JPH05295519A - 反射防止膜を設けた偏光フイルム - Google Patents
反射防止膜を設けた偏光フイルムInfo
- Publication number
- JPH05295519A JPH05295519A JP4129517A JP12951792A JPH05295519A JP H05295519 A JPH05295519 A JP H05295519A JP 4129517 A JP4129517 A JP 4129517A JP 12951792 A JP12951792 A JP 12951792A JP H05295519 A JPH05295519 A JP H05295519A
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- JP
- Japan
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- film
- polarizing film
- antireflection
- polarizing
- antireflection film
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- Pending
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- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 偏光フイルムの少なくとも片面上に、酸化珪
素系または弗化マグネシウム系の蒸着膜を設けたこと。 【効果】 表面の反射率を低くできたことにより液晶デ
ィスプイレイ（ＬＣＤ）への周囲の照明などの映り込み
が防止でき、全光線透過率が高くできたことにより、液
晶ディスプイレイ面の輝度を向上できるなど極めて優れ
た効果を有するものである。
素系または弗化マグネシウム系の蒸着膜を設けたこと。 【効果】 表面の反射率を低くできたことにより液晶デ
ィスプイレイ（ＬＣＤ）への周囲の照明などの映り込み
が防止でき、全光線透過率が高くできたことにより、液
晶ディスプイレイ面の輝度を向上できるなど極めて優れ
た効果を有するものである。
Description
【０００２】
【産業上の利用分野】本発明は、液晶ディスプイレイ
（ＬＣＤ）に使用される反射防止膜を設けた偏光フイル
ムに関する。
（ＬＣＤ）に使用される反射防止膜を設けた偏光フイル
ムに関する。
【０００３】
【従来の技術】従来の偏光フイルムでは、液晶ディスプ
イレイに使用した場合、偏光フイルムの光の透過率が低
く、すなわち、光の利用率が低い為にディスプイレイ面
の輝度が低いという問題点があった。
イレイに使用した場合、偏光フイルムの光の透過率が低
く、すなわち、光の利用率が低い為にディスプイレイ面
の輝度が低いという問題点があった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】したがって、従来品の
偏光フイルムの前記問題点、液晶ディスプイレイに使用
した場合のディスプイレイ面の輝度が低いという問題を
解決することが目的である。
偏光フイルムの前記問題点、液晶ディスプイレイに使用
した場合のディスプイレイ面の輝度が低いという問題を
解決することが目的である。
【０００５】すなわち、本発明の目的は、偏光フイルム
の表面に特定の反射防止膜を設けることによって、光の
表面反射を防止して偏光フイルムの光線透過率を上げ、
液晶ディスプイレイ面の輝度を向上させることができる
反射防止膜を設けた偏光フイルムを提供することにあ
る。
の表面に特定の反射防止膜を設けることによって、光の
表面反射を防止して偏光フイルムの光線透過率を上げ、
液晶ディスプイレイ面の輝度を向上させることができる
反射防止膜を設けた偏光フイルムを提供することにあ
る。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の反射防止膜を設
けた偏光フイルムは、特定の偏光フイルムの少なくとも
片面上に特定の反射防止膜を設けてなることを特徴とす
る。
けた偏光フイルムは、特定の偏光フイルムの少なくとも
片面上に特定の反射防止膜を設けてなることを特徴とす
る。
【０００７】偏光フイルムには、偏光子を構成する２色
性物質としてＰＶＡ（ポリビニルアルコール）−ヨウ素
錯体を使用している多ハロゲン偏光フイルムとＰＶＡ−
２色性染料を使用している染料偏光フイルムのどちらも
が使用できる。
性物質としてＰＶＡ（ポリビニルアルコール）−ヨウ素
錯体を使用している多ハロゲン偏光フイルムとＰＶＡ−
２色性染料を使用している染料偏光フイルムのどちらも
が使用できる。
【０００８】反射防止膜は、低屈折率材料である酸化珪
素系（ＳｉＯX 、X ＝１．７〜２）または弗化マグネシ
ウム系（ＭｇＦX 、X ＝１．７〜２）を真空蒸着法、イ
オンプレーティング法、スパッタリング法などにより、
前記多ハロゲン偏光フイルムまたは染料偏光フイルムの
片面又は両面に形成される。
素系（ＳｉＯX 、X ＝１．７〜２）または弗化マグネシ
ウム系（ＭｇＦX 、X ＝１．７〜２）を真空蒸着法、イ
オンプレーティング法、スパッタリング法などにより、
前記多ハロゲン偏光フイルムまたは染料偏光フイルムの
片面又は両面に形成される。
【０００９】反射防止膜の厚さとしては、光学的膜厚
（ｎｄ）が１０００Åから２０００Åの範囲から適宜選
定される。
（ｎｄ）が１０００Åから２０００Åの範囲から適宜選
定される。
【００１０】
【作用】本発明の反射防止膜を設けた偏光フイルムに採
用する反射防止膜は、反射防止膜の上面（正面）および
下面（裏面）からの反射光が打ち消し合う干渉効果によ
るものである。
用する反射防止膜は、反射防止膜の上面（正面）および
下面（裏面）からの反射光が打ち消し合う干渉効果によ
るものである。
【００１１】基板（偏光フイルム）の屈折率をｎ2 、薄
膜（反射防止膜）の屈折率をｎ1 、そして光線の入射側
の媒質（空気）の屈折率をｎ0 と定義する。薄膜の上面
と下面とからの反射２光束が完全に打ち消し合うには、
まず、２光束の強度が相等しくなければならない。この
為には、各境界面における屈折率比が等しい、すなわち
ｎ0 ／ｎ1 ＝ｎ1 ／ｎ2 またはｎ1 はｎ0 とｎ2 の積の
平方根に等しいという条件が成立することが必要であ
る。
膜（反射防止膜）の屈折率をｎ1 、そして光線の入射側
の媒質（空気）の屈折率をｎ0 と定義する。薄膜の上面
と下面とからの反射２光束が完全に打ち消し合うには、
まず、２光束の強度が相等しくなければならない。この
為には、各境界面における屈折率比が等しい、すなわち
ｎ0 ／ｎ1 ＝ｎ1 ／ｎ2 またはｎ1 はｎ0 とｎ2 の積の
平方根に等しいという条件が成立することが必要であ
る。
【００１２】ここで空気の屈折率ｎ0 は１である。偏光
フイルムは薄くって弱い偏光子を透明フイルムで両側か
ら挟んでいる。よって、透明フイルム（ポリエチレンテ
レフタレートフイルム）の屈折率を偏光フイルムの屈折
率と考えるとｎ2 は１．６５である。故にｎ1 の屈折率
が１．６５の平方根つまり、ｎ1 ≒１．２８であれば反
射率は０となる。
フイルムは薄くって弱い偏光子を透明フイルムで両側か
ら挟んでいる。よって、透明フイルム（ポリエチレンテ
レフタレートフイルム）の屈折率を偏光フイルムの屈折
率と考えるとｎ2 は１．６５である。故にｎ1 の屈折率
が１．６５の平方根つまり、ｎ1 ≒１．２８であれば反
射率は０となる。
【００１３】しかし実際には屈折率が１．２８の材料は
なく、これに近い屈折率が１．３８の弗化マグネシウム
系（ＭｇＦX 、X ＝１．７〜２）または、屈折率が１．
４５の酸化珪素系（ＳｉＯX 、X ＝１．７〜２）を採用
した結果、いずれを用いても反射率を少なくすることが
できる。
なく、これに近い屈折率が１．３８の弗化マグネシウム
系（ＭｇＦX 、X ＝１．７〜２）または、屈折率が１．
４５の酸化珪素系（ＳｉＯX 、X ＝１．７〜２）を採用
した結果、いずれを用いても反射率を少なくすることが
できる。
【００１４】また、反射率を少なくする光の波長（λ）
は光学膜厚ｎｄ＝１／４λで表される。したがって、本
発明での反射防止の領域は可視光線（４０００Åから８
０００Å）を目的としているので、ｎｄは１０００Åか
ら２０００Åの範囲に設定した。
は光学膜厚ｎｄ＝１／４λで表される。したがって、本
発明での反射防止の領域は可視光線（４０００Åから８
０００Å）を目的としているので、ｎｄは１０００Åか
ら２０００Åの範囲に設定した。
【００１５】つぎに実施例をあげて本発明を説明する。
尚、表１に実施例と比較例のデータをまとめた。
尚、表１に実施例と比較例のデータをまとめた。
【００１６】
【００１７】実施例１ 厚さ８５μｍの染料偏光フイルムの片面上に弗化マグネ
シウム系膜を真空蒸着法で形成して本発明の反射防止膜
を設けた偏光フイルムえた。えられた弗化マグネシウム
系膜の光学的膜厚（ｎｄ）は１３７５Åであった。
シウム系膜を真空蒸着法で形成して本発明の反射防止膜
を設けた偏光フイルムえた。えられた弗化マグネシウム
系膜の光学的膜厚（ｎｄ）は１３７５Åであった。
【００１８】実施例２ 厚さ８５μｍの染料偏光フイルムの両面上に弗化マグネ
シウム系膜を真空蒸着法で順次形成して本発明の反射防
止膜を設けた偏光フイルムえた。えられた弗化マグネシ
ウム系膜の光学的膜厚（ｎｄ）はそれぞれ１３７５Åで
あった。
シウム系膜を真空蒸着法で順次形成して本発明の反射防
止膜を設けた偏光フイルムえた。えられた弗化マグネシ
ウム系膜の光学的膜厚（ｎｄ）はそれぞれ１３７５Åで
あった。
【００１９】実施例３ 厚さ８５μｍの染料偏光フイルムの片面上に酸化珪素系
膜を真空蒸着法で形成して本発明の反射防止膜を設けた
偏光フイルムえた。えられた酸化珪素系膜の光学的膜厚
（ｎｄ）は１３５０Åであった。
膜を真空蒸着法で形成して本発明の反射防止膜を設けた
偏光フイルムえた。えられた酸化珪素系膜の光学的膜厚
（ｎｄ）は１３５０Åであった。
【００２０】実施例４ 厚さ８５μｍの染料偏光フイルムの両面上に酸化珪素系
膜を真空蒸着法で形成して本発明の反射防止膜を設けた
偏光フイルムえた。えられた酸化珪素系膜の光学的膜厚
（ｎｄ）はそれぞれ１３５０Åであった。
膜を真空蒸着法で形成して本発明の反射防止膜を設けた
偏光フイルムえた。えられた酸化珪素系膜の光学的膜厚
（ｎｄ）はそれぞれ１３５０Åであった。
【００２１】比較例１ 厚さ８５μｍの染料偏光フイルムそのもの。
【００２２】
【表１】
【００２３】表１からも明らかなるとおり実施例１〜４
のものは全て、比較例１のものに比べて、偏光フイルム
表面の反射率が低くなっていること、全光線透過率が高
くなっていることがわかり、液晶ディスプイレイ（ＬＣ
Ｄ）に使用される偏光フイルムとして極めて優れている
ことが認められる。
のものは全て、比較例１のものに比べて、偏光フイルム
表面の反射率が低くなっていること、全光線透過率が高
くなっていることがわかり、液晶ディスプイレイ（ＬＣ
Ｄ）に使用される偏光フイルムとして極めて優れている
ことが認められる。
【００２４】
【発明の効果】本発明による反射防止膜を設けた偏光フ
イルムは、表面の反射率を低くできたことにより液晶デ
ィスプイレイ（ＬＣＤ）への周囲の照明の映り込みが防
止でき、全光線透過率が高くできたことにより、液晶デ
ィスプイレイ面の輝度を向上できるなど極めて優れた効
果を有するものである。
イルムは、表面の反射率を低くできたことにより液晶デ
ィスプイレイ（ＬＣＤ）への周囲の照明の映り込みが防
止でき、全光線透過率が高くできたことにより、液晶デ
ィスプイレイ面の輝度を向上できるなど極めて優れた効
果を有するものである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ２３Ｃ 14/06 7308−4Ｋ Ｇ０２Ｂ 1/10 Ａ 7820−2Ｋ
Claims (2)
- 【請求項１】偏光フイルムの少なくとも片面上に、酸化
珪素系（ＳｉＯX 、X ＝１．７〜２）または弗化マグネ
シウム系（ＭｇＦX 、X ＝１．７〜２）の蒸着膜を設け
たことを特徴とする反射防止膜を設けた偏光フイルム。 - 【請求項２】酸化珪素系、弗化マグネシウム系の光学的
膜厚（ｎｄ）の値を１０００Åから２０００Åの範囲か
ら選定した請求項１記載の反射防止膜を設けた偏光フイ
ルム。ただし、ｎは屈折率、ｄは膜厚をそれぞれ表す。 【０００１】
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4129517A JPH05295519A (ja) | 1992-04-22 | 1992-04-22 | 反射防止膜を設けた偏光フイルム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4129517A JPH05295519A (ja) | 1992-04-22 | 1992-04-22 | 反射防止膜を設けた偏光フイルム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05295519A true JPH05295519A (ja) | 1993-11-09 |
Family
ID=15011460
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4129517A Pending JPH05295519A (ja) | 1992-04-22 | 1992-04-22 | 反射防止膜を設けた偏光フイルム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05295519A (ja) |
-
1992
- 1992-04-22 JP JP4129517A patent/JPH05295519A/ja active Pending
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