JPH0528431A - 平面型薄膜磁気ヘツドの製法 - Google Patents
平面型薄膜磁気ヘツドの製法Info
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- JPH0528431A JPH0528431A JP18605291A JP18605291A JPH0528431A JP H0528431 A JPH0528431 A JP H0528431A JP 18605291 A JP18605291 A JP 18605291A JP 18605291 A JP18605291 A JP 18605291A JP H0528431 A JPH0528431 A JP H0528431A
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- magnetic
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-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3176—Structure of heads comprising at least in the transducing gap regions two magnetic thin films disposed respectively at both sides of the gaps
- G11B5/3179—Structure of heads comprising at least in the transducing gap regions two magnetic thin films disposed respectively at both sides of the gaps the films being mainly disposed in parallel planes
- G11B5/3183—Structure of heads comprising at least in the transducing gap regions two magnetic thin films disposed respectively at both sides of the gaps the films being mainly disposed in parallel planes intersecting the gap plane, e.g. "horizontal head structure"
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 高精度な寸法精度を有し、耐摩耗性にすぐれ
た磁気ギャップを有する平面型薄膜磁気ヘッドの製法を
提供する。 【構成】 基板上に第１の磁気ギャップ材を用いて仮の
磁気ギャップを形成する工程と、第１の磁気ギャップ材
の両側に磁気コアを形成する工程と、第１の磁気ギャッ
プ材を除去し、該除去された空間部に第２の磁気ギャッ
プ材を充填して真の磁気ギャップを形成する工程を含
み、他は従来と同様の工程により形成するものである。
た磁気ギャップを有する平面型薄膜磁気ヘッドの製法を
提供する。 【構成】 基板上に第１の磁気ギャップ材を用いて仮の
磁気ギャップを形成する工程と、第１の磁気ギャップ材
の両側に磁気コアを形成する工程と、第１の磁気ギャッ
プ材を除去し、該除去された空間部に第２の磁気ギャッ
プ材を充填して真の磁気ギャップを形成する工程を含
み、他は従来と同様の工程により形成するものである。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、固定磁気ディスク装置
などに使用されている薄膜磁気ヘッドの製法に関するも
のである。
などに使用されている薄膜磁気ヘッドの製法に関するも
のである。
【０００２】
【従来の技術】薄膜磁気ヘッドは半導体集積回路と同様
に、めっき、蒸着、スパッタなどの成膜技術、写真製版
技術、エッチング技術などを用いて製造されるものであ
り、高精度なヘッドが基板上に一括して多数形成できる
点に特徴がある。
に、めっき、蒸着、スパッタなどの成膜技術、写真製版
技術、エッチング技術などを用いて製造されるものであ
り、高精度なヘッドが基板上に一括して多数形成できる
点に特徴がある。
【０００３】薄膜磁気ヘッドとしては、磁気ギャップが
基板面に平行にあり、媒体対向面が基板面に垂直な垂直
型と、磁気ギャップが基板面に垂直にあり、媒体対向面
が基板面に平行にある平面型とが知られている。
基板面に平行にあり、媒体対向面が基板面に垂直な垂直
型と、磁気ギャップが基板面に垂直にあり、媒体対向面
が基板面に平行にある平面型とが知られている。
【０００４】現在は、磁気ギャップ形成の容易さから垂
直型が実用化されている。一方、平面型は、ヘッドの媒
体対向面が基板面に平行であるため、基板上で一括して
スライダの浮動面加工などや、ヘッドの性能を左右する
磁気ギャップの深さ研摩が行える点に特徴がある。
直型が実用化されている。一方、平面型は、ヘッドの媒
体対向面が基板面に平行であるため、基板上で一括して
スライダの浮動面加工などや、ヘッドの性能を左右する
磁気ギャップの深さ研摩が行える点に特徴がある。
【０００５】図２はたとえば論文「ア ニュー アプロ
ウチ トゥ メイキングシン フィルム ヘッド スラ
イダー デバイシーズ(A NEW APPROACH TO MAKING THIN
FILM HEAD SLIDERDEVICES)」（アイ イー イー イ
ー トランザクションズオン マグネチックス(IEEE TR
ANSACTIONS. ON MAGNETICS)、第25巻第５号、1989年９
月、3686〜3688頁）に示された平面型薄膜磁気ヘッドの
製法を説明する断面図である。図において、１は基板、
２は摺動面保護膜、３は磁気ギャップ、４は下部磁気コ
ア、５は絶縁層、６はコイル、７は上部磁気コア、８は
コイル引き出し導体、９は絶縁保護膜、10は接着層、11
は支持基板、12は支持基板11に設けられた接続導体であ
る。
ウチ トゥ メイキングシン フィルム ヘッド スラ
イダー デバイシーズ(A NEW APPROACH TO MAKING THIN
FILM HEAD SLIDERDEVICES)」（アイ イー イー イ
ー トランザクションズオン マグネチックス(IEEE TR
ANSACTIONS. ON MAGNETICS)、第25巻第５号、1989年９
月、3686〜3688頁）に示された平面型薄膜磁気ヘッドの
製法を説明する断面図である。図において、１は基板、
２は摺動面保護膜、３は磁気ギャップ、４は下部磁気コ
ア、５は絶縁層、６はコイル、７は上部磁気コア、８は
コイル引き出し導体、９は絶縁保護膜、10は接着層、11
は支持基板、12は支持基板11に設けられた接続導体であ
る。
【０００６】つぎに製法について説明する。基板１に無
機絶縁膜などからなる媒体に対する摺動保護膜２を形成
する。そののち、摺動保護膜２の一部をテーパーエッチ
ングして窓を開ける。つぎに、この窓部に磁気ギャップ
３を形成する。磁気ギャップ３は基板１に対しほぼ垂直
に形成される。磁気ギャップ３は電子ビーム露光などに
よってサブミクロン幅のレジストパターンを用いて形成
する。磁気ギャップ３はここで形成したレジストをその
まま用いてもよいが、耐摩耗性に問題があるので、通常
は、無機絶縁膜などからなる磁気ギャップ材、および磁
気ギャップ材よりもエッチング速度の小さいマスク材を
あらがじめ積層して成膜しておき、上記レジストパター
ンを用いてマスク材をエッチングしてマスクを形成し、
前記磁気ギャップ材を垂直エッチングして磁気ギャップ
３を形成する。この磁気ギャップ３の幅を小さくすると
ことは、磁気記録密度を高くするために重要であり、サ
ブミクロンのパターン幅が要求される。つぎに下部磁気
コア４をめっきなどによって形成する。このとき、レジ
ストまたは無機絶縁膜などからなる磁気ギャップ３上に
は磁性膜を形成しない。こののち順次、絶縁層５、コイ
ル６、上部磁気コア７、コイル引き出し導体８を同様に
形成する。つぎに、絶縁保護層９を積層し、コイル引き
出し導体８が露出するまで研摩する。スライドとヘッド
素子の支持をかねた支持基板11を、接着層10を介して陽
極接合などの手法により接合する。そののち、支持基板
11に設けられたスルーホールに接続導体12を形成する。
つぎに、基板１をエッチング除去して、摺動保護膜２、
磁気ギャップ３の面を露出させる。この面にスライダの
浮動面加工をエッチングにより施す。最後に支持基板11
を切断して、多数のヘッドを完成する。
機絶縁膜などからなる媒体に対する摺動保護膜２を形成
する。そののち、摺動保護膜２の一部をテーパーエッチ
ングして窓を開ける。つぎに、この窓部に磁気ギャップ
３を形成する。磁気ギャップ３は基板１に対しほぼ垂直
に形成される。磁気ギャップ３は電子ビーム露光などに
よってサブミクロン幅のレジストパターンを用いて形成
する。磁気ギャップ３はここで形成したレジストをその
まま用いてもよいが、耐摩耗性に問題があるので、通常
は、無機絶縁膜などからなる磁気ギャップ材、および磁
気ギャップ材よりもエッチング速度の小さいマスク材を
あらがじめ積層して成膜しておき、上記レジストパター
ンを用いてマスク材をエッチングしてマスクを形成し、
前記磁気ギャップ材を垂直エッチングして磁気ギャップ
３を形成する。この磁気ギャップ３の幅を小さくすると
ことは、磁気記録密度を高くするために重要であり、サ
ブミクロンのパターン幅が要求される。つぎに下部磁気
コア４をめっきなどによって形成する。このとき、レジ
ストまたは無機絶縁膜などからなる磁気ギャップ３上に
は磁性膜を形成しない。こののち順次、絶縁層５、コイ
ル６、上部磁気コア７、コイル引き出し導体８を同様に
形成する。つぎに、絶縁保護層９を積層し、コイル引き
出し導体８が露出するまで研摩する。スライドとヘッド
素子の支持をかねた支持基板11を、接着層10を介して陽
極接合などの手法により接合する。そののち、支持基板
11に設けられたスルーホールに接続導体12を形成する。
つぎに、基板１をエッチング除去して、摺動保護膜２、
磁気ギャップ３の面を露出させる。この面にスライダの
浮動面加工をエッチングにより施す。最後に支持基板11
を切断して、多数のヘッドを完成する。
【０００７】上記製法によれば、スライダの浮動面加工
が基板面上で一括して行えるだけでなく、ヘッドの性能
を左右する磁気ギャップの深さ研摩を必要としない。し
たがって、低コスト化が可能である。
が基板面上で一括して行えるだけでなく、ヘッドの性能
を左右する磁気ギャップの深さ研摩を必要としない。し
たがって、低コスト化が可能である。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】従来の前記製法は、磁
気ギャップの形成工程に見られるように、磁気ギャップ
材３として、レジストは耐摩耗性に問題があった。
気ギャップの形成工程に見られるように、磁気ギャップ
材３として、レジストは耐摩耗性に問題があった。
【０００９】また、無機絶縁膜などからなる磁気ギャッ
プ材を使用して垂直エッチングする方法では、高精度な
寸法精度をうるために、サブミクロン幅をサイドエッチ
ングすることなくエッチングしなければならず、磁気ギ
ャップ材の種類、エッチング条件、エッチング装置依存
性が大きかった。
プ材を使用して垂直エッチングする方法では、高精度な
寸法精度をうるために、サブミクロン幅をサイドエッチ
ングすることなくエッチングしなければならず、磁気ギ
ャップ材の種類、エッチング条件、エッチング装置依存
性が大きかった。
【００１０】さらに、下部磁気コアをめっきにより形成
するばあいには、磁気ギャップ材のエッチング時にめっ
き下地が変質して磁気特性のよい磁気コアを形成できな
いという問題があった。
するばあいには、磁気ギャップ材のエッチング時にめっ
き下地が変質して磁気特性のよい磁気コアを形成できな
いという問題があった。
【００１１】本発明は上記のような問題を解決するため
になされたもので、耐摩耗性の良い磁気ギャップをうる
ことができ、かつ高精度なサブミクロン幅のパターンを
うることができる平面型薄膜磁気ヘッドの製法を提供す
ることを目的とする。
になされたもので、耐摩耗性の良い磁気ギャップをうる
ことができ、かつ高精度なサブミクロン幅のパターンを
うることができる平面型薄膜磁気ヘッドの製法を提供す
ることを目的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】本発明に係わる平面型薄
膜磁気ヘッドの製法では、磁気ギャップを形成するの
に、第１の磁気ギャップ材を用いて仮の磁気ギャップを
形成する工程と、第１の磁気ギャップ材の両側に磁気コ
アを形成する工程と、第１の磁気ギャップ材を除去し、
該除去された空間部に第２の磁気ギャップ材を充填して
真の磁気ギャップを形成する工程を含むものである。
膜磁気ヘッドの製法では、磁気ギャップを形成するの
に、第１の磁気ギャップ材を用いて仮の磁気ギャップを
形成する工程と、第１の磁気ギャップ材の両側に磁気コ
アを形成する工程と、第１の磁気ギャップ材を除去し、
該除去された空間部に第２の磁気ギャップ材を充填して
真の磁気ギャップを形成する工程を含むものである。
【００１３】なお、第１のギャップ材としては、レジス
トが最適である。
トが最適である。
【００１４】
【作用】上記のように構成された製法による平面型薄膜
磁気ヘッドは、比較的処理のし易い第１の磁気ギャップ
材で高精度な寸法精度がえられ、ついで耐摩耗性にすぐ
れた第２の磁気ギャップ材と置き換えられるので、硬質
の磁気ギャップ材がエッチングなどの必要もなく、精度
よく形成され、かつ使用に対する摩耗も少なく、高性能
で動作する。
磁気ヘッドは、比較的処理のし易い第１の磁気ギャップ
材で高精度な寸法精度がえられ、ついで耐摩耗性にすぐ
れた第２の磁気ギャップ材と置き換えられるので、硬質
の磁気ギャップ材がエッチングなどの必要もなく、精度
よく形成され、かつ使用に対する摩耗も少なく、高性能
で動作する。
【００１５】
［実施例１］図１は本発明の一実施例を示す平面型薄膜
磁気ヘッドの製法の工程図である。図１でａ工程は基板
１に下部磁気コア４をめっきにより形成するためのめっ
き下地膜41に、レジストからなる第１の磁気ギャップ材
31を形成する工程である。磁気ギャップ材31としてレジ
ストを用いれば、電子ビーム露光、Ｘ線露光などにより
高精度な寸法の垂直なパターンがえられる。つぎに、同
図ｂ工程は第１の磁気ギャップ材31の両側に下部磁気コ
ア４をめっきにより形成する工程である。さらにｃ工程
は第１の磁気ギャップ31を有機溶剤などで除去して空間
部42を形成する工程である。つぎにｄ工程は非磁性のめ
っき膜からなる第２の磁気ギャップ材32を磁気ギャップ
を形成すべき空間部42に充填する工程である。 このば
あい、めっき下地膜41、下部磁気コア４は非磁性のめっ
き膜からなる第２の磁気ギャップ材32のめっき下地膜と
しても機能する。ここで、磁気ギャップ材32は全面めっ
きのばあいを示したが、磁気ギャップ近傍部のみ部分め
っきすれば不要なめっき膜を除去する必要がない。以後
は従来の製造工程と同様にコイル、上部磁気コア、絶縁
層などを形成し、基板１をエッチング除去して形成する
ものである。
磁気ヘッドの製法の工程図である。図１でａ工程は基板
１に下部磁気コア４をめっきにより形成するためのめっ
き下地膜41に、レジストからなる第１の磁気ギャップ材
31を形成する工程である。磁気ギャップ材31としてレジ
ストを用いれば、電子ビーム露光、Ｘ線露光などにより
高精度な寸法の垂直なパターンがえられる。つぎに、同
図ｂ工程は第１の磁気ギャップ材31の両側に下部磁気コ
ア４をめっきにより形成する工程である。さらにｃ工程
は第１の磁気ギャップ31を有機溶剤などで除去して空間
部42を形成する工程である。つぎにｄ工程は非磁性のめ
っき膜からなる第２の磁気ギャップ材32を磁気ギャップ
を形成すべき空間部42に充填する工程である。 このば
あい、めっき下地膜41、下部磁気コア４は非磁性のめっ
き膜からなる第２の磁気ギャップ材32のめっき下地膜と
しても機能する。ここで、磁気ギャップ材32は全面めっ
きのばあいを示したが、磁気ギャップ近傍部のみ部分め
っきすれば不要なめっき膜を除去する必要がない。以後
は従来の製造工程と同様にコイル、上部磁気コア、絶縁
層などを形成し、基板１をエッチング除去して形成する
ものである。
【００１６】なお、第１の磁気ギャップ材としてレジス
トを用いれば、硬質の磁気ギャップ材のエッチング工程
がないので、エッチング時のめっき下地41の変質が防止
できる。
トを用いれば、硬質の磁気ギャップ材のエッチング工程
がないので、エッチング時のめっき下地41の変質が防止
できる。
【００１７】また、第２の磁気ギャップ材32として、無
機絶縁材などを埋め込み特性のよいＣＶＤによって磁気
ギャップを形成すべき空間部42に充填して、形成するこ
とも可能である。
機絶縁材などを埋め込み特性のよいＣＶＤによって磁気
ギャップを形成すべき空間部42に充填して、形成するこ
とも可能である。
【００１８】また、第２の磁気ギャップ材32として、Ｓ
ＯＧ［スピン・オン・グラス(SpinOn Glass)］膜をスピ
ンコートによって塗布し、磁気ギャップを形成すべき空
間部42に充填して、焼成し、形成することも可能であ
る。
ＯＧ［スピン・オン・グラス(SpinOn Glass)］膜をスピ
ンコートによって塗布し、磁気ギャップを形成すべき空
間部42に充填して、焼成し、形成することも可能であ
る。
【００１９】また、第２の磁気ギャップ材32として、モ
ールドガラスを加熱溶融して、磁気ギャップを形成すべ
き空間部42に浸透させて充填し、形成することも可能で
ある。
ールドガラスを加熱溶融して、磁気ギャップを形成すべ
き空間部42に浸透させて充填し、形成することも可能で
ある。
【００２０】
【発明の効果】本発明では、平面型薄膜磁気ヘッドの磁
気ギャップを以上説明したように形成するので、高精度
な寸法精度を有し、耐摩耗性のすぐれた磁気ギャップを
有する平面型薄膜磁気ヘッドをうることができる。さら
に硬質の磁気ギャップ材をエッチングする必要もないの
で、めっき下地膜が変質して磁気コアの磁気特性が悪化
するという現象も生じず、性能のすぐれた平面型薄膜磁
気ヘッドをえられるという効果がある。
気ギャップを以上説明したように形成するので、高精度
な寸法精度を有し、耐摩耗性のすぐれた磁気ギャップを
有する平面型薄膜磁気ヘッドをうることができる。さら
に硬質の磁気ギャップ材をエッチングする必要もないの
で、めっき下地膜が変質して磁気コアの磁気特性が悪化
するという現象も生じず、性能のすぐれた平面型薄膜磁
気ヘッドをえられるという効果がある。
【図１】本発明の一実施例である製法を示す工程図であ
る。
る。
【図２】従来の平面型薄膜磁気ヘッドの製造工程を説明
する図である。
する図である。
１ 基板
４ 下部磁気コア
31 第１の磁気ギャップ材
32 第２の磁気ギャップ材
42 空間部
Claims (6)
- 【請求項１】 基板面にほぼ垂直に磁気ギャップを形成
した平面型薄膜磁気ヘッドの製法であって、基板上に第
１の磁気ギャップ材を用いて仮の磁気ギャップを形成す
る工程と、前記第１の磁気ギャップ材の両側に磁気コア
を形成する工程と、前記第１の磁気ギャップ材を除去
し、該除去された空間部に第２の磁気ギャップ材を充填
して真の磁気ギャップを形成する工程を含むことを特徴
とする平面型薄膜磁気ヘッドの製法。 - 【請求項２】 前記第１の磁気ギャップ材がレジストで
あることを特徴とする請求項１記載の平面型薄膜磁気ヘ
ッドの製法。 - 【請求項３】 前記第２の磁気ギャップ材が非磁性のめ
っき膜であることを特徴とする請求項１記載の平面型薄
膜磁気ヘッドの製法。 - 【請求項４】 前記第２の磁気ギャップ材がＣＶＤによ
って形成された膜であることを特徴とする請求項１記載
の平面型薄膜磁気ヘッドの製法。 - 【請求項５】 前記第２の磁気ギャップ材がＳＯＧ膜で
あることを特徴とする請求項１記載の平面型薄膜磁気ヘ
ッドの製法。 - 【請求項６】 前記第２の磁気ギャップ材がモールドガ
ラスであることを特徴とする請求項１記載の平面型薄膜
磁気ヘッドの製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18605291A JPH0528431A (ja) | 1991-07-25 | 1991-07-25 | 平面型薄膜磁気ヘツドの製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18605291A JPH0528431A (ja) | 1991-07-25 | 1991-07-25 | 平面型薄膜磁気ヘツドの製法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0528431A true JPH0528431A (ja) | 1993-02-05 |
Family
ID=16181558
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18605291A Pending JPH0528431A (ja) | 1991-07-25 | 1991-07-25 | 平面型薄膜磁気ヘツドの製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0528431A (ja) |
-
1991
- 1991-07-25 JP JP18605291A patent/JPH0528431A/ja active Pending
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