JP3108514B2 - 薄膜磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents
薄膜磁気ヘッドの製造方法Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、薄膜磁気ヘッドの製造
方法に関し、更に詳細には、ダイヤモンド微粒子を砥粒
とする研磨剤層を支持体としての可撓性フィルムで支持
させてなるダイヤモンド研磨フィルムによって、薄膜磁
気ヘッドのスライダを研磨する薄膜磁気ヘッドの製造方
法に関するものである。
方法に関し、更に詳細には、ダイヤモンド微粒子を砥粒
とする研磨剤層を支持体としての可撓性フィルムで支持
させてなるダイヤモンド研磨フィルムによって、薄膜磁
気ヘッドのスライダを研磨する薄膜磁気ヘッドの製造方
法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】情報記録容量の増大、高速アクセス化等
が進むにつれて、フェライトヘッドと比較して高い透磁
率を有し且つ高い転送速度でも高電磁変換率を維持出来
る薄膜磁気ヘッドに対する要求が高まっている。
が進むにつれて、フェライトヘッドと比較して高い透磁
率を有し且つ高い転送速度でも高電磁変換率を維持出来
る薄膜磁気ヘッドに対する要求が高まっている。
【０００３】薄膜磁気ヘッドでは、スライダとして各種
セラミックス基板材料が必要であり、ＳｉＣ、Ｚｒ
Ｏ2 、Ａｌ2 Ｏ3 、Ａｌ2 Ｏ3 −ＴｉＣ等の材料がスラ
イダとして用いられている。
セラミックス基板材料が必要であり、ＳｉＣ、Ｚｒ
Ｏ2 、Ａｌ2 Ｏ3 、Ａｌ2 Ｏ3 −ＴｉＣ等の材料がスラ
イダとして用いられている。
【０００４】薄膜磁気ヘッドのスライダは、安定な浮上
性と、良好な耐久走行性とを得るために、媒体対向面の
うち、空気ベアリング面の表面を研磨し、さらにその端
部や周囲のエッジ、レールの端部、側部のエッジを面取
りする等の必要がある。スライダの空気ベアリング面等
の研磨に際しては、例えば特開昭６０−１８５２７２号
公報、特開昭６３−７０９１８号公報、特開平２−１９
９６１４号公報、特開平２−２１２０５７号公報、特開
平２−３０１０１４号公報等に開示されているように、
研磨テープあるいは研磨フィルムを用いている。
性と、良好な耐久走行性とを得るために、媒体対向面の
うち、空気ベアリング面の表面を研磨し、さらにその端
部や周囲のエッジ、レールの端部、側部のエッジを面取
りする等の必要がある。スライダの空気ベアリング面等
の研磨に際しては、例えば特開昭６０−１８５２７２号
公報、特開昭６３−７０９１８号公報、特開平２−１９
９６１４号公報、特開平２−２１２０５７号公報、特開
平２−３０１０１４号公報等に開示されているように、
研磨テープあるいは研磨フィルムを用いている。
【０００５】各種セラミック材料の研磨においては、研
磨加工性を上げるため、ダイヤモンド粒子を使用したダ
イヤモンド研磨フィルムによる加工が必要とされてい
る。しかし、上記の公報には、ダイヤモンド研磨フィル
ムによる加工は開示されていないが、従来から、ダイヤ
モンド研磨フィルムによる薄膜磁気ヘッドの研磨は行な
われている。そして、特に、特開平２−３０１０１４号
公報に開示されているように、上記の研磨は、薄膜磁気
ヘッドを複数個並べて同時に行なうことが、作業効率上
も望ましい。
磨加工性を上げるため、ダイヤモンド粒子を使用したダ
イヤモンド研磨フィルムによる加工が必要とされてい
る。しかし、上記の公報には、ダイヤモンド研磨フィル
ムによる加工は開示されていないが、従来から、ダイヤ
モンド研磨フィルムによる薄膜磁気ヘッドの研磨は行な
われている。そして、特に、特開平２−３０１０１４号
公報に開示されているように、上記の研磨は、薄膜磁気
ヘッドを複数個並べて同時に行なうことが、作業効率上
も望ましい。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
研磨テープや研磨フィルムを用いて複数の薄膜磁気ヘッ
ドの研磨を行なう場合、隣り合う薄膜磁気ヘッドの隣接
する研磨すべきエッジ同士の間隔を、ある大きさ以上と
しなければならない。従って、並べられた薄膜磁気ヘッ
ドの列の長さが相当長くなってしまうので、同時に研磨
できる薄膜磁気ヘッドの数が限られてしまい、効率の点
で更なる向上が望まれていた。
研磨テープや研磨フィルムを用いて複数の薄膜磁気ヘッ
ドの研磨を行なう場合、隣り合う薄膜磁気ヘッドの隣接
する研磨すべきエッジ同士の間隔を、ある大きさ以上と
しなければならない。従って、並べられた薄膜磁気ヘッ
ドの列の長さが相当長くなってしまうので、同時に研磨
できる薄膜磁気ヘッドの数が限られてしまい、効率の点
で更なる向上が望まれていた。
【０００７】また、上記の従来のダイヤモンド研磨フィ
ルムによってスライダを研磨したところ、同一の条件で
研磨を行なっても、小さな面取り加工が困難であった
り、面取り寸法や角度がバラツイてしまったり、更に
は、直線部分と面取り部分との遷移部分において角が出
てしまったりしてしまうことがあることが判明した。こ
のように、面取り加工が小さくできないと、小型のスラ
イダでは用いることができない他、面取り寸法ないし面
取り角度がバラツイてしまうと、例えば、浮動型磁気ヘ
ッドでは、所定の耐久性が保証できなくなってしまった
り、安定した相対速度と浮上量とで浮上することが不可
能となり、また上記のように研磨面に角があると媒体を
損傷する他浮上性ないし走行性にも悪影響を及ぼす。
ルムによってスライダを研磨したところ、同一の条件で
研磨を行なっても、小さな面取り加工が困難であった
り、面取り寸法や角度がバラツイてしまったり、更に
は、直線部分と面取り部分との遷移部分において角が出
てしまったりしてしまうことがあることが判明した。こ
のように、面取り加工が小さくできないと、小型のスラ
イダでは用いることができない他、面取り寸法ないし面
取り角度がバラツイてしまうと、例えば、浮動型磁気ヘ
ッドでは、所定の耐久性が保証できなくなってしまった
り、安定した相対速度と浮上量とで浮上することが不可
能となり、また上記のように研磨面に角があると媒体を
損傷する他浮上性ないし走行性にも悪影響を及ぼす。
【０００８】そこで、本発明は、極小の面取り加工を精
度よく行うことができ、隣り合う面にわたって連続的に
かつなめらかに面取りを行うことができ、しかもこの面
取り量を微小にすることができ、安定な浮上性を示すヘ
ッドを得ることのできる薄膜磁気ヘッドの製造方法を提
供することを主たる目的とするものである。
度よく行うことができ、隣り合う面にわたって連続的に
かつなめらかに面取りを行うことができ、しかもこの面
取り量を微小にすることができ、安定な浮上性を示すヘ
ッドを得ることのできる薄膜磁気ヘッドの製造方法を提
供することを主たる目的とするものである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、従来の問
題点を鋭意研究したところ、従来のダイヤモンド研磨フ
ィルムにおいては、研磨フィルムの腰が強すぎ、研磨フ
ィルムと被研磨物間の密着性が悪化し、上記の隣り合っ
たエッジ等の研磨が困難になるということを知見した。
題点を鋭意研究したところ、従来のダイヤモンド研磨フ
ィルムにおいては、研磨フィルムの腰が強すぎ、研磨フ
ィルムと被研磨物間の密着性が悪化し、上記の隣り合っ
たエッジ等の研磨が困難になるということを知見した。
【００１０】本発明者らは、更に上記ダイヤモンド研磨
フィルムと被研磨物間の密着性を解決すべく、ダイヤモ
ンド研磨フィルムについて研究したところ、その全体と
しての厚みに負うところが大きいことを知見した。
フィルムと被研磨物間の密着性を解決すべく、ダイヤモ
ンド研磨フィルムについて研究したところ、その全体と
しての厚みに負うところが大きいことを知見した。
【００１１】本発明は、上記知見によるものであり、以
下の（１）〜（１０）にある。 （１） ダイヤモンド微粒子を使用したダイヤモンド研
磨フィルムによって、薄膜磁気ヘッドのスライダを研磨
する薄膜磁気ヘッドの製造方法において、前記薄膜磁気
ヘッドを２個以上配列するとともに、前記ダイヤモンド
研磨フィルムの厚さを１０μｍ以下とし、このダイヤモ
ンド研磨フィルムによって前記２個以上の薄膜磁気ヘッ
ドを同時に研磨するようにしたことを特徴とする薄膜磁
気ヘッドの製造方法。
下の（１）〜（１０）にある。 （１） ダイヤモンド微粒子を使用したダイヤモンド研
磨フィルムによって、薄膜磁気ヘッドのスライダを研磨
する薄膜磁気ヘッドの製造方法において、前記薄膜磁気
ヘッドを２個以上配列するとともに、前記ダイヤモンド
研磨フィルムの厚さを１０μｍ以下とし、このダイヤモ
ンド研磨フィルムによって前記２個以上の薄膜磁気ヘッ
ドを同時に研磨するようにしたことを特徴とする薄膜磁
気ヘッドの製造方法。
【００１２】（２） 前記ダイヤモンド微粒子の平均粒
径を１．０μｍ以下とした上記（１）の薄膜磁気ヘッド
の製造方法。
径を１．０μｍ以下とした上記（１）の薄膜磁気ヘッド
の製造方法。
【００１３】（３） 前記薄膜磁気ヘッドのスライダの
ビッカース硬度ＨＶ（５００ｇ）を、１１００以上に設
定した上記（１）または（２）の薄膜磁気ヘッドの製造
方法。
ビッカース硬度ＨＶ（５００ｇ）を、１１００以上に設
定した上記（１）または（２）の薄膜磁気ヘッドの製造
方法。
【００１４】（４） 前記薄膜磁気ヘッドのスライダの
ビッカース硬度ＨＶ（５００ｇ）を、１５００以上に設
定した上記（１）または（２）の薄膜磁気ヘッドの製造
方法。
ビッカース硬度ＨＶ（５００ｇ）を、１５００以上に設
定した上記（１）または（２）の薄膜磁気ヘッドの製造
方法。
【００１５】（５） 前記薄膜磁気ヘッドのスライダの
ビッカース硬度を１８００〜３０００の範囲とした上記
（１）または（２）の薄膜磁気ヘッドの製造方法。
ビッカース硬度を１８００〜３０００の範囲とした上記
（１）または（２）の薄膜磁気ヘッドの製造方法。
【００１６】（６） ダイヤモンド研磨フィルムを相当
厚の弾性体で支持させた状態で、前記薄膜磁気ヘッドの
研磨面に相対的に押しつけて研磨加工を行なうにようす
るとともに、前記弾性体のゴム硬度を５５°以下に設定
した上記（１）ないし（５）のいずれかの薄膜磁気ヘッ
ドの製造方法。
厚の弾性体で支持させた状態で、前記薄膜磁気ヘッドの
研磨面に相対的に押しつけて研磨加工を行なうにようす
るとともに、前記弾性体のゴム硬度を５５°以下に設定
した上記（１）ないし（５）のいずれかの薄膜磁気ヘッ
ドの製造方法。
【００１７】（７） 前記弾性体のゴム硬度を２０°か
ら４０°の範囲とした上記（６）の薄膜磁気ヘッドの請
求方法。
ら４０°の範囲とした上記（６）の薄膜磁気ヘッドの請
求方法。
【００１８】（８） 前記研磨フィルムのスティッフネ
スを、０．８〜３．０×１０5 （μｍ）3 kg/mm2の範囲
とした上記（１）ないし（７）のいずれかの薄膜磁気ヘ
ッドの請求方法。
スを、０．８〜３．０×１０5 （μｍ）3 kg/mm2の範囲
とした上記（１）ないし（７）のいずれかの薄膜磁気ヘ
ッドの請求方法。
【００１９】（９） 複数の薄膜磁気ヘッドを固定治具
に固定配置し、この固定治具に固定配置された複数の薄
膜磁気ヘッドを、前記ダイヤモンド研磨フィルムに対し
て相対的に押圧するとともに、前記固定治具およびダイ
ヤモンド研磨フィルムの少なくとも一方を摺動走行さ
せ、前記薄膜磁気ヘッドを同時に研磨する上記（１）な
いし（８）のいずれかの薄膜磁気ヘッドの製造方法。
に固定配置し、この固定治具に固定配置された複数の薄
膜磁気ヘッドを、前記ダイヤモンド研磨フィルムに対し
て相対的に押圧するとともに、前記固定治具およびダイ
ヤモンド研磨フィルムの少なくとも一方を摺動走行さ
せ、前記薄膜磁気ヘッドを同時に研磨する上記（１）な
いし（８）のいずれかの薄膜磁気ヘッドの製造方法。
【００２０】（１０） 基板上に複数の薄膜磁気変換素
子を成膜したのち、これを切断し、切断端面を媒体対向
面として、これを前記ダイヤモンド研磨フィルムにて研
磨する上記（１）ないし（９）のいずれかの薄膜磁気ヘ
ッドの製造方法。
子を成膜したのち、これを切断し、切断端面を媒体対向
面として、これを前記ダイヤモンド研磨フィルムにて研
磨する上記（１）ないし（９）のいずれかの薄膜磁気ヘ
ッドの製造方法。
【００２１】
【作用・効果】本発明によれば、複数の薄膜磁気ヘッド
を並べて研磨を行なう場合、ダイヤモンド研磨フィルム
において全厚を設定することにより、隣り合ったエッジ
の間隔を小さくすることができ、すなわち長さが決まっ
ている場合に、数多くの薄膜磁気ヘッドを並べて研磨を
行なうことができ、効率のよい研磨を行なうことができ
るようになる。更に、研磨フィルムのダイヤモンド粒径
を設定することにより、極小の面取りを精度よく行うこ
とができ、面取り寸法や角度のバラツキが無くなるの
で、耐久性が向上するとともに、磁気ヘッドが安定した
相対速度で浮上することができるようになる。
を並べて研磨を行なう場合、ダイヤモンド研磨フィルム
において全厚を設定することにより、隣り合ったエッジ
の間隔を小さくすることができ、すなわち長さが決まっ
ている場合に、数多くの薄膜磁気ヘッドを並べて研磨を
行なうことができ、効率のよい研磨を行なうことができ
るようになる。更に、研磨フィルムのダイヤモンド粒径
を設定することにより、極小の面取りを精度よく行うこ
とができ、面取り寸法や角度のバラツキが無くなるの
で、耐久性が向上するとともに、磁気ヘッドが安定した
相対速度で浮上することができるようになる。
【００２２】
【実施例】以下、添付図面を参照しつつ、本発明の好ま
しい実施例について説明する。まず、本発明によって得
られる薄膜磁気ヘッドについて説明する。図１は、薄膜
磁気ヘッドの一例を示す斜視図であり、スライダ１は、
媒体対向面１１に平面状の空気ベアリング面１１１を有
している。両図において、ａは磁気ディスクと組み合わ
せた場合の空気流入方向を示す。そして、図１では、媒
体対向面１１の空気流入方向ａの両側端に、中央部の溝
１９を介して、２本のレール１６、１６が形成され、こ
のレール１６、１６上の媒体対向面が空気ベアリング面
１１１を構成している。なお、レール１６、１６は３本
以上であってもよい。
しい実施例について説明する。まず、本発明によって得
られる薄膜磁気ヘッドについて説明する。図１は、薄膜
磁気ヘッドの一例を示す斜視図であり、スライダ１は、
媒体対向面１１に平面状の空気ベアリング面１１１を有
している。両図において、ａは磁気ディスクと組み合わ
せた場合の空気流入方向を示す。そして、図１では、媒
体対向面１１の空気流入方向ａの両側端に、中央部の溝
１９を介して、２本のレール１６、１６が形成され、こ
のレール１６、１６上の媒体対向面が空気ベアリング面
１１１を構成している。なお、レール１６、１６は３本
以上であってもよい。
【００２３】磁気ディスク装置として使用する場合は、
スライダ１の媒体対向面１１と逆側の面１２を、ジンバ
ルアッセイにヘッドスタックし、この状態で起動、停止
を行なう、いわゆるコンタクト．スタート．ストップ
（以下ＣＳＳと称する）方式によって駆動される。磁気
ディスクが静止しているときは、ヘッド支持装置のバネ
圧により空気ベアリング面１１１が磁気ディスクの表面
に押付けられているが、磁気ディスクが回転すると、ス
ライダ１の空気ベアリング面１１１に揚力動圧が発生
し、この動圧とヘッド支持装置のバネ圧と釣り合う浮上
量で動作する。なお、ＣＳＳにかえて、いわゆるダイナ
ミックローディングを用いてもよい。
スライダ１の媒体対向面１１と逆側の面１２を、ジンバ
ルアッセイにヘッドスタックし、この状態で起動、停止
を行なう、いわゆるコンタクト．スタート．ストップ
（以下ＣＳＳと称する）方式によって駆動される。磁気
ディスクが静止しているときは、ヘッド支持装置のバネ
圧により空気ベアリング面１１１が磁気ディスクの表面
に押付けられているが、磁気ディスクが回転すると、ス
ライダ１の空気ベアリング面１１１に揚力動圧が発生
し、この動圧とヘッド支持装置のバネ圧と釣り合う浮上
量で動作する。なお、ＣＳＳにかえて、いわゆるダイナ
ミックローディングを用いてもよい。
【００２４】図１に示されるように、レール１６、１６
の空気流入端側において空気ベアリング面１１１と側端
面１３とが形成するエッジは、面取りされた傾斜面１４
形状となっている。このためＣＳＳ動作等において、容
易にスタートできるようになり、ヘッドクラッシュ、媒
体損傷等を生じにくくなる。すなわち、空気流入端側で
の傾斜面１４と空気ベアリング面１１１とのなす角が所
定の角度をなし、その長さが所定の寸法となるように
し、しかもその加工精度を高めると、より安定した相対
速度で浮上を開始し、または浮上を停止するようにな
る。
の空気流入端側において空気ベアリング面１１１と側端
面１３とが形成するエッジは、面取りされた傾斜面１４
形状となっている。このためＣＳＳ動作等において、容
易にスタートできるようになり、ヘッドクラッシュ、媒
体損傷等を生じにくくなる。すなわち、空気流入端側で
の傾斜面１４と空気ベアリング面１１１とのなす角が所
定の角度をなし、その長さが所定の寸法となるように
し、しかもその加工精度を高めると、より安定した相対
速度で浮上を開始し、または浮上を停止するようにな
る。
【００２５】このような傾斜面１４は研磨による面取り
によって形成される。この際、その傾斜角は小さいた
め、面寸法および傾斜角の精度に問題が生じやすいが、
これらの精度は本発明に従い格段と高いものとなる。な
お、図示した例では、レール１６、１６の空気流出側に
おいて空気ベアリング面１１１と側端面１４とが形成す
るエッジ部およびスライダ１６、１６の長さ方向の両側
部が、傾斜面１７、１８とされた例を示している。
によって形成される。この際、その傾斜角は小さいた
め、面寸法および傾斜角の精度に問題が生じやすいが、
これらの精度は本発明に従い格段と高いものとなる。な
お、図示した例では、レール１６、１６の空気流出側に
おいて空気ベアリング面１１１と側端面１４とが形成す
るエッジ部およびスライダ１６、１６の長さ方向の両側
部が、傾斜面１７、１８とされた例を示している。
【００２６】上記スライダ１は、そのビッカース硬度
（ＪＩＳ Ｚ ２２４４ 試験荷重５００g ）ＨＶ（５
００g ）１１００以上、特に１１００〜３０００の範囲
となるように設定されている。この場合、その下限値と
しては、好ましくは１３００以上、より好ましくは１５
００以上、更に好ましくは１８００以上であり、このと
き本発明の効果はさらにすぐれたものとなる。
（ＪＩＳ Ｚ ２２４４ 試験荷重５００g ）ＨＶ（５
００g ）１１００以上、特に１１００〜３０００の範囲
となるように設定されている。この場合、その下限値と
しては、好ましくは１３００以上、より好ましくは１５
００以上、更に好ましくは１８００以上であり、このと
き本発明の効果はさらにすぐれたものとなる。
【００２７】このようなセラミックス材料としては、Ａ
ｌ2 Ｏ3 −ＴｉＯ2 ［ＨＶ（５００）１１５０程度］、
ＭｇＯ−ＮｉＯ−ＺｒＯ2 （１２００程度）、ＺｒＯ
2 （１２００〜１６００程度）、ＺｒＯ2 −Ａｌ2 Ｏ3
（１４００〜１６００程度）、 Ａｌ2 Ｏ3 −Ｔｉｃ−
ＡｌＮ（１７００〜２０００）、ＳｉＣ（１８００〜２
０００程度）、Ａｌ2 Ｏ3 −ＴｉＣ（２０００〜２３０
０程度）等が好適である。また、これらには、添加物と
してＭｇ、Ｙ、ＺｒＯ2 、ＴｉＯ2 等が含有されていて
もよい。
ｌ2 Ｏ3 −ＴｉＯ2 ［ＨＶ（５００）１１５０程度］、
ＭｇＯ−ＮｉＯ−ＺｒＯ2 （１２００程度）、ＺｒＯ
2 （１２００〜１６００程度）、ＺｒＯ2 −Ａｌ2 Ｏ3
（１４００〜１６００程度）、 Ａｌ2 Ｏ3 −Ｔｉｃ−
ＡｌＮ（１７００〜２０００）、ＳｉＣ（１８００〜２
０００程度）、Ａｌ2 Ｏ3 −ＴｉＣ（２０００〜２３０
０程度）等が好適である。また、これらには、添加物と
してＭｇ、Ｙ、ＺｒＯ2 、ＴｉＯ2 等が含有されていて
もよい。
【００２８】これらのうち、本発明に特に好適なもの
は、加工性の点でＡｌ2 Ｏ3 −ＴｉＣを主成分とするセ
ラミックスである。
は、加工性の点でＡｌ2 Ｏ3 −ＴｉＣを主成分とするセ
ラミックスである。
【００２９】図４は、図１に示した磁気ヘッドの製造方
法を示す図である。図においては、１は磁気ヘッドスラ
イダ、９１は弾性シート、９２は研磨フィルム、９３は
加工台、９４は固定治具である。この場合、スライダ
は、上記の構造のいずれのものであってもよい。また、
本例においては、固定治具９４に、２個の薄膜磁気ヘッ
ドを設置固定し、これらを同時に研磨する場合について
示した。薄膜磁気ヘッドは、当然のことながら、３個以
上並べてもよい。
法を示す図である。図においては、１は磁気ヘッドスラ
イダ、９１は弾性シート、９２は研磨フィルム、９３は
加工台、９４は固定治具である。この場合、スライダ
は、上記の構造のいずれのものであってもよい。また、
本例においては、固定治具９４に、２個の薄膜磁気ヘッ
ドを設置固定し、これらを同時に研磨する場合について
示した。薄膜磁気ヘッドは、当然のことながら、３個以
上並べてもよい。
【００３０】上記研磨フィルム９２は、図５に示したよ
うに、研磨剤層９２１を、支持体としての可撓性フィル
ム９２２上に形成してなるものである。研磨剤層９２１
は、例えばダイヤモンド微粒子として合成ダイヤモンド
砥粒を用い、ポリウレタン系樹脂等のバインダー樹脂を
用い、ＭＥＫ／トルエン／シクロヘキサノン混合系等の
希釈溶剤を用いて塗布、乾燥して作製することができ
る。上記ペーストは、各種コーティング機械を用いて、
支持体上に均一に塗布されて、層形成される。上記支持
体としての可撓性フィルム９２２としては、ポリエチレ
ンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレー
ト（ＰＥＮ）、ポリアミド、ポリイミド等を用いること
ができる。
うに、研磨剤層９２１を、支持体としての可撓性フィル
ム９２２上に形成してなるものである。研磨剤層９２１
は、例えばダイヤモンド微粒子として合成ダイヤモンド
砥粒を用い、ポリウレタン系樹脂等のバインダー樹脂を
用い、ＭＥＫ／トルエン／シクロヘキサノン混合系等の
希釈溶剤を用いて塗布、乾燥して作製することができ
る。上記ペーストは、各種コーティング機械を用いて、
支持体上に均一に塗布されて、層形成される。上記支持
体としての可撓性フィルム９２２としては、ポリエチレ
ンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレー
ト（ＰＥＮ）、ポリアミド、ポリイミド等を用いること
ができる。
【００３１】上記ダイヤモンド粒子の平均粒径は、後の
実施例からも分かるように、１μm以下でなければなら
ないが、特に０．１〜１．０μm 、さらには０．１〜
０．９μm 、もっとも好ましくは０．１〜０．５μm で
あることが好ましい。また、ダイヤモンド粒子とバイン
ダの比は、重量比で１：１／７〜１程度である。また、
研磨剤層９２１の厚さは、１〜１０μm とすることが好
ましい。
実施例からも分かるように、１μm以下でなければなら
ないが、特に０．１〜１．０μm 、さらには０．１〜
０．９μm 、もっとも好ましくは０．１〜０．５μm で
あることが好ましい。また、ダイヤモンド粒子とバイン
ダの比は、重量比で１：１／７〜１程度である。また、
研磨剤層９２１の厚さは、１〜１０μm とすることが好
ましい。
【００３２】磁気ヘッドスライダ１は、接着等の手段に
よって治具９４に取付けられ、治具９４に荷重を加えな
がら、薄膜磁気ヘッドのスライダ１の媒体対向面１１側
を、弾性シート９１によって支持された研磨フィルム９
２の面上に接触させ、スライダ１を研磨フィルム９２に
対して、相対的に移動させて研磨する。このとき、図４
に示すように、ダイヤモンド研磨フィルムが好適な状態
で押し込まれるように、ヤング率をＥとして定義される
研磨フィルムの柔軟性の指標であるスティッフネスＥＴ
3 が０．８〜３．０×１０5 （μｍ）3 Ｋｇ／ｍｍ2 、
好ましくは０．８〜１．６×１０5 （μｍ）3 Ｋｇ／ｍ
ｍ2 、特に好ましくは０．８〜１．２×１０5 （μｍ）
3 Ｋｇ／ｍｍ2 となるように設定することが望ましい。
支持体としての可撓性フィルムが上記したような材料で
形成されるので、そのゴム硬度がある所定の範囲内にあ
るため、上記ダイヤモンド研磨フィルムのスティッフネ
スは、その全厚によるところが大きい。従って、研磨フ
ィルムの厚みが厚すぎたり、薄すぎたりすると密着性が
悪化し、研磨面の均一性に欠ける。したがって、本発明
においては、フィルムの厚みを１０μｍ以下、該ダイヤ
モンド研磨フィルムのスティッフネスを上記値の範囲に
設定することにより、研磨面のバラツキが抑えられ、安
定した耐久走行性が得られるようになった。
よって治具９４に取付けられ、治具９４に荷重を加えな
がら、薄膜磁気ヘッドのスライダ１の媒体対向面１１側
を、弾性シート９１によって支持された研磨フィルム９
２の面上に接触させ、スライダ１を研磨フィルム９２に
対して、相対的に移動させて研磨する。このとき、図４
に示すように、ダイヤモンド研磨フィルムが好適な状態
で押し込まれるように、ヤング率をＥとして定義される
研磨フィルムの柔軟性の指標であるスティッフネスＥＴ
3 が０．８〜３．０×１０5 （μｍ）3 Ｋｇ／ｍｍ2 、
好ましくは０．８〜１．６×１０5 （μｍ）3 Ｋｇ／ｍ
ｍ2 、特に好ましくは０．８〜１．２×１０5 （μｍ）
3 Ｋｇ／ｍｍ2 となるように設定することが望ましい。
支持体としての可撓性フィルムが上記したような材料で
形成されるので、そのゴム硬度がある所定の範囲内にあ
るため、上記ダイヤモンド研磨フィルムのスティッフネ
スは、その全厚によるところが大きい。従って、研磨フ
ィルムの厚みが厚すぎたり、薄すぎたりすると密着性が
悪化し、研磨面の均一性に欠ける。したがって、本発明
においては、フィルムの厚みを１０μｍ以下、該ダイヤ
モンド研磨フィルムのスティッフネスを上記値の範囲に
設定することにより、研磨面のバラツキが抑えられ、安
定した耐久走行性が得られるようになった。
【００３３】また、上記したように、図４に示すよう
に、ダイヤモンド研磨フィルムが押し込まれるが、ダイ
ヤモンド研磨フィルムの支持体としての弾性フィルム９
１のゴム硬度が高すぎると、ダイヤモンド研磨フィルム
と研磨面との密着性が悪化し、研磨面の均一性が欠け
る。とともに面取り精度が悪化する。したがって、本発
明においては、弾性シートのゴム硬度を５５°以下、好
ましくは、２０°〜４０°の範囲に設定することによ
り、研磨面のバラツキが抑えられ、安定した耐久走行性
が得られるようになった。弾性シートはＪＩＳ Ｋ６２
００ゴム用語に使用しているのを挙げることができる。
に、ダイヤモンド研磨フィルムが押し込まれるが、ダイ
ヤモンド研磨フィルムの支持体としての弾性フィルム９
１のゴム硬度が高すぎると、ダイヤモンド研磨フィルム
と研磨面との密着性が悪化し、研磨面の均一性が欠け
る。とともに面取り精度が悪化する。したがって、本発
明においては、弾性シートのゴム硬度を５５°以下、好
ましくは、２０°〜４０°の範囲に設定することによ
り、研磨面のバラツキが抑えられ、安定した耐久走行性
が得られるようになった。弾性シートはＪＩＳ Ｋ６２
００ゴム用語に使用しているのを挙げることができる。
【００３４】上記の相対移動は、スライダ１、研磨フィ
ルム９２のいずれの移動によって達成してもよい。ま
た、研磨フィルムを円形にしておき、その円形の中心を
中心として回転させ、いわゆるバフのようにして研磨す
ることもできる。また、長尺の研磨フィルムと弾性シー
トを組み合わせたものを、研磨フィルムを外側にして、
輪を形成してエンドレステープ状とし、これを走行させ
ることによって研磨するようにしてもよい。上記荷重
は、磁気ヘッド１個あたり、５〜２００g の範囲とす
る。更に、研磨時間は、スライダ１の硬度、ダイヤモン
ド粒子の粒径、荷重の大きさ等によっても異なるが、概
ね、１０〜３００秒程度とする。
ルム９２のいずれの移動によって達成してもよい。ま
た、研磨フィルムを円形にしておき、その円形の中心を
中心として回転させ、いわゆるバフのようにして研磨す
ることもできる。また、長尺の研磨フィルムと弾性シー
トを組み合わせたものを、研磨フィルムを外側にして、
輪を形成してエンドレステープ状とし、これを走行させ
ることによって研磨するようにしてもよい。上記荷重
は、磁気ヘッド１個あたり、５〜２００g の範囲とす
る。更に、研磨時間は、スライダ１の硬度、ダイヤモン
ド粒子の粒径、荷重の大きさ等によっても異なるが、概
ね、１０〜３００秒程度とする。
【００３５】このようにして、空気ベアリング面１１１
を研磨する他、例えば特開昭６０−１８５２７２号、同
６３−７０９１８号、特開平２−１９９６１４号、同２
−２１２０５７号、同２−３０１０１４号等に記載され
た方法に準じ、必要に応じスライダ１と研磨フィルムと
を傾けたり、研磨フィルムを所定形状に配置したりし
て、傾斜角や、エッジの面取り加工等が行なわれる。
を研磨する他、例えば特開昭６０−１８５２７２号、同
６３−７０９１８号、特開平２−１９９６１４号、同２
−２１２０５７号、同２−３０１０１４号等に記載され
た方法に準じ、必要に応じスライダ１と研磨フィルムと
を傾けたり、研磨フィルムを所定形状に配置したりし
て、傾斜角や、エッジの面取り加工等が行なわれる。
【００３６】以上説明してきたが、要約すると、本発明
方法は、薄膜磁気ヘッドを２個以上並べるとともに、厚
さ１０μｍ以下の研磨フィルムに、磁気ヘッドスライダ
の媒体対向面側を接触させ、前記スライダを前記研磨シ
ートに対して相対的に移動させて、２個以上の薄膜磁気
ヘッドの前記媒体対向面を研磨することを主眼とするも
のである。
方法は、薄膜磁気ヘッドを２個以上並べるとともに、厚
さ１０μｍ以下の研磨フィルムに、磁気ヘッドスライダ
の媒体対向面側を接触させ、前記スライダを前記研磨シ
ートに対して相対的に移動させて、２個以上の薄膜磁気
ヘッドの前記媒体対向面を研磨することを主眼とするも
のである。
【００３７】次に、本発明による方法、特に研磨方法に
よる効果の確認のため、表３に示すように、研磨材とし
てのダイヤモンドの粒径を設定した。ペーストの配合比
を表１に示すようにしてペーストを配合し、これを、厚
みを表３に示すように設定し、所定の弾性シート上に配
置したダイヤモンド研磨フィルムを用い、荷重と研磨時
間一定の条件で、図１に示されるスライダ（磁気ヘッ
ド）を２個づつ、計２０個研磨し、２つの薄膜磁気ヘッ
ドの隣接するレール１６の対向する面取り傾斜面の精度
を、表２の基準で測定あるいは調べた。その結果を表３
に示す。なお、被研磨物としては、Ａｌ2 Ｏ3 −ＴｉＯ
2 製で、Ｈｖ（５００ｇ）が２０００のスライダを有す
る薄膜磁気ヘッドを用いた。
よる効果の確認のため、表３に示すように、研磨材とし
てのダイヤモンドの粒径を設定した。ペーストの配合比
を表１に示すようにしてペーストを配合し、これを、厚
みを表３に示すように設定し、所定の弾性シート上に配
置したダイヤモンド研磨フィルムを用い、荷重と研磨時
間一定の条件で、図１に示されるスライダ（磁気ヘッ
ド）を２個づつ、計２０個研磨し、２つの薄膜磁気ヘッ
ドの隣接するレール１６の対向する面取り傾斜面の精度
を、表２の基準で測定あるいは調べた。その結果を表３
に示す。なお、被研磨物としては、Ａｌ2 Ｏ3 −ＴｉＯ
2 製で、Ｈｖ（５００ｇ）が２０００のスライダを有す
る薄膜磁気ヘッドを用いた。
【００３８】
【表１】
【００３９】
【表２】
【００４０】
【表３】
【００４１】これらの表から明らかなように、ダイヤモ
ンド研磨フィルムの厚さ１５μｍ以下、ダイヤモンド微
粒子の平均粒径１．０μm 以下での条件をいずれかでも
満足しないときには、５μm より大のバラツキを生じ、
面取り面と水平、垂直面との角で大きな角θができてし
まい実用に耐えないことがわかる。これに対し厚さ１５
μｍ以下かつ平均粒径１．０μm 以下では、これらはい
ずれも満足できる状態となっている。特に、厚さが１０
μｍ以下、また平均粒径が０．１μm 以上であって、
０．９μm 以下、特に０．５μm 以下となると、これら
はより一層好ましい状態となることがわかる。
ンド研磨フィルムの厚さ１５μｍ以下、ダイヤモンド微
粒子の平均粒径１．０μm 以下での条件をいずれかでも
満足しないときには、５μm より大のバラツキを生じ、
面取り面と水平、垂直面との角で大きな角θができてし
まい実用に耐えないことがわかる。これに対し厚さ１５
μｍ以下かつ平均粒径１．０μm 以下では、これらはい
ずれも満足できる状態となっている。特に、厚さが１０
μｍ以下、また平均粒径が０．１μm 以上であって、
０．９μm 以下、特に０．５μm 以下となると、これら
はより一層好ましい状態となることがわかる。
【００４２】さらに、使用するダイヤモンド微粒子の平
均粒径１．０μｍとし、表４に示したように、スライダ
のビッカース硬度ＨＶ（５００ｇ）およびダイヤモンド
研磨フィルムの厚さを種々替えて実験を行なった。その
結果を、表４に示す。この表４に示されているように、
ビッカース硬度ＨＶ（５００ｇ）１１００未満の時、研
磨表面に大きな傷が付いてしまい、実用に耐えないこと
が分かる。これに対し、ビッカース硬度ＨＶ（５００
ｇ）１１００以上となると、スライダの研磨面に小さな
傷が存在するだけで満足の行くものであった。
均粒径１．０μｍとし、表４に示したように、スライダ
のビッカース硬度ＨＶ（５００ｇ）およびダイヤモンド
研磨フィルムの厚さを種々替えて実験を行なった。その
結果を、表４に示す。この表４に示されているように、
ビッカース硬度ＨＶ（５００ｇ）１１００未満の時、研
磨表面に大きな傷が付いてしまい、実用に耐えないこと
が分かる。これに対し、ビッカース硬度ＨＶ（５００
ｇ）１１００以上となると、スライダの研磨面に小さな
傷が存在するだけで満足の行くものであった。
【００４３】特に、ビッカース硬度ＨＶ（５００ｇ）を
１５００以上としたときには、キズ、精度ともに良好な
状態となり、さらには、１８００以上とすると、きわめ
て良好な結果が得られた。
１５００以上としたときには、キズ、精度ともに良好な
状態となり、さらには、１８００以上とすると、きわめ
て良好な結果が得られた。
【００４４】
【表４】
【００４５】膜厚との関係について、整理すると、全厚
１５μ以下、さらに好ましいのはビッカース硬度（５０
０g ）１１００以上、膜厚１０μ以下、さらにビッカー
ス硬度（Hv５００g ）１５００以上、膜厚１０μ以下、
この傾向は、ビッカース硬度ＨＶ（５００ｇ）が大きけ
れば大きい程、また、全厚が小さければ小さい程、精度
が向上することがわかり、ビッカース硬度（Hv５００g
）１８００以上、膜厚７μm 以下が特に好ましい。
１５μ以下、さらに好ましいのはビッカース硬度（５０
０g ）１１００以上、膜厚１０μ以下、さらにビッカー
ス硬度（Hv５００g ）１５００以上、膜厚１０μ以下、
この傾向は、ビッカース硬度ＨＶ（５００ｇ）が大きけ
れば大きい程、また、全厚が小さければ小さい程、精度
が向上することがわかり、ビッカース硬度（Hv５００g
）１８００以上、膜厚７μm 以下が特に好ましい。
【００４６】さらに、使用するダイヤモンド微粒子の平
均粒径１．０μｍ、ダイヤモンド研磨フィルムの厚さ１
０μｍ、そして、スライダのビッカース硬度ＨＶ（５０
０ｇ）を１８００とし、ダイヤモンド研磨フィルムの支
持体としての弾性シートのゴム硬度を種々替えて実験を
行なった。その結果を、表５に示す。
均粒径１．０μｍ、ダイヤモンド研磨フィルムの厚さ１
０μｍ、そして、スライダのビッカース硬度ＨＶ（５０
０ｇ）を１８００とし、ダイヤモンド研磨フィルムの支
持体としての弾性シートのゴム硬度を種々替えて実験を
行なった。その結果を、表５に示す。
【００４７】
【表５】
【００４８】この表５に示されているように、ダイヤモ
ンド研磨フィルムの支持体のゴム硬度を２０°〜５５°
の範囲にしないときには、キズが大であり、しかも２μ
ｍより大の精度のバラツキを生じてしまい実用に耐えな
いことがわかる。これに対しゴム硬度が２０°〜５５°
の範囲では、これらはいずれも満足できる状態となって
いる。
ンド研磨フィルムの支持体のゴム硬度を２０°〜５５°
の範囲にしないときには、キズが大であり、しかも２μ
ｍより大の精度のバラツキを生じてしまい実用に耐えな
いことがわかる。これに対しゴム硬度が２０°〜５５°
の範囲では、これらはいずれも満足できる状態となって
いる。
【００４９】特に、ゴム硬度が２０°〜４０°の範囲で
は、より一層好ましい状態となることがわかる。
は、より一層好ましい状態となることがわかる。
【００５０】なお、本発明は薄膜磁気ヘッドをバー状態
で配列したものにも応用できる。
で配列したものにも応用できる。
【図１】本発明の製造方法によって製造される浮動型磁
気ヘッドの一例を示す斜視図である。
気ヘッドの一例を示す斜視図である。
【図２】図１の磁気ヘッドの正面図である。
【図３】図１の磁気ヘッドの側面図である。
【図４】２個の浮動型磁気ヘッドのスライダの空気ベア
リング面の研磨方法を説明するための正面図である。
リング面の研磨方法を説明するための正面図である。
【図５】本発明方法において使用される研磨フィルムの
一例を示す断面図である。
一例を示す断面図である。
１ スライダ １１ 媒体対向面 １１１ 空気ベアリング面 １４、１７、１８ 傾斜面 ９２ 研磨フィルム ９２１ 研磨材層 ９２２ 可撓性フィルム
Claims (10)
- 【請求項１】 ダイヤモンド微粒子を使用したダイヤモ
ンド研磨フィルムによって、薄膜磁気ヘッドのスライダ
を研磨する薄膜磁気ヘッドの製造方法において、前記薄
膜磁気ヘッドを２個以上配列するとともに、前記ダイヤ
モンド研磨フィルムの厚さを１０μｍ以下とし、このダ
イヤモンド研磨フィルムによって前記２個以上の薄膜磁
気ヘッドを同時に研磨するようにしたことを特徴とする
薄膜磁気ヘッドの製造方法。 - 【請求項２】 前記ダイヤモンド微粒子の平均粒径を
１．０μｍ以下とした請求項１の薄膜磁気ヘッドの製造
方法。 - 【請求項３】 前記薄膜磁気ヘッドのスライダのビッカ
ース硬度ＨＶ（５００ｇ）を、１１００以上に設定した
請求項１または２の薄膜磁気ヘッドの製造方法。 - 【請求項４】 前記薄膜磁気ヘッドのスライダのビッカ
ース硬度ＨＶ（５００ｇ）を、１５００以上に設定した
請求項１または２の薄膜磁気ヘッドの製造方法。 - 【請求項５】 前記薄膜磁気ヘッドのスライダのビッカ
ース硬度を１８００〜３０００の範囲とした請求項１ま
たは２の薄膜磁気ヘッドの製造方法。 - 【請求項６】 ダイヤモンド研磨フィルムを相当厚の弾
性体で支持させた状態で、前記薄膜磁気ヘッドの研磨面
に相対的に押しつけて研磨加工を行なうにようするとと
もに、前記弾性体のゴム硬度を５５°以下に設定した請
求項１ないし５のいずれかの薄膜磁気ヘッドの製造方
法。 - 【請求項７】 前記弾性体のゴム硬度を２０°から４０
°の範囲とした請求項６の薄膜磁気ヘッドの請求方法。 - 【請求項８】 前記研磨フィルムのスティッフネスを、
０．８〜３．０×１０5 （μｍ）3 kg/mm2の範囲とした
請求項１ないし７のいずれかの薄膜磁気ヘッドの請求方
法。 - 【請求項９】 複数の薄膜磁気ヘッドを固定治具に固定
配置し、この固定治具に固定配置された複数の薄膜磁気
ヘッドを、前記ダイヤモンド研磨フィルムに対して相対
的に押圧するとともに、前記固定治具およびダイヤモン
ド研磨フィルムの少なくとも一方を摺動走行させ、前記
薄膜磁気ヘッドを同時に研磨する請求項１ないし８のい
ずれかの薄膜磁気ヘッドの製造方法。 - 【請求項１０】 基板上に複数の薄膜磁気変換素子を成
膜したのち、これを切断し、切断端面を媒体対向面とし
て、これを前記ダイヤモンド研磨フィルムにて研磨する
請求項１ないし９のいずれかの薄膜磁気ヘッドの製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04089685A JP3108514B2 (ja) | 1992-03-13 | 1992-03-13 | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04089685A JP3108514B2 (ja) | 1992-03-13 | 1992-03-13 | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05258264A JPH05258264A (ja) | 1993-10-08 |
| JP3108514B2 true JP3108514B2 (ja) | 2000-11-13 |
Family
ID=13977629
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP04089685A Expired - Fee Related JP3108514B2 (ja) | 1992-03-13 | 1992-03-13 | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3108514B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002083477A (ja) | 2000-07-04 | 2002-03-22 | Sony Corp | 浮動型ヘッドスライダおよびそれを利用する記録／再生装置 |
| CN109676448A (zh) * | 2018-12-12 | 2019-04-26 | 东阳富仕特磁业有限公司 | 一种磁芯外圆磨床 |
-
1992
- 1992-03-13 JP JP04089685A patent/JP3108514B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05258264A (ja) | 1993-10-08 |
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