JPH05267539A - リードフレーム及びその製造法 - Google Patents
リードフレーム及びその製造法Info
- Publication number
- JPH05267539A JPH05267539A JP4093318A JP9331892A JPH05267539A JP H05267539 A JPH05267539 A JP H05267539A JP 4093318 A JP4093318 A JP 4093318A JP 9331892 A JP9331892 A JP 9331892A JP H05267539 A JPH05267539 A JP H05267539A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- support bar
- lead frame
- stage
- strain
- straight
- Prior art date
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- Shaping Metal By Deep-Drawing, Or The Like (AREA)
- Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
- Punching Or Piercing (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ステージを支承するサポートバーの途中に形
成された歪み吸収部を小形化しても、ステージ等に蓄積
した反り等の歪みを充分に吸収し得ることのできるリー
ドフレームの製造法を提供する。 【構成】 ステージ12を支承するサポートバー14の
途中に、サポートバー14と連結された環状部17aの
空間内に、サポートバー14と環状部17aとの両連結
部を結ぶ直線24と交差する直状交差部22の両端の各
々が、環状部17aに接続されて成る歪み吸収部20a
を配設されたリードフレーム10をプレス加工によって
成形した後、直状交差部22の少なくとも一部をコイニ
ングすることを特徴とする。
成された歪み吸収部を小形化しても、ステージ等に蓄積
した反り等の歪みを充分に吸収し得ることのできるリー
ドフレームの製造法を提供する。 【構成】 ステージ12を支承するサポートバー14の
途中に、サポートバー14と連結された環状部17aの
空間内に、サポートバー14と環状部17aとの両連結
部を結ぶ直線24と交差する直状交差部22の両端の各
々が、環状部17aに接続されて成る歪み吸収部20a
を配設されたリードフレーム10をプレス加工によって
成形した後、直状交差部22の少なくとも一部をコイニ
ングすることを特徴とする。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はリードフレーム及びその
製造法に関し、更に詳細には半導体チップを搭載するス
テージがサポートバーによって支承されているリードフ
レーム及びその製造法に関する。
製造法に関し、更に詳細には半導体チップを搭載するス
テージがサポートバーによって支承されているリードフ
レーム及びその製造法に関する。
【0002】
【従来の技術】リードフレームとして、図4に示す如
く、半導体チップを搭載するステージ12がフレーム枠
15から延設された複数本のサポートバー14、14に
よって支承されているリードフレーム10が使用されて
いる。かかる図4に示すリードフレーム10において
は、搭載する半導体チップとステージ12との接合等を
良好にすべく、ステージ12に複数個のディンプル16
を設けることがある。更に、樹脂等で封止された後、サ
ポートバー14、14に沿って水分の封止樹脂中への侵
入等を防止すべく、サポートバー14、14に凹溝やV
溝を形成することもある。この様な複数個のディンプル
16をステージ12に設けるディンプル加工、或いはサ
ポートバー14、14に凹溝やV溝を形成するプレス加
工等によって、ステージ12やサポートバー14、14
に反り等の歪みが発生し、ステージ12が傾斜したり或
いは反ったりすることがある。このため、かかる複数個
のディンプル16を設けるプレス加工を行う必要のある
リードフレームにおいては、サポートバー14、14の
各々の途中に、図5(a)(b)に示す折曲部108や
クランク部110等から成る歪み吸収部100が形成さ
れる。
く、半導体チップを搭載するステージ12がフレーム枠
15から延設された複数本のサポートバー14、14に
よって支承されているリードフレーム10が使用されて
いる。かかる図4に示すリードフレーム10において
は、搭載する半導体チップとステージ12との接合等を
良好にすべく、ステージ12に複数個のディンプル16
を設けることがある。更に、樹脂等で封止された後、サ
ポートバー14、14に沿って水分の封止樹脂中への侵
入等を防止すべく、サポートバー14、14に凹溝やV
溝を形成することもある。この様な複数個のディンプル
16をステージ12に設けるディンプル加工、或いはサ
ポートバー14、14に凹溝やV溝を形成するプレス加
工等によって、ステージ12やサポートバー14、14
に反り等の歪みが発生し、ステージ12が傾斜したり或
いは反ったりすることがある。このため、かかる複数個
のディンプル16を設けるプレス加工を行う必要のある
リードフレームにおいては、サポートバー14、14の
各々の途中に、図5(a)(b)に示す折曲部108や
クランク部110等から成る歪み吸収部100が形成さ
れる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】かかる歪み吸収部10
0をサポートバー14、14の途中に形成することによ
って、ステージ12やサポートバー14、14に歪みが
発生しても、歪み吸収部100の曲折部108やクラン
ク部110が弾性変形して吸収できる。しかし、サポー
トバー14の途中に、図5に示す歪み吸収部100を設
けるためには、曲折部108やクランク部110を形成
できる空隙を必要とする。しかも、ステージ12等に発
生する歪みを充分に吸収するためには、曲折部108や
クランク部110の形状を大形としなければならず、リ
ードフレームの多ピン化等が要求されている現在、歪み
吸収部100の大形化は困難である。また、サポートバ
ー104の途中に歪み吸収部100を形成すると、サポ
ートバー14の強度も低下するため、サポートバー14
に外力、特に上下方向又は左右方向の外力が加えられる
と、サポートバー14が変形し易くなるという問題もあ
る。そこで、本発明の目的は、サポートバーの強度を保
持すべく歪み吸収部を小形化しても、ステージ等に発生
する反り等の歪みを充分に吸収し得ることができるリー
ドフレーム及びその製造法を提供することにある。
0をサポートバー14、14の途中に形成することによ
って、ステージ12やサポートバー14、14に歪みが
発生しても、歪み吸収部100の曲折部108やクラン
ク部110が弾性変形して吸収できる。しかし、サポー
トバー14の途中に、図5に示す歪み吸収部100を設
けるためには、曲折部108やクランク部110を形成
できる空隙を必要とする。しかも、ステージ12等に発
生する歪みを充分に吸収するためには、曲折部108や
クランク部110の形状を大形としなければならず、リ
ードフレームの多ピン化等が要求されている現在、歪み
吸収部100の大形化は困難である。また、サポートバ
ー104の途中に歪み吸収部100を形成すると、サポ
ートバー14の強度も低下するため、サポートバー14
に外力、特に上下方向又は左右方向の外力が加えられる
と、サポートバー14が変形し易くなるという問題もあ
る。そこで、本発明の目的は、サポートバーの強度を保
持すべく歪み吸収部を小形化しても、ステージ等に発生
する反り等の歪みを充分に吸収し得ることができるリー
ドフレーム及びその製造法を提供することにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者は、前記目的を
達成すべく検討を重ねた結果、サポートバーの途中に、
サポートバーに連結された環状部の空間内に、直状交差
部の両端の各々が前記環状部に接続されて成る歪み吸収
部を具備するリードフレームを成形した後、前記直状交
差部の少なくとも一部をコイニングすることによって、
歪み吸収部を小形化しても、ステージ等に蓄積された歪
みを充分に吸収し得ることを見い出し、本発明に到達し
た。
達成すべく検討を重ねた結果、サポートバーの途中に、
サポートバーに連結された環状部の空間内に、直状交差
部の両端の各々が前記環状部に接続されて成る歪み吸収
部を具備するリードフレームを成形した後、前記直状交
差部の少なくとも一部をコイニングすることによって、
歪み吸収部を小形化しても、ステージ等に蓄積された歪
みを充分に吸収し得ることを見い出し、本発明に到達し
た。
【0005】即ち、本発明は、半導体チップが搭載され
るステージを支承するサポートバーの途中に歪み吸収部
が形成されたリードフレームであって、該歪み吸収部を
構成し且つ前記サポートバーに連結された環状部の空間
内に、前記環状部とサポートバーとの連結部の各々を結
ぶ直線と交差するように配設された直状交差部の両端
が、前記環状部に接続されていることを特徴とするリー
ドフレーム特徴とするリードフレームにある。
るステージを支承するサポートバーの途中に歪み吸収部
が形成されたリードフレームであって、該歪み吸収部を
構成し且つ前記サポートバーに連結された環状部の空間
内に、前記環状部とサポートバーとの連結部の各々を結
ぶ直線と交差するように配設された直状交差部の両端
が、前記環状部に接続されていることを特徴とするリー
ドフレーム特徴とするリードフレームにある。
【0006】また、本発明は、半導体チップを搭載する
ステージがサポートバーによって支承されているリード
フレームをプレス加工によって製造する際に、該サポー
トバーの途中に、前記サポートバーに連結された環状部
の空間内に、前記環状部とサポートバーとの連結部の各
々を結ぶ直線と交差するように配設された直状交差部の
両端が、前記環状部に接続されて成る歪み吸収部を具備
するリードフレームを成形し、次いで、前記直状交差部
の少なくとも一部をコイニングすることを特徴とするリ
ードフレームの製造法でもある。
ステージがサポートバーによって支承されているリード
フレームをプレス加工によって製造する際に、該サポー
トバーの途中に、前記サポートバーに連結された環状部
の空間内に、前記環状部とサポートバーとの連結部の各
々を結ぶ直線と交差するように配設された直状交差部の
両端が、前記環状部に接続されて成る歪み吸収部を具備
するリードフレームを成形し、次いで、前記直状交差部
の少なくとも一部をコイニングすることを特徴とするリ
ードフレームの製造法でもある。
【0007】かかる構成を具備する本発明において、直
状交差部が歪み吸収を構成する環状部とサポートバーと
の連結部の各々を結ぶ直線と略直交するように配設され
たことが、歪み吸収部の歪み吸収量を最大とすることが
できる。また、ステージの周囲に形成された複数本のサ
ポートバーの各々に歪み吸収部を形成することが、加工
歪み等の歪みを可及的に吸収することができ、ステージ
の反り等をなくすことができる。
状交差部が歪み吸収を構成する環状部とサポートバーと
の連結部の各々を結ぶ直線と略直交するように配設され
たことが、歪み吸収部の歪み吸収量を最大とすることが
できる。また、ステージの周囲に形成された複数本のサ
ポートバーの各々に歪み吸収部を形成することが、加工
歪み等の歪みを可及的に吸収することができ、ステージ
の反り等をなくすことができる。
【0008】
【作用】本発明によれば、直状交差部をコイニングする
ことによって、直状交差部が塑性変形して長軸方向に伸
長されるため、直状交差部の両端の各々と接続されてい
る環状部は直状交差部の長軸方向に伸長される。このた
め、直状交差部に対して直角方向の環状部の間隔は短縮
され、環状部に連結されたサポートバーには引張力が作
用し、ステージ等に蓄積された歪みを吸収することがで
きる。この様に、本発明においては、コイニングによっ
て直状交差部に塑性変形を惹起してステージ等に蓄積さ
れた歪みを吸収するため、歪み吸収部を小形化できサポ
ートバーの強度を保持できる。更に、直状交差部のコイ
ニングによってステージ等に蓄積された歪みを吸収する
ため、ステージの水平を保持できるようにステージに蓄
積された歪みの程度に応じて容易に調整できる。
ことによって、直状交差部が塑性変形して長軸方向に伸
長されるため、直状交差部の両端の各々と接続されてい
る環状部は直状交差部の長軸方向に伸長される。このた
め、直状交差部に対して直角方向の環状部の間隔は短縮
され、環状部に連結されたサポートバーには引張力が作
用し、ステージ等に蓄積された歪みを吸収することがで
きる。この様に、本発明においては、コイニングによっ
て直状交差部に塑性変形を惹起してステージ等に蓄積さ
れた歪みを吸収するため、歪み吸収部を小形化できサポ
ートバーの強度を保持できる。更に、直状交差部のコイ
ニングによってステージ等に蓄積された歪みを吸収する
ため、ステージの水平を保持できるようにステージに蓄
積された歪みの程度に応じて容易に調整できる。
【0009】
【実施例】本発明を図面によって更に詳細に説明する。
図1は、図4に示すリードフレーム10の各サポートバ
ー14の途中に連結された歪み吸収部20aの平面図で
ある。図1の歪み吸収部20aは、菱形の環状部17a
と、環状部17aの空間内に、両端が環状部17aに接
続された直状交差部22とによって構成されている。こ
の歪み吸収部20aは、環状部17aとサポートバー1
4との両連結部の各々を結ぶ直線24と直状交差部22
とが直交するように配設されている。
図1は、図4に示すリードフレーム10の各サポートバ
ー14の途中に連結された歪み吸収部20aの平面図で
ある。図1の歪み吸収部20aは、菱形の環状部17a
と、環状部17aの空間内に、両端が環状部17aに接
続された直状交差部22とによって構成されている。こ
の歪み吸収部20aは、環状部17aとサポートバー1
4との両連結部の各々を結ぶ直線24と直状交差部22
とが直交するように配設されている。
【0010】図1に示す歪み吸収部20aが各サポート
バー14に形成されたリードフレームにおいては、ステ
ージ12等に発生した歪みを歪み吸収部20aの直状交
差部22の一部又は全面をコイニングすることによって
吸収することができる。つまり、図2に示す様に、直状
交差部22の一部又は全面をコイニングすることによっ
て直状交差部22が伸長され、直状交差部22の両端と
接続する環状部17aの接続部は矢印B方向に押圧され
る。このため、環状部17aと直状交差部22の両端と
の接続部間の間隔wは、コイニング前の間隔W(図1)
よりも拡大される。一方、直状交差部22と直交する方
向の環状部17aの間隔H(図1)は、間隔Lの拡大に
伴い間隔h(図2)に短縮されるため、直状交差部22
と直交する方向の環状部17aに連結されたサポートバ
ー14、14に矢印C方向の力、即ちステージ12及び
フレーム枠15を引張る方向の力が作用する。このた
め、ステージ12等に蓄積された歪みが吸収されるので
ある。
バー14に形成されたリードフレームにおいては、ステ
ージ12等に発生した歪みを歪み吸収部20aの直状交
差部22の一部又は全面をコイニングすることによって
吸収することができる。つまり、図2に示す様に、直状
交差部22の一部又は全面をコイニングすることによっ
て直状交差部22が伸長され、直状交差部22の両端と
接続する環状部17aの接続部は矢印B方向に押圧され
る。このため、環状部17aと直状交差部22の両端と
の接続部間の間隔wは、コイニング前の間隔W(図1)
よりも拡大される。一方、直状交差部22と直交する方
向の環状部17aの間隔H(図1)は、間隔Lの拡大に
伴い間隔h(図2)に短縮されるため、直状交差部22
と直交する方向の環状部17aに連結されたサポートバ
ー14、14に矢印C方向の力、即ちステージ12及び
フレーム枠15を引張る方向の力が作用する。このた
め、ステージ12等に蓄積された歪みが吸収されるので
ある。
【0011】ここで、直状交差部22の伸長程度が大と
なる程、ステージ12及びフレーム枠15の引張り張力
が大となるため、ステージ12等に蓄積された歪みの程
度に応じてコイニング程度を調整する。かかるコイニン
グ程度の調整は、コイニング面積を調整することによっ
て容易に行うことができる。また、同一コイニング面積
の場合、直状交差部22の巾が広い程、コイニングによ
る伸長が大となるが、歪み吸収部20aが大形となる。
このため、ステージ12等に蓄積される歪みの程度(例
えば、ステージ12に施す加工程度)に応じて直状交差
部22の巾を決定する。更に、本実施例の菱形の環状部
17aとサポートバー14、14との連結部近傍におい
て、菱形の環状部17aを形成する細巾帯状体の交差角
θ(図1)が大角となる程、直状交差部22のコイニン
グによって容易に環状部17aが変形でき、ステージ1
2等の歪みを容易に吸収できる。唯、交差角θが大角と
なる程、歪み吸収部20aが大形となるため、成形する
リードフレームの大きさやインナーリードの密度等との
関係で決定される。尚、本実施例において、サポートバ
ー14の各々に歪み吸収部を設けているが、ステージ1
2等に蓄積される歪みが少ない場合には、1本のサポー
トバー14にのみ歪み吸収部20aを設けてもよい。
なる程、ステージ12及びフレーム枠15の引張り張力
が大となるため、ステージ12等に蓄積された歪みの程
度に応じてコイニング程度を調整する。かかるコイニン
グ程度の調整は、コイニング面積を調整することによっ
て容易に行うことができる。また、同一コイニング面積
の場合、直状交差部22の巾が広い程、コイニングによ
る伸長が大となるが、歪み吸収部20aが大形となる。
このため、ステージ12等に蓄積される歪みの程度(例
えば、ステージ12に施す加工程度)に応じて直状交差
部22の巾を決定する。更に、本実施例の菱形の環状部
17aとサポートバー14、14との連結部近傍におい
て、菱形の環状部17aを形成する細巾帯状体の交差角
θ(図1)が大角となる程、直状交差部22のコイニン
グによって容易に環状部17aが変形でき、ステージ1
2等の歪みを容易に吸収できる。唯、交差角θが大角と
なる程、歪み吸収部20aが大形となるため、成形する
リードフレームの大きさやインナーリードの密度等との
関係で決定される。尚、本実施例において、サポートバ
ー14の各々に歪み吸収部を設けているが、ステージ1
2等に蓄積される歪みが少ない場合には、1本のサポー
トバー14にのみ歪み吸収部20aを設けてもよい。
【0012】以上、述べてきた図1〜図2に示す本実施
例において、歪み吸収部20aの環状部17aが菱形状
に形成されているが、図3(a)に示す様に、円形状の
環状部17bから成る歪み吸収部20bであってもよ
い。また、図3(b)に示す様に、環状部17c内に二
本の直状交差部22cが配設されていてもよい。更に、
図1〜図2に示す本実施例においては、直状交差部22
が環状部17aとサポートバー14との両連結部の各々
を結ぶ直線24と直交するように、歪み吸収部20がサ
ポートバー14に配設されているが、直線24と直状交
差部22とが斜交するように、歪み吸収部20aが配設
されていてもよい。但し、この場合には、図1〜図2に
示す歪み吸収部20aに比較して、同一面積をコイニン
グしても直状交差部22の変形割合が少なくなる傾向に
ある。
例において、歪み吸収部20aの環状部17aが菱形状
に形成されているが、図3(a)に示す様に、円形状の
環状部17bから成る歪み吸収部20bであってもよ
い。また、図3(b)に示す様に、環状部17c内に二
本の直状交差部22cが配設されていてもよい。更に、
図1〜図2に示す本実施例においては、直状交差部22
が環状部17aとサポートバー14との両連結部の各々
を結ぶ直線24と直交するように、歪み吸収部20がサ
ポートバー14に配設されているが、直線24と直状交
差部22とが斜交するように、歪み吸収部20aが配設
されていてもよい。但し、この場合には、図1〜図2に
示す歪み吸収部20aに比較して、同一面積をコイニン
グしても直状交差部22の変形割合が少なくなる傾向に
ある。
【0013】
【発明の効果】本発明によれば、歪み吸収部を小形化し
ても、ステージ等に蓄積される歪みを充分に吸収するこ
とができるため、ステージにディンプル加工等の加工を
施してもステージを水平に保つことができる。また、サ
ポートバーの強度を保持でき、サポートバーに作用する
外力に因るサポートバーの変形を防止できる。このた
め、本発明のリードフレームは、サポートバーの細化が
可能となり、リードフレームの多ピン化等の要請に応え
ることができる。
ても、ステージ等に蓄積される歪みを充分に吸収するこ
とができるため、ステージにディンプル加工等の加工を
施してもステージを水平に保つことができる。また、サ
ポートバーの強度を保持でき、サポートバーに作用する
外力に因るサポートバーの変形を防止できる。このた
め、本発明のリードフレームは、サポートバーの細化が
可能となり、リードフレームの多ピン化等の要請に応え
ることができる。
【図1】本発明のリードフレームのサポートバーの途中
に設けられる歪み吸収部の正面図である。
に設けられる歪み吸収部の正面図である。
【図2】図1に示す歪み吸収部の作用を説明するための
説明図である。
説明図である。
【図3】歪み吸収部の他の例を示す正面図である。
【図4】本実施例の歪み吸収部が形成されるリードフレ
ームを示す正面図である。
ームを示す正面図である。
【図5】従来の歪み吸収部を示す正面図である。
10 リードフレーム 12 ステージ 14 サポートバー 17a、17b、17c 環状部 20a、20b、20c 歪み吸収部 22、22b、22c 直状交差部 24 直線
Claims (6)
- 【請求項1】 半導体チップが搭載されるステージを支
承するサポートバーの途中に歪み吸収部が形成されたリ
ードフレームであって、 該歪み吸収部を構成し且つ前記サポートバーに連結され
た環状部の空間内に、前記環状部とサポートバーとの連
結部の各々を結ぶ直線と交差するように配設された直状
交差部の両端が、前記環状部に接続されていることを特
徴とするリードフレーム。 - 【請求項2】 直状交差部が歪み吸収を構成する環状部
とサポートバーとの連結部の各々を結ぶ直線と略直交す
るように配設された請求項1記載のリードフレーム。 - 【請求項3】 ステージの周囲に形成された複数本のサ
ポートバーの各々に歪み吸収部が形成されている請求項
1又は請求項2記載のリードフレーム。 - 【請求項4】 半導体チップを搭載するステージがサポ
ートバーによって支承されているリードフレームをプレ
ス加工によって製造する際に、 該サポートバーの途中に、前記サポートバーに連結され
た環状部の空間内に、前記環状部とサポートバーとの連
結部の各々を結ぶ直線と交差するように配設された直状
交差部の両端が、前記環状部に接続されて成る歪み吸収
部を具備するリードフレームを成形し、 次いで、前記直状交差部の少なくとも一部をコイニング
することを特徴とするリードフレームの製造法。 - 【請求項5】 直状交差部が歪み吸収を構成する環状部
とサポートバーとの連結部の各々を結ぶ直線と略直交す
るように配設された請求項4記載のリードフレームの製
造法。 - 【請求項6】 ステージの周囲に形成された複数本のサ
ポートバーの各々に歪み吸収部を形成する請求項4又は
請求項5記載のリードフレームの製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4093318A JP3058755B2 (ja) | 1992-03-19 | 1992-03-19 | リードフレーム及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4093318A JP3058755B2 (ja) | 1992-03-19 | 1992-03-19 | リードフレーム及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05267539A true JPH05267539A (ja) | 1993-10-15 |
JP3058755B2 JP3058755B2 (ja) | 2000-07-04 |
Family
ID=14078953
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4093318A Expired - Lifetime JP3058755B2 (ja) | 1992-03-19 | 1992-03-19 | リードフレーム及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3058755B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6894370B2 (en) | 2001-07-30 | 2005-05-17 | Nec Electronics Corporation | Lead frame and semiconductor device having the same as well as method of resin-molding the same |
JP2013048150A (ja) * | 2011-08-29 | 2013-03-07 | Sanken Electric Co Ltd | 半導体モジュール及びその製造方法 |
CN103855119A (zh) * | 2012-12-07 | 2014-06-11 | 三垦电气株式会社 | 半导体模块、半导体装置及其制造方法 |
-
1992
- 1992-03-19 JP JP4093318A patent/JP3058755B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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