JPH0529986B2 - - Google Patents
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- JPH0529986B2 JPH0529986B2 JP61243324A JP24332486A JPH0529986B2 JP H0529986 B2 JPH0529986 B2 JP H0529986B2 JP 61243324 A JP61243324 A JP 61243324A JP 24332486 A JP24332486 A JP 24332486A JP H0529986 B2 JPH0529986 B2 JP H0529986B2
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y10/00—Nanotechnology for information processing, storage or transmission, e.g. quantum computing or single electron logic
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/48—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed
- G11B5/58—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed with provision for moving the head for the purpose of maintaining alignment of the head relative to the record carrier during transducing operation, e.g. to compensate for surface irregularities of the latter or for track following
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- G—PHYSICS
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- G11B5/74—Record carriers characterised by the form, e.g. sheet shaped to wrap around a drum
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- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
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Description
【発明の詳細な説明】
Ａ 産業上の利用分野
本発明はデータ記録媒体の表面に光学的又は容
量的サーボ制御パターンを形成する方法に関す
る。
量的サーボ制御パターンを形成する方法に関す
る。
Ｂ 従来技術
磁気記録装置用サーボ制御システムは、読み書
きヘツドの動的位置決めのために、デイスクやテ
ープの上に制御パターンを形成しておくことを必
要としている。制御パターンは、使用される磁気
記録媒体に適合し且つヘツドによつて容易に検知
される態様で形成されなければならない。理想的
には、制御パターンは、磁気的に記録されている
信号の読取りに影響を及ぼさないことが必要であ
る。
きヘツドの動的位置決めのために、デイスクやテ
ープの上に制御パターンを形成しておくことを必
要としている。制御パターンは、使用される磁気
記録媒体に適合し且つヘツドによつて容易に検知
される態様で形成されなければならない。理想的
には、制御パターンは、磁気的に記録されている
信号の読取りに影響を及ぼさないことが必要であ
る。
これまでに使用されている１つの技術は、サー
ボ・システムのための位置決めの情報をデータと
同様に記憶しておくものである。しかしながら、
この技術は、位置決め情報の記録のために、貴重
なデータ記録領域が用いられることと、記録され
た位置決め情報がデータの読取りを防害すること
に鑑み、好ましいものではなかつた。
ボ・システムのための位置決めの情報をデータと
同様に記憶しておくものである。しかしながら、
この技術は、位置決め情報の記録のために、貴重
なデータ記録領域が用いられることと、記録され
た位置決め情報がデータの読取りを防害すること
に鑑み、好ましいものではなかつた。
記録領域をデータの記録のために有効に利用し
つつサーボ制御パターンを組むことを目的として
種々の技術が開発されている。
つつサーボ制御パターンを組むことを目的として
種々の技術が開発されている。
例えばアイ・ビー・エム・テクニカル・デイス
クロージヤ・ブレテイン（IBM Technical
Disclosure Bulletin）Vol.21No.１（1979年３月）
の第4259乃至4260頁には、隆起したサーボ制御ト
ラツクを有する磁気デイスクが開示されている。
又、米国特許第4150398号には、光学的デイスク
に関して、レーザによつてフオトレジスト薄膜の
露光を行つて、底部に凹凸を有する溝を形成する
技術が開示されている。しかしながら、これらの
従来技術は、いずれもデータの取り扱いについて
十分正確で敏感な機構をもたらしているとは言え
ない。
クロージヤ・ブレテイン（IBM Technical
Disclosure Bulletin）Vol.21No.１（1979年３月）
の第4259乃至4260頁には、隆起したサーボ制御ト
ラツクを有する磁気デイスクが開示されている。
又、米国特許第4150398号には、光学的デイスク
に関して、レーザによつてフオトレジスト薄膜の
露光を行つて、底部に凹凸を有する溝を形成する
技術が開示されている。しかしながら、これらの
従来技術は、いずれもデータの取り扱いについて
十分正確で敏感な機構をもたらしているとは言え
ない。
特開昭60−261083号公報には、データ記録層
（光学的又は磁気的）の上面又は下面にサーボ制
御トラツク用の金属層を設けた記録媒体が開示さ
れている。金属層の厚さは、容量等の電磁的特性
の変化によつてサーボ情報が読出されるように部
分的に異なつている。この金属層パターンは、ス
パツタ・エツチング、ホト・レジスト・マスクの
使用による選択的エツチング又は選択的付着、或
いは陽極酸化により形成できる。この種のホト・
レジスト・マスクを利用してサーボ金属パターン
を磁気デイスク上に陽極酸化法又は付着法により
形成する方法は、特開昭60−177483号公報及び実
開昭55−128278号にも開示されている。
（光学的又は磁気的）の上面又は下面にサーボ制
御トラツク用の金属層を設けた記録媒体が開示さ
れている。金属層の厚さは、容量等の電磁的特性
の変化によつてサーボ情報が読出されるように部
分的に異なつている。この金属層パターンは、ス
パツタ・エツチング、ホト・レジスト・マスクの
使用による選択的エツチング又は選択的付着、或
いは陽極酸化により形成できる。この種のホト・
レジスト・マスクを利用してサーボ金属パターン
を磁気デイスク上に陽極酸化法又は付着法により
形成する方法は、特開昭60−177483号公報及び実
開昭55−128278号にも開示されている。
Ｃ 発明が解決しようとする問題点
多くの従来的技術は、主として、静止状態に保
持された個別の磁気デイスク基板にサーボ金属パ
ターンを形成するのに適した方法を開示してい
る。
持された個別の磁気デイスク基板にサーボ金属パ
ターンを形成するのに適した方法を開示してい
る。
本発明の主な目的は、多数の磁気デイスク基板
に連続的に金属被膜サーボ・パターンを形成する
方法を提供することである。
に連続的に金属被膜サーボ・パターンを形成する
方法を提供することである。
本発明の他の目的は、磁気デイスクに切断する
前のウエブ状の磁性層基板上に金属皮膜サーボ・
パターンを機械的印刷法及びリフト・オフ法によ
り形成する方法を提供することである。
前のウエブ状の磁性層基板上に金属皮膜サーボ・
パターンを機械的印刷法及びリフト・オフ法によ
り形成する方法を提供することである。
Ｄ 問題点を解決するための手段
本発明によれば、リフト・オフ法による金属被
膜サーボ・パターンの形成方法は、ゼラチン、水
性アクリル重合体、ワニス等の水溶性のレジス
ト・インクで給送中のウエブ上にパターンを連続
的に機械的に印刷する段階、上記ウエブを、乾燥
後及び必要により清浄後に、金属蒸着雰囲気中を
通して全面に金属皮膜を付着する段階並びにこの
金属被膜ウエブを水性溶媒中に浸漬して上記レジ
ストを溶解させ、レジスト上の金属被膜を除去す
る段階を含んでいる。ウエブ上には、レジスト・
パターンの陰画状に金属被膜が残存する。次に、
最終製品であるフロツピイ・デイスクのために金
属被膜のサーボ・パターンの中心にフロツピイ・
デイスクの中央孔の開孔をあける。最後にウエブ
からデイスクを打ち抜く。
膜サーボ・パターンの形成方法は、ゼラチン、水
性アクリル重合体、ワニス等の水溶性のレジス
ト・インクで給送中のウエブ上にパターンを連続
的に機械的に印刷する段階、上記ウエブを、乾燥
後及び必要により清浄後に、金属蒸着雰囲気中を
通して全面に金属皮膜を付着する段階並びにこの
金属被膜ウエブを水性溶媒中に浸漬して上記レジ
ストを溶解させ、レジスト上の金属被膜を除去す
る段階を含んでいる。ウエブ上には、レジスト・
パターンの陰画状に金属被膜が残存する。次に、
最終製品であるフロツピイ・デイスクのために金
属被膜のサーボ・パターンの中心にフロツピイ・
デイスクの中央孔の開孔をあける。最後にウエブ
からデイスクを打ち抜く。
本発明の構成は、次の通りである。
少なくとも片面が磁性層で被覆されるべき又は
既に被覆されている可撓性ウエブのロールを準備
する工程、 該ロールの巻戻しにより連続的に給送中のウエ
ブ上に印刷位置において水溶性レジスト材のマー
クを所定パターン状に連続的に機械的に印刷し、
次に乾燥位置を通して乾燥させてレジスト印刷ウ
エブを形成する工程、 該レジスト・マーク印刷ウエブを金属蒸着雰囲
気中を通して給送してレジスト・マーク印刷ウエ
ブ上に全面に亘つて金属被膜を均一に付着して金
属被膜ウエブを形成する工程、 該金属被膜ウエブを水性媒に浸漬させながら給
送してレジスト・マーク印刷パターンを溶解させ
て該パターンの陰画状に金属被膜をウエブ上に残
存させる工程、 金属被膜サーボ・パターンを形成した後に磁性
層被覆のウエブから所定形態の可撓性デイスクを
打ち抜く工程、 から成る可撓性磁気デイスクに金属被膜のサー
ボ・パターンを形成する方法。
既に被覆されている可撓性ウエブのロールを準備
する工程、 該ロールの巻戻しにより連続的に給送中のウエ
ブ上に印刷位置において水溶性レジスト材のマー
クを所定パターン状に連続的に機械的に印刷し、
次に乾燥位置を通して乾燥させてレジスト印刷ウ
エブを形成する工程、 該レジスト・マーク印刷ウエブを金属蒸着雰囲
気中を通して給送してレジスト・マーク印刷ウエ
ブ上に全面に亘つて金属被膜を均一に付着して金
属被膜ウエブを形成する工程、 該金属被膜ウエブを水性媒に浸漬させながら給
送してレジスト・マーク印刷パターンを溶解させ
て該パターンの陰画状に金属被膜をウエブ上に残
存させる工程、 金属被膜サーボ・パターンを形成した後に磁性
層被覆のウエブから所定形態の可撓性デイスクを
打ち抜く工程、 から成る可撓性磁気デイスクに金属被膜のサー
ボ・パターンを形成する方法。
Ｅ 実施例
本発明の方法の実施において、レジストの印刷
は種々の印刷技法に従つて実行可能である。例え
ば、標準的なオフセツト印刷、転写印刷、イン
ク・ジエツト印刷、グラビア印刷等の技法が用い
られる。
は種々の印刷技法に従つて実行可能である。例え
ば、標準的なオフセツト印刷、転写印刷、イン
ク・ジエツト印刷、グラビア印刷等の技法が用い
られる。
本発明の第１の方法では、所望のサーボ・パタ
ーンと相補的な関係にあるパターンを成すレジス
トを印刷してから金属層を付着させ、レジストを
除去することにより不必要な金属層部分を除去す
るようになつている。一方、第２の方法では、最
初に金属層を付着させてから、所望のサーボ・パ
ターンに対応するパターンを成すレジストを印刷
し、レジストによつて覆われていない不必要な金
属層 部分をエツチングにより除去するようになつてい
る。
ーンと相補的な関係にあるパターンを成すレジス
トを印刷してから金属層を付着させ、レジストを
除去することにより不必要な金属層部分を除去す
るようになつている。一方、第２の方法では、最
初に金属層を付着させてから、所望のサーボ・パ
ターンに対応するパターンを成すレジストを印刷
し、レジストによつて覆われていない不必要な金
属層 部分をエツチングにより除去するようになつてい
る。
金属層は１層構造及び２層構造のいずれでもよ
く、種々の金属が使用可能である。
く、種々の金属が使用可能である。
これから詳しく説明する実施例は前述の第１の
方法に従つたものである。サーボ・パターン金属
層の形成のみならず、ウエブから個々の記録媒体
を形成するまでのプロセスの概要は次のとおりで
ある。
方法に従つたものである。サーボ・パターン金属
層の形成のみならず、ウエブから個々の記録媒体
を形成するまでのプロセスの概要は次のとおりで
ある。
(1) 磁気記録媒体用の一巻きのウエブを印刷装置
にセツトする。
にセツトする。
(2) ウエブにレジストを印刷する。
(3) 印刷後のウエブを乾燥器に通す。
(4) ウエブを真空処理室に入れる。
(5) プラズマによつてウエブを清浄にする。
(6) ウエブに第１の金属層（付着促進層）を付着
させる。
させる。
(7) 第１の金属層の上に第２の金属層を付着させ
る。
る。
(8) 現像液を用いて金属層を伴つたレジストを除
去する。
去する。
(9) ウエブ上の金属層のパターンの中心に孔をあ
ける。
ける。
(10) ウエブからデイスクを打ち抜く。
第１図は磁気記録媒体用ウエブ１にレジスト・
パターンを印刷するプロセスの第１の工程を示し
ている。ウエブ１は供給ロール２としてローラ３
に巻かれており、そこから連続的に給送される。
ウエブ１はポリエチレンテレフタレートの片面又
は両面に磁性粒子を塗布して成る標準的なフロツ
ピイ・デイスク用材料である。
パターンを印刷するプロセスの第１の工程を示し
ている。ウエブ１は供給ロール２としてローラ３
に巻かれており、そこから連続的に給送される。
ウエブ１はポリエチレンテレフタレートの片面又
は両面に磁性粒子を塗布して成る標準的なフロツ
ピイ・デイスク用材料である。
ウエブ１はオフセツト印刷装置５へ送られる。
オフセツト印刷装置５はインク・スプール５ａ、
印刷ローラ５ｂ、案内ローラ５ｃを有する。容器
７は印刷のためのレジスト（ゼラチン）を溜めて
いる。動作中、インク・スプール５ａは容器７内
で回転して、レジストによつて覆われる。そし
て、スプール５ａの周りのレジストは印刷ローラ
５ｂへ転送され、更にそこからウエブ１の上にレ
ジスト・パターンとして転写される。案内ローラ
５ｃは印刷ローラ５ｂに関連して給送兼加圧手段
として働く。
オフセツト印刷装置５はインク・スプール５ａ、
印刷ローラ５ｂ、案内ローラ５ｃを有する。容器
７は印刷のためのレジスト（ゼラチン）を溜めて
いる。動作中、インク・スプール５ａは容器７内
で回転して、レジストによつて覆われる。そし
て、スプール５ａの周りのレジストは印刷ローラ
５ｂへ転送され、更にそこからウエブ１の上にレ
ジスト・パターンとして転写される。案内ローラ
５ｃは印刷ローラ５ｂに関連して給送兼加圧手段
として働く。
印刷剤のウエブ１は、レジストの硬化（架橋で
はない）のために乾燥器１１を通過する。乾燥器
１１は熱源１１ｂ及び吸気部１１ｃを有する。乾
燥されたウエブ１はローラ１７の回りに巻取りロ
ール１５として巻きつけられる。途中にあるロー
ラ９及び１３は、テープに対する不必要な張力の
印加及びそれに基くテープの伸長なしにウエブ１
を適正に送るための遊びローラである。
はない）のために乾燥器１１を通過する。乾燥器
１１は熱源１１ｂ及び吸気部１１ｃを有する。乾
燥されたウエブ１はローラ１７の回りに巻取りロ
ール１５として巻きつけられる。途中にあるロー
ラ９及び１３は、テープに対する不必要な張力の
印加及びそれに基くテープの伸長なしにウエブ１
を適正に送るための遊びローラである。
当技術分野の専門家にとつて、第１図のプロセ
スを実行するために種々の印刷機構を使用しうる
ことは容易に理解される筈である。例えば、レジ
スト・パターンをウエブ上に形成するには、余分
なレジスタを除去する接触印刷、レジストの露光
及び現象による印刷、ジエツト印刷等の技法が使
用可能である。又、ゼラチン、水溶性アクリル重
合体、ワニス・レジスト等の種々のレジストが使
用可能である。
スを実行するために種々の印刷機構を使用しうる
ことは容易に理解される筈である。例えば、レジ
スト・パターンをウエブ上に形成するには、余分
なレジスタを除去する接触印刷、レジストの露光
及び現象による印刷、ジエツト印刷等の技法が使
用可能である。又、ゼラチン、水溶性アクリル重
合体、ワニス・レジスト等の種々のレジストが使
用可能である。
第２図は第１図の工程において印刷されたウエ
ブ１ａに関する表面処理及び金属付着の工程を示
している。処理装置２１は整列した３つの室２
３，３７，３９を有する。３つの室は、それぞれ
に関連した第１、第２及び第３のポンプ（図示せ
ず）によつて排気されて真空状態に維持される。
ブ１ａに関する表面処理及び金属付着の工程を示
している。処理装置２１は整列した３つの室２
３，３７，３９を有する。３つの室は、それぞれ
に関連した第１、第２及び第３のポンプ（図示せ
ず）によつて排気されて真空状態に維持される。
第１図においてロール１５として巻取られたウ
エブ１ａは、第２図の最初の室２３においてロー
ラ２５に接着され、そこから給送される。遊びロ
ーラ２７はウエブ１の張力を適正に維持する。室
２３において、ウエブ１ａはRF酸素プラズマに
よる表面処理を受ける。酸素は供給管２９を通し
て室内に供給され、プラズマ雰囲気はRFプラズ
マ発生器３１によつて生成される。プラズマ雰囲
気中での処理により、ウエブの表面の汚染物は除
去され、後でウエブに対して金属を付着させる際
の付着力が改善される。
エブ１ａは、第２図の最初の室２３においてロー
ラ２５に接着され、そこから給送される。遊びロ
ーラ２７はウエブ１の張力を適正に維持する。室
２３において、ウエブ１ａはRF酸素プラズマに
よる表面処理を受ける。酸素は供給管２９を通し
て室内に供給され、プラズマ雰囲気はRFプラズ
マ発生器３１によつて生成される。プラズマ雰囲
気中での処理により、ウエブの表面の汚染物は除
去され、後でウエブに対して金属を付着させる際
の付着力が改善される。
ウエブ１ａは次に差動ポンプ室３７を通過す
る。この際、ウエブ１ａは隔壁３５及び４１の開
口３３及び４３を通り抜ける。ウエブ１ａは次の
室３９に進み、ここでは、先ずRF蒸着装置４５
の働きによりウエブ１ａの磁性層上に付着促進層
としての第１の金属層が形成される。付着促進層
はチタン、クロム、アルミニウム、マグネシウ
ム、マンガン、シリコン等のうちから選択される
材料から成り、50Åの厚さを有する。
る。この際、ウエブ１ａは隔壁３５及び４１の開
口３３及び４３を通り抜ける。ウエブ１ａは次の
室３９に進み、ここでは、先ずRF蒸着装置４５
の働きによりウエブ１ａの磁性層上に付着促進層
としての第１の金属層が形成される。付着促進層
はチタン、クロム、アルミニウム、マグネシウ
ム、マンガン、シリコン等のうちから選択される
材料から成り、50Åの厚さを有する。
続いて、もう１つのRF蒸着装置４７の働きに
より、付着促進層の上に厚い第２の金属層が形成
される。この金属層は耐摩耗性及び耐食性を有す
る金属から成り、約100乃至1000Åの厚さを有す
る。金属材料としては、チタン、すず、タンタ
ル、バナジウム、パラジウム、白金、タングステ
ン、ニオブ、アルミニウム、クロム、ニツケル
等、あるいは、これらの金属の合金である
CuAg、CuNi、AgPd、TiAl等が使用可能であ
る。１つの例として、クロムから成る厚さ10Åの
付着促進層の上に、チタンから成る厚さ300Åの
金属層が蒸着される。これらの層の蒸着にあた
り、層の厚さの制御のために光学的反射率モニタ
を使用することもできる。ウエブ１ａは最終的に
ロール５３としてローラ５１の周りに巻きつけら
れる。
より、付着促進層の上に厚い第２の金属層が形成
される。この金属層は耐摩耗性及び耐食性を有す
る金属から成り、約100乃至1000Åの厚さを有す
る。金属材料としては、チタン、すず、タンタ
ル、バナジウム、パラジウム、白金、タングステ
ン、ニオブ、アルミニウム、クロム、ニツケル
等、あるいは、これらの金属の合金である
CuAg、CuNi、AgPd、TiAl等が使用可能であ
る。１つの例として、クロムから成る厚さ10Åの
付着促進層の上に、チタンから成る厚さ300Åの
金属層が蒸着される。これらの層の蒸着にあた
り、層の厚さの制御のために光学的反射率モニタ
を使用することもできる。ウエブ１ａは最終的に
ロール５３としてローラ５１の周りに巻きつけら
れる。
第３図は第２図の被覆プロセスの結果として得
られたロール５３の金属化ウエブ１ｂに関するレ
ジスト除去工程を示すものである。ウエブ１ｂは
遊びロール５５及び５７を通過して容器５９内の
現像液に浸される。現像液は、使用されている特
定のレジストに応じて選択される。例えば、ゼラ
チン・レジストが使用されている場合、レジスト
及びその上の金属層を剥取るためには、湯が使用
され、レジストの存在しない部分に付着している
金属層は残存する。遊びローラ６１及び６３はウ
エブ１ｂを現像液中に維持する。現像後のウエブ
１ｂは遊びローラ６５及び６９によつて案内され
て乾燥器７３の下を通過し、最終的にロール６９
としてローラ７１の周りに巻きつけられる。その
後、通常の打き抜き技法によつてロール６９のウ
エブから可撓性デイスクが形成される。
られたロール５３の金属化ウエブ１ｂに関するレ
ジスト除去工程を示すものである。ウエブ１ｂは
遊びロール５５及び５７を通過して容器５９内の
現像液に浸される。現像液は、使用されている特
定のレジストに応じて選択される。例えば、ゼラ
チン・レジストが使用されている場合、レジスト
及びその上の金属層を剥取るためには、湯が使用
され、レジストの存在しない部分に付着している
金属層は残存する。遊びローラ６１及び６３はウ
エブ１ｂを現像液中に維持する。現像後のウエブ
１ｂは遊びローラ６５及び６９によつて案内され
て乾燥器７３の下を通過し、最終的にロール６９
としてローラ７１の周りに巻きつけられる。その
後、通常の打き抜き技法によつてロール６９のウ
エブから可撓性デイスクが形成される。
相次ぐ工程におけるウエブの断面構造は第４Ａ
図乃至第４Ｄ図に示されている。第４Ａ図はポリ
エチレンテレフタレートから成る基体８１及び磁
性層（磁気記録層）８３を有する初期状態のウエ
ブの断面図である。第４Ｂ図は第１図の工程によ
りレジスト８５をオフセツト印刷した結果のウエ
ブの構造を示している。第４Ｃ図は第２図の工程
により第４Ｂ図の構造に金属層８７ａ及び８７ｂ
を付着させた状態を示している。第４Ｄ図は第３
図の工程により第４Ｃ図の構造からレジスト８５
及びその上の金属層８７ｂを剥取つた状態を示し
ている。磁性層８３に接している金属層８７ａは
残存している。
図乃至第４Ｄ図に示されている。第４Ａ図はポリ
エチレンテレフタレートから成る基体８１及び磁
性層（磁気記録層）８３を有する初期状態のウエ
ブの断面図である。第４Ｂ図は第１図の工程によ
りレジスト８５をオフセツト印刷した結果のウエ
ブの構造を示している。第４Ｃ図は第２図の工程
により第４Ｂ図の構造に金属層８７ａ及び８７ｂ
を付着させた状態を示している。第４Ｄ図は第３
図の工程により第４Ｃ図の構造からレジスト８５
及びその上の金属層８７ｂを剥取つた状態を示し
ている。磁性層８３に接している金属層８７ａは
残存している。
本発明に従つてサーボ制御パターンを形成した
可撓性記録媒体の例は、厚さ2.54×10-10cmのポ
リエチレンテレフタレート基体上に、クロム添加
ガンマ酸化鉄粒子を含む厚さ2.29×10-3cmの磁性
層を有するものである。パターンは標準的な黒い
ゴム性インクを用いる通常のオフセツト印刷技法
により磁性層上に印刷された。パターンの線及び
スペースの幅は2.54×10-3cmであつた。パターン
は１時間にわたり空気中で乾燥され、その後、厚
さ300Åのチタン層がパターン印刷面に付着させ
られた。次に、インク及びその上のチタン層を除
去するために、ウエブは超音波振動を受けるキシ
レン中に30秒間浸された。黒い磁性層上に残存す
るチタン層のパターンは５乃至45％の反射率変調
をもたらすことが、波長6328Åのレーザー光を用
いる単純な光学的検出器によつて検出された。ウ
エブより打ち抜いた８インチのデイスクを回転さ
せながら、光学的検出器によつてサーボ制御信号
を得ることができた。
可撓性記録媒体の例は、厚さ2.54×10-10cmのポ
リエチレンテレフタレート基体上に、クロム添加
ガンマ酸化鉄粒子を含む厚さ2.29×10-3cmの磁性
層を有するものである。パターンは標準的な黒い
ゴム性インクを用いる通常のオフセツト印刷技法
により磁性層上に印刷された。パターンの線及び
スペースの幅は2.54×10-3cmであつた。パターン
は１時間にわたり空気中で乾燥され、その後、厚
さ300Åのチタン層がパターン印刷面に付着させ
られた。次に、インク及びその上のチタン層を除
去するために、ウエブは超音波振動を受けるキシ
レン中に30秒間浸された。黒い磁性層上に残存す
るチタン層のパターンは５乃至45％の反射率変調
をもたらすことが、波長6328Åのレーザー光を用
いる単純な光学的検出器によつて検出された。ウ
エブより打ち抜いた８インチのデイスクを回転さ
せながら、光学的検出器によつてサーボ制御信号
を得ることができた。
実施例では、サーボ・パターンは磁性層上に形
成されたが、本発明はこれに限定されるわけでは
ないことに注意されたい。即ち、サーボ・パター
ンは基体上に磁性層が形成される前及び後のいず
れにおいても形成可能である。パターンは厚さに
基く光学的変化又は容量変化をもたらすので、ヘ
ツドの位置決めに際して、これらの変化は磁性層
の上及び下のいずれにおいても同様に検出可能で
ある。
成されたが、本発明はこれに限定されるわけでは
ないことに注意されたい。即ち、サーボ・パター
ンは基体上に磁性層が形成される前及び後のいず
れにおいても形成可能である。パターンは厚さに
基く光学的変化又は容量変化をもたらすので、ヘ
ツドの位置決めに際して、これらの変化は磁性層
の上及び下のいずれにおいても同様に検出可能で
ある。
Ｆ 発明の効果
本発明によれば、磁気記録媒体用のサーボ・パ
ターン金属層を簡単且つ効率良く形成することが
できる。
ターン金属層を簡単且つ効率良く形成することが
できる。
第１図は磁気記録媒体用ウエブにレジスト・パ
ターンを印刷する工程を示す図、第２図は第１図
の工程を経たウエブに関する表面処理及び金属層
付着の工程を示す図、第３図は第２図の工程を経
たウエブに関するレジスト除去工程を示す図、第
４Ａ図、第４Ｂ図、第４Ｃ図及び第４Ｄ図は相次
ぐ工程におけるウエブ構造の断面図である。 １，１ａ及び１ｂ……磁気記録媒体用ウエブ、
５……オフセツト印刷装置、１１……乾燥器、２
１……処理装置、３１……RFプラズマ発生器、
４５及び４７……RF蒸着装置、５９……現像装
置、５９，７３……乾燥器。
ターンを印刷する工程を示す図、第２図は第１図
の工程を経たウエブに関する表面処理及び金属層
付着の工程を示す図、第３図は第２図の工程を経
たウエブに関するレジスト除去工程を示す図、第
４Ａ図、第４Ｂ図、第４Ｃ図及び第４Ｄ図は相次
ぐ工程におけるウエブ構造の断面図である。 １，１ａ及び１ｂ……磁気記録媒体用ウエブ、
５……オフセツト印刷装置、１１……乾燥器、２
１……処理装置、３１……RFプラズマ発生器、
４５及び４７……RF蒸着装置、５９……現像装
置、５９，７３……乾燥器。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 少なくとも片面が磁性層で被覆されるべき又
は既に被覆されている可撓性ウエブのロールを準
備する工程、 該ロールの巻戻しにより連続的に給送中のウエ
ブ上に印刷位置において水溶性レジスト材のマー
クを所定パターン状に連続的に機械的に印刷し、
次に乾燥位置を通して乾燥させてレジスト印刷ウ
エブを形成する工程、 該レジスト・マーク印刷ウエブを金属蒸着雰囲
気中を通して給送してレジスト・マーク印刷ウエ
ブ上に全面に亘つて金属被膜を均一に付着して金
属被膜ウエブを形成する工程、 該金属被膜ウエブを水性溶媒に浸漬させながら
給送してレジスト・マーク印刷パターンを溶解さ
せて該パターンの陰画状に金属被膜をウエブ上に
残存させる工程、 金属被膜サーボ・パターンを形成した後に、磁
性層被膜のウエブから所定形態の可撓性デイスク
を打ち抜く工程、 から成る可撓性磁気デイスクに金属被膜のサー
ボ・パターンを形成する方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US06/814,349 US4684547A (en) | 1985-12-27 | 1985-12-27 | Format patterning method for magnetic recording media |
| US814349 | 1985-12-27 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62170085A JPS62170085A (ja) | 1987-07-27 |
| JPH0529986B2 true JPH0529986B2 (ja) | 1993-05-06 |
Family
ID=25214800
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61243324A Granted JPS62170085A (ja) | 1985-12-27 | 1986-10-15 | 金属被膜サーボ・パターンの形成方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4684547A (ja) |
| EP (1) | EP0230566B1 (ja) |
| JP (1) | JPS62170085A (ja) |
| DE (1) | DE3684288D1 (ja) |
Families Citing this family (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4737877A (en) * | 1986-05-05 | 1988-04-12 | International Business Machines Corporation | Structure to provide optical and capacitive contrast on magnetic recording disk |
| JPH03242983A (ja) * | 1990-02-06 | 1991-10-29 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 磁気構造体の製造方法 |
| US5225372A (en) * | 1990-12-24 | 1993-07-06 | Motorola, Inc. | Method of making a semiconductor device having an improved metallization structure |
| JPH07273428A (ja) * | 1994-03-29 | 1995-10-20 | Olympus Optical Co Ltd | レジストパターン形成に基く加工方法並びにレジストパターン作成装置 |
| US5604013A (en) * | 1994-06-10 | 1997-02-18 | Mitsubishi Chemical Corporation | Magnetic recording medium and recording/reproducing method |
| WO1996006430A1 (en) * | 1994-08-22 | 1996-02-29 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Differential-speed gravure coating of magnetizable layers in the manufacture of magnetic recording media |
| US7153366B1 (en) | 1998-03-24 | 2006-12-26 | Quantum Corporation | Systems and method for forming a servo pattern on a magnetic tape |
| US7029726B1 (en) | 1999-07-27 | 2006-04-18 | Quantum Corporation | Method for forming a servo pattern on a magnetic tape |
| US6940676B1 (en) | 2000-06-07 | 2005-09-06 | Quantum Corporation | Triple push-pull optical tracking system |
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| US6676843B2 (en) * | 2001-04-26 | 2004-01-13 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Magnetically patterning conductors |
| US6753130B1 (en) | 2001-09-18 | 2004-06-22 | Seagate Technology Llc | Resist removal from patterned recording media |
| NL1020312C2 (nl) * | 2002-04-05 | 2003-10-07 | Otb Groep B V | Werkwijze en inrichting voor het vervaardigen van een display, zoals bijvoorbeeld een polymere OLED display, een display en een substraat ten gebruike bij de werkwijze. |
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| US7187515B2 (en) | 2003-02-05 | 2007-03-06 | Quantum Corporation | Method and system for tracking magnetic media with embedded optical servo tracks |
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Family Cites Families (3)
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| JPS5845090B2 (ja) * | 1977-04-26 | 1983-10-07 | ソニー株式会社 | 磁気記録媒体の製法 |
| JPS55128278U (ja) * | 1979-03-02 | 1980-09-10 | ||
| JPS59157843A (ja) * | 1983-02-28 | 1984-09-07 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体製造方法 |
-
1985
- 1985-12-27 US US06/814,349 patent/US4684547A/en not_active Expired - Lifetime
-
1986
- 1986-10-15 JP JP61243324A patent/JPS62170085A/ja active Granted
- 1986-12-02 DE DE8686116726T patent/DE3684288D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1986-12-02 EP EP86116726A patent/EP0230566B1/en not_active Expired
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS579925U (ja) * | 1980-06-16 | 1982-01-19 | ||
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| JPS60261083A (ja) * | 1984-05-24 | 1985-12-24 | インタ−ナシヨナル・ビジネス・マシ−ンズ・コ−ポレ−シヨン | デ−タ記録媒体 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62170085A (ja) | 1987-07-27 |
| US4684547A (en) | 1987-08-04 |
| EP0230566A2 (en) | 1987-08-05 |
| EP0230566A3 (en) | 1988-10-19 |
| DE3684288D1 (de) | 1992-04-16 |
| EP0230566B1 (en) | 1992-03-11 |
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