JPH05291678A - 波長安定化レーザ装置 - Google Patents

波長安定化レーザ装置

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JPH05291678A
JPH05291678A JP11856492A JP11856492A JPH05291678A JP H05291678 A JPH05291678 A JP H05291678A JP 11856492 A JP11856492 A JP 11856492A JP 11856492 A JP11856492 A JP 11856492A JP H05291678 A JPH05291678 A JP H05291678A
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JP
Japan
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light
semiconductor laser
modulator
frequency
laser
Prior art date
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Pending
Application number
JP11856492A
Other languages
English (en)
Inventor
Yoshihisa Sakai
義久 界
Koichi Wakita
紘一 脇田
Shoichi Sudo
昭一 須藤
Isamu Odaka
勇 小高
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Telegraph and Telephone Corp
Original Assignee
Nippon Telegraph and Telephone Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 小型で安定した出力光を得られる用にするこ
とを目的とする。 【構成】 半導体レーザ2と光変調器5とを同一の基板
1上に形成するので半導体レーザ2と光変調器5との位
置関係は簡単に揃えることが可能で、このため半導体レ
ーザ2から出射されるレーザ光が正確に光変調器5の導
波路に入射する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、光通信および光計測
における基準光源として用いるために、原子または分子
気体の共鳴線および吸収線や光干渉計の波長を基準にと
り、レーザ光をその基準に同期させることによって安定
させる波長安定化レーザ装置に関する。
【0002】
【従来の技術】図5は、従来の波長安定化レーザ装置の
構成を示す構成図である(文献:柳川等、アプライド
フィジックス レターズ 47巻、1036ページ〜1
038ページ、1985年参照)。図5において、2a
は所定の波長で発振する半導体レーザ、3,4はレン
ズ、5aは光周波数変調器、6bは長さが1cm〜1m
程度のアンモニアやアセチレンなどのガスを封入したガ
ラス管からなる吸収セル、7は光電変換用の受光器、8
は高周波発振器、9は位相検波器、10はローパスフィ
ルタである。
【0003】半導体レーザ2aの片端面からの出射光
は、レンズ3により平行光とされて光周波数変調器5a
に入射し、この光周波数変調器5aで、高周波発振器8
による変調信号を参照した所定の周波数変調がかけら
れ、周波数変調光として出力される。ついで、この周波
数変調光は、吸収セル6bに入射し、吸収セル6b内の
ガスの吸収波長と同一の波長の光はそのガスに吸収さ
れ、異なる波長の光は透過する。すなわち、光周波数変
調器5aから出力された周波数変調光の中心周波数(波
長)と、吸収セル6bのなかのガスの光吸収線のピーク
周波数(波長)との周波数差が吸収セル6bで検出され
る。この吸収セル6bの透過光は、レンズ4を通り受光
器7に入射し、光信号から電気信号に変換されて、位相
検波器9に送られる。
【0004】位相検波器9では、送られてきた信号と高
周波発振器8の参照信号とを位相比較することにより、
前述の周波数差に応じた誤差信号を発生し、ローパスフ
ィルタ10を通して位相検波器9から漏れる高周波発振
器8からの高周波信号成分を除去して、その誤差信号に
より半導体レーザ2aの注入電流を制御し、半導体レー
ザ2aの発振波長(周波数)が波長(周波数)基準とし
ての吸収セル6bのアセチレンガスの光吸収線に追従す
るようにする。これにより、半導体レーザ2aは周波数
が安定したレーザ光を出力する。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】従来の波長安定化レー
ザ装置は、以上のように構成されており、半導体レーザ
2aとレンズ3と光周波数変調器5aとの位置関係が少
しでもずれていると光路が乱れ、半導体レーザ2aの出
射光を光周波数変調器5aを通して的確に吸収セル6b
の中を通過させることや、その透過光を受光器7に感度
良く受光させることが困難となる。すなわち、半導体レ
ーザ2aのレーザを発振する活性層の大きさと、そのレ
ーザを変調する光周波数変調器5aの導波部の大きさは
は10μm程度であり、各々の相対的な位置が10μm
ずれると、半導体レーザ2aの出射光を安定して吸収セ
ルに入射させ、受光器7に受光させることができなくな
ってしまい、この10μmという位置精度を確保するこ
とが非常に困難であった。
【0006】ここで、この問題を解決するために、半導
体レーザ2aとレンズ3,4と光変調器5aとを強固な
固定定盤上に設置することも考えられるが、これでは装
置が大型化し重量が増加してしまうと言う問題があっ
た。
【0007】この発明は、以上のような問題を解決する
ためになされたもので、小型で安定した出力光を得られ
る用にすることを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】この発明の波長安定化レ
ーザ装置は、半導体レーザと、その半導体レーザの出射
光を周波数変調する半導体レーザと同一の基板上に形成
された変調器と、変調器により変調された光を吸収する
吸収媒体と、吸収媒体の透過光を光電変換する光電変換
器とを有する。また、この発明の波長安定化レーザ装置
は、さらに、光電変換器が半導体レーザと変調器が形成
される基板と同一の基板上に形成されたものである。。
【0009】
【作用】装置を大型化せずに、半導体レーザと変調器と
に光学的なずれが生じない安定した光路が得られる。ま
た、光電変換器とにも光学的なずれが生じない安定した
光路が得られる。
【0010】
【実施例】(実施例1)以下、この発明の1実施例を図
を参照して説明する。図1はこの発明の1実施例の波長
安定化レーザ装置の構成を示す構成図であり、図2は図
1の基板1と半導体レーザ2と光変調器5との構成を示
す断面図である。図1おいて、1はInPからなる基
板、2は基板1上に形成された活性層部がInGaAs
/InGaAsPからなるMQW構造の半導体レーザ、
5は基板1上に形成された導波層部がInGaAs/I
nAlAsからなるMQW構造の光変調器であり、それ
ぞれ、有機金属成長法(MOVPE法),分子線エピタ
キシー法(MBE法)により製造される。また、6は炭
素同位体置換アセチレンガス(1322)が10Tor
rの圧力で封入されているセル長50mmの吸収セルで
あり、他は図5と同様である。
【0011】図2において、12,13,14は電極で
あり、レーザを発振させるために半導体レーザ2に注入
する電流は電極13に印加し、レーザを変調せるための
変調信号は電極14に印加する。また、15は半導体レ
ーザ2と光変調器5が接して結合している界面であり、
半導体レーザ2の活性層部と光変調器5の導波層部は同
じ高さになるようになっている。そして、光変調器5は
そのMQW構造の導波層部の光学特性が吸収から透過に
変化する波長である吸収端を半導体レーザ2の発振波長
付近に合わせるように導波層部の材料や導波層部の量子
井戸の厚さを選択して構成する。
【0012】ところで、半導体レーザ2と光変調器5の
良好な光結合と電気絶縁を得るために、半導体レーザ2
と光変調器5の界面15は凹凸の無い平坦性が必要であ
り、このためこれらの形状の形成にはフォトリソグラフ
ィとドライエッチングの技術を採用する。フォトリソグ
ラフィ技術によりそれぞれの形状を形成すると、半導体
レーザ2と光変調器5の位置精度は簡単に10μm以下
にできる。そして、以上のように、半導体レーザ2,光
変調器5の順で形成しているので、半導体レーザ2を形
成した後に、その発振波長に合わせて光変調器5の吸収
波長を決めてから光変調器5を形成することができる。
【0013】半導体レーザ2からは、波長1.536μ
mのレーザ発振が得られ、光変調器5に−2.5Vの直
流電圧と変調周波数200MHzで1.5Vの電圧を印
加することにより、π/2ラジアンの変調指数が得られ
た。これは、変調幅が約600MHzに相当している。
【0014】次に、図1の波長安定化レーザ装置の動作
について説明する。半導体レー2の片端面から出射した
レーザ光は、光変調器5に入射し、この光変調器5で高
周波発振器8からの200MHzの変調信号により変調
幅600MHzの周波数変調がかけられ、周波数が変調
された変調光として出力される。光変調器5から出力さ
れた変調光はレンズ3で平行光になり、次いで、吸収セ
ル6に入射する。吸収セル6では、光吸収線が波長1.
537656μmので吸収率50%,半値全幅600M
Hzのものを用いて、このアセチレンガスの光吸収線の
ピーク波長からずれている波長の光を透過する。すなわ
ち、変調光の中心周波数(波長)と吸収セル6中のガス
の光吸収ピーク周波数(波長)との周波数差がこの吸収
セル6で検出されることになる。
【0015】この吸収セル6を透過した透過光は、受光
器7に入射して光信号から電気信号に変換された後、位
相検波器9に送られ、高周波発振器8からの参照信号と
位相比較される。これにより位相検波器9は、前述した
周波数差に応じた誤差信号を発生し、この誤差信号をロ
ーパスフィルタ10を通して半導体レーザ1へ供給し、
その注入電流を制御する。以上のことにより、半導体レ
ーザ2の発振するレーザ光の波長は、波長基準としての
吸収セル6内のアセチレンガスの光吸収線に追従するよ
うに制御される。
【0016】図3は、上記の安定化動作前後の半導体レ
ーザ2の発振するレーザ光の周波数(波長)の揺らぎを
位相検波器9の誤差信号を基に測定した結果を示す変化
図である。この安定化動作前は約200MHzの揺らぎ
があったものが、安定化後はその揺らぎが1MHz以下
に抑えることができた。
【0017】(実施例2)図4は、この発明の第2の実
施例を示す波長安定化レーザ装置の構成図である。図4
において、7aは半導体レーザ2と光変調器5が並設さ
れている基板1a上に光変調器5と5mmの間隔を開け
て形成した受光器、6aは光変調器5と受光器7aの間
に配置される吸収セルであり、他は図1と同様である。
この実施例2でも前記の実施例1と同様の動作をする。
【0018】なお、実施例2では吸収セル6aを光変調
器5と受光器7aの間に配置するようにしたが、基板1
aと半導体レーザ2と光変調器5と受光器7aとをパッ
ケージ内に封止し、そのパッケージ内を吸収セル6a内
と同じアセチレンガスで充填するようにしても良い。ま
た、上記実施例では光吸収ガスとして炭素同位元素置換
アセチレンガスを用いたが、これに限るわけではなく、
通常のアセチレンガス,アンモニアガス,メタンガス,
二酸化炭素などを用いてもよい。
【0019】
【発明の効果】以上のように、この発明では大きな固定
定盤などを使用せずに、半導体レーザと光変調器および
光電変換器のそれぞれに光学的なずれが無い安定した光
路が得られるので、小型で安定したレーザ光出力を得ら
れると言う効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の実施例1の波長安定化レーザ装置の
構成を示す構成図である。
【図2】図1の基板1と半導体レーザ2と光変調器5の
構造を示す断面図である。
【図3】図1の波長安定化レーザ装置の安定化動作前後
の半導体レーザ2のレーザ光の周波数の揺らぎを示す変
化図である。
【図4】この発明の実施例2の波長安定化レーザ装置の
構成を示す構成図である。
【図5】従来の波長安定化レーザ装置の構成を示す構成
図である。
【符号の説明】
1 基板 2 半導体レーザ 3 レンズ 5 光変調器 6 吸収セル 7 受光器 8 高周波発振器 9 位相検波器 10 ローパスフィルタ
フロントページの続き (72)発明者 小高 勇 東京都千代田区内幸町1丁目1番6号 日 本電信電話株式会社内

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体レーザと、 その半導体レーザの出射光を周波数変調する前記半導体
    レーザと同一の基板上に形成された変調器と、 前記変調器により変調された光のうち所定の周波数の光
    を吸収する吸収媒体と、 前記吸収媒体を透過した透過光を光電変換する光電変換
    器とを有することを特徴とする波長安定化レーザ装置。
  2. 【請求項2】 半導体レーザと、 その半導体レーザの出射光を周波数変調する前記半導体
    レーザと同一の基板上に形成された変調器と、 前記変調器により変調された光のうち所定の周波数の光
    を吸収する吸収媒体と、 前記吸収媒体を透過した透過光を光電変換する前記半導
    体レーザと変調器とが形成されている同一の基板上に形
    成された光電変換器とを有することを特徴とする波長安
    定化レーザ装置。
JP11856492A 1992-04-13 1992-04-13 波長安定化レーザ装置 Pending JPH05291678A (ja)

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