JPH05267454A - Method of generating data on hard macro pattern - Google Patents

Method of generating data on hard macro pattern

Info

Publication number
JPH05267454A
JPH05267454A JP4062349A JP6234992A JPH05267454A JP H05267454 A JPH05267454 A JP H05267454A JP 4062349 A JP4062349 A JP 4062349A JP 6234992 A JP6234992 A JP 6234992A JP H05267454 A JPH05267454 A JP H05267454A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pattern
hard macro
technology
terminal position
wiring
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP4062349A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Harumi Shizu
晴巳 志津
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu VLSI Ltd
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu VLSI Ltd
Fujitsu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu VLSI Ltd, Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu VLSI Ltd
Priority to JP4062349A priority Critical patent/JPH05267454A/en
Publication of JPH05267454A publication Critical patent/JPH05267454A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)

Abstract

PURPOSE:To shorten the time of automatic layout processing by enabling the generation of the hard macro pattern matching with specified technology from the data on the hard macro pattern which has the terminal position not positioned on the grid based on specified technology. CONSTITUTION:A wiring pattern La for connecting the positions Ta and Ts of both terminals is made, setting the position Ts of a temporary terminal at the position of the grid geared to the technology of a chip 19, outside of a hard macro pattern 20, to the position Ta of each terminal (old terminal) of the hard macro pattern 20 being made by another technology not dependent on the technology of a chip 19 to be mounted. Moreover, a wiring pattern Ln for connecting both terminals Ts and Tn is made, setting the position Tn of another terminal at the position Ts of the temporary terminal similarly. And, in addition to these wiring patterns La and Ln, other pattern data are made, and these data are made the pattern data P of a new hard mask 30 geared to the technology of the chip 19.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明はハードマクロのパターン
データ生成方法に関するものである。近年、ゲートアレ
イにおいて、ハードマクロを搭載する場合、ロジックセ
ル用のトランジスタを用いないでハードマクロ部分を物
理的に専用化して搭載するようにしたエンベッド方式の
LSIが出現している。このようなLSIにおいては、
特定のテクノロジーに対して異なるテクノロジーのハー
ドマクロのパターンデータを整合させレイアウト処理す
ることは非常に工数を要する。そのため、LSIの短期
開発、短期納入を図る上でテクノロジーの異なるハード
マクロの効率のよいレイアウト処理が望まれている。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a hard macro pattern data generation method. In recent years, when a hard macro is mounted in a gate array, an embedded LSI has appeared in which a hard macro portion is physically dedicated and mounted without using a transistor for a logic cell. In such an LSI,
It takes a lot of man-hours to align the pattern data of the hard macros of different technologies with a specific technology and perform the layout processing. Therefore, an efficient layout process of hard macros with different technologies is desired for short-term development and short-term delivery of LSI.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、LSIの高集積化、複合化にとも
ないゲートアレイにおいては、RAM、ROM、PL
A、FIFO、乗算器、バレルシフター、ALUなどの
コンパイル型のマクロや、CPU周辺、CPUコア、ア
ナログ回路といったハードマクロ(以下、コンパイル型
のマクロもハードマクロに含むとする)がロジック回路
と合わせ1チップに搭載されるようになってきた。ま
た、ゲートアレイにおいて、ハードマクロを搭載する場
合、ロジックセル用のトランジスタを用いないでハード
マクロ部分を物理的に専用化して集積度を上げるように
したエンベッド方式のLSIが出現している。
2. Description of the Related Art Conventionally, in a gate array due to high integration and compounding of LSI, RAM, ROM, PL
Compiled macros such as A, FIFO, multiplier, barrel shifter, and ALU, and hard macros such as CPU peripherals, CPU cores, and analog circuits (hereafter, compiled macros are also included in hard macros) are combined with logic circuits. It has come to be mounted on one chip. In addition, when a hard macro is mounted in a gate array, an embedded LSI has appeared in which the hard macro portion is physically dedicated without using a transistor for a logic cell to increase the degree of integration.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】ところで、自動レイア
ウト処理において、処理する上での座標系の基本単位と
なるグリッドピッチは製造プロセスの違いからテクノロ
ジー毎にことなる。従って、ある1つのテクノロジー用
に作成されたハードマクロをそのまま別のテクノロジー
に搭載させることは、グリッドピッチが互いに異なるこ
とになる。その結果、図5に示すようにハードマクロ2
0とロジックセルからなる周辺回路(ロジックセル)2
1を結線する場合、グリッドピッチGPの違いに基づい
てハードマクロ20の端子位置Taが周辺回路21の端
子位置のグリッド上に乗らない。
By the way, in automatic layout processing, the grid pitch, which is the basic unit of the coordinate system for processing, differs for each technology due to the difference in manufacturing process. Therefore, when a hard macro created for one technology is mounted on another technology as it is, the grid pitches are different from each other. As a result, as shown in FIG.
Peripheral circuit (logic cell) consisting of 0 and logic cell 2
When 1 is connected, the terminal position Ta of the hard macro 20 does not ride on the grid of the terminal position of the peripheral circuit 21 due to the difference in the grid pitch GP.

【0004】そこで、従来では手作業によって端子位置
を変更して別のパターンを作成しなければならず非常に
面倒でかつ多大な時間を要していた。特に、RAM、R
OMなどのコンパイル型のマクロにおいてはビット、ワ
ード、カラムが自由に選択でき、必要時にコンパイルし
てハードマクロを作成できるが、前もってハードマクロ
を作成しておくこともできず結局コンパイルしたマクロ
を手作業で修正する必要があった。
Therefore, conventionally, it was necessary to manually change the terminal positions to create another pattern, which was very troublesome and required a great deal of time. RAM, R
Bits, words, and columns can be freely selected in a compiled macro such as OM, and a hard macro can be created by compiling when necessary, but it is not possible to create a hard macro in advance, and the compiled macro can be used after all. I had to fix it in my work.

【0005】また、別のテクノロジー用に作成されたハ
ードマクロを手作業によって図6に示すエンベッド方式
のLSI19に搭載する場合はさらに問題が生ずる。す
なわち、ハードマクロ20領域以外の部分は全てロジッ
クセル21用のトランジスタが敷きつめられていること
が多い。この場合、ロジックセル21に供給する電源配
線22の位置はハードマクロ20が搭載されないことを
前提に考えて固定化している。その結果、ハードマクロ
20を配置する領域の電源配線22を取り除く処理が行
われ、電源配線22が途中で切断されてしまう問題があ
る。しかも、前記と同様にハードマクロ20に供給する
ためのハードマクロ20の電源用端子位置TbとLSI
19上の電源位置とうまく合わなかった。
Further, when a hard macro created for another technology is manually mounted on the embedded LSI 19 shown in FIG. 6, a further problem occurs. That is, the transistors for the logic cell 21 are often laid all over the area other than the hard macro 20 region. In this case, the position of the power supply wiring 22 supplied to the logic cell 21 is fixed on the assumption that the hard macro 20 is not mounted. As a result, a process of removing the power supply wiring 22 in the area where the hard macro 20 is arranged is performed, and there is a problem that the power supply wiring 22 is cut in the middle. Moreover, in the same manner as described above, the power supply terminal position Tb of the hard macro 20 for supplying to the hard macro 20 and the LSI
It didn't fit well with the power position on 19.

【0006】本発明は上記問題点を解消するためになさ
れたものであって、その目的は特定のテクノロジーに基
づくグリッド上に位置しない端子位置を持つ別のテクノ
ロジーにて作成されたハードマクロのパターンデータを
該特定のテクノロジーのマッチングしたハードマクロの
パターンを生成することができ、自動レイアウト処理時
間の短縮化に貢献できるハードマクロのパターンデータ
生成方法を提供することにある。
The present invention has been made in order to solve the above problems, and its purpose is to form a hard macro pattern created by another technology having terminal positions not located on a grid based on a specific technology. It is an object of the present invention to provide a hard macro pattern data generation method capable of generating a hard macro pattern in which data is matched by the specific technology and contributing to reduction in automatic layout processing time.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明は上記問題点を解
決するため、搭載するチップのテクノロジーに依存しな
い別のテクノロジーにて作成されたハードマクロパター
ンの外側に該ハードマクロパターンの端子位置に対して
前記チップのテクノロジーにあったグリッド位置に仮の
端子位置を設定し、その両端子位置を結線する配線パタ
ーンを形成する。その仮の端子位置に対して同じく搭載
するチップのテクノロジーにあったグリッド位置に新端
子位置を設定し、仮の端子位置と新端子位置を結線する
配線パターンを形成する。そして、前記ハードマクロパ
ターンに対して前記各配線パターンを加えて新たなパタ
ーンデータを作成し、その加えた新たなパターンデータ
を前記搭載するチップのテクノロジーにあった新たなハ
ードマクロのパターンデータを作成する。
SUMMARY OF THE INVENTION In order to solve the above problems, the present invention provides a position outside the hard macro pattern created by another technology that does not depend on the technology of the chip to be mounted on the terminal position of the hard macro pattern. On the other hand, a temporary terminal position is set at a grid position suitable for the technology of the chip, and a wiring pattern for connecting both terminal positions is formed. A new terminal position is set at a grid position suitable for the technology of the chip to be mounted with respect to the temporary terminal position, and a wiring pattern for connecting the temporary terminal position and the new terminal position is formed. Then, each wiring pattern is added to the hard macro pattern to create new pattern data, and the new pattern data added is created to create new hard macro pattern data suitable for the technology of the mounted chip. To do.

【0008】[0008]

【作用】従って、本発明によればこの新たなハードマク
ロのパターンデータを用いれは搭載するチップのテクノ
ロジーと整合がとれるため、自動レイアウト処理が可能
となる。その結果、自動レイアウト全体の工程にかかる
時間は短縮するため、開発工数が減少し、短期製品開発
が可能となる。
Therefore, according to the present invention, the pattern data of this new hard macro can be used and matched with the technology of the chip to be mounted, so that automatic layout processing can be performed. As a result, the time required for the process of the entire automatic layout is shortened, the man-hours for development are reduced, and short-term product development becomes possible.

【0009】[0009]

【実施例】以下、本発明を具体化した一実施例を図1〜
図3に従って説明する。図1はハードマクロのパターン
データ生成装置の構成図を示し、ハードマクロレイアウ
ト装置10はハードマクロパターンデータを記憶した記
憶装置11に接続され、同記憶装置11に記憶されたテ
クノロジーに依存しないハードマクロのパターンデータ
を入力するようになっている。ハードマクロレイアウト
装置10はルール入力装置12に接続され、ルール入力
装置12にて設定された配線幅、グリッドピッチ、隣接
条件等の配線ルール及び制限情報等からなるテクノロジ
ールールの情報を入力する。また、回転情報入力装置1
3はハードマクロをLSIに搭載させる場合に回転ある
いはミラー反転させる際に使用する回転、ミラー反転情
報をハードマクロの数だけハードマクロレイアウト装置
10に入力するようになっている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment embodying the present invention will now be described with reference to FIGS.
It will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a block diagram of a hard macro pattern data generation device. The hard macro layout device 10 is connected to a storage device 11 that stores hard macro pattern data, and the hard macro that is stored in the storage device 11 does not depend on the technology. The pattern data of is input. The hard macro layout device 10 is connected to the rule input device 12, and inputs the information of the technology rule including the wiring rule set by the rule input device 12 such as the wiring width, the grid pitch, the adjacency condition, and the restriction information. Also, the rotation information input device 1
Reference numeral 3 is for inputting rotation and mirror inversion information, which is used when rotating or mirror reversing when a hard macro is mounted on an LSI, to the hard macro layout device 10 by the number of hard macros.

【0010】そして、ハードマクロレイアウト装置10
はルール入力装置12から指定のテクノロジーによる配
線幅、グリッドピッチ、隣接条件等の配線ルール及び制
限情報等からなるテクノロジールールの情報に基づいて
記憶装置11から入力したハードマクロのパターンデー
タを該ルール入力装置12にて指定したテクノロジーに
合うハードマクロのパターンデータを作成するようにな
っている。そして、この作成したパターンデータを記憶
装置14に記憶する。また、ハードマクロレイアウト装
置10はこの作成したパターンデータを自動レイアウト
用にライブラリ化し記憶装置15に記憶するようにして
いる。
Then, the hard macro layout device 10
Is the rule input device 12 and inputs the hard macro pattern data input from the storage device 11 based on the information of the technology rule such as the wiring width, grid pitch, adjacency condition and other wiring rules and the restriction information from the rule input device 12. The hard macro pattern data suitable for the technology specified by the device 12 is created. Then, the created pattern data is stored in the storage device 14. Further, the hard macro layout device 10 makes a library of the created pattern data for automatic layout and stores it in the storage device 15.

【0011】次に、ハードマクロのパターンデータ生成
装置の作用を図2に示すハードマクロレイアウト装置1
0の処理動作に従って説明する。なお、説明の便宜上図
4に示すエンベッド方式のLSI19に搭載する場合で
あって、同図に示す位置に別のテクノロジーで作成され
たハードマクロ20のパターンデータをマッチングさせ
る図3に示す新たなハードマクロ30のパターンPのパ
ターンデータを生成する場合について説明する。
Next, the operation of the hard macro pattern data generating device is shown in FIG.
The processing operation of 0 will be described. It should be noted that, for convenience of explanation, when the LSI is mounted on the embedded LSI 19 shown in FIG. 4, the new hardware shown in FIG. 3 for matching the pattern data of the hard macro 20 created by another technology at the position shown in FIG. A case where the pattern data of the pattern P of the macro 30 is generated will be described.

【0012】いま、ルール入力装置12から図4に示す
LSI19のテクノロジールールの情報を入力する。ま
た、記憶装置11から前記LSI19のテクノロジーに
依存しない別のテクノロジーにて作成されたハードマク
ロ20のパターンデータを入力する。そして、LSIに
搭載する際、該ハードマクロ20を回転または反転させ
る必要がある場合には回転情報入力装置13からの回
転、ミラー反転情報に基づいて該ハードマクロ20のパ
ターンデータを回転又は反転させる。
Now, information on the technology rule of the LSI 19 shown in FIG. 4 is inputted from the rule input device 12. Further, the pattern data of the hard macro 20 created by another technology that does not depend on the technology of the LSI 19 is input from the storage device 11. Then, when the hard macro 20 needs to be rotated or inverted when mounted on an LSI, the pattern data of the hard macro 20 is rotated or inverted based on the rotation from the rotation information input device 13 and the mirror inversion information. ..

【0013】続いて、該ハードマクロ20の各端子(旧
端子)位置Taに対してハードマクロ20のパターンの
外側において、LSI19のテクノロジーに基づくグリ
ッドG位置に仮の端子位置(以下、仮端子位置という)
Tsをそれぞれ決定する。続いて、旧端子位置Taと仮
端子位置Tsとの間を前記与えられた配線幅で配線La
する。この配線Laは与えられた隣接条件を満たすよう
に配線する必要から配線Laのクランク処理が行われ
る。この場合、各仮端子位置Tsはこれら配線幅、隣接
条件を満足し、クランク配線処理に必要な領域を確保し
た位置に決められている。しかも、生成するハードマク
ロ30のパターンサイズを最小にするために、全ての旧
及び仮端子位置Ta,Tsの位置関係、配線幅、隣接条
件を要素として各配線Laのクランク位置を決定させて
いる。この時、後記する電源配線Leも考慮にいれて決
定している。
Next, with respect to each terminal (old terminal) position Ta of the hard macro 20, outside the pattern of the hard macro 20, a temporary terminal position (hereinafter, temporary terminal position) is set at a grid G position based on the technology of the LSI 19. Say)
Determine each Ts. Subsequently, the wiring La is provided between the old terminal position Ta and the temporary terminal position Ts with the given wiring width.
To do. Since the wiring La needs to be wired so as to satisfy the given adjacency condition, the wiring La is cranked. In this case, each temporary terminal position Ts is determined to be a position that satisfies the wiring width and adjacency conditions and secures a region necessary for crank wiring processing. Moreover, in order to minimize the pattern size of the generated hard macro 30, the crank position of each wiring La is determined by the positional relationship between all the old and temporary terminal positions Ta and Ts, the wiring width, and the adjacency condition. .. At this time, the power supply wiring Le described later is also taken into consideration for the determination.

【0014】旧端子位置Taと仮端子位置Tsとの間の
配線Laが決定されると、一対の電源リングR1,R2
を発生させる。一対の電源リングR1,R2は前記各仮
端子位置Tsの外側に位置し、ハードマクロ20のパタ
ーンを囲むように配置される。この配置位置は仮端子位
置Tsと配線Laの隣接条件によって決定される。
When the wiring La between the old terminal position Ta and the temporary terminal position Ts is determined, a pair of power supply rings R1 and R2 are provided.
Generate. The pair of power supply rings R1 and R2 are located outside each of the temporary terminal positions Ts and arranged so as to surround the pattern of the hard macro 20. This arrangement position is determined by the adjacency condition of the temporary terminal position Ts and the wiring La.

【0015】そして、一対の電源リングR1,R2とハ
ードマクロ20の電源用端子位置Tbとを与えられた配
線幅で、隣接条件を満たす間隔で直線で電源配線Leを
結線する。この時、電源配線Leが旧端子位置Taと仮
端子位置Tsとの間で結線された配線Laのクランク部
分で交差しショ−トするとき、配線Laのクランク部分
の配線層を変える処理を行う。すなわち、クランク部分
の両端にコンタクトホールHを形成し、両コンタクトホ
ールHを介して結線するように処理を行う。
Then, the pair of power supply rings R1 and R2 and the power supply terminal position Tb of the hard macro 20 are connected to each other in a straight line at a given wiring width at intervals satisfying the adjacency condition. At this time, when the power supply wiring Le intersects and is short-circuited at the crank portion of the wiring La connected between the old terminal position Ta and the temporary terminal position Ts, the wiring layer of the crank portion of the wiring La is changed. .. That is, the contact holes H are formed at both ends of the crank portion, and the processing is performed so that the contact holes H are connected to each other.

【0016】次に、ハードマクロレイアウト装置10は
仮端子位置Tsに基づいて新端子位置Tnの決定処理を
行う。すなわち、前記一対の電源リングR1,R2より
外側の位置であって、前記各仮端子位置Tsから電源リ
ングR1,R2と直交する直線で結線される位置に各仮
端子位置Tsに対する新端子位置Tnを決定する。新端
子位置Tnを決定すると、新端子位置Tnと仮端子位置
Tsとを結線し配線Lnを形成する。この時、仮端子位
置Tsと新端子位置Tnとの間で結線された配線Lnが
電源リングR1,R2と交差してショ−トするとき、該
配線Lnの配線層を変える処理を行う。
Next, the hard macro layout device 10 determines the new terminal position Tn based on the temporary terminal position Ts. That is, a new terminal position Tn with respect to each temporary terminal position Ts is located at a position outside the pair of power supply rings R1 and R2, and at a position connected from each temporary terminal position Ts by a straight line orthogonal to the power supply rings R1 and R2. To decide. When the new terminal position Tn is determined, the new terminal position Tn and the temporary terminal position Ts are connected to form the wiring Ln. At this time, when the wiring Ln connected between the temporary terminal position Ts and the new terminal position Tn crosses the power supply rings R1 and R2 and is short-circuited, the wiring layer of the wiring Ln is changed.

【0017】そして、このようなに新端子位置Tn及び
配線Lnが決定されると、ハードマクロレイアウト装置
10は前記各端子Ta,Ts,Tn及びその位置、各配
線La,Lnの位置及びその配線層、電源リングR1,
R2の位置及び層等を情報をハードマクロ20の一部と
した新たなハードマクロ30のパターンデータを作成す
る。すなわち、元のハードマクロ20のパターンに新端
子位置Tn、電源リングR1,R2、配線La,Ln等
のパターンを加えたパターンを前記LSI19のテクノ
ロジーにあったハードマクロ30のパターンデータとし
て出力する。そして、前記LSI19のテクノロジーに
あったハードマクロ30のパターンデータは記憶装置1
4に記憶保持されるとともに、自動レイアウト用にハー
ドマクロのパターンデータに正式新端子位置と配線禁止
領のデータを含ませてライブラリ化し記憶装置15に記
憶させる。
When the new terminal position Tn and the wiring Ln are determined in this way, the hard macro layout apparatus 10 causes the terminals Ta, Ts and Tn and the positions thereof, the positions of the wirings La and Ln and the wiring thereof. Layer, power ring R1,
Pattern data of a new hard macro 30 in which information such as the position and layer of R2 is part of the hard macro 20 is created. That is, a pattern obtained by adding the patterns of the new terminal position Tn, the power supply rings R1 and R2, and the wirings La and Ln to the pattern of the original hard macro 20 is output as the pattern data of the hard macro 30 according to the technology of the LSI 19. The pattern data of the hard macro 30 that matches the technology of the LSI 19 is stored in the storage device 1.
In addition to being stored and held in the memory 4, the pattern data of the hard macro for automatic layout includes the data of the official new terminal position and the wiring prohibition area, and the library is stored in the storage device 15.

【0018】そして、このように作成されたハードマク
ロパターンPをエンベッド方式のLSI19のテクノロ
ジーに搭載する場合、搭載するハードマクロ20は新端
子位置Tnが当該LSI19のグリッドピッチGPと一
致しているため、他のロジックセル21との結線は容易
にかつ自動で行われる。
When the hard macro pattern P thus created is mounted on the technology of the embedded LSI 19, since the new terminal position Tn of the mounted hard macro 20 matches the grid pitch GP of the LSI 19. The connection with other logic cells 21 is easily and automatically performed.

【0019】しかも、図4に示すように、レイアウトさ
れるハードマクロ30によってロジックセル21に供給
する電源配線22が途中で切断されるが、切断された電
源配線22をそれぞれハードマクロ30に形成した電源
リングR1,R2に接続すれば、切断されることによる
新たな電源配線のレイアウト処理を行う必要がなくな
る。
Moreover, as shown in FIG. 4, the power supply wirings 22 supplied to the logic cells 21 are cut off by the laid-out hard macros 30, but the cut power supply wirings 22 are formed in the hard macros 30, respectively. By connecting to the power supply rings R1 and R2, there is no need to perform a new layout process of power supply wiring due to disconnection.

【0020】以上詳述したように、本実施例によれば、
エンベッド方式のLSI19に別のテクノロジーで作成
したハードマクロ20を搭載する場合、該ハードマクロ
20から該ハードマクロ20のパターンにLSI19の
テクノロジーと整合がとれた配線La,Lbのパターン
を付加するとともに、電源リングR1,R2のパターン
とハードマクロ20の電源用端子位置Tbとを結線する
電源配線Leのパターンを付加した新たなハードマクロ
30のパターンPのデータを作成した。従って、この新
たなハードマクロパターンデータを用いれはエンベッド
方式のLSIのテクノロジーと整合がとれるため、自動
レイアウト処理が可能となる。その結果、自動レイアウ
トが可能になり、自動レイアウト全体の工程にかかる時
間(TAT)は短縮するため、開発工数が減少し、短期
製品開発が可能となる。しかも、自動レイアウトが可能
となるため、従来のように手作業による入力ミスもなく
なる。
As described in detail above, according to this embodiment,
When the hard macro 20 created by another technology is mounted on the embedded LSI 19, the pattern of the wirings La and Lb matched with the technology of the LSI 19 is added to the pattern of the hard macro 20 from the hard macro 20. Data of a new pattern P of the hard macro 30 to which the pattern of the power supply wiring Le connecting the patterns of the power supply rings R1 and R2 and the power supply terminal position Tb of the hard macro 20 is added is created. Therefore, if this new hard macro pattern data is used, it is compatible with the embedded LSI technology, and automatic layout processing is possible. As a result, the automatic layout becomes possible, and the time (TAT) required for the entire automatic layout process is shortened, so that the development man-hours are reduced and the short-term product development becomes possible. Moreover, since automatic layout is possible, there is no manual input error as in the past.

【0021】なお、本発明は前記実施例に限定されるも
のではなく、前記実施例ではエンベッド方式のLSI1
9に対するハードマクロ30のパターンデータについて
説明したが、これをスタンダードセル方式のLSIに応
用してもよい。この場合、電源リングR1,R2が不要
な場合には電源リングR1,R2のパターンを形成しな
いことになる。
The present invention is not limited to the above-mentioned embodiment, but in the above-mentioned embodiment, the embedded LSI 1 is used.
Although the pattern data of the hard macro 30 for 9 has been described, it may be applied to a standard cell type LSI. In this case, if the power supply rings R1 and R2 are unnecessary, the pattern of the power supply rings R1 and R2 is not formed.

【0022】また、仮端子位置Tsを設け、その仮端子
位置Tsに対して新端子位置Tnを設けたが、この仮端
子位置Tsを新端子位置Tnとしてもよい。この場合、
仮端子位置Tsを新端子位置Tnとの配線はなくなる。
Although the temporary terminal position Ts is provided and the new terminal position Tn is provided for the temporary terminal position Ts, the temporary terminal position Ts may be the new terminal position Tn. in this case,
There is no wiring between the temporary terminal position Ts and the new terminal position Tn.

【0023】また、前記実施例ではハードマクロ30の
パターンPは矩形状であったが、これに限定されるもの
ではなく、新端子位置Tnが該テクノロジーのグリッド
G上にあればれば、他のマクロとの結線に合わせてその
形状を変更するようにしてもよい。
Further, although the pattern P of the hard macro 30 is rectangular in the above-mentioned embodiment, it is not limited to this, and if the new terminal position Tn is on the grid G of the technology, another pattern is obtained. The shape may be changed according to the connection with the macro.

【0024】[0024]

【発明の効果】以上詳述したように本発明によれば、特
定のテクノロジーに基づくグリッド上に位置しない端子
位置を持つ別のテクノロジーにて作成されたハードマク
ロのパターンデータを該特定のテクノロジーのマッチン
グしたハードマクロパターンを生成することができ、自
動レイアウト処理時間の短縮を図ることができる優れた
効果がある。
As described in detail above, according to the present invention, pattern data of a hard macro created by another technology having a terminal position not located on the grid based on the specific technology is stored in the specific technology. A matched hard macro pattern can be generated, and there is an excellent effect that the automatic layout processing time can be shortened.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例を示すハードマクロのパター
ンデータ生成装置の構成図である。
FIG. 1 is a block diagram of a hard macro pattern data generation device showing an embodiment of the present invention.

【図2】ハードマクロレイアウト装置の処理動作を示す
フローチャート図である。
FIG. 2 is a flowchart showing a processing operation of a hard macro layout device.

【図3】ハードマクロレイアウト装置にて作成されたハ
ードマクロのパターン図である。
FIG. 3 is a pattern diagram of a hard macro created by a hard macro layout device.

【図4】ハードマクロレイアウト装置にて形成されたハ
ードマクロをエンベッド方式のLSIに搭載した状態を
示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing a state in which a hard macro formed by a hard macro layout device is mounted on an embedded LSI.

【図5】テクノロジーの異なるグリッド上に載せたハー
ドマクロを示す図である。
FIG. 5 is a diagram showing hard macros placed on grids of different technologies.

【図6】エンベッド方式のLSIに異なるテクノロジー
で作成されたハードマクロを示す図である。
FIG. 6 is a diagram showing hard macros created by different technologies in an embedded LSI.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

19 LSI 20 ハードマクロ 30 新たなハードマクロ Ta 端子位置 Ts 仮端子位置 G グリッド La,Ln,Ln 配線 P パターン 19 LSI 20 Hard Macro 30 New Hard Macro Ta Terminal Position Ts Temporary Terminal Position G Grid La, Ln, Ln Wiring P Pattern

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 搭載するチップ(19)のテクノロジー
に依存しない別のテクノロジーにて作成されたハードマ
クロパターン(20)の外側に該ハードマクロパターン
(20)の端子位置(Ta)に対して前記チップ(1
9)のテクノロジーにあったグリッド位置(G)に仮端
子位置(Ts)を設定し、その両端子位置(Ta,T
s)を結線する配線パターン(La)を形成し、その仮
端子位置(Ts)に対して同じくチップ(19)のテク
ノロジーにあったグリッド位置(G)に新端子位置(T
n)を設定し、仮端子位置(Ts)と新端子位置(T
n)を結線する配線パターン(Ln)を形成し、前記ハ
ードマクロパターン(20)に対して前記各配線パター
ン(La,Ln)を加えて新たなパターンデータを作成
し、その加えた新たなパターンデータを前記搭載するチ
ップ(19)のテクノロジーにあった新たなハードマク
ロ(30)のパターンデータ(P)としたことを特徴と
するハードマクロのパターンデータ生成方法。
1. The above-mentioned relative to the terminal position (Ta) of the hard macro pattern (20) outside the hard macro pattern (20) created by another technology that does not depend on the technology of the mounted chip (19). Chip (1
9) The temporary terminal position (Ts) is set to the grid position (G) that matches the technology of 9), and both terminal positions (Ta, T
s) is formed into a wiring pattern (La), and a new terminal position (T) is formed at a grid position (G) corresponding to the technology of the chip (19) with respect to the temporary terminal position (Ts).
n) is set, the temporary terminal position (Ts) and the new terminal position (Ts)
n) is formed, a wiring pattern (Ln) is formed, new wiring pattern data is created by adding the wiring patterns (La, Ln) to the hard macro pattern (20), and the new pattern is added. A method of generating pattern data of a hard macro, characterized in that pattern data (P) of a new hard macro (30) suitable for the technology of the chip (19) to be mounted is used.
【請求項2】 別のテクノロジーにて作成されたハード
マクロパターン(20)の外側に一対の電源リングパタ
ーン(R1,R2)を形成するとともに、その電源リン
グパターン(R1,R2)とハードマクロパターン(2
0)の電源用端子位置(Tb)とを結線するの電源配線
パターン(Le)を形成し、その電源リングパターン
(R1,R2)及び電源配線パターン(Le)とをさら
に加えてなる新たなパターンデータを前記チップのテク
ノロジーにあった新たなハードマクロ(30)のパター
ンデータ(P)としたことを特徴とする請求項1のハー
ドマクロのパターンデータ生成方法。
2. A pair of power ring patterns (R1, R2) are formed outside a hard macro pattern (20) created by another technology, and the power ring pattern (R1, R2) and the hard macro pattern are formed. (2
0) A new pattern formed by forming a power supply wiring pattern (Le) for connecting to the power supply terminal position (Tb) and further adding the power supply ring pattern (R1, R2) and the power supply wiring pattern (Le). 2. The hard macro pattern data generation method according to claim 1, wherein the data is pattern data (P) of a new hard macro (30) suitable for the technology of the chip.
【請求項3】 電源リングパターン(R1,R2)は仮
端子位置(Ts)より外側に形成するようにしたことを
特徴とする請求項2のパターンデータ生成方法。
3. The pattern data generating method according to claim 2, wherein the power supply ring pattern (R1, R2) is formed outside the temporary terminal position (Ts).
【請求項4】 新たなハードマクロ(30)のパターン
データには配線禁止領域のデータを含めるようにしたこ
とを特徴とする請求項1乃至請求項3のパターンデータ
生成方法。
4. The pattern data generation method according to claim 1, wherein the pattern data of the new hard macro (30) includes data of the wiring prohibited area.
JP4062349A 1992-03-18 1992-03-18 Method of generating data on hard macro pattern Pending JPH05267454A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4062349A JPH05267454A (en) 1992-03-18 1992-03-18 Method of generating data on hard macro pattern

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4062349A JPH05267454A (en) 1992-03-18 1992-03-18 Method of generating data on hard macro pattern

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH05267454A true JPH05267454A (en) 1993-10-15

Family

ID=13197560

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP4062349A Pending JPH05267454A (en) 1992-03-18 1992-03-18 Method of generating data on hard macro pattern

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH05267454A (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6134704A (en) * 1998-04-03 2000-10-17 International Business Machines Corporation Integrated circuit macro apparatus
US6237133B1 (en) 1997-03-14 2001-05-22 Nec Corporation Mask pattern data creation method and system that are not subject to data stream data format limitations
US6360354B1 (en) 1997-11-04 2002-03-19 Nec Corporation Automatic arrangement of wiring patterns in semiconductor device
JP2011076154A (en) * 2009-09-29 2011-04-14 Fujitsu Semiconductor Ltd Design support program, design support apparatus, design support method, semiconductor element, and macro

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6237133B1 (en) 1997-03-14 2001-05-22 Nec Corporation Mask pattern data creation method and system that are not subject to data stream data format limitations
US6360354B1 (en) 1997-11-04 2002-03-19 Nec Corporation Automatic arrangement of wiring patterns in semiconductor device
US6134704A (en) * 1998-04-03 2000-10-17 International Business Machines Corporation Integrated circuit macro apparatus
JP2011076154A (en) * 2009-09-29 2011-04-14 Fujitsu Semiconductor Ltd Design support program, design support apparatus, design support method, semiconductor element, and macro

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US10230377B2 (en) Circuitry and layouts for XOR and XNOR logic
US9589091B2 (en) Scalable meta-data objects
US20030005390A1 (en) Pattern correction method, apparatus, and program
KR930011055B1 (en) Method and apparatus for forming layout pattern of semiconductor integated circuit
WO2010004666A1 (en) Method for verifying mask layout of semiconductor integrated circuit
JP2000314954A (en) Formation of layout of pattern for lsi, formation of pattern for lsi and formation of mask data for lsi
JP2002334933A (en) Integrated circuit having tap cell and method of arranging tap cell in integrated circuit
JPH05267454A (en) Method of generating data on hard macro pattern
US6998205B2 (en) Optical proximity correction method
US7263677B1 (en) Method and apparatus for creating efficient vias between metal layers in semiconductor designs and layouts
Hassett Automated Layout in ASHLAR: An Approach to the Problems of" General Cell" Layout for VLSI
US11176303B2 (en) Constrained cell placement
JP2008020953A (en) Semiconductor integrated circuit design method, and semiconductor integrated circuit design device
EP0609047A2 (en) Process for fabricating an ASIC device having a gate-array function block
JP2521041B2 (en) Wiring method in integrated circuit
JPH10171855A (en) Device for extracting circuit parameter and method for calculating delay
JP2002107906A (en) Device for formation of pattern data in scribe and method for forming pattern data in scribe
JPH0384951A (en) Layout design of integrated circuit
JP3064925B2 (en) Layout method
JPH0582640A (en) Forming method for layout data
US11092885B2 (en) Manufacturing methods of semiconductor devices
JP2001358223A (en) Method of designing lsi circuit using hard blocks and method of restoring cell-placement information of hard blocks for lsi
JP2000299382A (en) Layout cell for semiconductor integrated circuit
JPH06110972A (en) Method for extracting circuit connection information from integrated circuit mask pattern
JPH0628496A (en) Manufacture of semiconductor device

Legal Events

Date Code Title Description
A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 19991228