JPH05282641A - 薄膜磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents
薄膜磁気ヘッドの製造方法Info
- Publication number
- JPH05282641A JPH05282641A JP4108998A JP10899892A JPH05282641A JP H05282641 A JPH05282641 A JP H05282641A JP 4108998 A JP4108998 A JP 4108998A JP 10899892 A JP10899892 A JP 10899892A JP H05282641 A JPH05282641 A JP H05282641A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film magnetic
- thin film
- magnetic head
- polishing
- manufacturing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明の薄膜磁気ヘッドの製造方法において
は、前記薄膜磁気ヘッドをバー状態のまま２列以上配列
し、隣り合った薄膜磁気ヘッドの研磨面の２つのエッジ
の間の間隔を１．５mm以下とし、厚さ１０μm 以下のダ
イヤモンド研磨フィルムを用いて、前記２個以上の薄膜
磁気ヘッドを同時に研磨する 【構成】本発明によれば、複数の薄膜磁気ヘッドを並べ
て研磨を行なう場合、それらの間の間隔と、ダイヤモン
ド研磨フィルムにおける全厚を設定することにより、隣
り合ったエッジの間隔を効率よく小さくすることがで
き、効率のよい研磨を行なうことができる。
は、前記薄膜磁気ヘッドをバー状態のまま２列以上配列
し、隣り合った薄膜磁気ヘッドの研磨面の２つのエッジ
の間の間隔を１．５mm以下とし、厚さ１０μm 以下のダ
イヤモンド研磨フィルムを用いて、前記２個以上の薄膜
磁気ヘッドを同時に研磨する 【構成】本発明によれば、複数の薄膜磁気ヘッドを並べ
て研磨を行なう場合、それらの間の間隔と、ダイヤモン
ド研磨フィルムにおける全厚を設定することにより、隣
り合ったエッジの間隔を効率よく小さくすることがで
き、効率のよい研磨を行なうことができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、薄膜磁気ヘッドの製造
方法に関し、更に詳細には、ダイヤモンド微粒子を砥粒
とする研磨剤層を支持体としての可撓性フィルムで支持
させてなるダイヤモンド研磨フィルムによって、薄膜磁
気ヘッドのスライダを研磨する薄膜磁気ヘッドの製造方
法に関するものである。
方法に関し、更に詳細には、ダイヤモンド微粒子を砥粒
とする研磨剤層を支持体としての可撓性フィルムで支持
させてなるダイヤモンド研磨フィルムによって、薄膜磁
気ヘッドのスライダを研磨する薄膜磁気ヘッドの製造方
法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】情報記録容量の増大、高速アクセス化等
が進むにつれて、フェライトヘッドと比較して高い透磁
率を有し且つ高い転送速度でも高電磁変換率を維持出来
る薄膜磁気ヘッドに対する要求が高まっている。
が進むにつれて、フェライトヘッドと比較して高い透磁
率を有し且つ高い転送速度でも高電磁変換率を維持出来
る薄膜磁気ヘッドに対する要求が高まっている。
【０００３】薄膜磁気ヘッドでは、スライダとして各種
セラミックス基板材料が必要であり、ＳｉＣ、Ｚｒ
Ｏ2 、Ａｌ2 Ｏ3 、Ａｌ2 Ｏ3 −ＴｉＣ等の材料がスラ
イダとして用いられている。
セラミックス基板材料が必要であり、ＳｉＣ、Ｚｒ
Ｏ2 、Ａｌ2 Ｏ3 、Ａｌ2 Ｏ3 −ＴｉＣ等の材料がスラ
イダとして用いられている。
【０００４】薄膜磁気ヘッドのスライダは、安定な浮上
性と、良好な耐久走行性とを得るために、媒体対向面の
うち、空気ベアリング面の表面を研磨し、さらにその端
部や周囲のエッジ、レールの端部、側部のエッジを面取
りする等の必要がある。スライダの空気ベアリング面等
の研磨に際しては、例えば特開昭６０−１８５２７２号
公報、特開昭６３−７０９１８号公報、特開平２−１９
９６１４号公報、特開平２−２１２０５７号公報、特開
平２−３０１０１４号公報等に開示されているように、
研磨テープあるいは研磨フィルムを用いている。
性と、良好な耐久走行性とを得るために、媒体対向面の
うち、空気ベアリング面の表面を研磨し、さらにその端
部や周囲のエッジ、レールの端部、側部のエッジを面取
りする等の必要がある。スライダの空気ベアリング面等
の研磨に際しては、例えば特開昭６０−１８５２７２号
公報、特開昭６３−７０９１８号公報、特開平２−１９
９６１４号公報、特開平２−２１２０５７号公報、特開
平２−３０１０１４号公報等に開示されているように、
研磨テープあるいは研磨フィルムを用いている。
【０００５】各種セラミック材料の研磨においては、研
磨加工性を上げるため、ダイヤモンド粒子を使用したダ
イヤモンド研磨フィルムによる加工が必要とされてい
る。しかし、上記の公報には、ダイヤモンド研磨フィル
ムによる加工は開示されていないが、従来から、ダイヤ
モンド研磨フィルムによる薄膜磁気ヘッドの研磨は行な
われている。そして、特に、特開平２−３０１０１４号
公報に開示されているように、上記の研磨は、薄膜磁気
ヘッドを複数個並べて同時に行なうことが、作業効率上
も望ましい。
磨加工性を上げるため、ダイヤモンド粒子を使用したダ
イヤモンド研磨フィルムによる加工が必要とされてい
る。しかし、上記の公報には、ダイヤモンド研磨フィル
ムによる加工は開示されていないが、従来から、ダイヤ
モンド研磨フィルムによる薄膜磁気ヘッドの研磨は行な
われている。そして、特に、特開平２−３０１０１４号
公報に開示されているように、上記の研磨は、薄膜磁気
ヘッドを複数個並べて同時に行なうことが、作業効率上
も望ましい。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
研磨テープや研磨フィルムを用いてバー状態のまま複数
の薄膜磁気ヘッドの研磨を行なう場合、隣り合う薄膜磁
気ヘッドの隣接する研磨すべきエッジ同士の間隔を、あ
る大きさ以上としなければならない。従って、並べられ
た薄膜磁気ヘッドの列の長さが相当長くなってしまうの
で、同時に研磨できる薄膜磁気ヘッドの数が限られてし
まい、効率の点で更なる向上が望まれていた。
研磨テープや研磨フィルムを用いてバー状態のまま複数
の薄膜磁気ヘッドの研磨を行なう場合、隣り合う薄膜磁
気ヘッドの隣接する研磨すべきエッジ同士の間隔を、あ
る大きさ以上としなければならない。従って、並べられ
た薄膜磁気ヘッドの列の長さが相当長くなってしまうの
で、同時に研磨できる薄膜磁気ヘッドの数が限られてし
まい、効率の点で更なる向上が望まれていた。
【０００７】また、上記の従来のダイヤモンド研磨フィ
ルムによってスライダを研磨したところ、同一の条件で
研磨を行なっても、小さな面取り加工が困難であった
り、面取り寸法や角度がバラツイてしまったり、更に
は、直線部分と面取り部分との遷移部分において角が出
てしまったりしてしまうことがあることが判明した。こ
のように、面取り加工が小さくできないと、小型のスラ
イダでは用いることができない他、面取り寸法ないし面
取り角度がバラツイてしまうと、例えば、浮動型磁気ヘ
ッドでは、所定の耐久性が保証できなくなってしまった
り、安定した相対速度と浮上量とで浮上することが不可
能となり、また上記のように研磨面に角があると媒体を
損傷する他浮上性ないし走行性にも悪影響を及ぼす。
ルムによってスライダを研磨したところ、同一の条件で
研磨を行なっても、小さな面取り加工が困難であった
り、面取り寸法や角度がバラツイてしまったり、更に
は、直線部分と面取り部分との遷移部分において角が出
てしまったりしてしまうことがあることが判明した。こ
のように、面取り加工が小さくできないと、小型のスラ
イダでは用いることができない他、面取り寸法ないし面
取り角度がバラツイてしまうと、例えば、浮動型磁気ヘ
ッドでは、所定の耐久性が保証できなくなってしまった
り、安定した相対速度と浮上量とで浮上することが不可
能となり、また上記のように研磨面に角があると媒体を
損傷する他浮上性ないし走行性にも悪影響を及ぼす。
【０００８】そこで、本発明は、極小の面取り加工を精
度よく行うことができ、隣り合う面にわたって連続的に
かつなめらかに面取りを行うことができ、しかもこの面
取り量を微小にすることができ、安定な浮上性を示すヘ
ッドを得ることのできる薄膜磁気ヘッドの製造方法を提
供することを主たる目的とするものである。
度よく行うことができ、隣り合う面にわたって連続的に
かつなめらかに面取りを行うことができ、しかもこの面
取り量を微小にすることができ、安定な浮上性を示すヘ
ッドを得ることのできる薄膜磁気ヘッドの製造方法を提
供することを主たる目的とするものである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、従来の問
題点を鋭意研究したところ、研磨フィルムと被研磨物間
の密着性等の研磨精度を向上させるためのファクター
は、上記の隣り合ったエッジの間隔の大きさと、研磨フ
ィルムのスティッフネスに関係する研磨フィルムの全体
の厚さとの相関関係や研磨剤としてのダイヤモンド微粒
子の粒径に由来するということを知見した。
題点を鋭意研究したところ、研磨フィルムと被研磨物間
の密着性等の研磨精度を向上させるためのファクター
は、上記の隣り合ったエッジの間隔の大きさと、研磨フ
ィルムのスティッフネスに関係する研磨フィルムの全体
の厚さとの相関関係や研磨剤としてのダイヤモンド微粒
子の粒径に由来するということを知見した。
【００１０】本発明は、上記知見によるものであり、以
下の（１）〜（１４）にある。
下の（１）〜（１４）にある。
【００１１】（１）ダイヤモンド微粒子を使用したダイ
ヤモンド研磨フィルムによって、薄膜磁気ヘッドのスラ
イダを研磨する薄膜磁気ヘッドの製造方法において、前
記薄膜磁気ヘッドをバー状態のまま２列以上配列し、隣
り合ったバーの薄膜磁気ヘッド研磨面エッジ間の間隔を
１．５mm以下とするとともに、前記ダイヤモンド研磨フ
ィルムの厚さを１０μm 以下とし、このダイヤモンド研
磨フィルムによって前記２個以上の薄膜磁気ヘッドを同
時に研磨するようにしたことを特徴とする薄膜磁気ヘッ
ドの製造方法。
ヤモンド研磨フィルムによって、薄膜磁気ヘッドのスラ
イダを研磨する薄膜磁気ヘッドの製造方法において、前
記薄膜磁気ヘッドをバー状態のまま２列以上配列し、隣
り合ったバーの薄膜磁気ヘッド研磨面エッジ間の間隔を
１．５mm以下とするとともに、前記ダイヤモンド研磨フ
ィルムの厚さを１０μm 以下とし、このダイヤモンド研
磨フィルムによって前記２個以上の薄膜磁気ヘッドを同
時に研磨するようにしたことを特徴とする薄膜磁気ヘッ
ドの製造方法。
【００１２】（２）前記ダイヤモンド微粒子の平均粒径
を１．０μm 以下とした上記（１）の薄膜磁気ヘッドの
製造方法。
を１．０μm 以下とした上記（１）の薄膜磁気ヘッドの
製造方法。
【００１３】（３）前記隣り合った薄膜磁気ヘッドの研
磨面の２つのエッジの間の間隔であるエッジ間間隔を
０．７mm以下とする上記（１）または（２）の薄膜磁気
ヘッドの製造方法。
磨面の２つのエッジの間の間隔であるエッジ間間隔を
０．７mm以下とする上記（１）または（２）の薄膜磁気
ヘッドの製造方法。
【００１４】（４）前記隣り合った薄膜磁気ヘッドの研
磨面の２つのエッジの間の間隔であるエッジ間間隔を
０．４mm以下とする上記（１）または（３）の薄膜磁気
ヘッドの製造方法。
磨面の２つのエッジの間の間隔であるエッジ間間隔を
０．４mm以下とする上記（１）または（３）の薄膜磁気
ヘッドの製造方法。
【００１５】（５）前記薄膜磁気ヘッドが複数本のレー
ルを有しており、この複数本のレールの間の間隔のうち
最小のものの幅が前記エッジ間間隔より大きく設定され
ている上記（１）ないし（４）のいずれかの薄膜磁気ヘ
ッドの製造方法。
ルを有しており、この複数本のレールの間の間隔のうち
最小のものの幅が前記エッジ間間隔より大きく設定され
ている上記（１）ないし（４）のいずれかの薄膜磁気ヘ
ッドの製造方法。
【００１６】（６）前記薄膜磁気ヘッドのスライダのビ
ッカース硬度ＨＶ（５００g ）を、１１００以上に設定
した上記（１）ないし（５）のいずれかの薄膜磁気ヘッ
ドの製造方法。
ッカース硬度ＨＶ（５００g ）を、１１００以上に設定
した上記（１）ないし（５）のいずれかの薄膜磁気ヘッ
ドの製造方法。
【００１７】（７）前記薄膜磁気ヘッドのスライダのビ
ッカース硬度ＨＶ（５００g ）を、１５００以上に設定
した上記（１）ないし（６）のいずれかの薄膜磁気ヘッ
ドの製造方法。
ッカース硬度ＨＶ（５００g ）を、１５００以上に設定
した上記（１）ないし（６）のいずれかの薄膜磁気ヘッ
ドの製造方法。
【００１８】（８）前記薄膜磁気ヘッドのスライダのビ
ッカース硬度を１８００〜３０００の範囲とした上記
（１）ないし（７）のいずれかの薄膜磁気ヘッドの製造
方法。
ッカース硬度を１８００〜３０００の範囲とした上記
（１）ないし（７）のいずれかの薄膜磁気ヘッドの製造
方法。
【００１９】（９）複数の薄膜磁気ヘッドを固定治具に
固定配置し、この固定治具に固定配置された複数の薄膜
磁気ヘッドを、前記ダイヤモンド研磨フィルムに対して
相対的に押圧するとともに、前記固定治具およびダイヤ
モンド研磨フィルムの少なくとも一方を摺動走行させ、
前記薄膜磁気ヘッドを同時に研磨する上記（１）ないし
（８）のいずれかの薄膜磁気ヘッドの製造方法。
固定配置し、この固定治具に固定配置された複数の薄膜
磁気ヘッドを、前記ダイヤモンド研磨フィルムに対して
相対的に押圧するとともに、前記固定治具およびダイヤ
モンド研磨フィルムの少なくとも一方を摺動走行させ、
前記薄膜磁気ヘッドを同時に研磨する上記（１）ないし
（８）のいずれかの薄膜磁気ヘッドの製造方法。
【００２０】（１０）ダイヤモンド研磨フィルムを相当
厚の弾性体で支持させた状態で、前記薄膜磁気ヘッドの
研磨面に相対的に押しつけて研磨加工を行なうによにす
るとともに、前記弾性体のゴム硬度を５５°以下に設定
した上記（１）ないし（９）のいずれかの薄膜磁気ヘッ
ドの製造方法。
厚の弾性体で支持させた状態で、前記薄膜磁気ヘッドの
研磨面に相対的に押しつけて研磨加工を行なうによにす
るとともに、前記弾性体のゴム硬度を５５°以下に設定
した上記（１）ないし（９）のいずれかの薄膜磁気ヘッ
ドの製造方法。
【００２１】（１１）前記弾性体のゴム硬度を２０°か
ら４０°の範囲とした上記（１０）の薄膜磁気ヘッドの
製造方法。
ら４０°の範囲とした上記（１０）の薄膜磁気ヘッドの
製造方法。
【００２２】（１２）前記研磨フィルムのスティッフネ
スを、０．８〜３．０×１０（μm）3 kg/mm2の範囲と
した上記（１）ないし（１１）のいずれかの磁気ヘッド
の製造方法。
スを、０．８〜３．０×１０（μm）3 kg/mm2の範囲と
した上記（１）ないし（１１）のいずれかの磁気ヘッド
の製造方法。
【００２３】（１３）基板上に複数の薄膜磁気変換素子
を成膜したのち、これを切断し、切断端面を媒体対向面
として、これを前記ダイヤモンド研磨フィルムにて研磨
する上記（１）ないし（１２）のいずれかの薄膜磁気ヘ
ッドの製造方法。
を成膜したのち、これを切断し、切断端面を媒体対向面
として、これを前記ダイヤモンド研磨フィルムにて研磨
する上記（１）ないし（１２）のいずれかの薄膜磁気ヘ
ッドの製造方法。
【００２４】（１４）基板上に複数の薄膜磁気変換素子
をマトリックス上に成膜したのち、これを一方向のみに
平行に切断して、複数の薄膜磁気ヘッドが１直線に配置
されたバーを形成し、これをジグ上に固定し、ついで隣
合う２つの薄膜磁気ヘッドの間に溝を形成するか、両者
を切断し、この状態で研磨加工を行なう上記（１）ない
し（１３）のいずれかの薄膜磁気ヘッドの製造方法。
をマトリックス上に成膜したのち、これを一方向のみに
平行に切断して、複数の薄膜磁気ヘッドが１直線に配置
されたバーを形成し、これをジグ上に固定し、ついで隣
合う２つの薄膜磁気ヘッドの間に溝を形成するか、両者
を切断し、この状態で研磨加工を行なう上記（１）ない
し（１３）のいずれかの薄膜磁気ヘッドの製造方法。
【００１５】
【作用・効果】本発明によれば、複数の薄膜磁気ヘッド
を並べて研磨を行なう場合、それらの間の間隔と、ダイ
ヤモンド研磨フィルムにおける全厚を設定することによ
り、隣り合ったエッジの間隔を効率よく小さくすること
ができ、すなわち長さが決まっている場合に、数多くの
薄膜磁気ヘッドをバー状態のまま並べて研磨を行なうこ
とができ、効率のよい研磨を行なうことができるように
なる。更に、研磨フィルムのダイヤモンド粒径を設定す
ることにより、極小の面取りを精度よく行うことがで
き、面取り寸法や角度のバラツキが無くなるので、耐久
性が向上するとともに、磁気ヘッドが安定した相対速度
で浮上することができるようになる。
を並べて研磨を行なう場合、それらの間の間隔と、ダイ
ヤモンド研磨フィルムにおける全厚を設定することによ
り、隣り合ったエッジの間隔を効率よく小さくすること
ができ、すなわち長さが決まっている場合に、数多くの
薄膜磁気ヘッドをバー状態のまま並べて研磨を行なうこ
とができ、効率のよい研磨を行なうことができるように
なる。更に、研磨フィルムのダイヤモンド粒径を設定す
ることにより、極小の面取りを精度よく行うことがで
き、面取り寸法や角度のバラツキが無くなるので、耐久
性が向上するとともに、磁気ヘッドが安定した相対速度
で浮上することができるようになる。
【００２５】
【実施例】以下、添付図面を参照しつつ、本発明の好ま
しい実施例について説明する。
しい実施例について説明する。
【００２６】まず、本発明によって得られる薄膜磁気ヘ
ッドについて説明する。図１および図２は、薄膜磁気ヘ
ッドの一例を示す斜視図であり、スライダ１は、媒体対
向面１１に平面状の空気ベアリング面１１１を有してい
る。両図において、ａは磁気ディスクと組み合わせた場
合の空気流入方向を示す。そして、図１では、媒体対向
面１１の空気流入方向ａの両側端に、中央部の溝１９を
介して、２本のレール１６、１６が形成され、このレー
ル１６、１６上の媒体対向面が空気ベアリング面１１１
を構成している。なお、レール１６、１６は３本以上で
あってもよい。
ッドについて説明する。図１および図２は、薄膜磁気ヘ
ッドの一例を示す斜視図であり、スライダ１は、媒体対
向面１１に平面状の空気ベアリング面１１１を有してい
る。両図において、ａは磁気ディスクと組み合わせた場
合の空気流入方向を示す。そして、図１では、媒体対向
面１１の空気流入方向ａの両側端に、中央部の溝１９を
介して、２本のレール１６、１６が形成され、このレー
ル１６、１６上の媒体対向面が空気ベアリング面１１１
を構成している。なお、レール１６、１６は３本以上で
あってもよい。
【００２７】磁気ディスク装置として使用する場合は、
スライダ１の媒体対向面１１と逆側の面１２を、ジンバ
ルアッセイにヘッドスタックし、この状態で起動、停止
を行なう、いわゆるコンタクト．スタート．ストップ
（以下ＣＳＳと称する）方式によって駆動される。磁気
ディスクが静止しているときは、ヘッド支持装置のバネ
圧により空気ベアリング面１１１が磁気ディスクの表面
に押付けられているが、磁気ディスクが回転すると、ス
ライダ１の空気ベアリング面１１１に揚力動圧が発生
し、この動圧とヘッド支持装置のバネ圧と釣り合う浮上
量で動作する。なお、ＣＳＳにかえて、いわゆるダイナ
ミックローディングを用いてもよい。
スライダ１の媒体対向面１１と逆側の面１２を、ジンバ
ルアッセイにヘッドスタックし、この状態で起動、停止
を行なう、いわゆるコンタクト．スタート．ストップ
（以下ＣＳＳと称する）方式によって駆動される。磁気
ディスクが静止しているときは、ヘッド支持装置のバネ
圧により空気ベアリング面１１１が磁気ディスクの表面
に押付けられているが、磁気ディスクが回転すると、ス
ライダ１の空気ベアリング面１１１に揚力動圧が発生
し、この動圧とヘッド支持装置のバネ圧と釣り合う浮上
量で動作する。なお、ＣＳＳにかえて、いわゆるダイナ
ミックローディングを用いてもよい。
【００２８】図１、図２および図３に示されるように、
空気流入端側において空気ベアリング面１１１と側端面
１３とが形成するエッジは、面取りされた傾斜面１４形
状となっている。このためＣＳＳ動作等において、容易
にスタートできるようになり、ヘッドクラッシュ、媒体
損傷等を生じにくくなる。すなわち、空気流入端側での
傾斜面１４と空気ベアリング面１１１とのなす角が所定
の角度をなし、その長さが所定の寸法となるようにし、
しかもその加工精度を高めると、より安定した相対速度
で浮上を開始し、または浮上を停止するようになる。
空気流入端側において空気ベアリング面１１１と側端面
１３とが形成するエッジは、面取りされた傾斜面１４形
状となっている。このためＣＳＳ動作等において、容易
にスタートできるようになり、ヘッドクラッシュ、媒体
損傷等を生じにくくなる。すなわち、空気流入端側での
傾斜面１４と空気ベアリング面１１１とのなす角が所定
の角度をなし、その長さが所定の寸法となるようにし、
しかもその加工精度を高めると、より安定した相対速度
で浮上を開始し、または浮上を停止するようになる。
【００２９】このような傾斜面１４は研磨による面取り
によって形成される。この際、その傾斜角は小さいた
め、面寸法および傾斜角の精度に問題が生じやすいが、
これらの精度は本発明に従い格段と高いものとなる。な
お、図示した例では、レール１６、１６の空気流出側に
おいて空気ベアリング面１１１と側端面１４とが形成す
るエッジ部およびスライダ１６、１６の長さ方向の両側
部が、傾斜面１７、１８とされた例を示している。な
お、横断面は、レール付のもののみを図４に示した。
によって形成される。この際、その傾斜角は小さいた
め、面寸法および傾斜角の精度に問題が生じやすいが、
これらの精度は本発明に従い格段と高いものとなる。な
お、図示した例では、レール１６、１６の空気流出側に
おいて空気ベアリング面１１１と側端面１４とが形成す
るエッジ部およびスライダ１６、１６の長さ方向の両側
部が、傾斜面１７、１８とされた例を示している。な
お、横断面は、レール付のもののみを図４に示した。
【００３０】上記スライダ１は、そのビッカース硬度
（ＪＩＳ Ｚ ２２４４ 試験荷重５００g ）ＨＶ（５
００g ）１１００以上、特に１１００〜３０００の範囲
となるように設定されている。この場合、その下限値と
しては、好ましくは１３００以上、より好ましくは１５
００以上、更に好ましくは１８００以上であり、このと
き本発明の効果はさらにすぐれたものとなる。
（ＪＩＳ Ｚ ２２４４ 試験荷重５００g ）ＨＶ（５
００g ）１１００以上、特に１１００〜３０００の範囲
となるように設定されている。この場合、その下限値と
しては、好ましくは１３００以上、より好ましくは１５
００以上、更に好ましくは１８００以上であり、このと
き本発明の効果はさらにすぐれたものとなる。
【００３１】このようなセラミックス材料としては、Ａ
ｌ2 Ｏ3 −ＴｉＯ2 ［ＨＶ（５００）１１５０程度］、
Ｍg Ｏ−ＮｉＯ−ＺｒＯ2 （１２００程度）、ＺｒＯ
2 （１２００〜１６００程度）、ＺｒＯ2 −Ａｌ2 Ｏ3
（１４００〜１６００程度）、 Ａｌ2 Ｏ3 −Ｔｉｃ−
ＡｌＮ（１７００〜２０００）、ＳｉＣ（１８００〜２
０００程度）、Ａｌ2 Ｏ3 −ＴｉＣ（２０００〜２３０
０程度）等が好適である。また、これらには、添加物と
してＭg 、Ｙ、ＺｒＯ2 、ＴｉＯ2 等が含有されていて
もよい。
ｌ2 Ｏ3 −ＴｉＯ2 ［ＨＶ（５００）１１５０程度］、
Ｍg Ｏ−ＮｉＯ−ＺｒＯ2 （１２００程度）、ＺｒＯ
2 （１２００〜１６００程度）、ＺｒＯ2 −Ａｌ2 Ｏ3
（１４００〜１６００程度）、 Ａｌ2 Ｏ3 −Ｔｉｃ−
ＡｌＮ（１７００〜２０００）、ＳｉＣ（１８００〜２
０００程度）、Ａｌ2 Ｏ3 −ＴｉＣ（２０００〜２３０
０程度）等が好適である。また、これらには、添加物と
してＭg 、Ｙ、ＺｒＯ2 、ＴｉＯ2 等が含有されていて
もよい。
【００３２】これらのうち、本発明に特に好適なもの
は、加工性の点でＡｌ2 Ｏ3 −ＴｉＣを主成分とするセ
ラミックスである。
は、加工性の点でＡｌ2 Ｏ3 −ＴｉＣを主成分とするセ
ラミックスである。
【００３３】図５は、図１に示した磁気ヘッドをバー状
態のまま固定治具９４に複数個並べて研磨する製造方法
を示す図である。図においては、１は磁気ヘッドスライ
ダ、９１は弾性シート、９２は研磨フィルム、９３は加
工台である。この場合、スライダは、上記の構造のいず
れのものであってもよい。
態のまま固定治具９４に複数個並べて研磨する製造方法
を示す図である。図においては、１は磁気ヘッドスライ
ダ、９１は弾性シート、９２は研磨フィルム、９３は加
工台である。この場合、スライダは、上記の構造のいず
れのものであってもよい。
【００３４】上記研磨フィルム９２は、図６に示したよ
うに、研磨剤層９２１を、支持体としての可撓性フィル
ム９２２上に形成してなるものである。研磨剤層９２１
は、例えばダイヤモンド微粒子として合成ダイヤモンド
砥粒を用い、ポリウレタン系樹脂等のバインダー樹脂を
用い、ＭＥＫ／トルエン／シクロヘキサノン混合系等の
希釈溶剤を用いて塗布、乾燥して作製することができ
る。上記ペーストは、各種コーティング機械を用いて、
支持体上に均一に塗布されて、層形成される。上記支持
体としての可撓性フィルム９２２としては、ポリエチレ
ンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレー
ト（ＰＥＮ）、ポリアミド、ポリイミド等を用いること
ができる。
うに、研磨剤層９２１を、支持体としての可撓性フィル
ム９２２上に形成してなるものである。研磨剤層９２１
は、例えばダイヤモンド微粒子として合成ダイヤモンド
砥粒を用い、ポリウレタン系樹脂等のバインダー樹脂を
用い、ＭＥＫ／トルエン／シクロヘキサノン混合系等の
希釈溶剤を用いて塗布、乾燥して作製することができ
る。上記ペーストは、各種コーティング機械を用いて、
支持体上に均一に塗布されて、層形成される。上記支持
体としての可撓性フィルム９２２としては、ポリエチレ
ンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレー
ト（ＰＥＮ）、ポリアミド、ポリイミド等を用いること
ができる。
【００３５】上記ダイヤモンド粒子の平均粒径は、後の
実施例からも分かるように、１．０μm 以下でなければ
ならないが、特に０．１〜１．０μm 、さらには０．１
〜０．９μm 、もっとも好ましくは０．１〜０．５μm
であることが好ましい。また、ダイヤモンド粒子とバイ
ンダの比は、重量比で１：１／７〜１程度である。ま
た、研磨剤層９２１の厚さは、１〜１０μm とすること
が好ましい。
実施例からも分かるように、１．０μm 以下でなければ
ならないが、特に０．１〜１．０μm 、さらには０．１
〜０．９μm 、もっとも好ましくは０．１〜０．５μm
であることが好ましい。また、ダイヤモンド粒子とバイ
ンダの比は、重量比で１：１／７〜１程度である。ま
た、研磨剤層９２１の厚さは、１〜１０μm とすること
が好ましい。
【００３６】バー状態のまま並べられた磁気ヘッドスラ
イダ１は、接着等の手段によって治具９４に取付けら
れ、治具９４に荷重を加えながら、薄膜磁気ヘッドのス
ライダ１の媒体対向面１１側を、弾性シート９１によっ
て支持された研磨フィルム９２の面上に接触させ、スラ
イダ１を研磨フィルム９２に対して、相対的に移動させ
て研磨する。このとき、図５に示すように、ダイヤモン
ド研磨フィルムが好適な状態で押し込まれるように、ヤ
ング率をＥとして定義される研磨フィルムの柔軟性の指
標であるスティッフネスＥＴ3 が０．８〜３．０×１０
5 （μm ）3 kg/mm2、好ましくは０．８〜１．６×１０
5 （μm ）3 kg/mm2、特に好ましくは０．８〜１．２×
１０5 （μm ）3 kg/mm2となるように設定することが望
ましい。支持体としての可撓性フィルムが上記したよう
な材料で形成されるので、そのゴム硬度がある所定の範
囲内にあるため、上記ダイヤモンド研磨フィルムのステ
ィッフネスは、その全厚によるところが大きい。従っ
て、研磨フィルムの厚みが厚すぎたり、薄すぎたりする
と密着性が悪化し、研磨面の均一性に欠ける。したがっ
て、本発明においては、フィルムの厚みを１０μm 以
下、該ダイヤモンド研磨フィルムのスティッフネスを上
記値の範囲に設定することにより、研磨面のバラツキが
抑えられ、安定した耐久走行性が得られるようになっ
た。
イダ１は、接着等の手段によって治具９４に取付けら
れ、治具９４に荷重を加えながら、薄膜磁気ヘッドのス
ライダ１の媒体対向面１１側を、弾性シート９１によっ
て支持された研磨フィルム９２の面上に接触させ、スラ
イダ１を研磨フィルム９２に対して、相対的に移動させ
て研磨する。このとき、図５に示すように、ダイヤモン
ド研磨フィルムが好適な状態で押し込まれるように、ヤ
ング率をＥとして定義される研磨フィルムの柔軟性の指
標であるスティッフネスＥＴ3 が０．８〜３．０×１０
5 （μm ）3 kg/mm2、好ましくは０．８〜１．６×１０
5 （μm ）3 kg/mm2、特に好ましくは０．８〜１．２×
１０5 （μm ）3 kg/mm2となるように設定することが望
ましい。支持体としての可撓性フィルムが上記したよう
な材料で形成されるので、そのゴム硬度がある所定の範
囲内にあるため、上記ダイヤモンド研磨フィルムのステ
ィッフネスは、その全厚によるところが大きい。従っ
て、研磨フィルムの厚みが厚すぎたり、薄すぎたりする
と密着性が悪化し、研磨面の均一性に欠ける。したがっ
て、本発明においては、フィルムの厚みを１０μm 以
下、該ダイヤモンド研磨フィルムのスティッフネスを上
記値の範囲に設定することにより、研磨面のバラツキが
抑えられ、安定した耐久走行性が得られるようになっ
た。
【００３７】また、上記したように、図４に示すよう
に、ダイヤモンド研磨フィルムが押し込まれるが、隣合
う２つのバーの薄膜磁気ヘッドの研磨面のエッジの間の
間隔が狭すぎ、研磨フィルムの全厚が大きすぎると、ダ
イヤモンド研磨フィルムと研磨面との密着性が悪化し、
研磨面の均一性が欠けるとともに面取り精度が悪化す
る。したがって、本発明においては、研磨フィルムの全
厚を１０μm 以下、好ましくは、７μm の範囲に設定
し、それに応じて、隣合う２つのスライダ２（薄膜磁気
ヘッド）のバーの隣合う研磨面のエッジ間の間隔α（図
５に示した）を０．２mm以上１．５mm以下、好ましくは
０．７mm以下、特に好ましくは０．４mmに設定しても、
研磨面のバラツキが抑えられ、安定した耐久走行性が得
られるようになった。なお、現在のところ、１つの薄膜
磁気ヘッドの隣あうレールの間の間隔ｂは１．５mm程度
であり、５０％シュリンクでは１．０mm以下となる。小
型化等により、間隔ｂが間隔αよりも小さくなった場合
には、この間隔ｂを考慮して、研磨フィルムの厚さある
いはスティッフネスを設置する。
に、ダイヤモンド研磨フィルムが押し込まれるが、隣合
う２つのバーの薄膜磁気ヘッドの研磨面のエッジの間の
間隔が狭すぎ、研磨フィルムの全厚が大きすぎると、ダ
イヤモンド研磨フィルムと研磨面との密着性が悪化し、
研磨面の均一性が欠けるとともに面取り精度が悪化す
る。したがって、本発明においては、研磨フィルムの全
厚を１０μm 以下、好ましくは、７μm の範囲に設定
し、それに応じて、隣合う２つのスライダ２（薄膜磁気
ヘッド）のバーの隣合う研磨面のエッジ間の間隔α（図
５に示した）を０．２mm以上１．５mm以下、好ましくは
０．７mm以下、特に好ましくは０．４mmに設定しても、
研磨面のバラツキが抑えられ、安定した耐久走行性が得
られるようになった。なお、現在のところ、１つの薄膜
磁気ヘッドの隣あうレールの間の間隔ｂは１．５mm程度
であり、５０％シュリンクでは１．０mm以下となる。小
型化等により、間隔ｂが間隔αよりも小さくなった場合
には、この間隔ｂを考慮して、研磨フィルムの厚さある
いはスティッフネスを設置する。
【００３８】上記の相対移動は、スライダ１、研磨フィ
ルム９２のいずれの移動によって達成してもよい。ま
た、研磨フィルムを円形にしておき、その円形の中心を
中心として回転させ、いわゆるバフのようにして研磨す
ることもできる。また、長尺の研磨フィルムと弾性シー
トを組み合わせたものを、研磨フィルムを外側にして、
輪を形成してエンドレステープ状とし、これを走行させ
ることによって研磨するようにしてもよい。上記荷重
は、磁気ヘッド１個あたり、５〜２００g の範囲とす
る。更に、研磨時間は、スライダ１の硬度、ダイヤモン
ド粒子の粒径、荷重の大きさ等によっても異なるが、概
ね、１０〜３００秒程度とする。
ルム９２のいずれの移動によって達成してもよい。ま
た、研磨フィルムを円形にしておき、その円形の中心を
中心として回転させ、いわゆるバフのようにして研磨す
ることもできる。また、長尺の研磨フィルムと弾性シー
トを組み合わせたものを、研磨フィルムを外側にして、
輪を形成してエンドレステープ状とし、これを走行させ
ることによって研磨するようにしてもよい。上記荷重
は、磁気ヘッド１個あたり、５〜２００g の範囲とす
る。更に、研磨時間は、スライダ１の硬度、ダイヤモン
ド粒子の粒径、荷重の大きさ等によっても異なるが、概
ね、１０〜３００秒程度とする。
【００３９】なお、本発明は薄膜磁気ヘッドをバー状態
で配列したものにも応用できる。すなわち、基板上に複
数の薄膜磁気変換素子をマトリックス上に成膜したの
ち、これを一方向のみに平行に切断して、複数の薄膜磁
気ヘッドが１直線に配置されたバーを形成し、これを固
定治具上に固定し、ついで隣合う２つの薄膜磁気ヘッド
の間に溝を形成するか、両者を切断し、この状態で研磨
加工を行なってもよい。この場合は、上記間隔ａのみが
考慮の対象となる。
で配列したものにも応用できる。すなわち、基板上に複
数の薄膜磁気変換素子をマトリックス上に成膜したの
ち、これを一方向のみに平行に切断して、複数の薄膜磁
気ヘッドが１直線に配置されたバーを形成し、これを固
定治具上に固定し、ついで隣合う２つの薄膜磁気ヘッド
の間に溝を形成するか、両者を切断し、この状態で研磨
加工を行なってもよい。この場合は、上記間隔ａのみが
考慮の対象となる。
【００４０】このようにして、空気ベアリング面１１１
を研磨する他、例えば特開昭６０−１８５２７２号、同
６３−７０９１８号、特開平２−１９９６１４号、同２
−２１２０５７号、同２−３０１０１４号等に記載され
た方法に準じ、必要に応じスライダ１と研磨フィルムと
を傾けたり、研磨フィルムを所定形状に配置したりし
て、傾斜角や、エッジの面取り加工等が行なわれる。
を研磨する他、例えば特開昭６０−１８５２７２号、同
６３−７０９１８号、特開平２−１９９６１４号、同２
−２１２０５７号、同２−３０１０１４号等に記載され
た方法に準じ、必要に応じスライダ１と研磨フィルムと
を傾けたり、研磨フィルムを所定形状に配置したりし
て、傾斜角や、エッジの面取り加工等が行なわれる。
【００４１】以上説明してきたが、要約すると、本発明
方法は、バー状態のまま薄膜磁気ヘッドを多数個並べ、
上記の間隔を１．５mm以下とするとともに、厚さ１０μ
m 以下の研磨フィルムに、磁気ヘッドスライダの媒体対
向面側を接触させ、前記スライダを前記研磨シートに対
して相対的に移動させて、薄膜磁気ヘッドの前記媒体対
向面を研磨することを主眼とするものである。
方法は、バー状態のまま薄膜磁気ヘッドを多数個並べ、
上記の間隔を１．５mm以下とするとともに、厚さ１０μ
m 以下の研磨フィルムに、磁気ヘッドスライダの媒体対
向面側を接触させ、前記スライダを前記研磨シートに対
して相対的に移動させて、薄膜磁気ヘッドの前記媒体対
向面を研磨することを主眼とするものである。
【００４２】次に、本発明による方法、特に研磨方法に
よる効果の確認のため、次のような実験を行なった。す
なわち、上記の間隔ａを図７に示すように種々変化させ
るとともに、研磨材としてのダイヤモンドの粒径を１．
０μm に設定し、上記ペーストの配合比を表１に示すよ
うにしてペーストを配合し、さらに、全厚を図７に示す
ように設定し、所定の弾性シート上に配置したダイヤモ
ンド研磨フィルムを用い、荷重と研磨時間一定の条件
で、隣合った２つのスライダ２（薄膜磁気ヘッド）の研
磨面の対向するエッジ間の間隔ａを図７に示すように設
定して、１０バー研磨し、２つのそれぞれの隣接するレ
ール１６の対向する面取り傾斜面の精度を、表２の基準
で測定あるいは調べた。その結果を図７に示す。なお、
被研磨物としては、Ａｌ2 Ｏ3 −ＴｉＯ2 製で、Ｈｖ
（５００g ）が２０００のスライダを有する薄膜磁気ヘ
ッドを用いた。
よる効果の確認のため、次のような実験を行なった。す
なわち、上記の間隔ａを図７に示すように種々変化させ
るとともに、研磨材としてのダイヤモンドの粒径を１．
０μm に設定し、上記ペーストの配合比を表１に示すよ
うにしてペーストを配合し、さらに、全厚を図７に示す
ように設定し、所定の弾性シート上に配置したダイヤモ
ンド研磨フィルムを用い、荷重と研磨時間一定の条件
で、隣合った２つのスライダ２（薄膜磁気ヘッド）の研
磨面の対向するエッジ間の間隔ａを図７に示すように設
定して、１０バー研磨し、２つのそれぞれの隣接するレ
ール１６の対向する面取り傾斜面の精度を、表２の基準
で測定あるいは調べた。その結果を図７に示す。なお、
被研磨物としては、Ａｌ2 Ｏ3 −ＴｉＯ2 製で、Ｈｖ
（５００g ）が２０００のスライダを有する薄膜磁気ヘ
ッドを用いた。
【００４３】
【表１】
【００４４】
【表２】
【００４５】また、上記間隔ａを、０．７mmとし、ダイ
ヤモンド研磨フィルムの全厚を７μm 、ダイヤモンド微
粒子の粒径を１．０μm とし、表３に示すように薄膜磁
気ヘッドのビッカース硬度ＨＶ（５００g ）を種々変え
て上記と同様に研磨を行い、精度を測定あるいは調べ
た。その結果を表３に示す。
ヤモンド研磨フィルムの全厚を７μm 、ダイヤモンド微
粒子の粒径を１．０μm とし、表３に示すように薄膜磁
気ヘッドのビッカース硬度ＨＶ（５００g ）を種々変え
て上記と同様に研磨を行い、精度を測定あるいは調べ
た。その結果を表３に示す。
【００４６】
【表３】
【００４７】この表３から分かるように、ビッカース硬
度ＨＶ（５００g ）１１００未満の時、研磨表面に大き
な傷が付いてしまい、実用に耐えないことが分かる。こ
れに対し、ビッカース硬度ＨＶ（５００g ）１１００以
上となると、スライダの研磨面に小さな傷が存在するだ
けで満足の行くものであった。
度ＨＶ（５００g ）１１００未満の時、研磨表面に大き
な傷が付いてしまい、実用に耐えないことが分かる。こ
れに対し、ビッカース硬度ＨＶ（５００g ）１１００以
上となると、スライダの研磨面に小さな傷が存在するだ
けで満足の行くものであった。
【００４８】特に、ビッカース硬度ＨＶ（５００g ）を
１５００以上としたときには、キズ、精度ともに良好な
状態となり、さらには、１８００以上とすると、きわめ
て良好な結果が得られた。
１５００以上としたときには、キズ、精度ともに良好な
状態となり、さらには、１８００以上とすると、きわめ
て良好な結果が得られた。
【００４９】さらに、使用するダイヤモンド微粒子の平
均粒径１．０μm 、ダイヤモンド研磨フィルムの厚さ１
０μm 、そして、スライダのビッカース硬度ＨＶ（５０
０g）を１８００とし、ダイヤモンド研磨フィルムの支
持体としての弾性シートのゴム硬度を種々替えて実験を
行なった。その結果を、表４に示す。
均粒径１．０μm 、ダイヤモンド研磨フィルムの厚さ１
０μm 、そして、スライダのビッカース硬度ＨＶ（５０
０g）を１８００とし、ダイヤモンド研磨フィルムの支
持体としての弾性シートのゴム硬度を種々替えて実験を
行なった。その結果を、表４に示す。
【００５０】
【表４】
【００５１】この表４に示されているように、ダイヤモ
ンド研磨フィルムの支持体のゴム硬度を２０°〜５５°
の範囲にしないときには、キズが大であり、しかも２μ
m より大の精度のバラツキを生じてしまい実用に耐えな
いことがわかる。これに対しゴム硬度が２０°〜５５°
の範囲では、これらはいずれも満足できる状態となって
いる。
ンド研磨フィルムの支持体のゴム硬度を２０°〜５５°
の範囲にしないときには、キズが大であり、しかも２μ
m より大の精度のバラツキを生じてしまい実用に耐えな
いことがわかる。これに対しゴム硬度が２０°〜５５°
の範囲では、これらはいずれも満足できる状態となって
いる。
【００５２】特に、ゴム硬度が２０°〜４０°の範囲で
は、より一層好ましい状態となることがわかる。
は、より一層好ましい状態となることがわかる。
【００５３】更にまた上記間隙ａを、０．７mmとし、表
５に示すように、ダイヤモンド研磨フィルム全体および
ダイヤモンド粒子の粒径を種々変えて上記と同様に研磨
を行い、精度を測定あるいは調べた。その結果を表５に
示す。
５に示すように、ダイヤモンド研磨フィルム全体および
ダイヤモンド粒子の粒径を種々変えて上記と同様に研磨
を行い、精度を測定あるいは調べた。その結果を表５に
示す。
【００５４】この表から明らかなように、ダイヤモンド
研磨フィルムの厚さ１５μm 以下、ダイヤモンド微粒子
の平均粒径１．０μm 以下での条件をいずれかでも満足
しないときには、５μm より大のバラツキを生じ、面取
り面と水平、垂直面との角で大きな角θができてしまい
実用に耐えないことがわかる。これに対し厚さ１５μm
以下かつ平均粒径１．０μm 以下では、これらはいずれ
も満足できる状態となっている。特に、厚さが１０μm
以下、また平均粒径が０．１μm 以上であって、０．９
μm 以下、特に０．５μm 以下となると、これらはより
一層好ましい状態となることがわかる。
研磨フィルムの厚さ１５μm 以下、ダイヤモンド微粒子
の平均粒径１．０μm 以下での条件をいずれかでも満足
しないときには、５μm より大のバラツキを生じ、面取
り面と水平、垂直面との角で大きな角θができてしまい
実用に耐えないことがわかる。これに対し厚さ１５μm
以下かつ平均粒径１．０μm 以下では、これらはいずれ
も満足できる状態となっている。特に、厚さが１０μm
以下、また平均粒径が０．１μm 以上であって、０．９
μm 以下、特に０．５μm 以下となると、これらはより
一層好ましい状態となることがわかる。
【図１】本発明の製造方法によって製造される浮動型磁
気ヘッドの一例を示す斜視図である。
気ヘッドの一例を示す斜視図である。
【図２】薄膜磁気ヘッドの変形例である。
【図３】図１の磁気ヘッドの正面図である。
【図４】図１の磁気ヘッドの側面図である。
【図５】２個の浮動型磁気ヘッドのスライダの空気ベア
リング面の研磨方法を説明するための正面図である。
リング面の研磨方法を説明するための正面図である。
【図６】本発明方法において使用される研磨フィルムの
一例を示す断面図である。
一例を示す断面図である。
【図７】本発明方法の効果を確認するための実験の条件
と結果を示す図である。
と結果を示す図である。
１ スライダ １１ 媒体対向面 １１１ 空気ベアリング面 １４、１７、１８ 傾斜面 ９２ 研磨フィルム ９２１ 研磨材層 ９２２ 可撓性フィルム
【表５】
Claims (14)
- 【請求項１】 ダイヤモンド微粒子を使用したダイヤモ
ンド研磨フィルムによって、薄膜磁気ヘッドのスライダ
を研磨する薄膜磁気ヘッドの製造方法において、前記薄
膜磁気ヘッドをバー状態のまま２列以上配列し、隣り合
ったバーの薄膜磁気ヘッド研磨面エッジ間の間隔を１．
５mm以下とするとともに、前記ダイヤモンド研磨フィル
ムの厚さを１０μm 以下とし、このダイヤモンド研磨フ
ィルムによって前記２個以上の薄膜磁気ヘッドを同時に
研磨するようにしたことを特徴とする薄膜磁気ヘッドの
製造方法。 - 【請求項２】 前記ダイヤモンド微粒子の平均粒径を
１．０μm 以下とした請求項１の薄膜磁気ヘッドの製造
方法。 - 【請求項３】 前記隣り合った薄膜磁気ヘッドの研磨面
の２つのエッジの間の間隔であるエッジ間間隔を０．７
mm以下とする請求項１または２の薄膜磁気ヘッドの製造
方法。 - 【請求項４】 前記隣り合った薄膜磁気ヘッドの研磨面
の２つのエッジの間の間隔であるエッジ間間隔を０．４
mm以下とする請求項１または２の薄膜磁気ヘッドの製造
方法。 - 【請求項５】 前記薄膜磁気ヘッドが複数本のレールを
有しており、この複数本のレールの間の間隔のうち最小
のものの幅が前記エッジ間間隔より大きく設定されてい
る請求項１ないし４のいずれかの薄膜磁気ヘッドの製造
方法。 - 【請求項６】 前記薄膜磁気ヘッドのスライダのビッカ
ース硬度ＨＶ（５００g ）を、１１００以上に設定した
請求項１ないし５のいずれかの薄膜磁気ヘッドの製造方
法。 - 【請求項７】 前記薄膜磁気ヘッドのスライダのビッカ
ース硬度ＨＶ（５００g ）を、１５００以上に設定した
請求項１ないし５のいずれかの薄膜磁気ヘッドの製造方
法。 - 【請求項８】 前記薄膜磁気ヘッドのスライダのビッカ
ース硬度を１８００〜３０００の範囲とした請求項１な
いし５のいずれかの薄膜磁気ヘッドの製造方法。 - 【請求項９】 複数の薄膜磁気ヘッドを固定治具に固定
配置し、この固定治具に固定配置された複数の薄膜磁気
ヘッドを、前記ダイヤモンド研磨フィルムに対して相対
的に押圧するとともに、前記固定治具およびダイヤモン
ド研磨フィルムの少なくとも一方を摺動走行させ、前記
薄膜磁気ヘッドを同時に研磨する請求項１ないし８のい
ずれかの薄膜磁気ヘッドの製造方法。 - 【請求項１０】 ダイヤモンド研磨フィルムを相当厚の
弾性体で支持させた状態で、前記薄膜磁気ヘッドの研磨
面に相対的に押しつけて研磨加工を行なうによにすると
ともに、前記弾性体のゴム硬度を５５°以下に設定した
請求項１ないし９のいずれかの薄膜磁気ヘッドの製造方
法。 - 【請求項１１】 前記弾性体のゴム硬度を２０°から４
０°の範囲とした請求項１０の薄膜磁気ヘッドの製造方
法。 - 【請求項１２】 前記研磨フィルムのスティッフネス
を、０．８〜３．０×１０（μm ）3 kg/mm2の範囲とし
た請求項１ないし１１のいずれかの磁気ヘッドの製造方
法。 - 【請求項１３】 基板上に複数の薄膜磁気変換素子を成
膜したのち、これを切断し、切断端面を媒体対向面とし
て、これを前記ダイヤモンド研磨フィルムにて研磨する
請求項１ないし１２のいずれかの薄膜磁気ヘッドの製造
方法。 - 【請求項１４】 基板上に複数の薄膜磁気変換素子をマ
トリックス上に成膜したのち、これを一方向のみに平行
に切断して、複数の薄膜磁気ヘッドが１直線に配置され
たバーを形成し、これをジグ上に固定し、ついで隣合う
２つの薄膜磁気ヘッドの間に溝を形成するか、両者を切
断し、この状態で研磨加工を行なう請求項１ないし１３
のいずれかの薄膜磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4108998A JPH05282641A (ja) | 1992-04-01 | 1992-04-01 | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4108998A JPH05282641A (ja) | 1992-04-01 | 1992-04-01 | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05282641A true JPH05282641A (ja) | 1993-10-29 |
Family
ID=14498989
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4108998A Pending JPH05282641A (ja) | 1992-04-01 | 1992-04-01 | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05282641A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004100133A1 (en) * | 2003-05-12 | 2004-11-18 | Sae Magnetics (H.K) Ltd. | System and method for edge blending hard drive head sliders |
| US6916227B2 (en) | 2002-11-04 | 2005-07-12 | Sae Magnetics (H.K.) Ltd. | Method and apparatus for processing sliders for use in disk drives and the like |
| US6926582B2 (en) | 2002-04-16 | 2005-08-09 | Hitachi Global Storage Technologies Nethrlands B.V. | System and method for rounding disk drive slider corners and/or edges using a flexible slider fixture, an abrasive element, and support elements to control slider orientation |
| US6960117B1 (en) | 2004-04-28 | 2005-11-01 | Sae Magnetics (H.K.) Ltd. | Method to eliminate defects on the periphery of a slider due to conventional machining processes |
| US8063630B2 (en) * | 2008-03-14 | 2011-11-22 | Tdk Corporation | Testing method for thin-film magnetic head and jig used therefor |
-
1992
- 1992-04-01 JP JP4108998A patent/JPH05282641A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6926582B2 (en) | 2002-04-16 | 2005-08-09 | Hitachi Global Storage Technologies Nethrlands B.V. | System and method for rounding disk drive slider corners and/or edges using a flexible slider fixture, an abrasive element, and support elements to control slider orientation |
| US6916227B2 (en) | 2002-11-04 | 2005-07-12 | Sae Magnetics (H.K.) Ltd. | Method and apparatus for processing sliders for use in disk drives and the like |
| WO2004100133A1 (en) * | 2003-05-12 | 2004-11-18 | Sae Magnetics (H.K) Ltd. | System and method for edge blending hard drive head sliders |
| US7189150B2 (en) | 2003-05-12 | 2007-03-13 | Sae Magnetics (H.K.) Ltd. | System and method for edge blending hard drive head sliders |
| US6960117B1 (en) | 2004-04-28 | 2005-11-01 | Sae Magnetics (H.K.) Ltd. | Method to eliminate defects on the periphery of a slider due to conventional machining processes |
| US8063630B2 (en) * | 2008-03-14 | 2011-11-22 | Tdk Corporation | Testing method for thin-film magnetic head and jig used therefor |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5301077A (en) | Thin film magnetic head | |
| US5633068A (en) | Abrasive tape having an interlayer for magnetic head cleaning and polishing | |
| US6040959A (en) | Slider with blunt edges | |
| US6657820B2 (en) | Magnetic head slider | |
| US6257959B1 (en) | Apparatus and method for processing slider, load applying apparatus and auxiliary device for processing slider | |
| JPH05282641A (ja) | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 | |
| JP3108514B2 (ja) | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 | |
| JP3108509B2 (ja) | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPH0773425A (ja) | 浮上型磁気ヘッド装置の製造方法 | |
| JP3566075B2 (ja) | スライダの加工方法および装置 | |
| JPH0612645A (ja) | 薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法 | |
| JPH0295578A (ja) | 研磨テープ | |
| JPH05250649A (ja) | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 | |
| US6643100B2 (en) | Magnetic head having a chamfer thereof oriented toward medium and method for manufacturing the same | |
| JP2527320B2 (ja) | 研磨テ−プ | |
| JPH05225543A (ja) | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 | |
| US6017264A (en) | Deflection lapping apparatus and method for hydrodynamic bearing slider | |
| US6335080B1 (en) | Magnetic disk media and disk drives utilizing polymeric disk substrates | |
| US6657819B2 (en) | Magnetic head having protrusion on medium opposing surface and magnetic recording apparatus | |
| JP2014002824A (ja) | バーニッシュ加工方法およびバーニッシュ加工装置 | |
| JPS6294270A (ja) | 研磨テ−プ | |
| JP3045396B2 (ja) | ダイヤモンド研磨フィルム | |
| JPH05298646A (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPH04285721A (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPH08203050A (ja) | 磁気ヘッドスライダ製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20020205 |