JPH05295042A - オレフィン系共重合体 - Google Patents

オレフィン系共重合体

Info

Publication number
JPH05295042A
JPH05295042A JP10420292A JP10420292A JPH05295042A JP H05295042 A JPH05295042 A JP H05295042A JP 10420292 A JP10420292 A JP 10420292A JP 10420292 A JP10420292 A JP 10420292A JP H05295042 A JPH05295042 A JP H05295042A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
olefin
styrene
copolymer
titanium
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP10420292A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3121109B2 (ja
Inventor
Noriyuki Tani
徳行 谷
Shuji Machida
修司 町田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Idemitsu Kosan Co Ltd
Original Assignee
Idemitsu Kosan Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Idemitsu Kosan Co Ltd filed Critical Idemitsu Kosan Co Ltd
Priority to JP04104202A priority Critical patent/JP3121109B2/ja
Publication of JPH05295042A publication Critical patent/JPH05295042A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3121109B2 publication Critical patent/JP3121109B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Graft Or Block Polymers (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 優れた耐熱性,耐薬品性及び電気特性を保持
するとともに、靭性,引張強度,引張伸び,引張弾性及
び相溶性が改善されたグラフト共重合体を開発するこ
と。 【構成】 側鎖に二重結合を有するエチレン・α−オレ
フィン共重合体にスチレン系単量体をグラフト共重合さ
せてなるとともに、スチレン連鎖が高度のシンジオタク
チック構造を有し、その含有量が0.1〜90重量%、還
元粘度(TCB中、0.05g/デシリットル,135
℃)が0.05〜25デシリットル/g、または300
℃,2.16kg荷重で測定したメルトインデックスが0.
001〜500g/10分であって、かつ引張強度,伸
びなどの機械的特性の優れたオレフィン系共重合体であ
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は新規なオレフィン系共重
合体に関するものである。さらに詳しくは、本発明は、
耐熱性,耐薬品性及び電気的性質に優れるとともに、良
好な靱性,引張強度,引張伸び,引張弾性及び相溶化能
を有し、複合材料の素材や耐熱エラストマーなどとして
有用なシンジオタクチックポリスチレン連鎖をグラフト
成分とするオレフィン系共重合体に関するものである。
【0002】
【従来の技術】一般に、スチレン系重合体としては、ス
チレン系単量体のラジカル重合による立体規則性がアタ
クチック構造のもの、及びチーグラー系触媒を用いて得
られるアイソタクチック構造のものが知られているが、
本発明者らの研究グループは、先に、シンジオタクティ
シティーの高いスチレン系重合体を開発することに成功
し、さらにこのスチレン系単量体と他の成分を共重合し
たシンジオタクチックスチレン系重合体を開発した(特
開昭62−104818号公報,同63−241009
号公報)。これらのシンジオタクチック構造のスチレン
系重合体あるいは共重合体は、耐熱性,耐薬品性及び電
気的特性に優れ、多方面にわたる応用が期待されてい
る。しかしながら、上記スチレン系重合体、特にシンジ
オタクチックポリスチレンは、靱性や伸びが十分ではな
い上、他の樹脂との相溶性に乏しく、用途が限定される
のを免れなかった。このような欠点を改善する手段とし
て、シンジオタクチックポリスチレンにα−オレフィン
をグラフトする方法(特願平3−89073号公報)が
提案されているが、この方法においては、α−オレフィ
ン連鎖からなるソフトセグメントがスチレン連鎖からな
るハードセグメントにはさまれた構造にならないため、
エラストマーへの展開が十分にできないという場合があ
る。他方、グラフト開始反応点として、ポリマー主鎖の
ジビニルベンゼン残基を用いる方法が試みられているが
(特開平1−118510号公報,同1−123811
号公報)、このオレフィン系グラフト前駆体を用いて、
シンジオタクチックポリスチレンをグラフト共重合した
例は、これまで知られていない。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、このような
事情のもとで、シンジオタクチックポリスチレンが本来
有する優れた耐熱性,耐薬品性及び電気的特性を保持す
るとともに、靱性,引張強度,引張伸び,引張弾性及び
オレフィン系樹脂やジエン系樹脂との相溶性などが改善
され、複合材料の素材や耐熱性エラストマーなどとして
有用なシンジオタクチックポリスチレン連鎖をグラフト
成分とするオレフィン系共重合体を提供することを目的
としてなされたものである。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記の好
ましい性質を有するシンジオタクチックポリスチレン連
鎖をグラフト成分とするオレフィン系共重合体を開発す
べく鋭意研究を重ねたた。その結果、側鎖に重合性炭素
−炭素二重結合を有するエチレン・α−オレフィン共重
合体に、特定の割合でスチレン系単量体をグラフト共重
合させてなるスチレン連鎖の立体規則性が高度のシンジ
オタクチック構造を有し、かつ還元粘度またはメルトイ
ンデックス及び引張強度特性が特定の範囲にあるオレフ
ィン系共重合体が、その目的を達成しうることを見出し
た。本発明はこのような知見に基づいて完成したもので
ある。すなわち、本発明は、側鎖に重合性炭素−炭素二
重結合を有するエチレン・α−オレフィン共重合体に、
スチレン系単量体をグラフト共重合させたものであっ
て、スチレン系単量体単位からなる連鎖の立体規則性が
高度のシンジオタクチック構造を有し、その含有量が0.
1〜90重量%の範囲にあり、1,2,4−トリクロロ
ベンゼン中、135℃の温度で測定した0.05g/デシ
リットルの濃度での還元粘度が0.05〜25デシリット
ル/g、又は300℃,2.16kg荷重で測定したメル
トインデックスが0.001〜500g/10分であっ
て、かつ引張強度が200〜500kg/cm2 ,引張
伸びが100〜600%及び引張弾性率が1,000〜2
0,000kg/cm2 であることを特徴とするオレフィ
ン系共重合体を提供するものである。
【0005】本発明における側鎖に重合性炭素−炭素二
重結合を有するエチレン・α−オレフィン共重合体とし
ては、特に制限されるものではなく、各種の共重合体を
挙げることができる。好ましい共重合体は、エチレン,
炭素数3〜20のα−オレフィン及びジエン系単量体か
らなる共重合体である。ここで、α−オレフィンとして
は、具体的には例えば、プロピレン;ブテン−1;ヘキ
セン−1;オクテン−1;デセン−1;ヘプテン−1;
ペンテン−1;ノネン−1;4−フェニルブテン−1;
6−フェニルヘキセン−1;3−メチルブテン−1;4
−メチルペンテン−1;3−メチルペンテン−1;3−
メチルヘキセン−1;4−メチルヘキセン−1;5−メ
チルヘキセン−1;3,3−ジメチルペンテン−1;
3,4−ジメチルペンテン−1;4,4−ジメチルペン
テン−1;ビニルシクロヘキサン;ビニルシクロヘキセ
ンなどが挙げられる。また、ハロゲン置換α−オレフィ
ンも用いることができ、そのハロゲン置換α−オレフィ
ンとしては、例えば、ヘキサフルオロプロペン;テトラ
フルオロエチレン;2−フルオロプロペン;フルオロエ
チレン;1,1−ジフルオロエチレン;3−フルオロプ
ロペン;トリフルオロエチレン;3,4−ジクロロブテ
ン−1などが挙げられる。そして、α−オレフィンに
は、必要により環状オレフィンが含まれてもよい。その
環状オレフィンとしては、例えば、ノルボルネン;5−
メチルノルボルネン;5−エチルノルボルネン;5,6
−ジメチルノルボルネン;1−メチルノルボルネン;5
−エチルノルボルネンなどが挙げられる。これらのα−
オレフィンは、それぞれ単独で用いてもよいし、二種以
上を組み合わせて用いてもよい。ここで、エチレン・α
−オレフィン共重合体としては、エチレン成分が40〜
98モル%、好ましくは50〜97モル%及びα−オレ
フィン成分が60〜2モル%、好ましくは50〜3モル
%の範囲のものである。
【0006】一方、ジエン系単量体は、側鎖に二重結合
を導入するために用いられるものである。例えば、1,
3−ブタジエン;クロロプレン;イソプレン;1,3−
ヘキサジエン;1,3−ヘプタジエンなどの炭素数4〜
20の共役系ジエン系化合物、ビニルノルボルネンなど
の環状オレフィン、一般式
【0007】
【化2】
【0008】〔式中、R1 は炭素数1〜20の炭化水素
基、R2 はハロゲン原子又は炭素数1〜8の炭化水素
基、R3 は水素原子,ハロゲン原子又は炭素数1〜8の
炭化水素基、mは0又は1〜4の整数を示し、mが2以
上の場合は複数のR2 は同一であっても異なってもよ
い。〕で表わされるビニルスチレン系化合物などが挙げ
られる。これらの中では、上記一般式(I)又は(II)で
表わされるビニルスチレン系化合物が特に好適である。
ここで、一般式(I)中のR1 は炭素数1〜20の炭化
水素基を示し、また、一般式(I)及び(II) 中のR2
はハロゲン原子又は炭素数1〜8の炭化水素基、R3
水素原子,ハロゲン原子又は炭素数1〜8の炭化水素
基、mは0又は1〜4の整数を示す。上記一般式(I)
で表わされるビニルスチレン系化合物は、具体的には例
えば、p−(2−プロペニル)スチレン,m−(2−プ
ロペニル)スチレン,p−(3−ブテニル)スチレン,
m−(3−ブテニル)スチレン,o−(3−ブテニル)
スチレン,p−(4−ペンテニル)スチレン,m−(4
−ペンテニル)スチレン,o−(4−ペンテニル)スチ
レン,p−(7−オクテニル)スチレン,p−(2−メ
チル−3−ブテニル)スチレン,p−(1−メチル−3
−ブテニル)スチレン,p−(3−メチル−3−ブテニ
ル)スチレン,p−(2−エチル−3−ブテニル)スチ
レン,p−(2−エチル−4−ペンテニル)スチレン,
m−(2−メチル−3−ブテニル)スチレン,o−(2
−メチル−3−ブテニル)スチレン,4−ビニル−4’
−(3−ブテニル)ビフェニル,4−ビニル−4’−
(4−ペンテニル)ビフェニル,4−ビニル−3’−
(3−ブテニル)ビフェニル,4−ビニル−2’−(4
−ペンテニル)ビフェニル,4−ビニル−4−(2−メ
チル−3−ブテニル)ビフェニル,m−(3−ブテニ
ル)−α−メチルスチレン,o−(3−ブテニル)−α
−メチルスチレン,p−3−ブテニル)−α−メチルス
チレンなどが挙げられる。
【0009】また、一般式(II)で表わされるビニルス
チレン系化合物としては、上記一般式(I)で例示した
化合物において、α−オレフィン残基がビニル基で置換
された化合物を挙げることができる。具体的には例え
ば、ジビニルベンゼン,ジビニルトルエン,イソプロペ
ニルスチレンなどが挙げられる。本発明においては、該
ジエン系単量体は、それぞれ単独で用いてもよいし、二
種以上を組み合わせて用いてもよい。本発明において用
いられる側鎖に重合性炭素−炭素二重結合を有するエチ
レン・α−オレフィン系共重合体は、グラフト効率,グ
ラフト鎖長を広範に制御するためには、グラフト点がス
チレン性不飽和二重結合であるのが有利である。このよ
うなエチレン・α−オレフィン系共重合体を製造するに
は、触媒として、遷移金属化合物及び有機金属化合物
(特にトリアルキルアルミニウム)を主成分とするも
の、又は担持遷移金属化合物及び有機金属化合物を主
成分とするものを用い、エチレン,前記α−オレフィン
及び前記ジエン系単量体、特に一般式(I)及び(II)
で表わされるビニルスチレン系化合物の中から選ばれた
一種とを共重合させればよい。これによって、スチレン
性二重結合を側鎖に導入することができる。
【0010】該一般式(II)で表わされるビニルスチレ
ン系化合物を用いてグラフト開始点を生成させる場合、
架橋体を生成しやすく、十分な反応率が得られず、未反
応モノマーが残存するなど、製造上制限を受けやすい。
これに対し、一般式(I)で表わされるビニルスチレン
系化合物を用いてグラフト開始点を生成させた場合、架
橋が生じにくくて反応率も高い。また、α−オレフィン
性二重結合でもグラフト体を製造することは可能である
が、グラフト鎖長やグラフト効率を広範に制御すること
は困難である。このようにして得られた側鎖に重合性炭
素−炭素二重結合を有するエチレン・α−オレフィン系
共重合体は、アタクチック構造,アイソタクチック構
造,シンジオタクチック構造のいずれであってもよい。
また、共重合様式はランダム型であってもよいし、ブロ
ック型であってもよい。さらに、不飽和基含量は1×1
-5〜15モル%、好ましくは1×10-4〜10モル%
の範囲にあるのが望ましい。分子量については、1,
2,4−トリクロロベンゼン中135℃の温度で測定し
た0.05g/デシリットルの濃度での還元粘度が0.01
〜30デシリットル/gの範囲にあるのがよい。なお、
エチレン・α−オレフィン系共重合体の製造が可能な範
囲で、一部溶媒に不溶な成分を含んだものを使用するこ
ともできる。上記のようにして得られるエチレン・α−
オレフィン系共重合体として、特に好ましくは、エチレ
ン・プロピレン・ジエン共重合体が挙げられる。
【0011】本発明のオレフィン系共重合体は、前記エ
チレン・α−オレフィン共重合体にスチレン系単量体を
グラフト共重合させたものである。ここで、スチレン系
単量体は、一般式(III)
【0012】
【化3】
【0013】〔式中、R4 は水素原子, ハロゲン原子あ
るいは炭素原子, スズ原子及びケイ素原子のいずれか一
種以上を含む置換基、nは1〜5の整数を示し、nが複
数のときは、各R4 は同一でも異なってもよい。〕で表
わされる化合物である。このような化合物としては、具
体的には例えば、スチレン;p−メチルスチレン;o−
メチルスチレン;m−メチルスチレン;2,4−ジメチ
ルスチレン;2,5−ジメチルスチレン;3,4−ジメ
チルスチレン;3,5−ジメチルスチレン;p−ターシ
ャリーブチルスチレンなどのアルキルスチレン、p−ク
ロロスチレン;m−クロロスチレン;o−クロロスチレ
ン;p−ブロモスチレン;m−ブロモスチレン;o−ブ
ロモスチレン;p−フルオロスチレン;m−フルオロス
チレン;o−フルオロスチレン;o−メチル−p−フル
オロスチレンなどのハロゲン化スチレン、4−ビニルビ
フェニル;3−ビニルビフェニル;2−ビニルビフェニ
ルなどのビニルビフェニル類、1−(4−ビニルフェニ
ル)−ナフタレン;2−(4−ビニルフェニル)−ナフ
タレン;1−(3−ビニルフェニル)−ナフタレン;2
−(3−ビニルフェニル)−ナフタレン;1−(2−ビ
ニルフェニル)−ナフタレン;2−(2−ビニルフェニ
ル)ナフタレンなどのビニルフェニルナフタレン類、1
−(4−ビニルフェニル)−アントラセン;2−(4−
ビニルフェニル)−アントラセン;9−(4−ビニルフ
ェニル)−アントラセン;1−(3−ビニルフェニル)
−アントラセン;2−(3−ビニルフェニル)−アント
ラセン;9−(3−ビニルフェニル)−アントラセン;
1−(2−ビニルフェニル)−アントラセン;2−(2
−ビニルフェニル)−アントラセン;9−(2−ビニル
フェニル)−アントラセンなどのビニルフェニルアント
ラセン類、1−(4−ビニルフェニル)−フェナントレ
ン;2−(4−ビニルフェニル)−フェナントレン;3
−(4−ビニルフェニル)−フェナントレン;4−(4
−ビニルフェニル)−フェナントレン;9−(4−ビニ
ルフェニル)−フェナントレン;1−(3−ビニルフェ
ニル)−フェナントレン;2−(3−ビニルフェニル)
−フェナントレン;3−(3−ビニルフェニル)−フェ
ナントレン;4−(3−ビニルフェニル)−フェナント
レン;9−(3−ビニルフェニル)−フェナントレン;
1−(2−ビニルフェニル)−フェナントレン;2−
(2−ビニルフェニル)−フェナントレン;3−(2−
ビニルフェニル)−フェナントレン;4−(2−ビニル
フェニル)−フェナントレン;9−(2−ビニルフェニ
ル)−フェナントレンなどのビニルフェニルフェナント
レン類、1−(4−ビニルフェニル)−ピレン;2−
(4−ビニルフェニル)−ピレン;1−(3−ビニルフ
ェニル)−ピレン;2−(3−ビニルフェニル)−ピレ
ン;1−(2−ビニルフェニル)−ピレン;2−(2−
ビニルフェニル)−ピレンなどのビニルフェニルピレン
類、4−ビニル−p−ターフェニル;4−ビニル−m−
ターフェニル;4−ビニル−o−ターフェニル;3−ビ
ニル−p−ターフェニル;3−ビニル−m−ターフェニ
ル;3−ビニル−o−ターフェニル;2−ビニル−p−
ターフェニル;2−ビニル−m−ターフェニル;2−ビ
ニル−o−ターフェニルなどのビニルターフェニル類、
4−(4−ビニルフェニル)−p−ターフェニルなどの
ビニルフェニルターフェニル類、4−ビニル−4’−メ
チルビフェニル;4−ビニル−3’−メチルビフェニ
ル;4−ビニル−2’−メチルビフェニル;2−メチル
−4−ビニルビフェニル;3−メチル−4−ビニルビフ
ェニルなどのビニルアルキルビフェニル類、4−ビニル
−4’−フルオロビフェニル;4−ビニル−3’−フル
オロビフェニル;4−ビニル−2’−フルオロビフェニ
ル;4−ビニル−2−フルオロビフェニル;4−ビニル
−3−フルオロビフェニル;4−ビニル−4’−クロロ
ビフェニル;4−ビニル−3’−クロロビフェニル;4
−ビニル−2’−クロロビフェニル;4−ビニル−2−
クロロビフェニル;4−ビニル−3−クロロビフェニ
ル;4−ビニル−4’−ブロモビフェニル;4−ビニル
−3’−ブロモビフェニル;4−ビニル−2’−ブロモ
ビフェニル;4−ビニル−2−ブロモビフェニル;4−
ビニル−3−ブロモビフェニルなどのハロゲン化ビニル
ビフェニル類、4−ビニル−4’−トリメチルシリルビ
フェニルなどのトリアルキルシリルビニルビフェニル
類、4−ビニル−4’−トリメチルスタンニルビフェニ
ル;4−ビニル−4’−トリブチルスタンニルビフェニ
ルなどのトリアルキルスタンニルビニルビフェニル類、
4−ビニル−4’−トリメチルシリルメチルビフェニル
などのトリアルキルシリルメチルビニルビフェニル類、
4−ビニル−4’−トリメチルスタンニルメチルビフェ
ニル;4−ビニル−4’−トリブチルスタンニルメチル
ビフェニルなどのトリアルキルスタンニルメチルビニル
ビフェニル類、p−クロロエチルスチレン;m−クロロ
エチルスチレン;o−クロロエチルスチレンなどのハロ
ゲン置換アルキルスチレン、p−トリメチルシリルスチ
レン;m−トリメチルシリルスチレン;o−トリメチル
シリルスチレン;p−トリエチルシリルスチレン;m−
トリエチルシリルスチレン;o−トリエチルシリルスチ
レン;p−ジメチルターシャリ−ブチルシリルスチレン
などのアルキルシリルスチレン類、p−ジメチルフェニ
ルシリルスチレン;p−メチルジフェニルシリルスチレ
ン;p−トリフェニルシリルスチレンなどのフェニル基
含有シリルスチレン類、p−ジメチルクロロシリルスチ
レン;p−メチルジクロロシリルスチレン;p−トリク
ロロシリルスチレン;p−ジメチルブロモシリルスチレ
ン;p−ジメチルヨードシリルスチレンなどのハロゲン
含有シリルスチレン類、p−(p−トリメチルシリル)
ジメチルシリルスチレンなどのシリル基含有シリルスチ
レン類などが挙げられる。これらのスチレン系単量体
は、それぞれ単独で用いてもよいし、二種以上を組み合
わせて用いてもよい。
【0014】本発明のオレフィン系共重合体を製造する
には、様々な方法があるが、触媒として、(A)(a)
遷移金属化合物及び(b)アルミノキサンを主成分とす
るもの、又は(B)(a)遷移金属化合物及び(c)遷
移金属化合物と反応してイオン性錯体を形成しうる化合
物を主成分とするものが用いられる。上記(a)成分の
遷移金属化合物としては様々なものがあるが、好ましく
は一般式(IV) M1 5 ・・・・・Rk ・・・(IV) 〔式中、M1 はTi,Zr,Cr,V,Nb,Ta又は
Hfを示し、R5 〜Rnは、それぞれ水素原子,酸素原
子,ハロゲン原子,炭素数1〜20のアルキル基;炭素
数1〜20のアルコキシ基;炭素数6〜20のアリール
基,アルキルアリール基若しくはアリールアルキル基;
炭素数1〜20のアシルオキシ基,アリル基,置換アリ
ル基,アセチルアセトナート基,置換アセチルアセトナ
ート基,ケイ素原子を含む置換基、あるいはカルボニ
ル,酸素分子,窒素分子,ルイス塩基,鎖状不飽和炭化
水素又は環状不飽和炭化水素などの配位子,シクロペン
タジエニル基,置換シクロペンタジエニル基,インデニ
ル基,置換インデニル基,テトラヒドロインデニル基,
置換テトラヒドロインデニル基,フルオレニル基又は置
換フルオレニル基を示す。また、kは金属の原子価を示
し、通常2〜5の整数を示す〕で表わされる化合物を挙
げることができる。
【0015】ここで、置換シクロペンタジエニル基とし
ては、例えば、メチルシクロペンタジエニル基,エチル
シクロペンタジエニル基,イソプロピルシクロペンタジ
エニル基,1,2−ジメチルシクロペンタジエニル基,
テトラメチルシクロペンタジエニル基,1,3−ジメチ
ルシクロペンタジエニル基,1,2,3−トリメチルシ
クロペンタジエニル基,1,2,4−トリメチルシクロ
ペンタジエニル基,ペンタメチルシクロペンタジエニル
基,トリメチルシリルシクロペンタジエニル基などが挙
げられる。また、R5 〜Rk の配位子は、配位子間で共
有結合によって架橋体を形成してもよい。ハロゲン原子
の具体例としては、フッ素原子,塩素原子,臭素原子,
ヨウ素原子;炭素数1〜20のアルキル基としては、メ
チル基,エチル基,n−プロピル基,iso−プロピル
基,n−ブチル基,オクチル基,2−エチルヘキシル基
など、炭素数1〜20のアルコキシ基としては、メトキ
シ基,エトキシ基,プロポキシ基,ブトキシ基,フェノ
キシ基など、;炭素数6〜20のアリール基,アルキル
アリール基若しくはアリールアルキル基としては、フェ
ニル基,トリル基,キシリル基,ベンジル基など、炭素
数1〜20のアシルオキシ基としては、ヘプタデシルカ
ルボニルオキシ基など、;ケイ素原子を含む置換基とし
ては、トリメチルシリル基,(トリメチルシリル)メチ
ル基など、ルイス塩基としては、ジメチルエーテル,ジ
エチルエーテル,テトラヒドロフランなどのエーテル
類、テトラヒドロチオフェンなどのチオエーテル類、エ
チルベンゾエートなどのエステル類、ベンゾニトリル等
のニトリル類、トリメチルアミン,トリエチルアミン,
トリブチルアミン;N,N−ジメチルアニリン,ピリジ
ン;2,2’−ビピリジン,フェナントロリンなどのア
ミン類、トリエチルホスフィン,トリフェニルホスフィ
ンなどのホスフィン類など、鎖状不飽和炭化水素として
は、エチレン,ブタジエン,1−ペンテン,イソプレ
ン,ペンタジエン,1−ヘキセン及びこれらの誘導体な
ど、環状不飽和炭化水素としては、ベンゼン,トルエ
ン,キシレン,シクロヘプタトリエン,シクロオクタジ
エン,シクロオクタトリエン,シクロオクタテトラエン
及びこれらの誘導体などが挙げられる。共有結合による
架橋としては、例えば、メチレン架橋,ジメチルメチレ
ン架橋,エチレン架橋,ジメチルシリレン架橋,ジメチ
ルスタニレン架橋などが挙げられる。
【0016】チタニウム化合物の具体例としては、テト
ラメトキシチタン,テトラエトキシチタン,テトラ−n
−ブトキシチタン,テトライソプロポキシチタン,四塩
化チタン,三塩化チタン,二塩化チタン,水素化チタ
ン,シクロペンタジエニルトリメチルチタン,シクロペ
ンタジエニルトリエチルチタン,シクロペンタジエニル
トリプロピルチタン,シクロペンタジエニルトリブチル
チタン,メチルシクロペンタジエニルトリメチルチタ
ン,1,2−ジメチルシクロペンタジエニルトリメチル
チタン,ペンタメチルシクロペンタジエニルトリメチル
チタン,ペンタメチルシクロペンタジエニルトリエチル
チタン,ペンタメチルシクロペンタジエニルトリプロピ
ルチタン,ペンタメチルシクロペンタジエニルトリブチ
ルチタン,シクロペンタジエニルメチルチタンジクロリ
ド,シクロペンタジエニルエチルチタンジクロリド,ペ
ンタメチルシクロペンタジエニルメチルチタンジクロリ
ド,ペンタメチルクシクロペンタジエニルエチルチタン
ジクロリド,シクロペンタジエニルジメチルチタンモノ
クロリド;シクロペンタジエニルジエチルチタンモノク
ロリド,シクロペンタジエニルチタントリメトキシド,
シクロペンタジエニルチタントリエトキシド,シクロペ
ンタジエニルチタントリプロポキシド,シクロペンタジ
エニルチタントリフェノキシド,ペンタメチルシクロペ
ンタジエニルチタントリメトキシド,ペンタメチルシク
ロペンタジエニルチタントリエトキシド,ペンタメチル
シクロペンタジエニルチタントリプロポキシド,ペンタ
メチルシクロペンタジエニルチタントリブトキシド,ペ
ンタメチルシクロペンタジエニルチタントリフェノキシ
ド,シクロペンタジエニルチタントリクロリド,ペンタ
メチルシクロペンタジエニルチタントリクロリド,シク
ロペンタジエニルメトキシチタンジクロリド,シクロペ
ンタジエニルジメトキシチタンクロリド,ペンタメチル
シクロペンタジエニルメトキシチタンジクロリド,シク
ロペンタジエニルトリベンジルチタン,ペンタメチルシ
クロペンタジエニルメチルジエトキシチタン,インデニ
ルチタントリクロリド,インデニルチタントリメトキシ
ド,インデニルチタントリエトキシド,インデニルトリ
メチルチタン,インデニルトリベンジルチタンなどが挙
げられる。
【0017】また、一般式(IV)で表わされる遷移金属化
合物のうち、M1 がジルコニウムであるジルコニウム化
合物の具体例としては、ジシクロペンタジエニルジルコ
ニウムジクロリド,テトラブトキシジルコニウム,四塩
化ジルコニウム,テトラフェニルジルコニウム,シクロ
ペンタジエニルジルコニウムトリメトキシド,ペンタメ
チルシクロペンタジエニルジルコニウムトリメトキシ
ド,シクロペンタジエニルトリベンジルジルコニウム,
ペンタメチルシクロペンタジエニルトリベンジルジルコ
ニウム,ビスインデニルジルコニウムジクロリド,ジル
コニウムジベンジルジクロリド,ジルコニウムテトラベ
ンジル,トリブトキシジルコニウムクロリド,トリイソ
プロポキシジルコニウムクロリド,(ペンタメチルシク
ロペンタジエニル)トリメチルジルコニウム,(ペンタ
メチルシクロペンタジエニル)トリフェニルジルコニウ
ム,(ペンタメチルシクロペンタジエニル)トリクロロ
ルジルコニウム,(シクロペンタジエニル)トリメチル
ジルコニウム,(シクロペンタジエニル)トリフェニル
ジルコニウム,(シクロペンタジエニル)トリクロロル
ジルコニウム,(シクロペンタジエニル)ジメチル(メ
トキシ)ジルコニウム,(メチルシクロペンタジエニ
ル)トリメチルジルコニウム,(メチルシクロペンタジ
エニル)トリフェニルジルコニウム,(メチルシクロペ
ンタジエニル)トリベンジルジルコニウム,(メチルシ
クロペンタジエニル)トリクロロジルコニウム,(メチ
ルシクロペンタジエニル)ジメチル(メトキシ)ジルコ
ニウム,(ジメチルシクロペンタジエニル)トリクロロ
ジルコニウム,(トリメチルシクロペンタジエニル)ト
リクロロジルコニウム,(トリメチルシリルシクロペン
タジエニル)トリメチルジルコニウム,(テトラメチル
シクロペンタジエニル)トリクロロジルコニウム,ビス
(シクロペンタジエニル)ジメチルジルコニウム,ビス
(シクロペンタジエニル)ジフェニルジルコニウム,ビ
ス(シクロペンタジエニル)ジエチルジルコニウム,ビ
ス(シクロペンタジエニル)ジベンジルジルコニウム,
ビス(シクロペンタジエニル)ジメトキシジルコニウ
ム,ビス(シクロペンタジエニル)ジクロロジルコニウ
ム,ビス(シクロペンタジエニル)ジヒドリドジルコニ
ウム,ビス(シクロペンタジエニル)モノクロロモノヒ
ドリドジルコニウム,ビス(メチルシクロペンタジエニ
ル)ジメチルジルコニウム,ビス(メチルシクロペンタ
ジエニル)ジクロロジルコニウム,ビス(メチルシクロ
ペンタジエニル)ジベンジルジルコニウム,ビス(ペン
タメチルシクロペンタジエニル)ジメチルジルコニウ
ム,ビス(ペンタメチルシクロペンタジエニル)ジクロ
ロジルコニウム,ビス(ペンタメチルシクロペンタジエ
ニル)ジベンジルジルコニウム,ビス(ペンタメチルシ
クロペンタジエニル)クロロメチルジルコニウム,ビス
(ペンタメチルシクロペンタジエニル)ヒドリドメチル
ジルコニウム,(シクロペンタジエニル)(ペンタメチ
ルシクロペンタジエニル)ジクロロジルコニウム,エチ
レンビス(インデニル)ジメチルジルコニウム,エチレ
ンビス(テトラヒドロインデニル)ジメチルジルコニウ
ム,エチレンビス(テトラヒドロインデニル)ジクロロ
ジルコニウム,ジメチルシリレンビス(シクロペンタジ
エニル)ジメチルジルコニウム,ジメチルシリレンビス
(シクロペンタジエニル)ジクロロジルコニウム,イソ
プロピル(シクロペンタジエニル)(9−フルオレニ
ル)ジメチルジルコニウム,イソプロピル(シクロペン
タジエニル)(9−フルオレニル)ジクロロジルコニウ
ム,〔フェニル(メチル)メチレン〕(9−フルオレニ
ル)(シクロペンタジエニル)ジメチルジルコニウム,
ジフェニルメチレン(シクロペンタジエニル)(9−フ
ルオレニル)ジメチルジルコニウム,エチリデン(9−
フルオレニル)(シクロペンタジエニル)ジメチルジル
コニウム,シクロヘキシル(9−フルオレニル)(シク
ロペンタジエニル)ジメチルジルコニウム,シクロペン
シル(9−フルオレニル)(シクロペンタジエニル)ジ
メチルジルコニウム,シクロブチル(9−フルオレニ
ル)(シクロペンタジエニル)ジメチルジルコニウム,
ジメチルシリレン(9−フルオレニル)(シクロペンタ
ジエニル)ジメチルジルコニウム,ジメチルシリレンビ
ス(2,3,5−トリメチルシクロペンタジエニル)ジ
クロロジルコニウム,ジメチルシリレンビス(2,3,
5−トリメチルシクロペンタジエニル)ジメチルジルコ
ニウムなどが挙げられる。
【0018】バナジウム化合物の具体例としては、バナ
ジウムトリクロリド,バナジルトリクロリド,バナジウ
ムトリアセチルアセトナート,バナジウムテトラクロリ
ド,バナジウムトリブトキシド,バナジルジクロリド,
バナジルビスアセチルアセトナート,バナジルトリアセ
チルアセトナート,ジベンゼンバナジウム,ジシクロペ
ンタジエニルバナジウム,ジシクロペンタジエニルバナ
ジウムジクロリド,シクロペンタジエニルバナジウムジ
クロリド,ジシクロペンタジエニルメチルバナジウムな
どが挙げられる。ニオブ化合物の具体例としては、五塩
化ニオブ,テトラクロロメチルニオブ,ジクロロトリメ
チルニオブ,ジシクロペンタジエニルニオブジクロリ
ド,ジシクロペンタジエニルニオブトリヒドリド,ペン
タブトキシニオブなどが挙げられる。タンタル化合物の
具体例としては、五塩化タンタル,ジクロルトリメチル
タンタル,ジシクロペンタジエニルタンタルトリヒドリ
ド,ペンタブトキシニオブなどが、クロム化合物の具体
例としては、三塩化クロム,テトラブトキシクロム,テ
トラメチルクロム,ジシクロペンタジエニルクロム,ジ
ベンゼンクロムなどが挙げられる。
【0019】さらに、その他の遷移金属化合物として、
上記遷移金属化合物をマグネシウム化合物やケイ素化合
物などの担体に担持したものを用いることができるし、
上記遷移化合物を電子供与性化合物で変性したものも用
いることができる。これらの遷移金属化合物の中でも特
に好ましいものは、チタニウム化合物及びジルコニウム
化合物である。本発明における(A)触媒には、上記
(a)遷移金属化合物とともに(b)アルミノキサンが
用いられる。このアルミノキサンは、有機アルミニウム
化合物と縮合剤を接触させることにより得られるもので
あって、一般式(V)
【0020】
【化4】
【0021】〔式中、R6 は炭素数1〜20のアルキル
基、好ましくはメチル基を示し、pは0〜50、好まし
くは5〜30の数を示す。〕で表わされる鎖状アルミノ
キサンや、一般式(VI)
【0022】
【化5】
【0023】〔式中、R6 は上記と同じであり、qは2
〜50、好ましくは5〜30の数を示す。〕で表わされ
る環状アルミノキサンなどがある。該有機アルミニウム
化合物としては、例えば、トリメチルアルミニウム,ト
リエチルアルミニウム,トリイソブチルアルミニウムな
どのトリアルキルアルミニウムなどが挙げられるが、こ
れらの中でトリメチルアルミニウムが好適である。ま
た、縮合剤としては、典型的なものとして水が挙げられ
るが、この他にトリアルキルアルミニウムが縮合反応す
る任意のもの、例えば、硫酸銅5水塩,無機物や有機物
への吸着水など、各種のものが挙げられる。
【0024】一般に、トリアルキルアルミニウムなどの
有機アルミニウム化合物と水との接触生成物は、上述の
鎖状アルキルアルミノキサンや環状アルキルアルミノキ
サンとともに、未反応のトリアルキルアルミニウム,各
種の縮合生成物の混合物、さらには、これらが複雑に会
合した分子であり、これらはトリアルキルアルミニウム
と縮合剤である水との接触条件によって様々な生成物と
なる。この際のアルキルアルミニウム化合物と水との接
触方法には特に限定はなく、公知の手法に準じて反応さ
せればよい。例えば、有機アルミニウム化合物を有機
溶剤に溶解しておき、これを水と接触させる方法、重
合時に当初有機アルミニウム化合物を加えておき、後に
水を添加する方法、さらには金属塩などに含有されて
いる結晶水,無機物や有機物への吸着水を有機アルミニ
ウム化合物と反応させる方法などがある。なお、上記の
水にはアンモニア,エチルアミンなどのアミン、硫化水
素などの硫黄化合物,亜燐酸エステルなどの燐化合物な
どが20%程度まで含有されていてもよい。また、この
反応は無溶媒下でも進行するが、溶媒中で行なうことが
好ましく、好適な溶媒としては、ヘキサン,ヘプタン,
デカン等の脂肪族炭化水素あるいはベンゼン,トルエ
ン,キシレンなどの芳香族炭化水素を挙げることができ
る。
【0025】このアルミノキサン(例えば、アルキルア
ルミノキサン)は、上記の接触反応後、含水化合物など
を使用した場合には、固体残渣を濾別し、濾液を常圧下
あるいは減圧下で30〜200℃の温度、好ましくは4
0〜150℃の温度で、20分〜8時間、好ましくは3
0分〜5時間の範囲で溶媒を留去しつつ熱処理したもの
が好ましい。この熱処理にあたっては、温度は各種の状
況によって適宜定めればよいが、通常は、上記範囲で行
う。一般に、30℃未満の温度では、効果が発現せず、
また200℃を超えるとアルキルアルミノキサン自体の
熱分解が起こり、いずれも好ましくない。そして、熱処
理の処理条件により反応生成物は、無色の固体又は溶液
状態で得られる。このようにして得られた生成物を、必
要に応じて炭化水素溶媒で溶解あるいは希釈して触媒溶
液として使用することができる。
【0026】このような触媒成分として用いる有機アル
ミニウム化合物と縮合剤との接触生成物であるアルミノ
キサン、特にアルキルアルミノキサンの好適な例は、プ
ロトン核磁気共鳴スペクトルで観測されるアルミニウム
−メチル基(Al−CH3 )結合に基づくメチルプロト
ンシグナル領域における高磁場成分が50%以下のもの
である。つまり、上記の接触生成物を室温下、トルエン
溶媒中でそのプロトン核磁気共鳴( 1H−NMR)スペ
クトルを観測すると、「Al−CH3 」に基づくメチル
プロトンシグナルはテトラメチルシラン(TMS)基準
において1.0〜−0.5ppmの範囲に見られる。TMS
のプロトンシグナル(0ppm)が「Al−CH3 」に
基づくメチルプロトン観測領域にあるため、この「Al
−CH3」に基づくメチルプロトンシグナルを、TMS
基準におけるトルエンのメチルプロトンシグナル2.35
ppmを基準に測定し高磁場成分(即ち、−0.1〜−0.
5ppm)と他の磁場成分(即ち、1.0〜−0.1pp
m)とに分けたときに、該高磁場成分が全体の50%以
下、好ましくは45〜5%のものが触媒成分として好適
に使用できる。
【0027】本発明における(B)触媒には、前記
(a)遷移金属化合物とともに、(c)遷移金属化合物
と反応してイオン性錯体を形成しうる化合物が用いられ
る。この化合物については特に制限はないが、例えば、
一般式(VII) ,(VIII) (〔L1 −R7 U+V (M2 1 2 ・・・Ze (e-f)-W ・・・(VII) 又は (〔L2 U+V (M3 1 2 ・・・Ze (e-f)-W ・・・(VIII) (但し、L2 はM4 ,R8 9 5 ,R10 3 C又はR11
5 である) 〔式中、L1 はルイス塩基、M2 及びM3 はそれぞれ周
期律表のVB 族,VIB 族,VIIB族,VIII族,IB 族,II
B 族,IIIA族,IVA 族及びV族から選ばれる元素、M4
及びM5 はそれぞれ周期律表のIIIB族,IV族,V族,VI
B 族,VIIB族,VIII族,I族,IB 族,IIA 族,IIB 族
及びVIIA族から選ばれる元素、Z1 〜Zeはそれぞれ水
素原子,ジアルキルアミノ基,アルコキシ基,炭素数1
〜20のアルコキシ基,炭素数6〜20のアリールオキ
シ基,炭素数1〜20のアルキル基,炭素数6〜20の
アリール基,アルキルアリール基,アリールアルキル
基,炭素数1〜20のハロゲン置換炭化水素基,炭素数
1〜20のアシルオキシ基,有機メタロイド基又はハロ
ゲン原子を示し、Z1 〜Ze ははその2以上が互いに結
合して環を形成していてもよい。R7 は水素原子,炭素
数1〜20のアルキル基,炭素数6〜20のアリール
基,アルキルアリール基又はアリールアルキル基を示
し、R8 及びR9 はそれぞれシクロペンタジエニル基,
置換シクロペンタジエニル基,インデニル基又はフルオ
レニル基、R10は炭素数1〜20のアルキル基,アリー
ル基,アルキルアリール基又はアリールアルキル基を示
す。R11はテトラフェニルポルフィリン,フタロシアニ
ンなどの大環状配位子を示す。fはM2,M3 の原子価
で1〜7の整数、eは2〜8の整数、uは〔L1
7 〕,〔L 2 〕のイオン価数で1〜7の整数、vは1
以上の整数、w=(v×u)/(e−f)である。〕で
表わされる化合物である。
【0028】ここで、上記L1 で示されるルイス塩基の
具体例としては、アンモニア,メチルアミン,アニリ
ン,ジメチルアミン,ジエチルアミン,N−メチルアニ
リン,ジフェニルアミン,トリメチルアミン,トリエチ
ルアミン,トリ−n−ブチルアミン,N,N−ジメチル
アニリン,メチルジフェニルアミン,ピリジン;2,
2’−ビピリジン,p−ブロモ−N,N−ジメチルアニ
リン,p−ニトロ−N,N−ジメチルアニリン,フェナ
ントロリンなどのアミン類、トリエチルフォスフィン,
トリフェニルフォスフィン,ジフェニルフォスフィンな
どのフォスフィン類、ジメチルエーテル,ジエチルエー
テル,テトラヒドロフランジオキサンなどのエーテル
類、ジエチルチオエーテル,テトラヒドロチオフェンな
どのチオエーテル類、エチルベンゾエート等のエステル
類、アセトニトリル,ベンゾニトリルなど等のニトリル
類などが挙げられる。
【0029】また、M2 及びM3 の具体例としては、
B,Al,Si,P,As,Sbなど、M4 の具体例と
しては、Li,Na,Ag,Cu,Br,I,I3
ど、M5の具体例としては、Mn,Fe,Co,Ni,
Znなどが挙げられる。Z1 〜Z e の具体例としては、
例えば、ジアルキルアミノ基としてジメチルアミノ基,
ジエチルアミノ基;炭素数1〜20のアルコキシ基とし
てメトキシ基,エトキシ基,n−ブトキシ基、炭素数6
〜20のアリールオキシ基としてフェノキシ基,2,6
−ジメチルフェノキシ基,ナフチルオキシ基、炭素数1
〜20のアルキル基としてメチル基,エチル基,n−プ
ロピル基,iso−プロピル基,n−ブチル基,n−オ
クチル基,2−エチルヘキシル基、炭素数6〜20のア
リール基,アルキルアリール基若しくはアリールアルキ
ル基としてフェニル基,p−トリル基,ベンジル基,ペ
ンタフルオロフェニル基,3,5−ジ(トリフルオロメ
チル)フェニル基,4−ターシャリーブチルフェニル
基,2,6−ジメチルフェニル基,3,5−ジメチルフ
ェニル基,2,4−ジメチルフェニル基,2,3−ジメ
チルフェニル基,1,2−ジメチルフェニル基、炭素数
1〜20のハロゲン置換炭化水素基としてp−フルオロ
フェニル基,3,5−ジフルオロフェニル基,ペンタク
ロロフェニル基,3,4,5−トリフルオロフェニル
基,ペンタフルオロフェニル基,3,5−ジ(トリフル
オロメチル)フェニル基、ハロゲン原子としてF,C
l,Br,I;有機メタロイド基として五メチルアンチ
モン基,トリメチルシリル基,トリメチルゲルミル基,
ジフェニルアルシン基,ジシクロヘキシルアンチモン
基,ジフェニル硼素基が挙げられる。R7 ,R10の具体
例としては先に挙げたものと同様なものが挙げられる。
8 及びR9 の置換シクロペンタジエニル基の具体例と
しては、メチルシクロペンタジエニル基,ブチルシクロ
ペンタジエニル基,ペンタメチルシクロペンタジエニル
基などのアルキル基で置換されたものが挙げられる。こ
こで、アルキル基は通常炭素数が1〜6であり、置換さ
れたアルキル基の数は1〜4の整数で選ぶことができ
る。
【0030】上記一般式(VII),(VIII)の化合物の中で
は、M2 ,M3 が硼素であるものが好ましい。一般式
(VII),(VIII)の化合物の中で、具体的には、下記のも
のを特に好適に使用できる。例えば、一般式(VII)の化
合物としては、テトラフェニル硼酸トリエチルアンモニ
ウム,テトラフェニル硼酸トリ(n−ブチル)アンモニ
ウム,テトラフェニル硼酸トリメチルアンモニウム,テ
トラフェニル硼酸テトラエチルアンモニウム,テトラフ
ェニル硼酸メチルトリ(n−ブチル)アンモニウム,テ
トラフェニル硼酸ベンジルトリ(n−ブチル)アンモニ
ウム,テトラフェニル硼酸ジメチルジフェニルアンモニ
ウム,テトラフェニル硼酸メチルトリフェニルアンモニ
ウム,テトラフェニル硼酸トリメチルアニリニウム,テ
トラフェニル硼酸メチルピリジニウム,テトラフェニル
硼酸ベンジルピリジニウム,テトラフェニル硼酸メチル
(2−シアノピリジニウム),テトラフェニル硼酸トリ
メチルスルホニウム,テトラフェニル硼酸ベンジルメチ
ルスルホニウム,テトラ(ペンタフルオロフェニル)硼
酸トリエチルアンモニウム,テトラ(ペンタフルオロフ
ェニル)硼酸トリ(n−ブチル)アンモニウム,テトラ
(ペンタフルオロフェニル)硼酸トリフェニルアンモニ
ウム,テトラ(ペンタフルオロフェニル)硼酸テトラブ
チルアンモニウム,テトラ(ペンタフルオロフェニル)
硼酸テトラエチルアンモニウム,テトラ(ペンタフルオ
ロフェニル)硼酸〔メチルトリ(n−ブチル)アンモニ
ウム〕,テトラ(ペンタフルオロフェニル)硼酸〔ベン
ジルトリ(n−ブチル)アンモニウム〕,テトラ(ペン
タフルオロフェニル)硼酸メチルジフェニルアンモニウ
ム,テトラ(ペンタフルオロフェニル)硼酸メチルトリ
フェニルアンモニウム,テトラ(ペンタフルオロフェニ
ル)硼酸ジメチルジフェニルアンモニウム,テトラ(ペ
ンタフルオロフェニル)硼酸アニリニウム,テトラ(ペ
ンタフルオロフェニル)硼酸メチルアニリニウム,テト
ラ(ペンタフルオロフェニル)硼酸ジメチルアニリニウ
ム,テトラ(ペンタフルオロフェニル)硼酸トリメチル
アニリニウム,テトラ(ペンタフルオロフェニル)硼酸
ジメチル(m−ニトロアニリニウム),テトラ(ペンタ
フルオロフェニルメチル)硼酸ジメチル(p−ブロモア
ニリニウム),テトラ(ペンタフルオロフェニル)硼酸
ピリジニウム,テトラ(ペンタフルオロフェニル)硼酸
(p−シアノピリジニウム),テトラ(ペンタフルオロ
フェニル)硼酸(N−メチルピリジニウム),テトラ
(ペンタフルオロフェニル)硼酸(N−ベンジルピリジ
ニウム),テトラ(ペンタフルオロフェニル)硼酸(O
−シアノ−N−メチルピリジニウム),テトラ(ペンタ
フルオロフェニル)硼酸(p−シアノ−N−メチルピリ
ジニウム),テトラ(ペンタフルオロフェニル)硼酸
(p−シアノ−N−ベンジルピリジニウム),テトラ
(ペンタフルオロフェニル)硼酸トリメチルスルホニウ
ム,テトラ(ペンタフルオロフェニル)硼酸ベンジルジ
メチルスルホニウム,テトラ(ペンタフルオロフェニ
ル)硼酸テトラフェルホスホニウム,テトラ(3,5−
ジトリフルオロメチルフェニル)硼酸ジメチルアニリニ
ウム,ヘキサフルオロ砒素酸トリエチルアンモニウムト
ウなどが挙げられる。
【0031】一方、一般式(VIII)の化合物としては、テ
トラフェニル硼酸フェロセニウム,テトラフェニル硼酸
銀,テトラフェニル硼酸トリチル,テトラフェニル硼酸
(テトラフェニルポルフィリンマンガン),テトラ(ペ
ンタフルオロフェニル)硼酸フェロセニウム,テトラ
(ペンタフルオロフェニル)硼酸デカメチルフェロセニ
ウム,テトラ(ペンタフルオロフェニル)硼酸アセチル
フェロセニウム,テトラ(ペンタフルオロフェニル)硼
酸ホルミルフェロセニウム,テトラ(ペンタフルオロフ
ェニル)硼酸シアノフェロセニウム,テトラ(ペンタフ
ルオロフェニル)硼酸銀,テトラ(ペンタフルオロフェ
ニル)硼酸トリチル,テトラ(ペンタフルオロフェニ
ル)硼酸リチウム,テトラ(ペンタフルオロフェニル)
硼酸ナトリウム,テトラ(ペンタフルオロフェニル)硼
酸(テトラフェニルポルフィリンマンガン),テトラ
(ペンタフルオロフェニル)硼酸(テトラフェニルポル
フィリン鉄クロライド),テトラ(ペンタフルオロフェ
ニル)硼酸(テトラフェニルポルフィリン亜鉛),テト
ラフルオロ硼酸銀,ヘキサフルオロ砒素酸銀,ヘキサフ
ルオロアンチモン酸銀などが挙げられる。そして、一般
式(VII) ,(VIII)以外の化合物としては、例えば、トリ
(ペンタフルオロフェニル)硼酸,トリ〔3,5−ジ
(トリフルオロメチル)フェニル〕硼酸,トリフェニル
硼酸なども使用することができる。
【0032】本発明においては、上記(A)触媒又は
(B)触媒とともに、所望により(d)成分として有機
金属化合物を併用することができる。この所望により併
用される(d)有機金属化合物としては、一般式(IX) M6 (R12r ・・・(IX) で表わされる化合物が用いられる。この一般式(IX)にお
いて、R12は、炭素数1〜20のアルキル基,炭素数2
〜20のアルケニル基,炭素数3〜20のシクロアルキ
ル基,炭素数6〜20のアリール基あるいは炭素数7〜
20のアラルキル基を示す。具体的には例えば、メチル
基,エチル基,n−プロピル基,i−プロピル基,n−
ブチル基,i−ブチル基,ヘキシル基,2−エチルヘキ
シル基,フェニル基などが挙げられる。そして、M6
リチウム,ナトリウム,カリウム,マグネシウム,亜
鉛,カドミウム,アルミニウム,ホウ素,ガリウム,ケ
イ素あるいはスズを示す。また、r はM6 の原子価を表
わす。一般式(IX)で表わされる化合物としては、様々な
ものがある。具体的には例えば、メチルリチウム,エチ
ルリチウム,プロピルリチウム,ブチルリチウムなどの
アルキルリチウム化合物、ジエチルマグネシウム,エチ
ルブチルマグネシウム,ジノルマルブチルマグネシウム
などのアルキルマグネシウム化合物、ジメチル亜鉛,ジ
エチル亜鉛,ジプロピル亜鉛,ジブチル亜鉛などのジア
ルキル亜鉛化合物、トリメチルガリウム,トリエチルガ
リウム,トリプロピルガリウムなどのアルキルガリウム
化合物,トリエチルホウ素,トリプロピルホウ素,トリ
ブチルホウ素などのアルキルホウ素化合物、テトラエチ
ルスズ,テトラプロピルスズ,テトラフェニルスズなど
のアルキルスズ化合物などが挙げられる。また、M
6 が、アルミニウムである場合の化合物としては、様々
なものがある。具体的には、トリメチルアルミニウム,
トリエチルアルミニウム,トリイソプロピルアルミニウ
ム,トリイソブチルアルミニウム,トリn−ヘキシルア
ルミニウム,トリオクチルアルミニウムなどのトリアル
キルアルミニウム化合物などが挙げられる。
【0033】本発明において用いられる触媒における各
成分の使用割合は、グラフト鎖となるスチレン系単量体
やグラフト点となる重合性不飽和結合の種類,濃度によ
って異なり、一概には定められないが、該(A)触媒に
おいては、(a)成分中の遷移金属(例えばチタン)に
対する(b)成分中のアルミニウムのモル比が1〜10
6 、好ましくは10〜104 の範囲にあるような割合で
(a)成分と(b)成分を用いるのが望ましい。一方、
(B)触媒においては、(a)成分に対する(c)成分
のモル比が0.01〜100、好ましくは1〜10の範囲
にあるような割合で(a)成分と(c)成分とを用いる
のが望ましい。この場合、(a)成分と(c)成分は予
め接触させ、接触処理物を分離,洗浄して用いてもよい
し、重合系内で接触させてもよい。また、(A)触媒又
は(B)触媒において、所望に応じて用いられる(d)
成分の使用量は、該(a)成分1モルに対して、通常0
〜100モルの範囲で選ばれる。この(d)成分を用い
ることにより、重合活性の向上を図ることができるが、
あまり多く用いても添加量に相当する効果は発現しな
い。なお、この(d)成分は、(a)成分,(c)成分
あるいは(a)成分と(c)成分との接触処理物と接触
させて用いてもよい。この接触は、予め接触させてもよ
いし、重合系内へ順次添加して接触させてもよい。
【0034】本発明においては、スチレン系単量体とグ
ラフト前駆体(側鎖に重合性炭素−炭素二重結合を有す
るエチレン・α−オレフィン共重合体)との使用割合
は、スチレン系単量体/グラフト前駆体中のグラフト点
モル比が1〜106 、好ましくは2〜105 の範囲にあ
るように選ぶのが望ましい。また、スチレン系単量体と
触媒との使用割合については特に制限はないが、通常ス
チレン系単量体/遷移金属化合物のモル比が10〜10
12、好ましくは10 2 〜108 の範囲にあるように選ば
れる。本発明における重合反応においては、一般的には
重合温度は0〜120℃、好ましくは10〜80℃の範
囲で、重合時間は1秒〜10時間の範囲で選定すればよ
い。重合方法としては塊状,溶液,懸濁重合のいずれも
可能である。また、溶液重合にあっては、使用できる溶
媒としてはペンタン,ヘキサン,ヘプタンなどの脂肪族
炭化水素、シクロヘキサンなどの脂環式炭化水素、ベン
ゼン,トルエン,キシレンなどの芳香族炭化水素などが
ある。これらの中でも脂肪族炭化水素,芳香族炭化水素
が好ましい。この場合、モノマー/溶媒(体積比)は任
意に選択することができる。なお、グラフト点形成モノ
マとして、上記一般式(I)で表わされるビニルスチレ
ン系化合物を用いた場合には、前駆体製造時の反応率が
高く、反応終了時未反応モノマー量が低いので、引きつ
づき触媒成分を添加することにより、グラフト共重合が
可能である。
【0035】一方、一般式(II)で表わされるビニルス
チレン系化合物を用いた場合には、前駆体製造時の反応
率が低く、反応終了時未反応モノマー量が多いので、引
き続き触媒を添加してグラフト共重合を行う場合、架橋
などの副反応を防止するため、洗浄等の操作により未反
応モノマーを除去することが好ましい。そして、架橋反
応を防止するためには、前駆体のビニルスチレン含量を
10-4〜2モル%の範囲にすることが好ましい。さら
に、グラフト点形成モノマーとして、1,3−ブタジエ
ンやイソプレンなどの低沸点のジエン化合物を用いた場
合、前駆体製造後、未反応モノマーの除去が容易であ
り、引き続きグラフト共重合が可能である。このように
して、本発明のオレフィン系共重合体が得られる。本発
明のオレフィン系共重合体の分子量は、1,2,4−ト
リクロロベンゼン中135℃の温度で測定した0.05g
/デシリットルの濃度での還元粘度で0.05〜25デシ
リットル/g、好ましくは0.1〜10デシリットル/
g、または、300℃,2.16kg荷重で測定したメル
トインデックスが0.001〜500g/10分、好まし
くは0.005〜300g/10分の範囲であることが必
要である。この還元粘度が0.05デシリットル/g未
満、またはメルトインデックスが500g/10分を超
えるものでは機械的強度が不十分であるし、25デシリ
ットル/gを超えると、または0.001g/10分未満
では成形加工性に劣るようになり好ましくない。
【0036】また、本発明のオレフィン系共重合体は、
スチレン系単量体単位からなる連鎖の立体規則性が高度
のシンジオタクチック構造を有している。すなわち、そ
のシンジオタクティシティーがラセミダイアッドで75
%以上、好ましくは85%以上、ラセミペンタッドで3
0%以上、好ましくは50%以上である。さらに、この
スチレン系単量体単位からなる連鎖の含有量は0.1〜9
0重量%、好ましくは0.1〜50重量%の範囲にある。
この含有量が通常0.1〜90重量%の範囲にあるもの
は、グラフト前駆体を高弾性化,高強度化および高耐熱
化でき、熱可塑性エラストマーとしての利用が可能であ
り、また樹脂相溶化剤としても利用できる。この含有量
が0.1重量%未満では、このスチレン系単量体単位から
なる連鎖が凍結層として不十分となるために十分な機械
的強度が得られず好ましくない。また、含有量が90重
量%を超えると、軟質相が減少してエラストマーとして
の物性を有しなくなる。そして、上記オレフィン系共重
合体は、引張強度が200〜500kg/cm 2 ,引張
伸びが100〜600%,引張弾性率が1,000〜20,
000kg/cm2 を示し、高強度,高い伸びなど機械
的物性の優れたオレフィン系共重合体である。
【0037】
【実施例】次に、本発明を実施例により、さらに詳しく
説明するが、本発明はこれらの実施例によってなんら限
定されるものではない。 実施例1 (1)メチルアルミノキサンの調製 アルゴン置換した内容積500ミリリットルのガラス製
容器に、トルエン200ミリリットル,硫酸銅5水塩
(CuSO4 ・5H2 O)17.7g( 71ミリモル)及
びトリメチルアルミニウム24ミリリットル(250ミ
リモル)を入れ、40℃で8時間反応させた。その後、
固体成分を除去して得られた溶液から、さらにトルエン
を減圧留去して接触処理(メチルアルミノキサン)6.7
gを得た。このものの凝固点降下法により測定した分子
量は610であった。また、特開昭62−325391
号公報に基づく 1H−NMR測定による高磁場成分、す
なわち室温下トルエン溶液中でそのプロトン核磁気共鳴
スペクトルを観測すると(Al−CH3 ) 結合に基づく
メチルプロトンシグナルはテトラメチルシラン基準にお
いて1.0〜−0.5ppmの範囲にみられる。テトラメチ
ルシランのプロトンシグナルは(0ppm)がAl−C
3 結合に基づくメチルプロトンに基づく観測領域にあ
るため、このAl−CH3 結合に基づくメチルプロトン
シグナルをテトラメチルシラン基準におけるトルエンの
メチルプロトンシグナル2.35ppmを基準にして測定
し、高磁場成分(即ち、−0.1〜−0.5ppm)と他の
磁場成分(即ち、1.0〜−0.1ppm)とに分けたとき
に、該高磁場成分が全体の43%であった。
【0038】(2)固体触媒成分の調製 よく乾燥した500ミリリットル容の四つ口フラスコ
に、脱水精製したn−ヘプタン150ミリリットルを入
れ、次いで、マグネシウムジエトキシド10.0g(88
ミリモル)を導入し、攪拌しながらイソプロピルアルコ
ール1.06g(17.5ミリモル)を加え、80℃に昇温
して1時間処理した。次に、温度を室温まで下げて上澄
液を抜き出し、n−ヘプタン150ミリリットルを加え
攪拌、抜き出しを2回繰返して洗浄し、その後、n−ヘ
プタン150ミリリットル,安息香酸エチル2.63g
(17.5ミリモル)及び四塩化チタン83g(440ミ
リモル)を導入して沸点まで昇温し、2時間反応させ
た。反応後、80℃に温度を下げ、静置して上澄液を抜
き出し、新たにn−ヘプタン150ミリリットルを加
え、攪拌,静置,液抜きを2回繰返して洗浄を行った。
その後、再度、四塩化チタン83gを加え、沸点まで1
時間反応を行い、静置後、液抜きし、さらにn−ヘプタ
ンを加えて、攪拌,静置,液抜きを塩素イオンが検出さ
れなくなるまで繰返して洗浄し、固体触媒成分を得た。
得られた固体触媒成分中のTiを比色法により測定した
ところ、その担持量は48mg−Ti/g担体であっ
た。
【0039】(3)エチレン・α−オレフィン共重合体
(グラフト前駆体)の製造 乾燥した、1リットル容耐圧オートクレーブに脱気精製
したトルエン600ミリリットル,イソブチルアルミニ
ウム3ミリモル、p−(3−ブテニル)スチレン10ミ
リモルを入れ、50℃に昇温して攪拌を開始した。これ
に、プロピレンを3kg/cm2 Gの圧力で飽和したの
ち、エチレン7kg/cm2 Gとした。次に、上記
(2)で調製した固体触媒をチタン原子として、0.01
5ミリモル添加し共重合を1時間行った。この間、エチ
レンで全圧が10kg/cm2 Gとなるように反応圧力
を調節した。反応終了後、未反応ガスを除去し、重合体
をメタノール洗浄することにより、白色粉末156gを
得た。
【0040】(4)オレフィン系共重合体(グラフト共
重合体)の製造 1リットル容攪拌装置つきセパラブルフラスコに上記
(3)で得られたグラフト前駆体44.4gをトルエン約
600ミリリットルに溶解し、50℃でトルエンを減圧
留去した。新たに、乾燥トルエン400ミリリットルに
溶解し、スチレンを200ミリリットル,トリイソブチ
ルアルミニウム10ミリモル,メチルアルミノキサン1
0ミリモルを添加し、5分間50℃で保持した。その
後、ペンタメチルシクロペンタジエニルチタニウムトリ
メトキシド{Cp* Ti(OMe)3 }50マイクロモ
ルを加え、グラフト重合を開始した。反応系内は、触媒
の添加によって、重合が進行し、溶液状態から不均一状
態へと変化した。10分間重合を行ったのち、メタノー
ルを投入して重合を停止、メタノール洗浄を経て、グラ
フト共重合体82gを得た。
【0041】(5)グラフト共重合体の分析 上記(4)で得たグラフト重合体がグラフト体であるこ
とを以下に示す。 赤外線吸収スペクトル解析 図1に上記(3)のグラフト前駆体(図中A)と(4)
グラフト共重合体(図中B)のIR吸収スペクトルを示
した。グラフト前駆体では、1,630cm-1にp−(3
−ブテニル)スチレン単位に基づく炭素−炭素二重結合
の伸縮振動が認められるが、グラフト共重合体では消失
した。したがって、グラフト共重合が、p−(3−ブテ
ニル)スチレンのスチレン残基を介して進行したことが
判明した。 グラフト鎖の解析13 C−NMRによりスチレン連鎖を測定したところ、シ
ンジオタクチックポリスチレンに基因する 145.2pp
mの芳香環の四級炭素のするどいシグナルを検出した。
さらに、示差走査熱量計(DSC)によって、グラフト
共重合体の融点を測定したことろ268℃であった。以
上の結果から、上記(4)で製造したグラフト共重合体
は、シンジオタクチックポリスチレンをグラフト鎖とす
るグラフト共重合体である。このグラフト共重合体の還
元粘度は1.9デシリットル/gであり、共重合体(グラ
フト前駆体)中のp−(3−ブテニル)スチレン単位の
含有量は、赤外線吸収スペクトル法によって、0.15重
量%であった。又、エチレン単位/プロピレン単位のモ
ル比は 1H−NMRより65:35であった。さらにグ
ラフト共重合体中のスチレン単位含量は45.8重量%で
あった。また、300℃,2.16kg荷重でのメルトイ
ンデックス(MI)は3.2g/10分であった。そし
て、機械的物性測定のため得られたグラフト共重合体を
280℃にて熱プレスし、成形したフィルムを用いて引
張強度特性を測定した。その結果、引張強度は320k
g/cm2 ,引張伸びは380%,引張弾性率は12,0
00kg/cm2 であった。
【0042】実施例2 実施例1の(4)において、実施例1の(3)のグラフ
ト前駆体を39.6gとし、さらに、スチレン50ミリリ
ットル,トリイソブチルアルミニウム2ミリモル,メチ
ルアルミノキサン2ミリモル,ペンタメチルシクロペン
タジエニルチタニウムトリメトキシド{Cp* Ti(O
Me)3 }10マイクロモルとして、12分間グラフト
共重合を実施した。その結果、グラフト共重合体の収量
は41.6gでグラフト共重合体に占めるスチレン単位含
有量は4.8重量%であった。また、還元粘度は1.9デシ
リットル/gであり、MIは0.74g/10分であっ
た。そして、引張強度は260kg/cm2 ,引張伸び
が580%,引張弾性率が3,800kg/cm2 であっ
た。
【0043】実施例3 実施例1の(4)において、実施例1の(3)のグラフ
ト前駆体を32.8gとし、さらに、スチレン200ミリ
リットル,トリイソブチルアルミニウム1ミリモル,メ
チルアルミノキサン10ミリモル,シクロペンタジエニ
ルチタニウムトリクロライド{CpTiCl3 }50マ
イクロモルとして、30分間グラフト共重合を実施し
た。その結果、グラフト共重合体の収量は39.4gでグ
ラフト共重合体に占めるスチレン単位含有量は16.8重
量%であった。また、還元粘度は1.6デシリットル/g
であり、MIは2.8g/10分であった。そして、引張
強度は300kg/cm2 ,引張伸びが420%,引張
弾性率が7,000kg/cm2 であった。
【0044】実施例4〜7及び比較例 トルエン600ミリリットル及びイソブチルアルミニウ
ム3ミリモルを用い、実施例1の(3)及び(4)と同
様の操作でエチレン−プロピレン−p−(3−ブテニ
ル)スチレン系グラフト共重合体を製造した。製造条件
を第1表に、また得られたグラフト共重合体の物性を測
定した結果を第2表に示す。
【0045】
【表1】
【0046】
【表2】
【0047】
【表3】
【0048】
【表4】
【0049】
【発明の効果】本発明のグラフト共重合体は、シンジオ
タクチックポリスチレンが本来有する優れた耐熱性,耐
薬品性及び電気特性を保持するとともに、良好な靱性,
引張強度,引張伸び及び引張弾性を併せ有するものであ
り、他のオレフィン系樹脂やジエン系樹脂との相溶性が
改善されたものであって、複合材料の素材や耐熱性のエ
ラストマーなどとして有効に利用される。
【図面な簡単な説明】
【図1】実施例1で得られたグラフト前駆体及びグラフ
ト共重合体のIR吸収スペクトル図である。
【符号の説明】
A:グラフト前駆体のIR吸収スペクトル B:グラフト共重合体のIR吸収スペクトル
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成5年3月3日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0010
【補正方法】変更
【補正内容】
【0010】該一般式(II)で表わされるビニルスチレ
ン系化合物を用いてグラフト開始点を生成させる場合、
架橋体を生成しやすく、十分な反応率が得られず、未反
応モノマーが残存するなど、製造上制限を受けやすい。
これに対し、一般式(I)で表わされるビニルスチレン
系化合物を用いてグラフト開始点を生成させた場合、架
橋が生じにくくて反応率も高い。また、α−オレフィン
性二重結合残基をグラフト開始点としてもグラフト体を
製造することは可能であるが、グラフト鎖長やグラフト
効率を広範に制御することは困難である。このようにし
て得られた側鎖に重合性炭素−炭素二重結合を有するエ
チレン・α−オレフィン系共重合体は、アタクチック構
造,アイソタクチック構造,シンジオタクチック構造の
いずれであってもよい。また、共重合様式はランダム型
であってもよいし、ブロック型であってもよい。さら
に、不飽和基含量は1×10 -5〜15モル%、好ましく
は1×10-4〜10モル%の範囲にあるのが望ましい。
分子量については、1,2,4−トリクロロベンゼン中
135℃の温度で測定した0.05g/デシリットルの濃
度での還元粘度が0.01〜30デシリットル/gの範囲
にあるのがよい。なお、エチレン・α−オレフィン系共
重合体の製造が可能な範囲で、一部溶媒に不溶な成分を
含んだものを使用することもできる。上記のようにして
得られるエチレン・α−オレフィン系共重合体として、
特に好ましくは、エチレン・プロピレン共重合体,エチ
レン・ブテン−1共重合体が挙げられる。また、グラフ
ト開始点をもつエチレン・ジエン共重合体またはグラフ
ト開始点をもつエチレン・α−オレフィン・ジエン共重
合体なども好ましいものとして挙げられる。
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0014
【補正方法】変更
【補正内容】
【0014】本発明のオレフィン系共重合体を製造する
には、様々な方法があるが、触媒として、(A)(a)
遷移金属化合物及び(b)アルミノキサンを主成分とす
るもの、又は(B)(a)遷移金属化合物及び(c)遷
移金属化合物と反応してイオン性錯体を形成しうる化合
物を主成分とするものが用いられる。上記(a)成分の
遷移金属化合物としては様々なものがあるが、好ましく
は一般式(IV) M1 5 ・・・・・Rk ・・・(IV) 〔式中、M1 はTi,Zr,Cr,V,Nb,Ta又は
Hfを示し、R5 〜Rkは、それぞれ水素原子,酸素原
子,ハロゲン原子,炭素数1〜20のアルキル基,炭素
数1〜20のアルコキシ基,炭素数6〜20のアリール
基,アルキルアリール基若しくはアリールアルキル基,
炭素数1〜20のアシルオキシ基,アリル基,置換アリ
ル基,アセチルアセトナート基,置換アセチルアセトナ
ート基,ケイ素原子を含む置換基、あるいはカルボニ
ル,酸素分子,窒素分子,ルイス塩基,鎖状不飽和炭化
水素又は環状不飽和炭化水素などの配位子,シクロペン
タジエニル基,置換シクロペンタジエニル基,インデニ
ル基,置換インデニル基,テトラヒドロインデニル基,
置換テトラヒドロインデニル基,フルオレニル基又は置
換フルオレニル基を示す。また、kは金属の原子価を示
し、通常2〜5の整数を示す〕で表わされる化合物を挙
げることができる。
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0015
【補正方法】変更
【補正内容】
【0015】ここで、置換シクロペンタジエニル基とし
ては、例えば、メチルシクロペンタジエニル基;エチル
シクロペンタジエニル基;イソプロピルシクロペンタジ
エニル基;1,2−ジメチルシクロペンタジエニル基;
テトラメチルシクロペンタジエニル基;1,3−ジメチ
ルシクロペンタジエニル基;1,2,3−トリメチルシ
クロペンタジエニル基;1,2,4−トリメチルシクロ
ペンタジエニル基;ペンタメチルシクロペンタジエニル
基;トリメチルシリルシクロペンタジエニル基などが挙
げられる。また、R5 〜Rk の配位子は、配位子間で共
有結合によって架橋体を形成してもよい。ハロゲン原子
の具体例としては、フッ素原子,塩素原子,臭素原子,
ヨウ素原子,炭素数1〜20のアルキル基としては、メ
チル基,エチル基,n−プロピル基,iso−プロピル
基,n−ブチル基,オクチル基,2−エチルヘキシル基
など、炭素数1〜20のアルコキシ基としては、メトキ
シ基,エトキシ基,プロポキシ基,ブトキシ基,フェノ
キシ基など、炭素数6〜20のアリール基,アルキルア
リール基若しくはアリールアルキル基としては、フェニ
ル基,トリル基,キシリル基,ベンジル基など、炭素数
1〜20のアシルオキシ基としては、ヘプタデシルカル
ボニルオキシ基など、ケイ素原子を含む置換基として
は、トリメチルシリル基,(トリメチルシリル)メチル
基など、ルイス塩基としては、ジメチルエーテル,ジエ
チルエーテル,テトラヒドロフランなどのエーテル類、
テトラヒドロチオフェンなどのチオエーテル類、エチル
ベンゾエートなどのエステル類、ベンゾニトリル等のニ
トリル類、トリメチルアミン;トリエチルアミン;トリ
ブチルアミン;N,N−ジメチルアニリン;ピリジン;
2,2’−ビピリジン;フェナントロリンなどのアミン
類、トリエチルホスフィン,トリフェニルホスフィンな
どのホスフィン類など、鎖状不飽和炭化水素としては、
エチレン,ブタジエン,1−ペンテン,イソプレン,ペ
ンタジエン,1−ヘキセン及びこれらの誘導体など、環
状不飽和炭化水素としては、ベンゼン,トルエン,キシ
レン,シクロヘプタトリエン,シクロオクタジエン,シ
クロオクタトリエン,シクロオクタテトラエン及びこれ
らの誘導体などが挙げられる。共有結合による架橋とし
ては、例えば、メチレン架橋,ジメチルメチレン架橋,
エチレン架橋,ジメチルシリレン架橋,ジメチルスタニ
レン架橋などが挙げられる。
【手続補正4】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0016
【補正方法】変更
【補正内容】
【0016】チタニウム化合物の具体例としては、テト
ラメトキシチタン,テトラエトキシチタン,テトラ−n
−ブトキシチタン,テトライソプロポキシチタン,四塩
化チタン,三塩化チタン,二塩化チタン,水素化チタ
ン,シクロペンタジエニルトリメチルチタン,シクロペ
ンタジエニルトリエチルチタン,シクロペンタジエニル
トリプロピルチタン,シクロペンタジエニルトリブチル
チタン,メチルシクロペンタジエニルトリメチルチタ
ン,1,2−ジメチルシクロペンタジエニルトリメチル
チタン,ペンタメチルシクロペンタジエニルトリメチル
チタン,ペンタメチルシクロペンタジエニルトリエチル
チタン,ペンタメチルシクロペンタジエニルトリプロピ
ルチタン,ペンタメチルシクロペンタジエニルトリブチ
ルチタン,シクロペンタジエニルメチルチタンジクロリ
ド,シクロペンタジエニルエチルチタンジクロリド,ペ
ンタメチルシクロペンタジエニルメチルチタンジクロリ
ド,ペンタメチルクシクロペンタジエニルエチルチタン
ジクロリド,シクロペンタジエニルジメチルチタンモノ
クロリド,シクロペンタジエニルジエチルチタンモノク
ロリド,シクロペンタジエニルチタントリメトキシド,
シクロペンタジエニルチタントリエトキシド,シクロペ
ンタジエニルチタントリプロポキシド,シクロペンタジ
エニルチタントリフェノキシド,ペンタメチルシクロペ
ンタジエニルチタントリメトキシド,ペンタメチルシク
ロペンタジエニルチタントリエトキシド,ペンタメチル
シクロペンタジエニルチタントリプロポキシド,ペンタ
メチルシクロペンタジエニルチタントリブトキシド,ペ
ンタメチルシクロペンタジエニルチタントリフェノキシ
ド,シクロペンタジエニルチタントリクロリド,ペンタ
メチルシクロペンタジエニルチタントリクロリド,シク
ロペンタジエニルメトキシチタンジクロリド,シクロペ
ンタジエニルジメトキシチタンクロリド,ペンタメチル
シクロペンタジエニルメトキシチタンジクロリド,シク
ロペンタジエニルトリベンジルチタン,ペンタメチルシ
クロペンタジエニルメチルジエトキシチタン,インデニ
ルチタントリクロリド,インデニルチタントリメトキシ
ド,インデニルチタントリエトキシド,インデニルトリ
メチルチタン,インデニルトリベンジルチタンなどが挙
げられる。
【手続補正5】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0028
【補正方法】変更
【補正内容】
【0028】ここで、上記L1 で示されるルイス塩基の
具体例としては、アンモニア,メチルアミン,アニリ
ン,ジメチルアミン,ジエチルアミン,N−メチルアニ
リン,ジフェニルアミン,トリメチルアミン,トリエチ
ルアミン,トリ−n−ブチルアミン,N,N−ジメチル
アニリン,メチルジフェニルアミン,ピリジン;2,
2’−ビピリジン,p−ブロモ−N,N−ジメチルアニ
リン,p−ニトロ−N,N−ジメチルアニリン,フェナ
ントロリンなどのアミン類、トリエチルフォスフィン,
トリフェニルフォスフィン,ジフェニルフォスフィンな
どのフォスフィン類、ジメチルエーテル,ジエチルエー
テル,テトラヒドロフランジオキサンなどのエーテル
類、ジエチルチオエーテル,テトラヒドロチオフェンな
どのチオエーテル類、エチルベンゾエート等のエステル
類、アセトニトリル,ベンゾニトリルなどのニトリル類
などが挙げられる。
【手続補正6】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0036
【補正方法】変更
【補正内容】
【0036】また、本発明のオレフィン系共重合体は、
スチレン系単量体単位からなる連鎖の立体規則性が高度
のシンジオタクチック構造を有している。すなわち、そ
のシンジオタクティシティーがラセミダイアッドで75
%以上、好ましくは85%以上、ラセミペンタッドで3
0%以上、好ましくは50%以上である。さらに、この
スチレン系単量体単位からなる連鎖の含有量は0.1〜9
0重量%、好ましくは0.1〜50重量%の範囲にある。
この含有量が通常0.1〜90重量%の範囲にあるもの
は、グラフト前駆体を高弾性化,高強度化および高耐熱
化でき、熱可塑性エラストマーとしての利用が可能であ
り、また樹脂相溶化剤としても利用できる。この含有量
が0.1重量%未満では、このスチレン系単量体単位から
なる連鎖が凍結層として十分機能しなくなるために十分
な機械的強度が得られず好ましくない。また、含有量が
90重量%を超えると、軟質相が減少してエラストマー
としての物性を有しなくなる。そして、上記オレフィン
系共重合体は、引張強度が200〜500kg/c
2 ,引張伸びが100〜600%,引張弾性率が1,0
00〜20,000kg/cm2 を示し、高強度,高い伸
びなど機械的物性の優れたオレフィン系共重合体であ
る。
【手続補正7】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0037
【補正方法】変更
【補正内容】
【0037】
【実施例】次に、本発明を実施例により、さらに詳しく
説明するが、本発明はこれらの実施例によってなんら限
定されるものではない。 実施例1 (1)メチルアルミノキサンの調製 アルゴン置換した内容積500ミリリットルのガラス製
容器に、トルエン200ミリリットル,硫酸銅5水塩
(CuSO4 ・5H2 O)17.7g( 71ミリモル)及
びトリメチルアルミニウム24ミリリットル(250ミ
リモル)を入れ、40℃で8時間反応させた。その後、
固体成分を除去して得られた溶液から、さらにトルエン
を減圧留去して接触処理物(メチルアルミノキサン)6.
7gを得た。このものの凝固点降下法により測定した分
子量は610であった。また、特開昭62−32539
1号公報に基づく 1H−NMR測定による高磁場成分、
すなわち室温下トルエン溶液中でそのプロトン核磁気共
鳴スペクトルを観測すると(Al−CH3 ) 結合に基づ
くメチルプロトンシグナルはテトラメチルシラン基準に
おいて1.0〜−0.5ppmの範囲にみられる。テトラメ
チルシランのプロトンシグナルは(0ppm)がAl−
CH3 結合に基づくメチルプロトンに基づく観測領域に
あるため、このAl−CH3 結合に基づくメチルプロト
ンシグナルをテトラメチルシラン基準におけるトルエン
のメチルプロトンシグナル2.35ppmを基準にして測
定し、高磁場成分(即ち、−0.1〜−0.5ppm)と他
の磁場成分(即ち、1.0〜−0.1ppm)とに分けたと
きに、該高磁場成分が全体の43%であった。
【手続補正8】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0039
【補正方法】変更
【補正内容】
【0039】(3)エチレン・α−オレフィン共重合体
(グラフト前駆体)の製造 乾燥した、1リットル容耐圧オートクレーブに脱気精製
したトルエン600ミリリットル,トリイソブチルアル
ミニウム3ミリモル、p−(3−ブテニル)スチレン1
0ミリモルを入れ、50℃に昇温して攪拌を開始した。
これに、プロピレンを3kg/cm2 Gの圧力で飽和し
たのち供給を停止し、さらにエチレン7kg/cm2
で飽和した。次に、上記(2)で調製した固体触媒をチ
タン原子として、0.015ミリモル添加し共重合を1時
間行った。この間、エチレンで全圧が10kg/cm2
Gとなるように反応圧力を調節した。反応終了後、未反
応ガスを除去し、重合体をメタノール洗浄することによ
り、白色粉末15粉末156gを得た。
【手続補正9】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0048
【補正方法】変更
【補正内容】
【0048】
【表4】

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 側鎖に重合性炭素−炭素二重結合を有す
    るエチレン・α−オレフィン共重合体に、スチレン系単
    量体をグラフト共重合させたものであって、スチレン系
    単量体単位からなる連鎖の立体規則性が高度のシンジオ
    タクチック構造を有し、その含有量が0.1〜90重量%
    の範囲にあり、1,2,4−トリクロロベンゼン中、1
    35℃の温度で測定した0.05g/デシリットルの濃度
    での還元粘度が0.05〜25デシリットル/g、又は3
    00℃,2.16kg荷重で測定したメルトインデックス
    が0.001〜500g/10分であって、かつ引張強度
    が200〜500kg/cm2 ,引張伸びが100〜6
    00%及び引張弾性率が1,000〜20,000kg/c
    2 であることを特徴とするオレフィン系共重合体。
  2. 【請求項2】 エチレン・α−オレフィン共重合体のエ
    チレン成分が40〜98モル%及びα−オレフィン成分
    が60〜2モル%である請求項1記載のオレフィン系共
    重合体。
  3. 【請求項3】 側鎖に重合性炭素−炭素二重結合を有す
    るエチレン・α−オレフィン共重合体の側鎖二重結合
    が、一般式 【化1】 〔式中、R1 は炭素数1〜20の炭化水素基、R2 はハ
    ロゲン原子又は炭素数1〜8の炭化水素基、R3 は水素
    原子,ハロゲン原子又は炭素数1〜8の炭化水素基、m
    は0又は1〜4の整数を示し、mが2以上の場合は複数
    のR2 は同一であっても異なっていてもよい。〕で表わ
    されるビニルスチレン系化合物から誘導された請求項1
    記載のオレフィン系共重合体。
JP04104202A 1992-04-23 1992-04-23 オレフィン系共重合体 Expired - Fee Related JP3121109B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP04104202A JP3121109B2 (ja) 1992-04-23 1992-04-23 オレフィン系共重合体

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP04104202A JP3121109B2 (ja) 1992-04-23 1992-04-23 オレフィン系共重合体

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH05295042A true JPH05295042A (ja) 1993-11-09
JP3121109B2 JP3121109B2 (ja) 2000-12-25

Family

ID=14374390

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP04104202A Expired - Fee Related JP3121109B2 (ja) 1992-04-23 1992-04-23 オレフィン系共重合体

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3121109B2 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20190011382A (ko) * 2017-07-25 2019-02-07 롯데케미칼 주식회사 내스크래치 특성을 갖는 수지 조성물

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20190011382A (ko) * 2017-07-25 2019-02-07 롯데케미칼 주식회사 내스크래치 특성을 갖는 수지 조성물

Also Published As

Publication number Publication date
JP3121109B2 (ja) 2000-12-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0513380B1 (en) Process for producing olefinic polymer
US5362814A (en) Graft copolymer, process for production thereof and resin composition containing same
JP3301448B2 (ja) 変性共重合体及びその製造方法
JP3121095B2 (ja) グラフト共重合体及びその製造方法
JP3262137B2 (ja) エチレン系重合体の製造方法
JP3129341B2 (ja) オレフィン系共重合体及びその製造方法
JP3217416B2 (ja) オレフィン系重合体の製造方法
JP3233225B2 (ja) オレフィン系グラフト共重合体の製造方法及びオレフィン系グラフト共重合体
JP3299275B2 (ja) ポリオレフィンの製造方法
JP3121109B2 (ja) オレフィン系共重合体
JPH11124420A (ja) 芳香族ビニルグラフト共重合体及びその製造方法
JP3115944B2 (ja) 化学変性スチレン系重合体及びその製造方法
KR19990037349A (ko) 에틸렌계 공중합체 및 방향족 비닐 그래프트 공중합체, 및 이들의 제조방법
JP3487448B2 (ja) スチレン系重合体の製造方法
JP3501408B2 (ja) エチレン系共重合体の製造方法
JP3433431B2 (ja) エチレン系共重合体及びその製造方法
JP3237193B2 (ja) スチレン系ブロック共重合体及びその製造方法
JP3086328B2 (ja) 樹脂組成物
JP3303888B2 (ja) 変性共重合体及びその製造方法
JP3501410B2 (ja) エチレン系共重合体の製造方法
JP3135083B2 (ja) スチレン系重合体及び共重合体の製造方法
JPH05320251A (ja) スチレン系重合体、その製造方法及び該重合体を用いた多層材料
JPH05295029A (ja) スチレン系樹脂組成物及びその製造方法
JPH06172449A (ja) 結晶性オレフィン系ランダム共重合体
JPH06166722A (ja) 結晶性オレフィン系ランダム共重合体

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees