 0gを入
れ、CIP45. 0g、メタノール103. 5g及びア
ンモニア22. 8gを仕込、水素圧70kg/cm2 、
温度100℃で反応を2時間行った。反応のための水素
の追加供給は40分以内で終了した。反応粗液を分析し
た結果、IPDA91. 4%、IPAA2. 8%、TM
AB5. 6%であった。
【0027】[触媒沈降速度]破砕したA)Co担持シ
リカ触媒(粒度分布2〜200μm)とB)Co/Cu
担持シリカ微粒球状触媒(粒度分布2〜200μm)を
反応例の反応液(比重0. 83、粘度1. 54〜1. 6
7cp、20℃)を用いて沈降速度(5. 5cmの高さ
の反応液中で触媒を懸濁させ、触媒のほとんどが沈むま
での時間)を測定した。A)毎秒0.00041cm、
B)毎秒0.019cmであった。
リカ触媒(粒度分布2〜200μm)とB)Co/Cu
担持シリカ微粒球状触媒(粒度分布2〜200μm)を
反応例の反応液(比重0. 83、粘度1. 54〜1. 6
7cp、20℃)を用いて沈降速度(5. 5cmの高さ
の反応液中で触媒を懸濁させ、触媒のほとんどが沈むま
での時間)を測定した。A)毎秒0.00041cm、
B)毎秒0.019cmであった。
【0028】[コバルトの反応液への溶出量] A)破砕したCo担持シリカ触媒(粒度分布2〜200
μm)、B)ラネーCo触媒(粒度分布3〜300μ
m)及びC)Co/Cu担持シリカ微粒球状触媒(粒度
分布2〜200μm)を反応例1の反応条件で反応した
反応液中のコバルト溶出量を原子吸光で測定した。反応
液中への溶出率(%)はA)1. 85、B)2. 57、
C)0. 33であった。
μm)、B)ラネーCo触媒(粒度分布3〜300μ
m)及びC)Co/Cu担持シリカ微粒球状触媒(粒度
分布2〜200μm)を反応例1の反応条件で反応した
反応液中のコバルト溶出量を原子吸光で測定した。反応
液中への溶出率(%)はA)1. 85、B)2. 57、
C)0. 33であった。
【0029】[触媒使用前後の粒度分布] A)破砕したCo担持シリカ触媒(粒度分布2〜200
μm)、B)ラネーCo触媒(粒度分布3〜300μ
m)及びC)Co/Cu担持シリカ微粒球状触媒(粒度
分布2〜200μm)の20回の繰り返し実験使用前後
の粒度分布をレーザー回折光強度測定法で測定した。反
応前の金属コバルト担持触媒の粒度分布はできるだけラ
ネーコバルトの粒度分布にそろえた。破砕したCo担持
シリカ触媒A)及びラネーCo触媒B)は、使用後の粒
子径が使用前に比べかなり小さい方へシフトしている
が、Co/Cu担持シリカ微粒球状触媒は、使用前後の
粒子径の変化が少ない。
μm)、B)ラネーCo触媒(粒度分布3〜300μ
m)及びC)Co/Cu担持シリカ微粒球状触媒(粒度
分布2〜200μm)の20回の繰り返し実験使用前後
の粒度分布をレーザー回折光強度測定法で測定した。反
応前の金属コバルト担持触媒の粒度分布はできるだけラ
ネーコバルトの粒度分布にそろえた。破砕したCo担持
シリカ触媒A)及びラネーCo触媒B)は、使用後の粒
子径が使用前に比べかなり小さい方へシフトしている
が、Co/Cu担持シリカ微粒球状触媒は、使用前後の
粒子径の変化が少ない。
【0030】[反応液の濾過性]実施例1の条件を用い
て20回の繰り返し実験を行い、各回の反応液の濾過に
要する時間を測定した。フィルターは2μmの焼結フィ
ルターを用いた。2回目の反応からはオートクレーブの
デッドボリューム(40ml)を差し引いた量を仕込ん
で濾過する量をほぼ一定に保った。濾過時間は反応後オ
ートクレーブを冷却、除圧し、新たに窒素圧力5kg/
cm2 をかけて反応液が流出し始めた時点から流出し終
わるまでの時間とした。
て20回の繰り返し実験を行い、各回の反応液の濾過に
要する時間を測定した。フィルターは2μmの焼結フィ
ルターを用いた。2回目の反応からはオートクレーブの
デッドボリューム(40ml)を差し引いた量を仕込ん
で濾過する量をほぼ一定に保った。濾過時間は反応後オ
ートクレーブを冷却、除圧し、新たに窒素圧力5kg/
cm2 をかけて反応液が流出し始めた時点から流出し終
わるまでの時間とした。
【0031】
【発明の効果】本発明は、カルボニル基の還元アミノ化
及びニトリル基の水素化を同時に行う触媒として、コバ
ルトと銅、マンガン、貴金属の少なくとも一種を含有す
るシリカ及びシリカ- アルミナ微粒球状触媒を使用して
いるので、破砕して調製したコバルト触媒に比べると触
媒の表面が球状で、非常に滑らかであり、また銅、貴金
属及びマンガンの添加効果により、触媒の形状がほぼ一
定であり粒度分布及び平均粒子径の変化が少ないため、
副生成物の生成が少なく、選択性及び反応収率が高い
反応の繰り返しによる触媒使用前後の粒度分布の変化が
少なく、触媒が微粉化することによる反応活性及び選択
性の低下が少ない。反応中の触媒の摩耗、微粉化が少な
く(触媒使用後の粒度分布の平均粒子径が小さい方へシ
フトする割合が少なく)触媒を回収再使用する場合、触
媒の濾去が非常に容易である。アンモニア/CIPモル
比が下げられるためアンモニアの回収が容易である。コ
バルトの反応液への溶出が少ないので反応の繰り返しに
よる触媒活性及び選択性の低下が少ない。水素吸収速度
が速く生産性を向上できるなどの利点があり、また、ラ
ネーコバルトに比べると、反応液中の触媒スラリー濃度
を下げることができ、カルボニル基及びニトリル基を含
有する化合物濃度を上げることができるため、単位触媒
当りの生産性が向上できる。コバルトの反応液中への溶
出が少ないので反応の繰り返しによる触媒活性の低下及
び選択性の低下が少ない。水素吸収速度が速く生産性を
向上できる。触媒の取扱が比較的容易である。触媒固定
法による製造ができるなどの利点があり、従来技術に比
べ、連続反応における触媒回収の効率化(生産性の向
上)、触媒分離設備の省力化、反応収率の向上及び触媒
コスト面で著しく優れている。
及びニトリル基の水素化を同時に行う触媒として、コバ
ルトと銅、マンガン、貴金属の少なくとも一種を含有す
るシリカ及びシリカ- アルミナ微粒球状触媒を使用して
いるので、破砕して調製したコバルト触媒に比べると触
媒の表面が球状で、非常に滑らかであり、また銅、貴金
属及びマンガンの添加効果により、触媒の形状がほぼ一
定であり粒度分布及び平均粒子径の変化が少ないため、
副生成物の生成が少なく、選択性及び反応収率が高い
反応の繰り返しによる触媒使用前後の粒度分布の変化が
少なく、触媒が微粉化することによる反応活性及び選択
性の低下が少ない。反応中の触媒の摩耗、微粉化が少な
く(触媒使用後の粒度分布の平均粒子径が小さい方へシ
フトする割合が少なく)触媒を回収再使用する場合、触
媒の濾去が非常に容易である。アンモニア/CIPモル
比が下げられるためアンモニアの回収が容易である。コ
バルトの反応液への溶出が少ないので反応の繰り返しに
よる触媒活性及び選択性の低下が少ない。水素吸収速度
が速く生産性を向上できるなどの利点があり、また、ラ
ネーコバルトに比べると、反応液中の触媒スラリー濃度
を下げることができ、カルボニル基及びニトリル基を含
有する化合物濃度を上げることができるため、単位触媒
当りの生産性が向上できる。コバルトの反応液中への溶
出が少ないので反応の繰り返しによる触媒活性の低下及
び選択性の低下が少ない。水素吸収速度が速く生産性を
向上できる。触媒の取扱が比較的容易である。触媒固定
法による製造ができるなどの利点があり、従来技術に比
べ、連続反応における触媒回収の効率化(生産性の向
上)、触媒分離設備の省力化、反応収率の向上及び触媒
コスト面で著しく優れている。
フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 // C07B 61/00 300
Claims (1)
- 【請求項1】 イソホロンニトリルをコバルトと銅、マ
ンガン、白金、銀、パラジウム、ルテニウム又はロジウ
ムの少なくとも一種をシリカ又はシリカ−アルミナに担
持させた微粒球状触媒の存在下に水素及びアンモニアと
反応させることを特徴とするイソホロンジアミンの製造
法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4103142A JPH05301847A (ja) | 1992-04-22 | 1992-04-22 | イソホロンジアミンの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4103142A JPH05301847A (ja) | 1992-04-22 | 1992-04-22 | イソホロンジアミンの製造法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05301847A true JPH05301847A (ja) | 1993-11-16 |
Family
ID=14346279
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4103142A Pending JPH05301847A (ja) | 1992-04-22 | 1992-04-22 | イソホロンジアミンの製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH05301847A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5395972A (en) * | 1993-02-08 | 1995-03-07 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Process for producing amines |
US5589596A (en) * | 1993-04-27 | 1996-12-31 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Process for producing amines |
CN107857704A (zh) * | 2017-11-21 | 2018-03-30 | 万华化学集团股份有限公司 | 一种制备3‑氨甲基‑3,5,5‑三甲基环己胺的方法及用于该方法的催化剂 |
-
1992
- 1992-04-22 JP JP4103142A patent/JPH05301847A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5395972A (en) * | 1993-02-08 | 1995-03-07 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Process for producing amines |
US5589596A (en) * | 1993-04-27 | 1996-12-31 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Process for producing amines |
CN107857704A (zh) * | 2017-11-21 | 2018-03-30 | 万华化学集团股份有限公司 | 一种制备3‑氨甲基‑3,5,5‑三甲基环己胺的方法及用于该方法的催化剂 |
CN107857704B (zh) * | 2017-11-21 | 2020-04-10 | 万华化学集团股份有限公司 | 一种制备3-氨甲基-3,5,5-三甲基环己胺的方法及用于该方法的催化剂 |
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