JPH0529680A - 積層型変位素子およびその製造方法 - Google Patents

積層型変位素子およびその製造方法

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JPH0529680A
JPH0529680A JP3184958A JP18495891A JPH0529680A JP H0529680 A JPH0529680 A JP H0529680A JP 3184958 A JP3184958 A JP 3184958A JP 18495891 A JP18495891 A JP 18495891A JP H0529680 A JPH0529680 A JP H0529680A
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internal electrodes
forming
laminated
strip
displacement element
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JP3184958A
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English (en)
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Takahiro Sometsugu
孝博 染次
Junichi Watanabe
渡辺  純一
Yoshiyuki Watabe
嘉幸 渡部
Shigeru Sadamura
茂 定村
Kiyomi Tanaka
清巳 田中
Kazuo Kazama
和夫 風間
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Original Assignee
Hitachi Metals Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【目的】 積層体の側面に露出させた内部電極の側端部
を外部電極を介して電気的に接続する場合の信頼性を向
上させた積層型変位素子およびその製造方法を提供す
る。 【構成】 電気機械変換材料からなる薄板1,2と導電
材料からなる内部電極3,4とを各々複数個交互に積層
し、1層おきの内部電極の側端部に導電材料からなる外
部電極9,10を電気的に接続してなる積層型変位素子
において、1層おきの内部電極の側端部を薄板の側端部
から突出させると共に、この突出部を内部電極の厚さ寸
法より大なる厚さ寸法を有し横断面形状を土筆状若しく
はきのこ状に形成し、前記突出部間の他の内部電極の側
端部およびその近傍に絶縁層7,8を設け、突出部の周
辺および絶縁層の外方に外部電極を設ける。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、産業用ロボットのアク
チュエータ、超音波モータ等の駆動源として使用される
積層型変位素子およびその製造方法に関するものであ
り、特に積層体の側面に露出させた内部電極の側端部を
外部電極を介して電気的に接続する場合の信頼性を向上
させた積層型変位素子およびその製造方法に関するもの
である。
【0002】
【従来の技術】縦効果を利用した積層型変位素子の構造
としては、歪発生時における応力集中を防止するため、
積層型変位素子の横断面寸法と同一の寸法の平面寸法の
内部電極を有する、所謂全面電極構造が有効であると言
われている(例えば特開昭58−196068号公報参照)。ま
た低電圧で高い電界を発生させ、大きな歪を得るために
は、内部電極相互の間隔を 100μm 以下に形成すること
が必要である。上記のような素子横断面寸法と同一の平
面寸法を有する内部電極を、1層おきに電気的に並列接
続するには特別の工夫が必要である。すなわち、積層コ
ンデンサの作成方法を応用して形成した積層型変位素子
は、隣接する内部電極間の間隔が数十μmないし数百μm
に過ぎず、更に側面に露出している内部電極の厚さは
僅か数μmであるため、これらの内部電極の端部から1
層おきに電極若しくはリード線を取り出すことは極めて
困難な作業を伴うのである。
【0003】上記のような困難を解決する方法として、
特開昭60−196981号公報および特公平2-56826号公報に
は、上記構成の電気機械変換材料からなる積層体の側面
に露出した内部電極の側端部に、メッキにより1層おき
に金属を帯状に析出させ、この金属析出部を介して外部
電極を接続することを内容とする積層型変位素子の製造
方法が提案されている。
【0004】図18は上記従来の製造方法による積層型
変位素子の例を示す要部縦断面説明図であり、理解を容
易にするため構成を模式化し、かつ断面のハッチングを
省略して示してある。図18において、1,2は薄板で
あり、圧電セラミック材料のような電気機械変換材料に
よって形成する。3,4は内部電極であり、導電材料に
よって薄膜状に形成し、前記薄板1,2と交互に積層
し、積層セラミックコンデンサの製造技術の応用により
柱状の積層体に形成する。1a,2aは各々保護板であ
り、薄板1,2と同様の材料によって形成し、積層体の
上下端面に固着する。
【0005】次に5,6は帯状体であり、例えばニッケ
ル等のメッキ金属からなり、内部電極3,4の側端部に
1層おきに帯状に析出させて形成する。7,8は絶縁層
であり、前記帯状体5,5間若しくは6,6間に形成す
る。9,10は各々外部電極であり、各々複数個の帯状
体5および6を電気的に接続する。11,12はリード
線であり、各々外部電極9,10と電気的に接続する。
【0006】図19は従来の製造方法における積層体ブ
ロックを示す斜視図、図20および図21は各々従来の
製造方法の工程における積層体の要部縦断面説明図であ
り、同一部分は前記図18と同一の参照符号で示す。ま
ず図19において、薄板1,2と内部電極3,4とを夫
々長方形状に形成して交互に積層し、積層セラミックコ
ンデンサの技術を応用して積層体を作製する。この場
合、長手方向の外周面を形成する2個の対向側面には、
全内部電極3,4の側端部が露出し、他の対向する2個
の対向側面には、各々内部電極3,4の側端部が1層お
きに露出するように形成する。13,14は各々仮設外
部電極であり、各々1層おきに露出する内部電極3,4
の側端部と電気的に接続する。
【0007】次に図19に示す積層体と対向電極用金属
板(図示せず)とを、例えばニッケルのメッキ浴中に浸
漬し、対向電極用金属板から仮設外部電極13若しくは
14に向けて直流電圧を印加すると、メッキ浴中のプラ
スに帯電したニッケルイオンが内部電極3若しくは4上
に析出し、帯状体5,6(前記図18参照)が形成され
る。図20は内部電極3の側端部に形成された帯状体5
を示している。
【0008】図20において、帯状体5を形成した側面
に絶縁層7を形成する。このような絶縁層7を形成する
には、ペースト状の絶縁材料を塗布後、加熱焼成すれば
よい。次に絶縁層7の表面を研磨加工によって削り、帯
状体5を露出させる。上記のように形成した積層体を、
図19において仮設外部電極13,14を装着した側面
と平行な面で複数個に切断する。そして図21に示す帯
状体5を露出させた側面に外部電極9を形成する。なお
図21には図示省略したが、対向する他の側面にも同様
に外部電極を形成する。上記により図18に示すよう
に、内部電極3,4が1層おきに接続された積層型変位
素子が得られる。従ってリード線11,12を介して外
部電極9,10に電圧を印加すれば、内部電極3,4へ
の電圧印加により、薄板1,2を変位させるから、積層
型変位素子を駆動することができるのである。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】一般に電気機械変換材
料は酸化雰囲気内において焼成されるため、内部電極
3,4を構成する材料としては、銀/パラジウム系若し
くは白金等の酸化しにくい貴金属が使用される。一方外
部電極9,10と接続すべき帯状体5,6を構成する材
料としては、メッキによって析出させる金属をイオン化
する必要があるため、卑金属が使用される。従って上記
従来の積層型変位素子の製造方法においては、特に外部
電極9,10を形成するために積層体を高温度の環境に
おいた場合には、前記析出金属からなる帯状体5,6が
酸化してしまい、外部電極9,10との間の電気的導通
が確保できなくなる。また極端な場合には帯状体5,6
の酸化に起因する体積膨張のため、亀裂が発生し、内部
電極3,4若しくは外部電極9,10からの剥離、断線
という非所望な現象を惹起するという問題がある。
【0010】上記問題点を解決するために、外部電極
9,10の形成処理を還元雰囲気中において行なったと
ころ、電気機械変換材料からなる薄板1,2も同時に還
元されてしまい、積層型変位素子として必要な特性を充
分に発揮できないという問題点が認められた。また帯状
体5,6を形成する材料として、酸化しにくい貴金属を
使用する手段も考えられるが、例えば銀を使用した場合
には、マイグレーションによる絶縁抵抗の低下という問
題点があり、白金やパラジウム等を使用した場合には、
メッキ液に薄板1,2が侵されてしまうという問題点が
ある。一方絶縁層7,8および/または外部電極9,1
0を形成する材料として、比較的低温で形成可能な有機
樹脂系のものを使用することも考えられるが、長期間の
使用若しくは水分による材質の劣化や、高温雰囲気にお
ける機械的強度の低下という問題点があるため、構成材
料としては不適である。
【0011】次に上記従来方法においては、絶縁層7,
8の厚さが、メッキによって析出して形成される帯状体
5,6の厚さ若しくは高さに依存するため、充分な厚さ
寸法の絶縁層7,8を得ることができないという問題点
がある。図22および図23は各々従来の積層型変位素
子の絶縁層の近傍を示す要部縦断面説明図であり、同一
部分は前記図18ないし図21と同一の参照符号で示
す。
【0012】まず図22において、絶縁層7の厚さ寸法
をt、帯状体5と電気的に極性の異なる内部電極4との
距離をwとすると、絶縁性の観点から距離wは大である
ことが望ましい。しかしながら上記距離wを大にするた
めに、帯状体5の幅dを小さくした場合には、メッキ法
により形成される帯状体5の高さ寸法も低くなり、絶縁
層7に充分な厚さ寸法tを得ることができず、絶縁耐圧
が低くなる。一方図23に示すように、絶縁層7の厚さ
寸法tを大きくするために、帯状体5を大きく成長させ
た場合には、帯状体5の幅寸法dも大となり、帯状体5
と内部電極4との距離wが小さくなり、充分な絶縁距離
若しくは沿面距離が得られないという問題点がある。更
に上記のような方法においては、帯状体5と内部電極4
(図示省略したが図18に示す帯状体6と内部電極3も
同様)との接触面積が極めて小であり、接着強度が小さ
いために、製造工程中において剥離してしまうという問
題点がある。
【0013】上記の問題点を解決するために、積層体を
構成する薄板1,2をエッチング処理して内部電極3,
4の側端部を突出させることを内容とする提案がされて
いる(特開平1-300577号公報参照)。このような手段に
より、前記図19に示す仮設外部電極13,14と内部
電極3,4との電気的接触が良好になると共に、メッキ
金属の内部電極3,4への固着が確保され、帯状体5,
6の剥離を防止でき、また図22および図23に示す絶
縁層7の厚さ寸法tを増大させることができる。
【0014】しかしながら上記手段によっても、図18
および図21に示す外部電極9,10の形成を大気中で
行なった場合には、帯状体5,6が酸化するため、外部
電極13,14との電気的導通が確保できないという問
題点が残る。また内部電極3,4の厚さ寸法は3〜5μ
m という極めて微細な寸法であるため、その突出長さに
は自から限界があり、あまりに突出長さを大に設定した
場合には、その突出部分に倒れ、変形等が発生し、隣接
する異極性の内部電極3または4との間の距離w(図2
2および図23参照)が小となるため好ましくない。更
に内部電極3,4の突出長さをあまりに大にすること
は、薄板1,2のエッチング時間が長くなって生産性を
低下させると共に、歪発生に寄与すべき薄板1,2の有
効面積を減少させるという問題点がある。
【0015】本発明は上記従来技術に存在する問題点を
解決し、積層体の側面に露出させた内部電極の側端部を
外部電極を介して電気的に接続する場合の信頼性を向上
させた積層型変位素子およびその製造方法を提供するこ
とを目的とする。
【0016】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、第1の発明においては、電気機械変換材料からなる
薄板と導電材料からなる内部電極とを各々複数個交互に
積層し、1層おきの内部電極の側端部に導電材料からな
る外部電極を電気的に接続してなる積層型変位素子にお
いて、1層おきの内部電極の側端部を薄板の側端部から
突出させると共に、この突出部を内部電極の厚さ寸法よ
り大なる厚さ寸法を有し横断面形状を土筆状若しくはき
のこ状に形成し、前記突出部間の他の内部電極の側端部
およびその近傍に絶縁層を設け、突出部の周辺および絶
縁層の外方に外部電極を設ける、という技術的手段を採
用した。
【0017】次に第2の発明においては、電気機械変換
材料からなる薄板と導電材料からなる内部電極とが各々
複数個交互に積層され、全内部電極の側端部が露出する
2個の対向側面と、1層おきに内部電極の側端部が露出
する2個の対向側面とを有する積層体を作成する工程
と、1層おきに内部電極の側端部が露出する2個の対向
側面に仮設外部電極を形成する工程と、一方の仮設外部
電極を陰極としてメッキにより全内部電極の側端部が露
出する側面に1層おきにメッキ金属からなる帯状体を内
部電極と一体に形成する工程と、帯状体を形成した側面
に絶縁層を形成する工程と、前記帯状体を露出させる工
程と、露出させた帯状体を電気的に接続する外部電極を
形成する工程とを含む積層型変位素子の製造方法におい
て、絶縁層および/または外部電極を形成する工程を非
酸化性雰囲気中で行なう、という技術的手段を採用し
た。
【0018】更に第3の発明においては、電気機械変換
材料からなる薄板と導電材料からなる内部電極とが各々
複数個交互に積層され、全内部電極の側端部が露出する
2個の対向側面と、1層おきに内部電極の側端部が露出
する2個の対向側面とを有する積層体を作成する工程
と、1層おきに内部電極の側端部が露出する2個の対向
側面に仮設外部電極を形成する工程と、一方の仮設外部
電極を陰極としてメッキにより全内部電極の側端部が露
出する側面に1層おきにメッキ金属からなる帯状体を内
部電極と一体に形成する工程と、帯状体を形成した側面
に絶縁層を形成する工程と、前記帯状体を露出させる工
程と、露出させた帯状体を電気的に接続する外部電極を
形成する工程とを含む積層型変位素子の製造方法におい
て、内部電極の側端部を薄板の側端部から突出させる工
程と、帯状体の露出部からメッキ金属を除去し内部電極
構成材料とメッキ金属との合金層を露出させる工程とを
含む、という技術的手段を採用した。
【0019】また更に第4の発明においては、上記第3
の発明における技術的手段に、帯状体を形成後帯状体間
に存在する他の内部電極の突出部の少なくとも一部を除
去する工程を含む、という技術的手段を付加した。
【0020】なお第3の発明および第4の発明におい
て、絶縁層および/または外部電極を形成する工程を非
酸化性雰囲気中で行なうことができる。
【0021】
【作用】上記の構成により、第1の発明においては、内
部電極の突出部が外部電極によって強固に抱持されて所
謂アンカー作用を奏し、外力による切断、剥離作用に対
しても充分に対抗することができる。また内部電極の突
出部は、メッキ金属との間で合金層が形成された横断面
土筆状若しくはきのこ状であるから、メッキ金属に比べ
て酸化されにくいのみならず、表面積が大であるため、
外部電極との電気的接触度を向上させ得る。
【0022】次に第2の発明においては、絶縁層を形成
する工程をArガス若しくはN2 ガスのような非酸化性雰
囲気中で行なうことにより、帯状体の表面に非所望な酸
化物を形成することがないから、内部電極と外部電極と
の電気的導通を確保することができる。
【0023】また第3の発明においては、帯状体の露出
部からメッキ金属を除去することによって、メッキ金属
の酸化膜の形成を防止し、内部電極と外部電極との電気
的導通を確保することができる。
【0024】第4の発明においては、帯状体間に存在す
る他の内部電極の突出部の少なくとも一部を除去するこ
とにより、絶縁層の厚さの増大が可能であり、絶縁耐圧
を増大させることができる。
【0025】
【実施例】図1ないし図8は夫々本発明の第1実施例に
おける製造工程を示す図であり、同一部分は前記図18
ないし図23と同一の参照符号で示す。図1は薄板1,
2および内部電極3,4を示す要部平面図、図2,図3
および図8は夫々積層体ブロックを示す斜視図、図4な
いし図7は夫々製造工程における積層体の要部縦断面説
明図である。
【0026】まずPb(Zr,Ti)O3 −Pb(Mg,Nb)O3
を主成分とする電気機械変換材料からなる粉末に、有機
バインダとしてPVB、可塑剤としてBPBG、有機溶
剤としてトリクレンを各々添加して混合し、スラリーを
作製する。このスラリーをドクターブレード法によりマ
イラーフィルム上に供給し、厚さ100μm のシートを
形成する。次にこのシートをフィルムから剥離し、図1
に示すように薄板1の片面に銀−パラジウム若しくは白
金からなるペーストを印刷して内部電極3,4とした。
図1において、(a) は薄板1の左端縁には内部電極3を
欠如し、(b) は薄板2の右端縁には内部電極4を欠如し
た態様のものを示す。
【0027】次に図1に示す薄板1,2を交互に数十枚
積層して加熱圧着後、脱バインダ処理を行ない、110
0〜1250℃で1〜5時間焼成して、前記図19に示
すような両端面において内部電極3,4が1層おきに露
出した積層体を作製し、上記両端面に仮設外部電極1
3,14を設ける。この積層体の仮設の外部電極13,
14および内部電極3,4が露出していない上下面をマ
スキングし、エッチング処理を行ない、図2に示すよう
に内部電極3,4の側端部を突出させる。すなわち積層
体を50℃の塩酸10%溶液に60分間浸漬することに
より、薄板1,2の側端部が10μm エッチングされ
て、内部電極3,4の側端部を突出させることができ
た。
【0028】上記エッチング処理後、積層体のエッチン
グを行なった側面の一方をマスキング剤によってマスキ
ングし、その対向面にメッキ処理を行なう。すなわち純
水1リットルに対し、硫酸ニッケル300g、塩化ニッ
ケル45g、ほう酸45gの組成からなるメッキ溶液中
に前記積層体およびニッケル製対向電極(図示せず)を
浸漬し、図3に示す例えば仮設外部電極13をマイナス
に、対向電極(図示せず)をプラスに接続し、電流密度
40A/dm2 で20分間直流電圧を印加することによ
り、図3および図4に示すように高さ50μm 、幅40
μm のニッケルからなる帯状体5が、例えば内部電極3
の側端部に形成される。次にマスキングを施した側の側
面にも上記と同様の手段によって、帯状体を形成する。
すなわち図示省略したが、図3および図4における積層
体の他の側面における内部電極4の側端部に、帯状体5
と同様な帯状体を形成するのである。
【0029】次に図5に示すように帯状体5を形成した
積層体の側面に、例えばガラス粉末のような絶縁材料か
らなるペーストを塗布して焼成し、絶縁層7を形成する
(他の対向側面においても同様)。そして図6に示すよ
うに絶縁層7の表面をラッピング加工して帯状体5の一
部を露出させる(他の対向側面においても同様)。次に
上記積層体を10%塩化ニッケル溶液に浸漬し、前記図
2および図3に示す仮設外部電極13,14をプラス
に、ニッケル製対向電極をマイナスに接続し、電流密度
40A/dm2 で30分間直流電圧を印加し、電解エッチ
ング処理を行なった。この電解エッチング処理により、
帯状体5を構成する合金層5a(内部電極構成材料とニ
ッケルとの合金からなる)を残して、その外周に被着さ
れているニッケル層5bが除去されて空洞化される(他
の対向側面においても同様)。
【0030】上記のようにして得られた積層体ブロック
を、図8に示すように破線の部分において複数個に切断
して単素子とした後、外部電極を設ければ、所望の積層
型変位素子を得ることができる。図9は完成後の積層型
変位素子を示す要部縦断面説明図であり、同一部分は前
記図1ないし図8と同一の参照符号で示す。すなわち積
層体の側面に導電材料からなるペーストを塗布して焼成
すれば、外部電極9,10は後述するように、合金層5
aからなる帯状体5を抱持するように固着され、対応す
る内部電極3,4と接続することができる。
【0031】図10および図11は帯状体の近傍を示す
要部縦断面拡大図であり、同一部分は前記図1ないし図
9と同一の参照符号で示す。図10において、帯状体5
は内部電極3の突出部3aの周辺に、メッキにより固着
される(前記図4と対応する)。次に前記図5に示すよ
うに帯状体5の形成された側面に絶縁層7を形成する場
合において、焼成処理中に突出部3aの部分が、図11
に示すように合金層5aを形成して、横断面形状におい
て内部電極3の厚さ寸法より大なる厚さ寸法を有する土
筆状若しくはきのこ状に膨出する。5bはニッケル層で
あり、合金層5aの外殻を形成している。
【0032】帯状体5が上記のように形成される結果、
前記図7に示すように電解エッチング処理により、外殻
を形成するニッケル層5bが除去されて、金属ニッケル
に比べて酸化しにくい合金層5aが残存し、かつこの周
辺部に外部電極(図示せず)を形成すれば、両者間の接
触表面積が大であることに加えて、所謂アンカー作用が
期待されるから、外力による切断、剥離作用に対しても
充分に対抗することができるのである。図12は外部電
極の被着状態を示す縦断面拡大図である。なお上記合金
層5aは酸化されにくい特性を有するため、外部電極9
の焼成を大気中で行なっても非所望な酸化膜が形成され
にくいが、Arガス若しくはN2 ガスのような非酸化性雰
囲気中で行なうことが望ましい。
【0033】図13ないし図15は本発明の第2実施例
における製造工程の一部を示す要部縦断面説明図であ
り、同一部分は前記図4ないし図7と同一の参照符号で
示す。まず図13は帯状体5,5間の他の構成材料の一
部を除去した状態を示す図である。すなわち前記第1実
施例において図4に示すように帯状体5を形成した後、
ショットブラスト加工により、溝7aを形成する。例え
ばアルミナ、炭化シリコン、酸化シリコン等の砥粒を投
射することにより、帯状体5が形成されていない内部電
極4およびその周辺の薄板1,2の側端部が選択的に除
去されて、溝7aが形成されるのである。400番のア
ルミナ砥粒を使用し、10秒間ショットブラスト加工す
ることにより、深さ約20μm の溝7aを形成すること
ができた。なお溝7aの形成はショットブラスト加工に
限定されるものではなく、他の加工方法によってもよ
い。
【0034】次に前記第1実施例におけると同様に、図
14に示すような絶縁層7を形成し、図15に示すよう
に絶縁層7の表面をラッピング加工して帯状体5の一部
を露出させる(他の対向側面においても同様に行な
う)。以後の工程は前記図7ないし図9に示すものと同
様であり、最終的に図17に示すような積層型変位素子
を得ることができる。このようにして形成された積層型
変位素子においては、前記図13ないし図15から明ら
かなように、帯状体5と電気的に極性が異なる内部電極
4との間の溝7aに沿う距離(界面距離若しくは沿面距
離、図22および図23における距離w)を実質的に大
に形成できること、更に絶縁層7の厚さを増大できるこ
と等の理由により、絶縁耐圧を向上させることができ
る。
【0035】図16は外部電極の被着状態を示す縦断面
拡大図であり、前記図12と対応するものである。図1
6から明らかなように、外部電極9は帯状体を構成する
合金層5aを抱持するように被着されていることが認め
られる。また溝7aの形成により、絶縁層7の厚さ寸法
が大となり、前記のように内部電極3,4間の界面距離
若しくは沿面距離が増大されることがわかる。
【0036】なお図13ないし図15においては、帯状
体5,5間に横断面円弧状の溝7aを形成した例を示し
たが、例えばショットブラスト加工態様の制御により、
内部電極4の突出部の少なくとも一部を除去するように
してもよい。
【0037】上記の実施例においては、何れも帯状体
5,6を形成する材料のうち、例えばメッキ金属である
ニッケルが酸化され易いことに鑑み、帯状体5,6を形
成し、絶縁層7,8を被着後に、例えば電解エッチング
処理によって除去し、内部電極3,4と外部電極9,1
0との電気的接続を確保するものである。しかしなが
ら、酸化され易い例えばニッケルのような材料が帯状体
5,6に残存していても、絶縁層7,8および/または
外部電極9,10を形成する場合の焼成処理時におい
て、上記材料の酸化が進行しない状態を形成すれば、内
部電極3,4と外部電極9,10との電気的接続を確保
できると思考される。
【0038】上記の発想に基づく第3実施例について、
図19ないし図21により説明する。製造工程について
は、前記従来技術の項において記述した通りであるが、
本実施例においては、図20に示す絶縁層7を形成する
場合の加熱焼成雰囲気を、Arガス雰囲気として焼成を行
なった。また図21に示す外部電極9を形成する場合に
も、Ar雰囲気中で行なった。絶縁層7および外部電極9
を形成後、当該部位を切断して破面観察を行なったとこ
ろ、帯状体5の表面における酸化膜の形成は全く認めら
れなかった。これに対して従来技術におけるように、絶
縁層7および外部電極9を大気中で形成したものにおい
ては、帯状体5,6の表面に酸化膜が形成されることは
前記の通りである。
【0039】次に従来技術および本発明技術により製造
した積層型変位素子の特性を表1に示す。表1におい
て、No.1〜6が本発明の実施例を示し、No.7は従来
技術によるものを示す。また雰囲気は、絶縁層7,8お
よび外部電極9,10を形成した雰囲気を示す。
【0040】
【表1】
【0041】表1から明らかなように、No.7に示す従
来法によるものにおいては、帯状体5,6に残留するニ
ッケルが焼成処理中に酸化し、外部電極9,10と接続
されない内部電極3,4が存在するため、特性値が低い
レベルにある。これに対してNo.1〜4に示す本発明の
ものにおいては、帯状体5,6を構成するニッケル合金
層以外のニッケルを積極的に除去した構成であるため、
特性が極めて大である。なお雰囲気がArである場合に
は、更に特性が向上する。またNo.5およびNo.6にお
いては、帯状体5,6にニッケルが残留しているが、Ar
雰囲気中における絶縁層7,8および外部電極9,10
の焼成処理により、ニッケルの酸化が防止される結果、
特性の向上が認められている。なおNo.6においては、
絶縁層7,8の焼成処理を大気中で行なったが、特性の
低下が小さいことがわかる。これは絶縁層7,8を形成
後、その表面をラッピング加工してニッケルからなる帯
状体5,6の一部を露出させる際、絶縁層7,8形成時
に生じるニッケル酸化層の一部が除去されたためであ
る。
【0042】上記の実施例においては、帯状体5,6を
形成する金属材料としてニッケルを使用した例について
記述したが、ニッケルのみに限定されず、電気メッキ可
能であり、かつ電気機械変換材料からなる薄板1,2を
侵食しないメッキ液を形成する金属材料であればよく、
銅、鉄、クロム、錫等の金属材料を使用することができ
る。また内部電極3,4を突出させるための手段として
酸溶液を使用した例について記述したが、電気機械変換
材料からなる薄板1,2を選択的にエッチングさせ得る
手段であれば、例えばイオンエッチング等によってもよ
い。更に帯状体5,6の周辺部を構成するメッキ金属を
除去する手段は、電解エッチング以外に、例えば酸溶液
等による化学エッチングや、イオンエッチング等によっ
てもよい。
【0043】
【発明の効果】本発明は以上記述のような構成および作
用であるから、下記の効果を奏し得る。 (1) 帯状体を構成する材料のうち、酸化されにくい合金
層を残して酸化され易いメッキ金属を除去することがで
きるため、メッキ金属の酸化による電気的接続不良およ
び/または機械的断線のような非所望な事態の発生を防
止できる。 (2) 内部電極の厚さ寸法より大なる厚さ寸法の合金層か
らなる膨出状の突出部を形成し得るため、外部電極との
接着面積が大となり、接着強度を向上させ得る。 (3) 帯状体間の構成部材の一部を除去して溝を設けるこ
とにより、帯状体と電気的に極性の異なる他の内部電極
に至る薄板と絶縁層の界面距離若しくは沿面距離を実質
的に増大することができること、および絶縁層の厚さも
増大できるため、絶縁信頼性を向上させ得る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施例における薄板および内部電
極を示す要部平面図である。
【図2】本発明の第1実施例における積層体ブロックを
示す斜視図である。
【図3】本発明の第1実施例における積層体ブロックを
示す斜視図である。
【図4】本発明の第1実施例における積層体の要部縦断
面説明図である。
【図5】本発明の第1実施例における積層体の要部縦断
面説明図である。
【図6】本発明の第1実施例における積層体の要部縦断
面説明図である。
【図7】本発明の第1実施例における積層体の要部縦断
面説明図である。
【図8】本発明の第1実施例における積層体ブロックを
示す斜視図である。
【図9】本発明の第1実施例における積層型変位素子を
示す要部縦断面説明図である。
【図10】本発明の第1実施例における帯状体の近傍を
示す要部縦断面拡大図である。
【図11】本発明の第1実施例における帯状体の近傍を
示す要部縦断面拡大図である。
【図12】本発明の第1実施例における外部電極の被着
状態を示す縦断面拡大図である。
【図13】本発明の第2実施例における製造工程の一部
を示す要部縦断面説明図である。
【図14】本発明の第2実施例における製造工程の一部
を示す要部縦断面説明図である。
【図15】本発明の第2実施例における製造工程の一部
を示す要部縦断面説明図である。
【図16】本発明の第2実施例における外部電極の被着
状態を示す縦断面拡大図である。
【図17】本発明の第2実施例における積層型変位素子
を示す要部縦断面説明図である。
【図18】従来の製造方法による積層型変位素子の例を
示す要部縦断面説明図である。
【図19】従来の製造方法における積層体ブロックを示
す斜視図である。
【図20】従来の製造方法の工程における積層体の要部
縦断面説明図である。
【図21】従来の製造方法の工程における積層体の要部
縦断面説明図である。
【図22】従来の積層型変位素子の絶縁層の近傍を示す
要部縦断面説明図である。
【図23】従来の積層型変位素子の絶縁層の近傍を示す
要部縦断面説明図である。
【符号の説明】
1,2 薄板 3,4 内部電極 5,6 帯状体 7,8 絶縁層 9,10 外部電極
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 定村 茂 埼玉県熊谷市三ケ尻5200番地 日立金属株 式会社磁性材料研究所内 (72)発明者 田中 清巳 埼玉県熊谷市三ケ尻5200番地 日立金属株 式会社磁性材料研究所内 (72)発明者 風間 和夫 埼玉県熊谷市三ケ尻5200番地 日立金属株 式会社磁性材料研究所内

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 電気機械変換材料からなる薄板と導電材
    料からなる内部電極とを各々複数個交互に積層し、1層
    おきの内部電極の側端部に導電材料からなる外部電極を
    電気的に接続してなる積層型変位素子において、 1層おきの内部電極の側端部を薄板の側端部から突出さ
    せると共に、この突出部を内部電極の厚さ寸法より大な
    る厚さ寸法を有し横断面形状を土筆状若しくはきのこ状
    に形成し、前記突出部間の他の内部電極の側端部および
    その近傍に絶縁層を設け、突出部の周辺および絶縁層の
    外方に外部電極を設けたことを特徴とする積層型変位素
    子。
  2. 【請求項2】 電気機械変換材料からなる薄板と導電材
    料からなる内部電極とが各々複数個交互に積層され、全
    内部電極の側端部が露出する2個の対向側面と、1層お
    きに内部電極の側端部が露出する2個の対向側面とを有
    する積層体を作成する工程と、1層おきに内部電極の側
    端部が露出する2個の対向側面に仮設外部電極を形成す
    る工程と、一方の仮設外部電極を陰極としてメッキによ
    り全内部電極の側端部が露出する側面に1層おきにメッ
    キ金属からなる帯状体を内部電極と一体に形成する工程
    と、帯状体を形成した側面に絶縁層を形成する工程と、
    前記帯状体を露出させる工程と、露出させた帯状体を電
    気的に接続する外部電極を形成する工程とを含む積層型
    変位素子の製造方法において、 絶縁層および/または外部電極を形成する工程を非酸化
    性雰囲気中で行なうことを特徴とする積層型変位素子の
    製造方法。
  3. 【請求項3】 電気機械変換材料からなる薄板と導電材
    料からなる内部電極とが各々複数個交互に積層され、全
    内部電極の側端部が露出する2個の対向側面と、1層お
    きに内部電極の側端部が露出する2個の対向側面とを有
    する積層体を作成する工程と、1層おきに内部電極の側
    端部が露出する2個の対向側面に仮設外部電極を形成す
    る工程と、一方の仮設外部電極を陰極としてメッキによ
    り全内部電極の側端部が露出する側面に1層おきにメッ
    キ金属からなる帯状体を内部電極と一体に形成する工程
    と、帯状体を形成した側面に絶縁層を形成する工程と、
    前記帯状体を露出させる工程と、露出させた帯状体を電
    気的に接続する外部電極を形成する工程とを含む積層型
    変位素子の製造方法において、 内部電極の側端部を薄板の側端部から突出させる工程
    と、帯状体の露出部からメッキ金属を除去し内部電極構
    成材料とメッキ金属との合金層を露出させる工程とを含
    むことを特徴とする積層型変位素子の製造方法。
  4. 【請求項4】 帯状体を形成後帯状体間に存在する他の
    内部電極の突出部の少なくとも一部を除去する工程を含
    むことを特徴とする請求項3記載の積層型変位素子の製
    造方法。
  5. 【請求項5】 絶縁層および/または外部電極を形成す
    る工程を非酸化性雰囲気中で行なうことを特徴とする請
    求項3若しくは4記載の積層型変位素子の製造方法。
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Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002285937A (ja) * 2001-03-26 2002-10-03 Kyocera Corp 積層型圧電素子及び噴射装置
WO2004075216A1 (ja) * 2003-02-21 2004-09-02 Murata Manufacturing Co., Ltd. 積層型セラミック電子部品およびその製造方法
JP2005101207A (ja) * 2003-09-24 2005-04-14 Kyocera Corp 積層型圧電素子及びその製法並びに噴射装置
JP2006203245A (ja) * 2006-03-27 2006-08-03 Kyocera Corp 積層型圧電素子の製造方法及び積層型圧電素子
JP2006245594A (ja) * 2006-03-27 2006-09-14 Kyocera Corp 積層型圧電素子の製造方法及び積層型圧電素子
JP2006310410A (ja) * 2005-04-26 2006-11-09 Denso Corp 積層型圧電素子及び、これを用いたインジェクタ
JP2007165394A (ja) * 2005-12-09 2007-06-28 Tdk Corp 積層型圧電素子
JP2015505165A (ja) * 2012-05-08 2015-02-16 コンチネンタル オートモーティヴ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングContinental Automotive GmbH 積層体である電子デバイスの電気的な接触接続方法および接触接続構造体を備えた電子デバイス

Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19817802B4 (de) * 1996-11-12 2009-08-06 Marco Systemanalyse Und Entwicklung Gmbh Piezoaktuatorisches Antriebs- oder Verstellelement
DE19646511C1 (de) * 1996-11-12 1998-05-14 Marco Systemanalyse Entw Piezoaktuatorisches Antriebs- oder Verstellelement
CN1314007A (zh) * 1999-06-23 2001-09-19 罗伯特·博施有限公司 用于柴油喷射装置的带防裂设施的压电式多层致动器及制造它的方法
DE19931927A1 (de) * 1999-07-08 2001-08-09 Bosch Gmbh Robert Verfahren zur Herstellung von Piezoaktoren mit einem Vielschichtaufbau von Piezolagen
DE19936713C2 (de) 1999-08-06 2001-08-23 Bosch Gmbh Robert Piezokeramischer Aktor sowie Verfahren zu seiner Herstellung
DE10152490A1 (de) * 2000-11-06 2002-05-08 Ceramtec Ag Außenelektroden an piezokeramischen Vielschichtaktoren
US6700306B2 (en) * 2001-02-27 2004-03-02 Kyocera Corporation Laminated piezo-electric device
DE10146704A1 (de) * 2001-09-21 2003-04-10 Elliptec Resonant Actuator Ag Piezomotoren mit Piezoelementen, hergestellt nach dem Keramikkondensatorverfahren
NZ534848A (en) 2002-02-06 2005-10-28 Elliptec Resonant Actuator Ag Piezoelectric motor control
WO2005029603A1 (ja) * 2003-09-24 2005-03-31 Kyocera Corporation 積層型圧電素子
DE102004064303B3 (de) 2004-05-26 2019-02-21 Tdk Electronics Ag Piezoelektrischer Transformator
DE102004036703B4 (de) * 2004-05-26 2016-02-18 Epcos Ag Piezoelektrischer Transformator
DE102005013912A1 (de) * 2005-03-24 2006-09-28 Siemens Ag Piezoaktor
DE102005046121A1 (de) * 2005-09-27 2007-03-29 Robert Bosch Gmbh Piezoelektrischer Aktor
DE602007001155D1 (de) * 2006-03-17 2009-07-09 Delphi Tech Inc Piezoelektrischer Aktor
DE102007004813B4 (de) 2007-01-31 2016-01-14 Continental Automotive Gmbh Verfahren zur Herstellung eines piezokeramischen Vielschichtaktors
DE102012105059A1 (de) 2012-06-12 2013-12-12 Epcos Ag Verfahren zur Herstellung eines Vielschichtbauelements und Vielschichtbauelement

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3626507A1 (de) * 1985-08-06 1987-02-19 Canon Kk Betaetigungsvorrichtung
US4803763A (en) * 1986-08-28 1989-02-14 Nippon Soken, Inc. Method of making a laminated piezoelectric transducer
JPH02137280A (ja) * 1988-11-17 1990-05-25 Nec Corp 電歪効果素子およびその製造方法
JPH0354876A (ja) * 1989-07-22 1991-03-08 Hitachi Metals Ltd 積層型変位素子
DE4192278T (ja) * 1990-09-13 1992-10-08

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002285937A (ja) * 2001-03-26 2002-10-03 Kyocera Corp 積層型圧電素子及び噴射装置
WO2004075216A1 (ja) * 2003-02-21 2004-09-02 Murata Manufacturing Co., Ltd. 積層型セラミック電子部品およびその製造方法
US7295421B2 (en) 2003-02-21 2007-11-13 Murata Manufacturing Co., Ltd. Multilayer ceramic electronic components and method for manufacturing the same
JP2005101207A (ja) * 2003-09-24 2005-04-14 Kyocera Corp 積層型圧電素子及びその製法並びに噴射装置
JP2006310410A (ja) * 2005-04-26 2006-11-09 Denso Corp 積層型圧電素子及び、これを用いたインジェクタ
JP2007165394A (ja) * 2005-12-09 2007-06-28 Tdk Corp 積層型圧電素子
JP2006203245A (ja) * 2006-03-27 2006-08-03 Kyocera Corp 積層型圧電素子の製造方法及び積層型圧電素子
JP2006245594A (ja) * 2006-03-27 2006-09-14 Kyocera Corp 積層型圧電素子の製造方法及び積層型圧電素子
JP4498299B2 (ja) * 2006-03-27 2010-07-07 京セラ株式会社 積層型圧電素子の製造方法
JP4498300B2 (ja) * 2006-03-27 2010-07-07 京セラ株式会社 積層型圧電素子の製造方法及び積層型圧電素子
JP2015505165A (ja) * 2012-05-08 2015-02-16 コンチネンタル オートモーティヴ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングContinental Automotive GmbH 積層体である電子デバイスの電気的な接触接続方法および接触接続構造体を備えた電子デバイス

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Publication number Publication date
DE4224284A1 (de) 1993-01-28
GB2258084A (en) 1993-01-27
GB9212714D0 (en) 1992-07-29

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