JPH05271142A - カルボニル化合物の製造方法 - Google Patents

カルボニル化合物の製造方法

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JPH05271142A
JPH05271142A JP4102102A JP10210292A JPH05271142A JP H05271142 A JPH05271142 A JP H05271142A JP 4102102 A JP4102102 A JP 4102102A JP 10210292 A JP10210292 A JP 10210292A JP H05271142 A JPH05271142 A JP H05271142A
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JP
Japan
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group
hydrocarbon residue
acid
carbonyl compound
pentynyl
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JP4102102A
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English (en)
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Hiroshi Fujisawa
浩 藤澤
Jiro Tsuji
二郎 辻
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Zeon Corp
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Nippon Zeon Co Ltd
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  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【目的】安価かつ容易な方法によりカルボニル化合物を
高収率で製造する。 【構成】 次式(I) (Rは及びRは水素原子または炭化水素残基、R
は不飽和炭化水素残基、R,R,R及びRは水
素原子または炭化水素残基を表し、Rは及びRは鎖
状であってもまたはそれぞれが結合して環を形成してい
てもよい)で示されるβ−ケトエステルを蟻酸の存在
下、白金族金属化合物触媒と接触せしめることを特徴と
する次式(II) (R,R及びRは上記と同様のものを示す。)で
表されるカルボニル化合物の製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はカルボニル化合物の製造
方法に関する。
【0002】
【従来の技術】側鎖に不飽和炭化水素残基を有するカル
ボニル化合物は香料や医農薬品の合成中間体として有用
な化合物である。例えば、2−(2−ペンチニル)−1
−シクロペンタノンや2−(2−ペンテニル)−1−シ
クロペンタノンなどはジャスミン様の香気を有する
(Z)−テトラヒドロ−6−(2−ペンテニル)−2H
−ピラン−2−オン(以下、ジャスミンラクトンと称す
る)の中間体として用いられている(特公昭45−26
096号、特開昭58−170777号公報)。
【0003】かかるカルボニル化合物の製造法としては
種々報告されている。例えば、2−(2−ペンチニル)
−1−シクロペンタノンは1−(2−ペンチニル)−2
−オキソ−シクロペンタンカルボン酸−t−ブチルにト
リフルオロ酢酸を作用させることにより製造する方法
(Synthesis,(12)996(198
3))、2−(2−ペンテニル)−1−シクロペンタン
ノンはシクロペンテニルエナミンに2−ペンテニルブロ
マイドを作用させることにより製造する方法(Che
m.Pharm.Bull.20(1)197(197
2))などが知られている。
【0004】しかしながら、前者の方法は毒性の高いト
リフルオロ酢酸を過剰量使用しているため、安全性の面
で問題があった。また、後者の方法は高価な2−ペンテ
ニルブロマイドを使用し、しかも、収率が低いという問
題点を有していた。
【0005】一方、2−(2−ペンチル)−1−シクロ
ペンタノンのような側鎖に飽和炭化水素残基を有するカ
ルボニル化合物の製法としては、1−(2−ペンチル)
−2−オキソシクロペンタンカルボン酸アリルのような
β−ケトエステルを蟻酸トリエチルアミンの存在下に酢
酸パラジウムとトリフェニルホスフィンとからなる触媒
の存在下に接触せしめる方法が知られている(ジャーナ
ル オブ オーガニック ケミストリー、50、341
6〜3417、(1985))。
【0006】かかる方法によれば目的物を収率良く得る
ことができるが、高価な酢酸パラジウムを使用している
ためコストがかかるという欠点を有し、また、その方法
が適用されているβ−ケトエステルの側鎖炭化水素残基
は飽和のものに限られており、不飽和のものに対しては
全く検討されていなかった。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明者らは前記問題
点を解決すべく鋭意研究の結果、側鎖に不飽和炭化水素
残基を有するβ−ケトエステルに前述の従来方法、すな
わち、蟻酸の存在下、白金族金属化合物触媒と接触せし
める方法を適用したところ、意外にも極めて少量の触媒
で目的とするカルボニルを高収率で得ることができるこ
とを見出だし、この知見に基づいて本発明を完成するに
到った。
【0008】
【課題を解決する為の手段】かくして本発明によれば次
式(I)
【化3】 (R1は及びR2は水素原子または炭化水素残基、R3
不飽和炭化水素残基、R4、R5、R6及びR7は水素原子
または炭化水素残基を表し、R1は及びR2は鎖状であっ
てもまたはそれぞれが結合して環を形成していてもよ
い)で示されるβ−ケトエステルを蟻酸の存在下、白金
族金属化合物触媒と接触せしめることを特徴とする 次式(II)
【化4】 (R1、R2及びR3は上記と同様のものを示す。)で表
されるカルボニル化合物の製造方法が提供される。
【0009】本発明においては前記式(I)で示される
側鎖に不飽和炭化水素残基を有するβ−ケトエステル類
が原料として用いられる。式中、R1は及びR2は水素原
子または炭化水素残基である。炭化水素残基としては例
えば、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソ
プロピル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ベ
ンジル基などのアルキル基;またはR1とR2が結合して
シクロブタン環、シクロペンタン環、シクロヘキサン
環、シクロヘプタン環、シクロドデカン環などの環を形
成しているアルキレン基;さらにはアルキルオキシ基、
アルケニルオキシ基、アルキニルオキシ基、アルコキシ
アルキル基、アルコキシカルボニルアルキル基などの基
によって置換されているものが例示される。
【0010】R3は不飽和炭化水素残基である。例え
ば、ビニル基、1−プロペニル基、2−プロペニル基、
1−ブテニル基、2−ブテニル基、3−ブテニル基、1
−メチル−1−プロペニル基、2−メチル−1−プロペ
ニル基、2−メチル−2−プロペニル基、1−ペンテニ
ル基、2−ペンテニル基、3−ペンテニル基、2−メチ
ル−1−ブテニル基、2−ヘキセニル基、3−ヘキセニ
ル基、2−ヘプテニル基などのアルケニル基;エチニル
基、1−プロピニル基、2−プロピニル基、1−ブチニ
ル基、2−ブチニル基、3−ブチニル基、1−メチル−
1−プロピニル基、2−メチル−1−プロピニル基、2
−メチル−2−プロピニル基、1−ペンチニル基、2−
ペンチニル基、3−ペンチニル基、2−メチル−1−ブ
チニル基、2−ヘキシニル基、3−ヘキシニル基、2−
ヘプチニル基などのアルキニル基などが挙げられる。
【0011】R4、R5、R6及びR7は水素原子またはR
1は及びR2と同様のアルキル基または極性基を有する炭
化水素残基である。
【0012】かかるβ一ケトエステルの具体例としてα
−アルケニル−α−アシル酢酸、α−アルキニル−α−
アシル酢酸、α−アルケニル−α−アルキル−α−アシ
ル酢酸、α−アルキニル−α−アルキル−α−アシル酢
酸、α−アルケニル−α−アルコキシ−α−アシル酢
酸、α−アルケニル−α−アルコキシアルキル−α−ア
シル酢酸、α−アルキニル−α−アルコキシアルキル−
α−アシル酢酸、α−アルケニル−α−アルコキシカル
ボニル酢酸、α−アルキニル−α−アルコキシカルボニ
ル酢酸、α−アルケニル−α−アルコキシカルボニルア
ルキル−アルコキシカルボニル酢酸、α−アルキニル−
α−アルコキシカルボニルアルキル−アルコキシカルボ
ニル酢酸、α−アルケニル−α−アルコキシカルボニル
−α−アルキル酢酸、α−アルキニル−α−アルコキシ
カルボニル−α−アルキル酢酸、α−アルケニル−α−
アルコキシカルボニル−α−アルコキシ酢酸、α−アル
ケニル−α−アルコキシカルボニル−α−アルコキシア
ルキル酢酸、α−アルケニル−α−アルケノキシカルボ
ニル酢酸、α−アルキニル−α−アルケノキシカルボニ
ル酢酸、α−アルケニル−α−アルケノキシカルボニル
−α−アルキル酢酸、α−アルキニル−α−アルケノキ
シカルボニル−α−アルキル酢酸、α−アルケニル−α
−アルキニルオキシカルボニル酢酸、α−アルキニル−
α−アルキニルオキシカルボニル酢酸、α−アルキニル
−α−アルキニルオキシカルボニル−α−アルキル酢
酸、α−アルケニル−α−アルコキシアルキルカルボニ
ル酢酸、α−アルキニル−α−アルコキシアルキルカル
ボニル−α−アルキル酢酸、1−アルケニル−2−オキ
ソシクロアルカンカルボン酸、1−アルキニル−2−オ
キソシクロアルカンカルボン酸などのβ−ケトカルボン
酸と、アリルアルコ−ル、クロチルアルコール、2−ペ
ンテニルアルコール、2−エチル−2−ブテノール、シ
ンナミルアルコールなどのアリル型アルコールとのエス
テルが例示される。
【0013】本発明においては、反応に際して白金族金
属化合物触媒が用いられる。ここで白金族金属化合物触
媒とは、白金族金属化合物そのもの、または白金族金属
化合物と配位子とから成るものをいう。
【0014】白金族金属化合物はパラジウム、白金、ロ
ジウム、イリジウム、ルテニウムの塩または錯体であ
り、その具体例としてはトリス(ジベンジリデンアセト
ン)二パラジウム(0)、トリス(トリベンジリデンア
セチルアセトン)三パラジウム(0)、酢酸パラジウ
ム、プロピオン酸パラジウム、酪酸パラジウム、安息香
酸パラジウム、パラジウムアセチルアセトナート、硝酸
パラジウム、硫酸パラジウム、塩化パラジウム、テトラ
キス(トリフェニルホスフィン)パラジウム、ジヒドロ
テトラキス(トリフェニルホスフィン)ルテニウム、ル
テニウムアセチルアセトナート、酢酸第一白金、白金ア
セチルアセトナートなどが挙げられる。白金族金属の中
ではパラジウムが反応性の面で好ましく、なかでも0価
のオレフィン錯体または二価の有機化合物を用いるのが
好適である。
【0015】白金族化合物の使用量はその種類や反応条
件により適宜選択されるが、通常β−ケトエステル1モ
ル当り、0.1モル%以下、好ましくは0.01〜0.
0001モル%である。かかる使用量は側鎖に飽和炭化
水素残基を有するβ−ケトエステルを原料に用いる場合
と比較して極めて少量である。すなわち、本発明の反応
は高価な白金族金属化合物の使用量が微量でも充分進行
するため、経済的に目的物が得られるのである。
【0016】配位子は配位原子として周期律表第V族元
素、すなわち、窒素、リン、ヒ素またはアンチモンを有
する単座または多座の電子供与性化合物であり、その具
体例として、例えばピリジン、キノリン、トリメチルア
ミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、α、α’
−ジピリジン、1,10−フェナントロリン、N,N,
N’,N’−テトラメチルエチレンジアミンなどの含窒
素化合物;トリエチルホスフィン、トリ−n−ブチルホ
スフィン、トリ−n−ドデシルホスフィン、トリフェニ
ルホスフィン、トリ−o−トリホスフィン、トリ−p−
ビフェニルホスフィン、トリ−o−メトキシフェニルホ
スフィン、フェニルジフェノキシホスフィン、トリエチ
ルホスファイト、トリ−n−ブチルホスファイト、トリ
−n−ヘキシルホスファイト、トリフェニルホスファイ
ト、トリ−o−トリルホスファイト、トリフェニルチオ
ホスファイト、α、β−エチレンジ(ジフェニル)ホス
フィン、α、β−エチレンジ(ジブチル)ホスフィン、
α、γ−プロピレンジ(ジフェニル)ホスフィンなどの
含リン化合物;トリエチルヒ素、トリブチルヒ素、トリ
フェニルヒ素などの含ヒ素化合物;トリプロピルアンチ
モン、トリフェニルアンチモンなどの含アンチモン化合
物などが挙げられる。なかでも、含リン化合物が反応の
活性、選択性、経済性などの点で賞用される。
【0017】配位子は触媒成分として必ずしも必須では
ないが、適量使用することによって触媒の安定性を向上
させることができる。配位子の使用量はその種類によっ
て必ずしも一定ではないが、通常白金族金属化合物1モ
ル当り10モル以下、好ましくは2〜4モルである。
【0018】本発明の反応はβ−ケトエステルを蟻酸の
存在下に触媒と接触せしめることにより進行する。用い
られる蟻酸は蟻酸そのもの、または蟻酸の塩であり、具
体的には蟻酸アンモニウム、蟻酸ピリジン、蟻酸モルホ
リン、蟻酸モノメチルアミン、蟻酸ジエチルアミン、蟻
酸トリメチルアミン、蟻酸トリエチルアミン、蟻酸トリ
エタノールアミンなどが挙げられる。なかでも蟻酸また
は蟻酸トリアルキルアミンが賞用される。
【0019】蟻酸の使用量はβ−ケトエステル1モルに
対して通常1〜2モル、好ましくは1〜1.5モルであ
る。
【0020】反応に際してアミン類を存在させてもよ
い。しかし、上記蟻酸の塩が蟻酸トリメチルアミンや蟻
酸トリエチルアミンのようなアミン類の塩である場合
は、アミン類を別途添加しなくても良い。
【0021】アミン類としては、例えばピリジン、ピコ
リン、ルチジン、キノリン、トリメチルアミン、トリエ
チルアミン、トリブチルアミン、トリヘキシルアミン、
トリシクロヘキシルアミン、ジエチルアミン、ジイソプ
ロピルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、アンモ
ニアなどが挙げられる。なかでも第三級アミンが賞用さ
れる。
【0022】アミン類の使用量は適宜選択されるが、通
常は蟻酸1モル当り、1モル以上、好ましくは1〜2モ
ルである。
【0023】反応に際して、希釈剤を存在させてもよ
い。希釈剤としては、例えばアセトニトリル、プロピオ
ニトリル、ブチロニトリル、ベンゾニトリルなどのニト
リル類;ジメチルホルムアミド、ジエチルホルムアミ
ド、ジメチルアセトアミド、ジメチルプロピオアミド、
N−メチルピロリドンなどのアミド類;テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン、ジブチルエーテル、エチレングリコ
ールジメチルエーテルなどのエーテル類;アセトン、メ
チルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘ
キサノンなどのケトン類;酢酸メチル、酢酸エチル、酢
酸プロピル、プロピオン酸エチルなどのエステル類;エ
タノール、プロパノール、ターシャリーブタノール、エ
チレングリコールモノエチルエーテルなどのアルコール
類;ジメチルスルホキシド、ジエチルスルホキシドなど
のスルホキシド類;n−ヘキサン、シクロヘキサン、ベ
ンゼン、トルエン、キシレンなどの炭化水素類などが例
示され、なかでも非プロトン性の極性溶剤、特にニトリ
ル類、アミド類、エーテル類、ケトン類、エステル類が
賞用される。
【0024】これらの希釈剤は通常、β−ケトエステル
の濃度が1〜50重量%となるような割合で使用され、
その使用によって反応の活性、選択性、触媒の安定性を
向上させることができる場合がある。
【0025】反応温度は通常20℃以上、好ましくは3
0〜100℃であり、反応時間は通常0.5〜10時間
である。
【0026】反応終了後は反応液から常法に従って目的
物を分離することができる。かかるカルボニル化合物は
側鎖にアルキニル基またはアルケニル基などの不飽和炭
化水素残基を有する構造をしており、種々の有用な合成
中間体、特に香料、医農薬品の中間体として用いられて
いる。例えば、2−ペンチニル−1−シクロペンタノン
を低級脂肪族過カルボン酸と反応させ5−ヒドロキシ−
7−デシン酸のδ−ラクトンとし、ついで水素添加する
ことによりジャスミンラクトンを得ることができる。ま
た、2−(2−ペンテニル)−1−シクロペンタノンを
三ハロゲン化ホウ素錯体の存在下にビス(トリメチルシ
リル)ペルオキシドで酸化することによりジャスミンラ
クトンを得ることができる。
【0027】かくして、本発明によれば従来法に比較し
て、安価かつ容易な方法によりカルボニル化合物を高収
率で得ることができる。
【0028】
【実施例】以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的
に説明する。なお、実施例及び比較例中の部及び%は特
に断りのないかぎり重量基準である。
【0029】実施例1 窒素雰囲気下にトリエチルアミン520グラムのアセト
ニトリル600ミリリットル溶液に蟻酸202グラムと
1−(2−ペンチニル)−2−オキソ−シクロペンタン
カルボン酸アリル1000グラムを加えた。次いでトリ
フェニルホスフィン0.2グラムと酢酸パラジウム0.
09グラムを加えた後、60℃に昇温し攪拌下に5時間
反応させた。反応後、反応液からアセトニトリルを蒸留
により留去し、得られた残査を蒸留したところ、純度9
9%の2−(2−ペンチニル)−1−シクロペンタノン
583グラム(収率90%)が得られた。
【0030】実施例2 1−(2−ペンチニル)−2−オキソ−シクロペンタン
カルボン酸アリルの代わりに1−(2−ペンテニル)−
2−オキソ−シクロペンタンカルボン酸アリル1000
グラムを用いること以外は実施例1に準じて反応を行っ
たところ、純度99%の2−(2−ペンテニル)−1−
シクロペンタノン585グラム(収率90%)が得られ
た。
【0031】実施例3 1−(2−ペンチニル)−2−オキソ−シクロペンタン
カルボン酸アリルの代わりに2−アリルオキシカルボニ
ル−5−オクテン酸エチル1084グラムを用いること
以外は実施例1に準じて反応を行ったところ、純度99
%の5−オクテン酸エチル653グラム(収率90%)
が得られた。
【0032】実施例4 1−(2−ペンチニル)−2−オキソ−シクロペンタン
カルボン酸アリルの代わりに2−ホルミル−5−オクテ
ン酸アリル896グラムを用いること以外は実施例1に
準じて反応を行ったところ、純度99%の5−オクテナ
ール484グラム(収率90%)が得られた。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 // C07B 61/00 300

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 次式(I) 【化1】 (R1は及びR2は水素原子または炭化水素残基、R3
    不飽和炭化水素残基、R4、R5、R6及びR7は水素原子
    または炭化水素残基を表し、R1は及びR2は鎖状であっ
    てもまたはそれぞれが結合して環を形成していてもよ
    い)で示されるβ−ケトエステルを蟻酸の存在下、白金
    族金属化合物触媒と接触せしめることを特徴とする 次式(II) 【化2】 (R1、R2及びR3は上記と同様のものを示す。)で表
    されるカルボニル化合物の製造方法。
JP4102102A 1992-03-27 1992-03-27 カルボニル化合物の製造方法 Pending JPH05271142A (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2014083935A1 (ja) * 2012-11-27 2014-06-05 株式会社クレハ カルボニル化合物の製造方法
US9206106B2 (en) 2012-11-27 2015-12-08 Kureha Corporation Production method of carbonyl compound
US10892156B2 (en) 2017-05-08 2021-01-12 Asm Ip Holding B.V. Methods for forming a silicon nitride film on a substrate and related semiconductor device structures
US11821078B2 (en) 2020-04-15 2023-11-21 Asm Ip Holding B.V. Method for forming precoat film and method for forming silicon-containing film

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