JPH05262996A - ソルダーレジスト用色素及びソルダーレジストインキ - Google Patents
ソルダーレジスト用色素及びソルダーレジストインキInfo
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- JPH05262996A JPH05262996A JP9143692A JP9143692A JPH05262996A JP H05262996 A JPH05262996 A JP H05262996A JP 9143692 A JP9143692 A JP 9143692A JP 9143692 A JP9143692 A JP 9143692A JP H05262996 A JPH05262996 A JP H05262996A
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- JP
- Japan
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- solder resist
- group
- resist agent
- exposure
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- Non-Metallic Protective Coatings For Printed Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は永久保護膜と記号等の形成を安価に
行う方法において、記号等の形成を精度、再現性かつ耐
久性を良く行う色素、その色素を用いたソルダーレジス
トインキを提供する。 【構成】 一般式（Ｉ） 【化１】 の色素はあらかじめ選定された波長の露光によって硬化
するソルダーレジスト剤と、このソルダーレジスト剤に
混合された該ソルダーレジスト剤を硬化させる波長の露
光とは異なる波長の露光により消色あるいは変色する。
更に、この色素を含有したソルダーレジスト及びソルダ
ーレジストインキ。
行う方法において、記号等の形成を精度、再現性かつ耐
久性を良く行う色素、その色素を用いたソルダーレジス
トインキを提供する。 【構成】 一般式（Ｉ） 【化１】 の色素はあらかじめ選定された波長の露光によって硬化
するソルダーレジスト剤と、このソルダーレジスト剤に
混合された該ソルダーレジスト剤を硬化させる波長の露
光とは異なる波長の露光により消色あるいは変色する。
更に、この色素を含有したソルダーレジスト及びソルダ
ーレジストインキ。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はチップ部品等を搭載した
りマーキングするプリント基板の製造に適した、色素、
ソルダーレジストおよびソルダーレジストインキに関す
る。
りマーキングするプリント基板の製造に適した、色素、
ソルダーレジストおよびソルダーレジストインキに関す
る。
【０００２】
【従来の技術】従来、プリント基板は、基板に配線パタ
ーンを形成した後、基板上にソルダーレジストまたはソ
ルダーレジストインキによって永久保護膜を形成する。
しかる後、該永久保護膜上に搭載するチップ部品を示す
ための記号や文字をマーキング印刷によって形成してい
た。しかし、この方法では、製造工程が長くコスト高と
なる欠点があった。また永久保護膜を形成した後にスク
リーン印刷でマーキング印刷を行うので、マーキング印
刷位置の精度が悪いという欠点があった。
ーンを形成した後、基板上にソルダーレジストまたはソ
ルダーレジストインキによって永久保護膜を形成する。
しかる後、該永久保護膜上に搭載するチップ部品を示す
ための記号や文字をマーキング印刷によって形成してい
た。しかし、この方法では、製造工程が長くコスト高と
なる欠点があった。また永久保護膜を形成した後にスク
リーン印刷でマーキング印刷を行うので、マーキング印
刷位置の精度が悪いという欠点があった。
【０００３】以上の欠点を解決するために、特開平３−
１６１９９３は、基板に配線パターンを形成するパター
ン形成工程と、このパターン形成工程後に配線パターン
を含む基板上に異なる波長の露光によって消色あるいは
変色させることの出来るソルダーレジスト皮膜形成工程
と、このソルダーレジスト皮膜形成工程後に永久保護皮
膜形成露光工程と、この永久保護皮膜形成露光工程後に
永久保護皮膜形成部位に永久保護皮膜形成露光工程の露
光とは異なる波長の露光で記号や文字等となるように消
色あるいは変色させる文字等出現露光工程と、現像、水
洗、乾燥等を行う後処理工程よりなる製造方法が提案さ
れている。
１６１９９３は、基板に配線パターンを形成するパター
ン形成工程と、このパターン形成工程後に配線パターン
を含む基板上に異なる波長の露光によって消色あるいは
変色させることの出来るソルダーレジスト皮膜形成工程
と、このソルダーレジスト皮膜形成工程後に永久保護皮
膜形成露光工程と、この永久保護皮膜形成露光工程後に
永久保護皮膜形成部位に永久保護皮膜形成露光工程の露
光とは異なる波長の露光で記号や文字等となるように消
色あるいは変色させる文字等出現露光工程と、現像、水
洗、乾燥等を行う後処理工程よりなる製造方法が提案さ
れている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】特開平３−１６１９９
３に記載の方法は、消色あるいは変色させることの出来
るソルダーレジスト皮膜中に色素として、ホトクロミッ
ク化合物が開示されている。しかし、ホトクロミック化
合物は、例示されているソルダーレジスト剤としてのメ
ラミン、アルキッド型、エポキシ系１液型等の熱硬化型
や紫外線硬化型樹脂中では、色素が不安定なため異なる
波長の露光で記号や文字等となるように消色あるいは変
色させても、熱処理工程や保存中に記号や文字等が消え
る。あるいは、製造されたプリント配線基板に加工をす
る時、すなわちハンダ付け工程等で記号や文字等が消え
る等の問題が発生した。
３に記載の方法は、消色あるいは変色させることの出来
るソルダーレジスト皮膜中に色素として、ホトクロミッ
ク化合物が開示されている。しかし、ホトクロミック化
合物は、例示されているソルダーレジスト剤としてのメ
ラミン、アルキッド型、エポキシ系１液型等の熱硬化型
や紫外線硬化型樹脂中では、色素が不安定なため異なる
波長の露光で記号や文字等となるように消色あるいは変
色させても、熱処理工程や保存中に記号や文字等が消え
る。あるいは、製造されたプリント配線基板に加工をす
る時、すなわちハンダ付け工程等で記号や文字等が消え
る等の問題が発生した。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記の問題点を解決する
ために、鋭意検討の結果下記一般式（Ｉ）
ために、鋭意検討の結果下記一般式（Ｉ）
【化４】 で示される色素を含有してなるソルダーレジストインキ
が、ソルダーレジスト皮膜形成工程後に永久保護皮膜形
成露光工程と、この永久保護皮膜形成露光工程後に永久
保護皮膜形成部位に永久保護皮膜形成露光工程の露光と
は異なる波長の露光で記号や文字等となるように消色あ
るいは変色させる文字等出現露光工程、現像、水洗、乾
燥等を行う熱処理工程よりなるプリント配線基板を製造
方法に利用したとき、記号や文字等の再現性、後処理時
の熱安定性、保存安定性に優れている事を見出した。
が、ソルダーレジスト皮膜形成工程後に永久保護皮膜形
成露光工程と、この永久保護皮膜形成露光工程後に永久
保護皮膜形成部位に永久保護皮膜形成露光工程の露光と
は異なる波長の露光で記号や文字等となるように消色あ
るいは変色させる文字等出現露光工程、現像、水洗、乾
燥等を行う熱処理工程よりなるプリント配線基板を製造
方法に利用したとき、記号や文字等の再現性、後処理時
の熱安定性、保存安定性に優れている事を見出した。
【０００６】本発明に用いるソルダーレジスト剤として
は、露光、現像可能であり、かつ永久保存膜としての特
性を有するものであれば、特に限定はされないが、通
常、不飽和結合を有する樹脂、反応性希釈剤、光開始
剤、必要に応じて硬化剤、体質顔料、溶剤より構成され
る。
は、露光、現像可能であり、かつ永久保存膜としての特
性を有するものであれば、特に限定はされないが、通
常、不飽和結合を有する樹脂、反応性希釈剤、光開始
剤、必要に応じて硬化剤、体質顔料、溶剤より構成され
る。
【０００７】上記不飽和結合を有する樹脂としては、エ
ポキシアクリレート、エポキシメタアクリレート、ウレ
タンアクリレート、ウレタンメタアクリレート、ポリエ
ステルアクリレート、ポリエステルメタアクリレート、
メラミンアクリレート、メラミンメタアクリレート等が
挙げられ、現像工程がアルカリ水溶液にて行われる場合
には、側鎖にカルボキシル基を有していることが望まし
い。
ポキシアクリレート、エポキシメタアクリレート、ウレ
タンアクリレート、ウレタンメタアクリレート、ポリエ
ステルアクリレート、ポリエステルメタアクリレート、
メラミンアクリレート、メラミンメタアクリレート等が
挙げられ、現像工程がアルカリ水溶液にて行われる場合
には、側鎖にカルボキシル基を有していることが望まし
い。
【０００８】反応希釈剤としては、不飽和結合を有する
低分子量モノマーであればよい。具体的には、２‐ヒド
ロキシメチルアクリレート、２‐ヒドロキシメチルメタ
アクリレート、２‐ヒドロキシエチルアクリレート、２
‐ヒドロキシエチルメタアクリレート、２‐ヒドロキシ
プロピルアクリレート、２‐ヒドロキシプロピルメタア
クリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ト
リエチレングリコールジアクリレート、ジプロピレング
リコールジアクリレート、１，６‐ヘキサンジオールジ
アクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレー
ト、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタ
エリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトー
ルテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ
アクリレート等が挙げられる。
低分子量モノマーであればよい。具体的には、２‐ヒド
ロキシメチルアクリレート、２‐ヒドロキシメチルメタ
アクリレート、２‐ヒドロキシエチルアクリレート、２
‐ヒドロキシエチルメタアクリレート、２‐ヒドロキシ
プロピルアクリレート、２‐ヒドロキシプロピルメタア
クリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ト
リエチレングリコールジアクリレート、ジプロピレング
リコールジアクリレート、１，６‐ヘキサンジオールジ
アクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレー
ト、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタ
エリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトー
ルテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ
アクリレート等が挙げられる。
【０００９】開始剤としては、ビアセチル、アセトフェ
ノン、ベンゾフェノン、ベンゾインアルキルエーテル
類、チオキサントン類、アントラキノン類、ベンジルジ
メチルケタール、テトラメチルチウラムスルフィド、１
‐ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、α‐ヒド
ロキシイソブチルフェノン、ｐ‐イソプロピル‐α‐ヒ
ドロキシイソブチルフェノン等が挙げられる。
ノン、ベンゾフェノン、ベンゾインアルキルエーテル
類、チオキサントン類、アントラキノン類、ベンジルジ
メチルケタール、テトラメチルチウラムスルフィド、１
‐ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、α‐ヒド
ロキシイソブチルフェノン、ｐ‐イソプロピル‐α‐ヒ
ドロキシイソブチルフェノン等が挙げられる。
【００１０】永久保護膜の特性向上のため、熱架橋性を
有する硬化剤を加えても構わない。本硬化剤と加熱下に
反応する置換基は、上記樹脂に存在する残存官能基であ
っても、官能基を有しかつ不飽和結合を有しない樹脂が
加えられても良い。
有する硬化剤を加えても構わない。本硬化剤と加熱下に
反応する置換基は、上記樹脂に存在する残存官能基であ
っても、官能基を有しかつ不飽和結合を有しない樹脂が
加えられても良い。
【００１１】本発明色素式（Ｉ）中、Ｙ1 、Ｙ2 でしめ
される置換または未置換のアルコキシ基の例としては、
メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、
メトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基、エトキシエ
トキシ基、プロポキシエトキシ基、ブトキシエトキシ
基、メトキシプロポキシ基、クロロエトキシ基、トリク
ロロエトキシ基、ヘキサフロロプロポキシ基等が挙げら
れ、置換または未置換のアシルアミノ基の例としては、
アセチルアミノ基、ホルミルアミノ基、プロピオニルア
ミノ基、クロロアセチルアミノ基、ヒドロキシアセチル
アミノ基、クロロプロピオニルアミノ基、ヒドロキシプ
ロピオニルアミノ基、メトキシカルボニルアミノ基、エ
トキシカルボニルアミノ基等が挙げられ、置換または未
置換のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロ
ピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、メトキシ
メチル基、メトキシエチル基、エトキシエチル基、プロ
ポキシエチル基、ブトキシエチル基、メトキシエトキシ
エチル基、エトキシエトキシエチル基、メトキシプロピ
ル基、クロロエチル基、フロロエチル基等が挙げられ
る。Ｒ1 、Ｒ2 で示される置換または未置換のアルキル
基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ペンチル基、ヘキシル基、メトキシメチル基、メト
キシエチル基、エトキシエチル基、プロポキシエチル
基、ブトキシエチル基、メトキシエトキシエチル基、エ
トキシエトキシエチル基、メトキシプロピル基、クロロ
エチル基、フロロエチル基、ベンジル基、フェネチル
基、アリル基、クロチル基、メタリル基、３‐フェノキ
シ‐２‐ヒドロキシプロピル基、３‐エトキシ‐２‐ヒ
ドロキシプロピル基、３‐メトキシ‐２‐ヒドロキシプ
ロピル基、３‐ブトキシ‐２‐ヒドロキシプロピル基、
ヒドロキシエチル基、ヒドロキシエトキシエチル基、ア
セトキシエチル基、プロピオニルオキシエチル基、フェ
ニルアミノカルボニルオキシエチル基、メトキシカルボ
ニルオキシエチル基、エトキシカルボニルオキシエチル
基、プロポキシカルボニルオキシエチル基、メトキシカ
ルボニルエチル基、エトキシカルボニルエチル基、プロ
ポキシカルボニルエチル基、シアノエチル基等が挙げら
れる。
される置換または未置換のアルコキシ基の例としては、
メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、
メトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基、エトキシエ
トキシ基、プロポキシエトキシ基、ブトキシエトキシ
基、メトキシプロポキシ基、クロロエトキシ基、トリク
ロロエトキシ基、ヘキサフロロプロポキシ基等が挙げら
れ、置換または未置換のアシルアミノ基の例としては、
アセチルアミノ基、ホルミルアミノ基、プロピオニルア
ミノ基、クロロアセチルアミノ基、ヒドロキシアセチル
アミノ基、クロロプロピオニルアミノ基、ヒドロキシプ
ロピオニルアミノ基、メトキシカルボニルアミノ基、エ
トキシカルボニルアミノ基等が挙げられ、置換または未
置換のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロ
ピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、メトキシ
メチル基、メトキシエチル基、エトキシエチル基、プロ
ポキシエチル基、ブトキシエチル基、メトキシエトキシ
エチル基、エトキシエトキシエチル基、メトキシプロピ
ル基、クロロエチル基、フロロエチル基等が挙げられ
る。Ｒ1 、Ｒ2 で示される置換または未置換のアルキル
基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ペンチル基、ヘキシル基、メトキシメチル基、メト
キシエチル基、エトキシエチル基、プロポキシエチル
基、ブトキシエチル基、メトキシエトキシエチル基、エ
トキシエトキシエチル基、メトキシプロピル基、クロロ
エチル基、フロロエチル基、ベンジル基、フェネチル
基、アリル基、クロチル基、メタリル基、３‐フェノキ
シ‐２‐ヒドロキシプロピル基、３‐エトキシ‐２‐ヒ
ドロキシプロピル基、３‐メトキシ‐２‐ヒドロキシプ
ロピル基、３‐ブトキシ‐２‐ヒドロキシプロピル基、
ヒドロキシエチル基、ヒドロキシエトキシエチル基、ア
セトキシエチル基、プロピオニルオキシエチル基、フェ
ニルアミノカルボニルオキシエチル基、メトキシカルボ
ニルオキシエチル基、エトキシカルボニルオキシエチル
基、プロポキシカルボニルオキシエチル基、メトキシカ
ルボニルエチル基、エトキシカルボニルエチル基、プロ
ポキシカルボニルエチル基、シアノエチル基等が挙げら
れる。
【００１２】
【実施例】次に、実施例によって、この発明をさらに詳
細に説明する。しかし本発明は実施例に限定されるもの
ではない。下記で、「部」は重量部である。 実施例１ 回路パターンを形成した基板に、次に示す組成のソルダ
ーレジストをスプレー法で塗布し、ソルダーレジスト皮
膜を形成した。 ブチルセロソルブ ３０部、エポキシアクリレート ３
０部、 ２‐ヒドロキシエチルメタアクリレート １５部、 ペンタエリスリトールテトラアクリレート ２０部、 下記（Ａ）（化５）で示される色素 ５部 ３５０nmの光を照射し、保護皮膜を形成し、続いて２４
８nmの光を照射し、文字等の出現露光をした。現像、水
洗、乾燥をして、プリント基板を得た。
細に説明する。しかし本発明は実施例に限定されるもの
ではない。下記で、「部」は重量部である。 実施例１ 回路パターンを形成した基板に、次に示す組成のソルダ
ーレジストをスプレー法で塗布し、ソルダーレジスト皮
膜を形成した。 ブチルセロソルブ ３０部、エポキシアクリレート ３
０部、 ２‐ヒドロキシエチルメタアクリレート １５部、 ペンタエリスリトールテトラアクリレート ２０部、 下記（Ａ）（化５）で示される色素 ５部 ３５０nmの光を照射し、保護皮膜を形成し、続いて２４
８nmの光を照射し、文字等の出現露光をした。現像、水
洗、乾燥をして、プリント基板を得た。
【化５】 以上の様にして得られたプリント基板は、文字・記号が
鮮明であり、はんだ加工時にも安定であり、かつ文字・
記号が長期保存をしても安定であった。
鮮明であり、はんだ加工時にも安定であり、かつ文字・
記号が長期保存をしても安定であった。
【００１３】実施例２ 回路パターンを形成した基板に、次に示す組成のソルダ
ーレジストをスプレー法で塗布し、ソルダーレジスト皮
膜を形成した。 ブチルセロソルブ ３０部、エポキシアクリレート ２
５部、 ２‐ヒドロキシエチルメタアクリレート ２０部、 ペンタエリスリトールテトラアクリレート ２０部、 下記（Ｂ）（化６）で示される色素 ５部 ３５０nmの光を照射し、保護皮膜を形成し、続いて２４
８nmの光を照射し、文字等の出現露光をした。現像、水
洗、乾燥をして、プリント基板を得た。
ーレジストをスプレー法で塗布し、ソルダーレジスト皮
膜を形成した。 ブチルセロソルブ ３０部、エポキシアクリレート ２
５部、 ２‐ヒドロキシエチルメタアクリレート ２０部、 ペンタエリスリトールテトラアクリレート ２０部、 下記（Ｂ）（化６）で示される色素 ５部 ３５０nmの光を照射し、保護皮膜を形成し、続いて２４
８nmの光を照射し、文字等の出現露光をした。現像、水
洗、乾燥をして、プリント基板を得た。
【化６】
【００１４】
【発明の効果】本発明の色素を含有してなるソルダーレ
ジストインキが、ソルダーレジスト皮膜形成工程後に永
久保護皮膜形成露光工程と、この永久保護皮膜形成露光
工程後に永久保護皮膜形成部位に永久保護皮膜形成露光
工程の露光とは異なる波長の露光で記号や文字等となる
ように消色あるいは変色させる文字等出現露光工程、現
像、水洗、乾燥等を行う後処理工程よりなるプリント配
線基板を製造方法に利用したとき、記号や文字等の再現
性、後処理時の熱安定性、保存安定性に優れている事を
見出した。
ジストインキが、ソルダーレジスト皮膜形成工程後に永
久保護皮膜形成露光工程と、この永久保護皮膜形成露光
工程後に永久保護皮膜形成部位に永久保護皮膜形成露光
工程の露光とは異なる波長の露光で記号や文字等となる
ように消色あるいは変色させる文字等出現露光工程、現
像、水洗、乾燥等を行う後処理工程よりなるプリント配
線基板を製造方法に利用したとき、記号や文字等の再現
性、後処理時の熱安定性、保存安定性に優れている事を
見出した。
Claims (3)
- 【請求項１】 あらかじめ選定された波長の露光によっ
て硬化するソルダーレジスト剤と、このソルダーレジス
ト剤に混合された該ソルダーレジスト剤を硬化させる波
長の露光とは異なる波長の露光により消色あるいは変色
する下記一般式（Ｉ） 【化１】 で示される色素。 - 【請求項２】 あらかじめ選定された波長の露光によっ
て硬化するソルダーレジスト剤と、このソルダーレジス
ト剤に混合された該ソルダーレジスト剤を硬化させる波
長の露光とは異なる波長の露光により消色あるいは変色
する下記一般式（Ｉ） 【化２】 で示される色素を含有してなるソルダーレジスト。 - 【請求項３】 あらかじめ選定された波長の露光によっ
て硬化するソルダーレジスト剤と、このソルダーレジス
ト剤に混合された該ソルダーレジスト剤を硬化させる波
長の露光とは異なる波長の露光により消色あるいは変色
する下記一般式（Ｉ） 【化３】 で示される色素を含有してなるソルダーレジストイン
キ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9143692A JPH05262996A (ja) | 1992-03-18 | 1992-03-18 | ソルダーレジスト用色素及びソルダーレジストインキ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9143692A JPH05262996A (ja) | 1992-03-18 | 1992-03-18 | ソルダーレジスト用色素及びソルダーレジストインキ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05262996A true JPH05262996A (ja) | 1993-10-12 |
Family
ID=14026322
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9143692A Pending JPH05262996A (ja) | 1992-03-18 | 1992-03-18 | ソルダーレジスト用色素及びソルダーレジストインキ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05262996A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1989011882A1 (en) * | 1988-06-06 | 1989-12-14 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Balloon for catheter |
| WO1998016590A1 (en) * | 1996-10-16 | 1998-04-23 | Willett International Limited | Radiation curable ink composition and its use |
-
1992
- 1992-03-18 JP JP9143692A patent/JPH05262996A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1989011882A1 (en) * | 1988-06-06 | 1989-12-14 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Balloon for catheter |
| WO1998016590A1 (en) * | 1996-10-16 | 1998-04-23 | Willett International Limited | Radiation curable ink composition and its use |
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