JPH05291127A - 半導体製造装置およびそれを用いた半導体装置の製造方法 - Google Patents

半導体製造装置およびそれを用いた半導体装置の製造方法

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JPH05291127A
JPH05291127A JP9632892A JP9632892A JPH05291127A JP H05291127 A JPH05291127 A JP H05291127A JP 9632892 A JP9632892 A JP 9632892A JP 9632892 A JP9632892 A JP 9632892A JP H05291127 A JPH05291127 A JP H05291127A
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JP
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resist
semiconductor wafer
flow rate
spin
air flow
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JP9632892A
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Hideyuki Matsuda
秀之 松田
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Fujitsu Ltd
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Fujitsu Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 半導体ウエハ上にレジストをスピンコートす
る装置および方法に関し,レジストの種別に起因する膜
厚のばらつきを抑制できるようにして,装置の稼働率を
向上させ,スループットを向上させる。 【構成】 半導体ウエハ13上に,雰囲気流を吹き付け
る雰囲気発生機構14,15と,雰囲気流を可変する風
量可変機構19,半導体ウエハ13上に吹き付ける雰囲
気流の風量を制御する制御部16,および,風量を検出
する流量検出器18が備えられている。半導体ウエハ1
3上にスピンコートするレジストの種別に応じたコーテ
ィングレシピを作成し,制御部16に入力する。制御部
16は,半導体ウエハ13上にレジストをスピンコート
する際に,風量検出器18が検出する風量を監視しなが
ら,風量可変機構19を制御し,半導体ウエハ13上に
吹き付ける雰囲気流の風量を,コーティングレシピに応
じた風量に保持する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は,半導体製造装置および
それを用いた半導体装置の製造方法,特に半導体ウエハ
上にレジストをスピンコートする装置および方法に関す
る。
【0002】
【従来の技術】近年,半導体装置の集積度が高まるにつ
れ,回路パターンが微細化し,設計通りにパターン線幅
を制御することが困難になってきている。この困難を克
服して,設計通りのパターン線幅を実現するためには,
半導体ウエハ上に塗布するレジスト膜厚のウエハ面内ば
らつきを抑制する必要がある。
【0003】従来,スピンコート法で半導体ウエハ上に
塗布するレジスト膜厚のウエハ面内ばらつきを抑制する
ために,スピンカップ内の温度や湿度,およびレジスト
の温度を,使用するレジストの種別ごとに制御する方法
が採られていた。
【0004】ところが,レジストの種類が増えるにつ
れ,上述のような一定の制御方法では,様々なレジスト
に対応仕切れなくなってきているのが現状である。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】従来の方法では,半導
体装置の製造に使用されるレジストが変更されると,新
たなレジストに対応するように,スピンカップ内の温度
や湿度,およびレジストの温度条件を変更しなければな
らない。したがって,変更された条件によって生じた装
置の変化が安定状態になるまで,装置の使用を控えると
いったことを行わなければない。
【0006】その結果,装置の稼働率が低下し,スルー
プットが低下する,という問題が生じていた。本発明
は,上記の問題点を解決して,レジストの種別に起因す
る膜厚のばらつきを抑制できるようにして,装置の稼働
率を向上させ,スループットを向上させることのでき
る,半導体製造装置およびそれを用いた半導体装置の製
造方法,特に半導体ウエハ上にレジストをスピンコート
する装置および方法を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに,本発明に係る半導体製造装置およびそれを用いた
半導体装置の製造方法は,次のように構成する。
【0008】(1)半導体ウエハ上にレジストをスピン
コートする装置であって,レジストがスピンコートされ
る半導体ウエハ上に,所定の雰囲気流を吹き付ける雰囲
気発生機構と,前記所定の雰囲気流の風量を可変する風
量可変機構とを含むように構成する。
【0009】(2)前記(1)において,レジストの種
別に応じて,半導体ウエハ上に吹き付ける雰囲気流の風
量を制御する制御部,および,前記雰囲気流の風量を検
出する風量検出器が備えられており,前記制御部が,前
記風量検出器が検出する風量を監視しながら,前記風量
可変機構を制御して,半導体ウエハ上に吹き付ける雰囲
気流を所定の風量に保持するように構成する。
【0010】(3)前記(2)の半導体製造装置を用い
て,半導体ウエハ上にレジストをスピンコートする方法
であって,半導体ウエハ上にスピンコートするレジスト
の種別に応じたコーティングレシピを作成し,該コーテ
ィングレシピを前記制御部に入力し,前記制御部を介し
て,前記風量検出器が検出する風量を監視しながら,前
記風量可変機構を制御し,半導体ウエハ上に吹き付ける
雰囲気流の風量を,前記コーティングレシピに応じた風
量に保持しながら,半導体ウエハ上にレジストをスピン
コートするように構成する。
【0011】(4)半導体ウエハ上にレジストをスピン
コートする装置であって,レジストがスピンコートされ
る半導体ウエハ上に,所定の雰囲気流を吹き付ける雰囲
気発生機構と,前記所定の雰囲気流の風量を可変する風
量可変機構と,装置内の排気量を可変する排気量可変機
構とを含むように構成する。
【0012】(5)前記(4)において,レジストの種
別に応じて,半導体ウエハ上に吹き付ける雰囲気流の風
量,および装置内の排気量を制御する制御部,前記雰囲
気流の風量を検出する風量検出器,および前記装置内の
排気量を検出する排気量検出器が備えられており,前記
制御部が,前記風量検出器が検出する風量,および前記
排気量検出器が検出する排気量を監視しながら,前記風
量可変機構,および前記排気量可変機構を制御して,半
導体ウエハ上に吹き付ける雰囲気流を所定の風量に保持
するように構成する。
【0013】(6)前記(5)の半導体製造装置を用い
て,半導体ウエハ上にレジストをスピンコートする方法
であって,半導体ウエハ上にスピンコートするレジスト
の種別に応じたコーティングレシピを作成し,該コーテ
ィングレシピを前記制御部に入力し,前記制御部を介し
て,前記風量検出器が検出する風量,および前記排気量
検出器が検出する排気量を監視しながら,前記風量可変
機構,および前記排気量可変機構を制御し,半導体ウエ
ハ上に吹き付ける雰囲気流の風量および装置内の排気量
を,コーティングレシピに応じた風量および排気量に保
持しながら,半導体ウエハ上にレジストをスピンコート
するように構成する。
【0014】
【作用】従来の,半導体ウエハ上にレジストをスピンコ
ートする装置では,半導体ウエハ上に吹き付ける雰囲気
流の風量が一定であった。本発明では,半導体ウエハ上
に吹き付ける雰囲気流の風量を可変できるようにしてい
る。これにより,レジストが含有する溶剤の揮発量を制
御することが可能になる。
【0015】したがって,使用されるレジストが変更さ
れた場合,半導体ウエハ上に吹き付ける雰囲気流の風量
を,新たなレジストが含有する溶剤の揮発量に応じた風
量に制御することにより,レジストの種別が変更されて
も,コーティングからみた場合,スピンカップ内の温度
や湿度,およびレジストの温度条件などが,レジストの
種別に依存しない状況を生起することができるようにな
る。
【0016】また,スピンコートする上で,レジストが
所定の膜厚に達するまでの時間によっても,レジストが
含有する溶剤の揮発量が変化する。そこで,本発明で
は,半導体ウエハ上に吹き付ける雰囲気流の風量が時間
の経過と共に最適値を維持するように,コーティングレ
シピを作成する。そして,このコーティングレシピを制
御部に入力し,制御部を介して,風量可変機構を制御
し,半導体ウエハ上に吹き付ける雰囲気流の風量を,コ
ーティングレシピに応じた風量に保持しながら,半導体
ウエハ上にレジストをスピンコートするようにしてい
る。
【0017】以上のように,本発明では,使用されるレ
ジストが変更されても,スピンカップ内の温度や湿度,
およびレジストの温度条件を変更する必要がないから,
新たなレジストに対して,装置を直ちに使用することが
できる。したがって,装置の稼働率を向上させることが
できるので,従来に比べて,スループットを向上させる
ことができる。
【0018】
【実施例】
〔実施例1〕図1は,実施例1を示す図である。
【0019】図中,11はスピンカップ,12は真空チ
ャック,13は基板,14はファン,15はウルパフィ
ルタ,16はシーケンスコントローラ,17はモータコ
ントローラ,18は風量センサ,19は風量コントロー
ラである。
【0020】スピンカップ11は,スピンコートの際
に,余ったレジストが飛沫となって装置内の他の場所に
付着するのを防止すると共に,レジストがスピンコート
される半導体ウエハ上の雰囲気を安定に保つためのもの
である。
【0021】真空チャック12は,基板13を保持する
と共に,回転を与えるためのものである。基板13は,
レジストがスピンコートされる半導体ウエハである。
【0022】ファン14は,はウルパフィルタ15内に
導入された,温調,湿調された雰囲気を装置内へ送り込
むためのものである。ウルパフィルタ15は,導入され
た,温調,湿調された雰囲気を濾過するためのものであ
る。
【0023】シーケンスコントローラ16は,モータコ
ントローラ17および風量コントローラ19を制御する
ためのものである。モータコントローラ17は,基板1
3を保持する真空チャック12を回転させるモータを制
御するためのものである。
【0024】風量センサ18は,ウルパフィルタ15内
に導入された,温調,湿調された雰囲気が,ファン14
によって,装置内に送り込まれたもののうち,スピンカ
ップ11内に吹き込まれるものの風量を検出するための
ものである。
【0025】風量コントローラ19は,ウルパフィルタ
15内に導入された,温調,湿調された雰囲気が,ファ
ン14によって,スピンカップ11内に送り込まれる風
量を,風量センサ18が検出する風量値に基づいて所定
の値に制御するためのものである。
【0026】以上の構成を持った装置を使用して,レジ
ストの種別およびスピンカップ11内に送り込まれる雰
囲気の風量を変化させて,半導体ウエハ上にスピンコー
トされたレジスト膜厚のウエハ面内ばらつきを調べたと
ころ,次に示す結果が得られた。(この時,風量以外の
環境条件は全て同一にした。) (1)レジストA ウエハ面内ばらつき= 30Å(風量=0.1m/se
c) ウエハ面内ばらつき= 50Å(風量=0.3m/se
c) ウエハ面内ばらつき=100Å(風量=0.5m/se
c) (2)レジストB ウエハ面内ばらつき= 40Å(風量=0.1m/se
c) ウエハ面内ばらつき= 35Å(風量=0.3m/se
c) ウエハ面内ばらつき= 30Å(風量=0.5m/se
c) (3)レジストC ウエハ面内ばらつき= 50Å(風量=0.1m/se
c) ウエハ面内ばらつき= 20Å(風量=0.3m/se
c) ウエハ面内ばらつき=100Å(風量=0.5m/se
c) この結果から,各レジストについて,スピンカップ11
内に送り込まれる雰囲気の最適の風量が分かる。すなわ
ち,レジストAは風量=0.1m/sec,レジストB
は風量=0.5m/sec,レジストCは風量=0.3
m/secが最適の風量である。
【0027】したがって,レジストAを使用する時に
は,スピンカップ11内に送り込まれる雰囲気の風量を
0.1m/secに保持し,レジストBを使用する時に
は,スピンカップ11内に送り込まれる雰囲気の風量を
0.5m/secに保持し,レジストCを使用する時に
は,スピンカップ11内に送り込まれる雰囲気の風量を
0.3m/secに保持すれば,スピンコートされた半
導体ウエハ上のレジスト膜厚のばらつきを最も小さい値
に抑制することができる。
【0028】具体的には,各レジストを使用する時に,
使用するレジストに最適の風量値をシーケンスコントロ
ーラ16にセットする。すると,シーケンスコントロー
ラ16は,風量コントローラ19に対して,当該レジス
トに最適の風量値を保持するように指示を出す。これに
応じて,風量コントローラ19は,風量センサ18によ
って風量をモニタしながらファン14の回転数を制御し
て,スピンカップ11内に送り込まれる雰囲気の風量を
最適値に保持する。
【0029】同一のレジストを使用しても,時間の経過
と共に,スピンカップ11内に送り込まれる雰囲気の風
量の最適値が変動することがあり得る。これに対応する
ために,本発明では,スピンカップ11内に送り込まれ
る雰囲気の風量の最適値の時間変動を盛り込んだコーテ
ィングレシピを,各レジストごとに作成する。そして,
各レジストを使用する時に,使用するレジストに対応す
るコーティングレシピをシーケンスコントローラ16に
セットする。
【0030】シーケンスコントローラ16は,風量コン
トローラ19に対して,時間の経過に応じて,その時々
に最適の風量値を保持するように指示を出す。これに応
じて,風量コントローラ19は,風量センサ18によっ
て風量をモニタしながらファン14の回転数を制御し
て,スピンカップ11内に送り込まれる雰囲気の風量
を,その時々に応じた最適値に保持する。
【0031】〔実施例2〕図2は,実施例2を示す図で
ある。図中,21はスピンカップ,22は真空チャッ
ク,23は基板,24はファン,25はウルパフィル
タ,26はシーケンスコントローラ,27はモータコン
トローラ,28は風量センサ,29は風量コントロー
ラ,30は排気量センサ,31は排気量コントローラ,
32は排気ダンパーである。
【0032】スピンカップ21は,スピンコートの際
に,余ったレジストが飛沫となって装置内の他の場所に
付着するのを防止すると共に,レジストがスピンコート
される半導体ウエハ上の雰囲気を安定に保つためのもの
である。
【0033】真空チャック22は,基板23を保持する
と共に,回転を与えるためのものである。基板23は,
レジストがスピンコートされる半導体ウエハである。
【0034】ファン24は,はウルパフィルタ25内に
導入された,温調,湿調された雰囲気を装置内へ送り込
むためのものである。ウルパフィルタ25は,導入され
た,温調,湿調された雰囲気を濾過するためのものであ
る。
【0035】シーケンスコントローラ26は,モータコ
ントローラ27,風量コントローラ29,および排気量
コントローラ31を制御するためのものである。モータ
コントローラ27は,基板23を保持する真空チャック
22を回転させるモータを制御するためのものである。
【0036】風量センサ28は,ウルパフィルタ25内
に導入された,温調,湿調された雰囲気が,ファン24
によって,装置内に送り込まれたもののうち,スピンカ
ップ21内に吹き込まれたものの風量を検出するための
ものである。
【0037】風量コントローラ29は,ウルパフィルタ
25内に導入された,温調,湿調された雰囲気が,ファ
ン24によって,スピンカップ21内に送り込まれる風
量を,風量センサ28が検出する風量値に基づいて所定
の値に制御するためのものである。
【0038】排気量センサ30は,装置内の排気量を検
出するためのものである。排気量コントローラ31は,
排気量センサ30が検出する装置内の排気量に基づい
て,排気ダンパー32を制御して,装置内の排気量を制
御するためのものである。
【0039】排気ダンパー32は,装置内の排気量を制
御するためのものである。本実施例は,実施例1として
示した装置に,装置内の排気量を制御する機構を付加し
たものである。その結果,本実施例では,装置内の排気
量を制御できるので,スピンカップ21内に送り込まれ
る雰囲気の風量をより安定させることができる。また,
レジストのスピンコート時に,レジストのミスト(粉)
が基板23の裏面に付着するのを防止することができ
る。
【0040】以下,本実施例の動作を具体的に説明す
る。本実施例では,スピンカップ21内に送り込まれる
雰囲気の風量の最適値の時間変動,および雰囲気の風量
の最適値を安定に維持するために最適の,装置内の排気
量の時間変動を盛り込んだコーティングレシピを,各レ
ジストごとに作成する。そして,各レジストを使用する
時に,使用するレジストに対応するコーティングレシピ
をシーケンスコントローラ26にセットする。
【0041】シーケンスコントローラ26は,風量コン
トローラ29に対して,時間の経過に応じて,その時々
に最適の風量値を保持するように指示を出すと共に,排
気量コントローラ31に対して,時間の経過に応じて,
その時々に最適の風量値を安定して保持できる排気量を
保持するように指示を出す。
【0042】これに応じて,風量コントローラ29は,
風量センサ28によって風量をモニタしながらファン2
4の回転数を制御して,スピンカップ21内に送り込ま
れる雰囲気の風量を,その時々に応じた最適値に保持す
る。一方,排気量コントローラ31は,排気量センサ3
0によって排気量をモニタしながら排気ダンパー32を
制御して,スピンカップ21内に送り込まれる雰囲気の
風量が,その時々に応じた最適値に安定して保持される
ように,排気量を制御する。
【0043】
【発明の効果】本発明によれば,半導体ウエハ上にレジ
ストをスピンコートする装置において,レジストの種別
に起因する膜厚のばらつきを抑制できるので,装置の稼
働率を向上させることができる。その結果,スループッ
トを向上させることができる。
【0044】以上のように,本発明は,半導体装置の製
造に寄与するところが大きい。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例1を示す図である。
【図2】実施例2を示す図である。
【符号の説明】
11 スピンカップ 12 真空チャック 13 基板 14 ファン 15 ウルパフィルタ 16 シーケンスコントローラ 17 モータコントローラ 18 風量センサ 19 風量コントローラ 21 スピンカップ 22 真空チャック 23 基板 24 ファン 25 ウルパフィルタ 26 シーケンスコントローラ 27 モータコントローラ 28 風量センサ 29 風量コントローラ 30 排気量センサ 31 排気量コントローラ 32 排気ダンパー

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体ウエハ上にレジストをスピンコー
    トする装置であって,レジストがスピンコートされる半
    導体ウエハ上に,所定の雰囲気流を吹き付ける雰囲気発
    生機構と,前記所定の雰囲気流の風量を可変する風量可
    変機構とを含むことを特徴とする半導体製造装置。
  2. 【請求項2】 請求項1において,レジストの種別に応
    じて,半導体ウエハ上に吹き付ける雰囲気流の風量を制
    御する制御部,および,前記雰囲気流の風量を検出する
    流量検出器が備えられており,前記制御部が,前記風量
    検出器が検出する風量を監視しながら,前記風量可変機
    構を制御して,半導体ウエハ上に吹き付ける雰囲気流を
    所定の風量に保持することを特徴とする半導体製造装
    置。
  3. 【請求項3】 請求項2に記載の半導体製造装置を用い
    て,半導体ウエハ上にレジストをスピンコートする方法
    であって,半導体ウエハ上にスピンコートするレジスト
    の種別に応じたコーティングレシピを作成し,該コーテ
    ィングレシピを前記制御部に入力し,前記制御部を介し
    て,前記風量検出器が検出する風量を監視しながら,前
    記風量可変機構を制御し,半導体ウエハ上に吹き付ける
    雰囲気流の風量を,前記コーティングレシピに応じた風
    量に保持しながら,半導体ウエハ上にレジストをスピン
    コートすることを特徴とする半導体装置の製造方法。
  4. 【請求項4】 半導体ウエハ上にレジストをスピンコー
    トする装置であって,レジストがスピンコートされる半
    導体ウエハ上に,所定の雰囲気流を吹き付ける雰囲気発
    生機構と,前記所定の雰囲気流の風量を可変する風量可
    変機構と,装置内の排気量を可変する排気量可変機構と
    を含むことを特徴とする半導体製造装置。
  5. 【請求項5】 請求項4において,レジストの種別に応
    じて,半導体ウエハ上に吹き付ける雰囲気流の風量,お
    よび装置内の排気量を制御する制御部,前記雰囲気流の
    風量を検出する風量検出器,および前記装置内の排気量
    を検出する排気量検出器が備えられており,前記制御部
    が,前記風量検出器が検出する風量,および前記排気量
    検出器が検出する排気量を監視しながら,前記風量可変
    機構,および前記排気量可変機構を制御して,半導体ウ
    エハ上に吹き付ける雰囲気流を所定の風量に保持するこ
    とを特徴とする半導体製造装置。
  6. 【請求項6】 請求項5に記載の半導体製造装置を用い
    て,半導体ウエハ上にレジストをスピンコートする方法
    であって,半導体ウエハ上にスピンコートするレジスト
    の種別に応じたコーティングレシピを作成し,該コーテ
    ィングレシピを前記制御部に入力し,前記制御部を介し
    て,前記風量検出器が検出する風量,および前記排気量
    検出器が検出する排気量を監視しながら,前記風量可変
    機構,および前記排気量可変機構を制御し,半導体ウエ
    ハ上に吹き付ける雰囲気流の風量および装置内の排気量
    を,コーティングレシピに応じた風量および排気量に保
    持しながら,半導体ウエハ上にレジストをスピンコート
    することを特徴とする半導体装置の製造方法。
JP9632892A 1992-04-16 1992-04-16 半導体製造装置およびそれを用いた半導体装置の製造方法 Withdrawn JPH05291127A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7364771B2 (en) 2003-03-06 2008-04-29 Nippon Shokubai Co., Ltd. Method and apparatus for production of fluorine-containing polyimide film
JP2012253156A (ja) * 2011-06-01 2012-12-20 Mitsubishi Electric Corp レジスト塗布装置

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