JPH05255347A - スルホニウム錯体またはオキソスルホニウム錯体 - Google Patents
スルホニウム錯体またはオキソスルホニウム錯体Info
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- JPH05255347A JPH05255347A JP4089535A JP8953592A JPH05255347A JP H05255347 A JPH05255347 A JP H05255347A JP 4089535 A JP4089535 A JP 4089535A JP 8953592 A JP8953592 A JP 8953592A JP H05255347 A JPH05255347 A JP H05255347A
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 光および／または熱エネルギーの付与により
活性なラジカルを発生するスルホニウム錯体またはオキ
ソスルホニウム錯体に関する。 【構成】 一般式（１）で表される錯体。 （ただしＲ１およびＲ２はアリール基を、Ｒ３はフェナ
シル基、ベンジル基もしくはアリル基を、Ｒ４は酸素原
子もしくは孤立電子対を、Ｒ５〜Ｒ８はアルキル基、ア
リール基、アルケニル基、アルキニル基、脂環基より選
ばれる基を示し、Ｒ５〜Ｒ８全てが同時にアリール基と
なることはない。） 【効果】 一般式（１）の錯体は、スルホニウムカチオ
ンまたはオキソスルホニウムカチオン上の置換基とし
て、フェナシル基、ベンジル基もしくはアリル基を導入
することによって、光および／または熱エネルギーの付
与により、効率よくフリーラジカルを発生する。
活性なラジカルを発生するスルホニウム錯体またはオキ
ソスルホニウム錯体に関する。 【構成】 一般式（１）で表される錯体。 （ただしＲ１およびＲ２はアリール基を、Ｒ３はフェナ
シル基、ベンジル基もしくはアリル基を、Ｒ４は酸素原
子もしくは孤立電子対を、Ｒ５〜Ｒ８はアルキル基、ア
リール基、アルケニル基、アルキニル基、脂環基より選
ばれる基を示し、Ｒ５〜Ｒ８全てが同時にアリール基と
なることはない。） 【効果】 一般式（１）の錯体は、スルホニウムカチオ
ンまたはオキソスルホニウムカチオン上の置換基とし
て、フェナシル基、ベンジル基もしくはアリル基を導入
することによって、光および／または熱エネルギーの付
与により、効率よくフリーラジカルを発生する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光および／または熱エ
ネルギーの付与により活性なラジカルを効率よく発生す
る新規なスルホニウム錯体またはオキソスルホニウム錯
体に関する。さらに詳しくは、重合性物質の重合開始剤
として著しく良好な効果を有し、水銀灯やレーザ等の各
種光源による光エネルギーおよび／または加熱やサーマ
ルヘッド等による熱エネルギーの付与により、高感度を
必要とする各種刷版材料、ホログラム材料やマイクロカ
プセルを利用した各種記録媒体やインキ、接着剤、粘着
剤、粘接着剤、封止剤等の良好な物性をもった重合物や
硬化物の形成に有用なスルホニウム錯体またはオキソス
ルホニウム錯体に関する。
ネルギーの付与により活性なラジカルを効率よく発生す
る新規なスルホニウム錯体またはオキソスルホニウム錯
体に関する。さらに詳しくは、重合性物質の重合開始剤
として著しく良好な効果を有し、水銀灯やレーザ等の各
種光源による光エネルギーおよび／または加熱やサーマ
ルヘッド等による熱エネルギーの付与により、高感度を
必要とする各種刷版材料、ホログラム材料やマイクロカ
プセルを利用した各種記録媒体やインキ、接着剤、粘着
剤、粘接着剤、封止剤等の良好な物性をもった重合物や
硬化物の形成に有用なスルホニウム錯体またはオキソス
ルホニウム錯体に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、さまざまなスルホニウム錯体およ
びオキソスルホニウム錯体の合成が多数報告されてお
り、これについては日本化学会編、新実験化学講座、第
１４巻、１８３８頁（１９７８年、丸善）や大饗茂編、
有機硫黄化学（合成反応編）、２３７頁（１９８２年、
化学同人）、B.M.Trost およびL.S.Melvin,Jr 著、「Su
lfer Ylides 」、６頁、（１９７５年、Academic PRES
S）等にまとめられている。特にジアリールスルホニウ
ム錯体については、日本化学会誌、第８７巻、第５号、
４５６頁（１９６６年）にはジアリールスルホニウム錯
体が、日本化学会誌、第８７巻、第１０号、１９６９頁
（１９６６年）にはジフェニルスルホニウム錯体が、ジ
ャーナル・オブ・ケミカル・ソサエティー（J.Chem.So
c. ）、（Ｃ）、６８２頁（１９７０年）にはジアリー
ル（アリールオキシ）スルホニウム錯体が報告されてい
る。さらに、ヨーロッパ特許、第３５９６９号にいくつ
かの（ジアリール）オキソスルホニウム錯体が開示され
ている。
びオキソスルホニウム錯体の合成が多数報告されてお
り、これについては日本化学会編、新実験化学講座、第
１４巻、１８３８頁（１９７８年、丸善）や大饗茂編、
有機硫黄化学（合成反応編）、２３７頁（１９８２年、
化学同人）、B.M.Trost およびL.S.Melvin,Jr 著、「Su
lfer Ylides 」、６頁、（１９７５年、Academic PRES
S）等にまとめられている。特にジアリールスルホニウ
ム錯体については、日本化学会誌、第８７巻、第５号、
４５６頁（１９６６年）にはジアリールスルホニウム錯
体が、日本化学会誌、第８７巻、第１０号、１９６９頁
（１９６６年）にはジフェニルスルホニウム錯体が、ジ
ャーナル・オブ・ケミカル・ソサエティー（J.Chem.So
c. ）、（Ｃ）、６８２頁（１９７０年）にはジアリー
ル（アリールオキシ）スルホニウム錯体が報告されてい
る。さらに、ヨーロッパ特許、第３５９６９号にいくつ
かの（ジアリール）オキソスルホニウム錯体が開示され
ている。
【０００３】しかしながら、これらの文献や特許に報告
されているジアリールスルホニウム錯体およびジアリー
ルオキソスルホニウム錯体はいずれも、そのアニオン部
はハロゲン原子、ＮＯ3 、ＢＦ4 、ＰＦ6 、ＳｂＦ6 、
ＳｂＣｌ6 、ＡｓＦ6 、ＣｌＯ4 、ＨｇＩ3 等の無機系
アニオンもしくはトリフルオロメチル硫酸、ｐ−トルエ
ンスルホネート、ベンゾエート等のスルホン酸もしくは
カルボン酸等の有機酸のアニオンであり、アニオン部が
有機ホウ素アニオンからなるジアリールスルホニウム錯
体またはジアリールオキソスルホニウム錯体としては、
特開平２−１７７７６０号公報のジアリールおよびトリ
アリールスルホニウムボレート錯体が知られているのみ
であり、下記一般式（１）のようなスルホニウム錯体な
らびにオキソスルホニウム錯体はいずれも知られていな
い。
されているジアリールスルホニウム錯体およびジアリー
ルオキソスルホニウム錯体はいずれも、そのアニオン部
はハロゲン原子、ＮＯ3 、ＢＦ4 、ＰＦ6 、ＳｂＦ6 、
ＳｂＣｌ6 、ＡｓＦ6 、ＣｌＯ4 、ＨｇＩ3 等の無機系
アニオンもしくはトリフルオロメチル硫酸、ｐ−トルエ
ンスルホネート、ベンゾエート等のスルホン酸もしくは
カルボン酸等の有機酸のアニオンであり、アニオン部が
有機ホウ素アニオンからなるジアリールスルホニウム錯
体またはジアリールオキソスルホニウム錯体としては、
特開平２−１７７７６０号公報のジアリールおよびトリ
アリールスルホニウムボレート錯体が知られているのみ
であり、下記一般式（１）のようなスルホニウム錯体な
らびにオキソスルホニウム錯体はいずれも知られていな
い。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、光お
よび／または熱エネルギーの付与により効率よく活性な
ラジカルを発生するスルホニウム錯体およびオキソスル
ホニウム錯体を提案することにある。さらに詳しくは、
重合性物質の重合開始剤として著しく良好な効果を有
し、水銀灯やレーザ等の各種光源による光エネルギーお
よび／または加熱やサーマルヘッド等による熱エネルギ
ーの付与により、高感度を必要とする各種刷版材料、ホ
ログラム材料やマイクロカプセルを利用した各種記録媒
体や印刷インキ、接着剤、粘着剤、粘接着剤、封止剤等
の良好な物性をもった重合物や硬化物の形成に有用なス
ルホニウム錯体またはオキソスルホニウム錯体を提供す
ることにある。
よび／または熱エネルギーの付与により効率よく活性な
ラジカルを発生するスルホニウム錯体およびオキソスル
ホニウム錯体を提案することにある。さらに詳しくは、
重合性物質の重合開始剤として著しく良好な効果を有
し、水銀灯やレーザ等の各種光源による光エネルギーお
よび／または加熱やサーマルヘッド等による熱エネルギ
ーの付与により、高感度を必要とする各種刷版材料、ホ
ログラム材料やマイクロカプセルを利用した各種記録媒
体や印刷インキ、接着剤、粘着剤、粘接着剤、封止剤等
の良好な物性をもった重合物や硬化物の形成に有用なス
ルホニウム錯体またはオキソスルホニウム錯体を提供す
ることにある。
【０００５】アニオン部が有機ホウ素アニオンからなる
ジアリールスルホニウム錯体は、特開平２−１７７７６
０号公報のジアリールおよびトリアリールスルホニウム
ボレート錯体が知られているが、これらはいずれもその
還元電位が低いため効率よくラジカルを発生せず感度的
に不十分であること等が問題点としてあげられる。そこ
で、これらの諸問題を解決できる重合開始剤の開発が望
まれていた。
ジアリールスルホニウム錯体は、特開平２−１７７７６
０号公報のジアリールおよびトリアリールスルホニウム
ボレート錯体が知られているが、これらはいずれもその
還元電位が低いため効率よくラジカルを発生せず感度的
に不十分であること等が問題点としてあげられる。そこ
で、これらの諸問題を解決できる重合開始剤の開発が望
まれていた。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、以上の諸
問題点を考慮し解決すべく鋭意研究を重ねた結果、本発
明に至った。即ち、本発明は、光および／または熱エネ
ルギーの付与により活性なラジカルを発生することを特
徴とする一般式（１）で表されるスルホニウム錯体また
はオキソスルホニウム錯体である。 一般式（１） （ただしＲ1 およびＲ2 は置換基を有してもよいアリー
ル基を、Ｒ3 は置換基を有してもよいフェナシル基、置
換基を有してもよいベンジル基もしくは置換基を有して
もよいアリル基を、Ｒ4 は酸素原子もしくは孤立電子対
を、Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ7 およびＲ8 はそれぞれ独立に、置
換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよい
アリール基、置換基を有してもよいアルケニル基、置換
基を有してもよいアルキニル基、置換基を有してもよい
脂環基より選ばれる基を示し、Ｒ5、Ｒ6 、Ｒ7 および
Ｒ8 全てが同時に置換基を有してもよいアリール基とな
ることはない。）
問題点を考慮し解決すべく鋭意研究を重ねた結果、本発
明に至った。即ち、本発明は、光および／または熱エネ
ルギーの付与により活性なラジカルを発生することを特
徴とする一般式（１）で表されるスルホニウム錯体また
はオキソスルホニウム錯体である。 一般式（１） （ただしＲ1 およびＲ2 は置換基を有してもよいアリー
ル基を、Ｒ3 は置換基を有してもよいフェナシル基、置
換基を有してもよいベンジル基もしくは置換基を有して
もよいアリル基を、Ｒ4 は酸素原子もしくは孤立電子対
を、Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ7 およびＲ8 はそれぞれ独立に、置
換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよい
アリール基、置換基を有してもよいアルケニル基、置換
基を有してもよいアルキニル基、置換基を有してもよい
脂環基より選ばれる基を示し、Ｒ5、Ｒ6 、Ｒ7 および
Ｒ8 全てが同時に置換基を有してもよいアリール基とな
ることはない。）
【０００７】一般式（１）のＲ1 およびＲ2 は置換基を
有してもよいアリール基であり、例えば、フェニル基、
ｐ−トリル基、キシリル基、クメニル基、ナフチル基、
アンスリル基、フェナントリル基等が挙げられ、これら
の基の水素原子はさらに他の置換基で置換されていても
良く、そのような置換基としては、例えば、フッ素原
子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン基、
メトキシ基、エトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等のア
ルコキシ基、フェノキシ基、ｐ−トリルオキシ基等のア
リールオキシ基、メトキシカルボニル基、ブトキシカル
ボニル基、アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基等のエス
テル基、アセチル基、イソブチリル基、アクリロイル
基、メタクリロイル基、メトキサリル基、フェナシル基
等のアシル基、メチルチオ基、ｔｅｒｔ−ブチルチオ基
等のアルキルチオ基、フェニルチオ基、ｐ−トリルチオ
基等のアリールチオ基、メチルアミノ基、シクロヘキシ
ルアミノ基等のアルキルアミノ基、ジメチルアミノ基、
ジエチルアミノ基、モルホリノ基、ピペリジノ基等のジ
アルキルアミノ基、フェニルアミノ基、ｐ−トリルアミ
ノ基等のアリールアミノ基、メチル基、エチル基、ｔｅ
ｒｔ−ブチル基、ドデシル基等のアルキル基、フェニル
基、ｐ−トリル基、キシリル基、クメニル基、ナフチル
基、アンスリル基、フェナントリル基等のアリール基等
の他、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ホルミル基、メル
カプト基、スルホ基、メシル基、ｐ−トルエンスルホニ
ル基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、トリフルオロメ
チル基、トリクロロメチル基、トリメチルシリル基、ホ
スフィニコ基、ホスホノ基、トリメチルアンモニウミル
基、ジメチルスルホニウミル基、トリフェニルフェナシ
ルホスホニウミル基等が挙げられる。
有してもよいアリール基であり、例えば、フェニル基、
ｐ−トリル基、キシリル基、クメニル基、ナフチル基、
アンスリル基、フェナントリル基等が挙げられ、これら
の基の水素原子はさらに他の置換基で置換されていても
良く、そのような置換基としては、例えば、フッ素原
子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン基、
メトキシ基、エトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等のア
ルコキシ基、フェノキシ基、ｐ−トリルオキシ基等のア
リールオキシ基、メトキシカルボニル基、ブトキシカル
ボニル基、アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基等のエス
テル基、アセチル基、イソブチリル基、アクリロイル
基、メタクリロイル基、メトキサリル基、フェナシル基
等のアシル基、メチルチオ基、ｔｅｒｔ−ブチルチオ基
等のアルキルチオ基、フェニルチオ基、ｐ−トリルチオ
基等のアリールチオ基、メチルアミノ基、シクロヘキシ
ルアミノ基等のアルキルアミノ基、ジメチルアミノ基、
ジエチルアミノ基、モルホリノ基、ピペリジノ基等のジ
アルキルアミノ基、フェニルアミノ基、ｐ−トリルアミ
ノ基等のアリールアミノ基、メチル基、エチル基、ｔｅ
ｒｔ−ブチル基、ドデシル基等のアルキル基、フェニル
基、ｐ−トリル基、キシリル基、クメニル基、ナフチル
基、アンスリル基、フェナントリル基等のアリール基等
の他、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ホルミル基、メル
カプト基、スルホ基、メシル基、ｐ−トルエンスルホニ
ル基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、トリフルオロメ
チル基、トリクロロメチル基、トリメチルシリル基、ホ
スフィニコ基、ホスホノ基、トリメチルアンモニウミル
基、ジメチルスルホニウミル基、トリフェニルフェナシ
ルホスホニウミル基等が挙げられる。
【０００８】また一般式（１）のＲ3 は、置換基を有し
てもよいフェナシル基、置換基を有してもよいベンジル
基もしくは置換基を有してもよいアリル基のいずれかで
あり、このような置換基を有してもよいフェナシル基と
しては、例えば、フェナシル基、ｐ−クロロフェナシル
基、ｐ−ブロモフェナシル基、ｐ−シアノフェナシル
基、ｐ−ニトロフェナシル基、ｍ−メトキシフェナシル
基等が、また置換基を有してもよいベンジル基として
は、例えば、ベンジル基、ｐ−クロロベンジル基、ｐ−
ブロモベンジル基、ｐ−シアノベンジル基、ｍ−ニトロ
ベンジル基、ｐ−ニトロベンジル基、アニシル基等が、
また置換基を有してもよいアリル基としては、例えば、
アリル基、シンナミル基、２−ブテニル基、３，３−ジ
シアノ−２−フェニル−２−プロペニル基、３，３−ビ
ス（メトキシカルボニル）−２−フェニル−２−プロペ
ニル基等が挙げられ、これらの基の水素原子はさらに他
の置換基で置換されていても良く、そのような置換基と
しては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨ
ウ素原子等のハロゲン基、メトキシ基、ｔｅｒｔ−ブト
キシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基、ｐ−トリルオ
キシ基等のアリールオキシ基、ブトキシカルボニル基、
アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基等のエステル基、ア
セチル基、アクリロイル基、メトキサリル基等のアシル
基、メチルチオ基、ｔｅｒｔ−ブチルチオ基等のアルキ
ルチオ基、フェニルチオ基、ｐ−トリルチオ基等のアリ
ールチオ基、メチルアミノ基、シクロヘキシルアミノ基
等のアルキルアミノ基、ジエチルアミノ基、モルホリノ
基等のジアルキルアミノ基、フェニルアミノ基、ｐ−ト
リルアミノ基等のアリールアミノ基、メチル基、ｔｅｒ
ｔ−ブチル基、ドデシル基等のアルキル基、フェニル
基、ｐ−トリル基等のアリール基等の他、ヒドロキシ
基、カルボキシ基、メルカプト基、スルホ基、メシル
基、ｐ−トルエンスルホニル基、ニトロ基、シアノ基、
トリフルオロメチル基、トリクロロメチル基、トリメチ
ルシリル基、ホスフィニコ基、ホスホノ基、トリメチル
アンモニウミル基、ジメチルスルホニウミル基、トリフ
ェニルフェナシルホスホニウミル基等が挙げられる。
てもよいフェナシル基、置換基を有してもよいベンジル
基もしくは置換基を有してもよいアリル基のいずれかで
あり、このような置換基を有してもよいフェナシル基と
しては、例えば、フェナシル基、ｐ−クロロフェナシル
基、ｐ−ブロモフェナシル基、ｐ−シアノフェナシル
基、ｐ−ニトロフェナシル基、ｍ−メトキシフェナシル
基等が、また置換基を有してもよいベンジル基として
は、例えば、ベンジル基、ｐ−クロロベンジル基、ｐ−
ブロモベンジル基、ｐ−シアノベンジル基、ｍ−ニトロ
ベンジル基、ｐ−ニトロベンジル基、アニシル基等が、
また置換基を有してもよいアリル基としては、例えば、
アリル基、シンナミル基、２−ブテニル基、３，３−ジ
シアノ−２−フェニル−２−プロペニル基、３，３−ビ
ス（メトキシカルボニル）−２−フェニル−２−プロペ
ニル基等が挙げられ、これらの基の水素原子はさらに他
の置換基で置換されていても良く、そのような置換基と
しては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨ
ウ素原子等のハロゲン基、メトキシ基、ｔｅｒｔ−ブト
キシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基、ｐ−トリルオ
キシ基等のアリールオキシ基、ブトキシカルボニル基、
アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基等のエステル基、ア
セチル基、アクリロイル基、メトキサリル基等のアシル
基、メチルチオ基、ｔｅｒｔ−ブチルチオ基等のアルキ
ルチオ基、フェニルチオ基、ｐ−トリルチオ基等のアリ
ールチオ基、メチルアミノ基、シクロヘキシルアミノ基
等のアルキルアミノ基、ジエチルアミノ基、モルホリノ
基等のジアルキルアミノ基、フェニルアミノ基、ｐ−ト
リルアミノ基等のアリールアミノ基、メチル基、ｔｅｒ
ｔ−ブチル基、ドデシル基等のアルキル基、フェニル
基、ｐ−トリル基等のアリール基等の他、ヒドロキシ
基、カルボキシ基、メルカプト基、スルホ基、メシル
基、ｐ−トルエンスルホニル基、ニトロ基、シアノ基、
トリフルオロメチル基、トリクロロメチル基、トリメチ
ルシリル基、ホスフィニコ基、ホスホノ基、トリメチル
アンモニウミル基、ジメチルスルホニウミル基、トリフ
ェニルフェナシルホスホニウミル基等が挙げられる。
【０００９】また、一般式（１）のＲ5 、Ｒ6 、Ｒ7 お
よびＲ8 の置換基を有してもよいアルキル基、置換基を
有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルケ
ニル基、置換基を有してもよいアルキニル基、置換基を
有してもよい脂環基より選ばれる基を示し、このような
置換基を有してもよいアルキル基としては、メチル基、
エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イ
ソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、
ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデ
シル基、オクタデシル基等が、置換基を有してもよいア
リール基としては、フェニル基、ｐ−トリル基、キシリ
ル基、メシチル基、クメニル基等が、置換基を有しても
よいアルケニル基としては、ビニル基、１−プロペニル
基、イソプロペニル基、１−ブテニル基等が、置換基を
有してもよいアルキニル基としては、エチニル基、１−
ヘキシニル基、１−プロピニル基等が、置換基を有して
もよい脂環基としては、シクロヘキシル基、シクロペン
チル基、シクロヘキセニル基、ノルボルニル基、ボルニ
ル基、メンチル基、ピナニル基、アダマンチル基等が挙
げられ、これらの基の水素原子はさらに他の置換基で置
換されていても良く、そのような置換基としては、例え
ば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等の
ハロゲン基、メトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等のア
ルコキシ基、フェノキシ基、メチル基、ｔｅｒｔ−ブチ
ル基、ドデシル基等のアルキル基、フェニル基、ｐ−ト
リル基等のアリール基等の他、メシル基、ｐ−トルエン
スルホニル基、トリフルオロメチル基等が挙げられる。
よびＲ8 の置換基を有してもよいアルキル基、置換基を
有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルケ
ニル基、置換基を有してもよいアルキニル基、置換基を
有してもよい脂環基より選ばれる基を示し、このような
置換基を有してもよいアルキル基としては、メチル基、
エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イ
ソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、
ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデ
シル基、オクタデシル基等が、置換基を有してもよいア
リール基としては、フェニル基、ｐ−トリル基、キシリ
ル基、メシチル基、クメニル基等が、置換基を有しても
よいアルケニル基としては、ビニル基、１−プロペニル
基、イソプロペニル基、１−ブテニル基等が、置換基を
有してもよいアルキニル基としては、エチニル基、１−
ヘキシニル基、１−プロピニル基等が、置換基を有して
もよい脂環基としては、シクロヘキシル基、シクロペン
チル基、シクロヘキセニル基、ノルボルニル基、ボルニ
ル基、メンチル基、ピナニル基、アダマンチル基等が挙
げられ、これらの基の水素原子はさらに他の置換基で置
換されていても良く、そのような置換基としては、例え
ば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等の
ハロゲン基、メトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等のア
ルコキシ基、フェノキシ基、メチル基、ｔｅｒｔ−ブチ
ル基、ドデシル基等のアルキル基、フェニル基、ｐ−ト
リル基等のアリール基等の他、メシル基、ｐ−トルエン
スルホニル基、トリフルオロメチル基等が挙げられる。
【００１０】また、一般式（１）におけるボレートアニ
オン上の置換基Ｒ5 が置換基を有してもよいアルキル基
であり、Ｒ6 、Ｒ7 およびＲ8 が置換基を有してもよい
アリール基である構造であると、ボレートアニオン上の
置換基Ｒ5 、すなわち置換基を有してもよいアルキル基
が優先的かつ効率的に開裂してラジカルを発生すると考
えられ、重合開始剤として用いる場合、著しい感度の向
上が認められる。
オン上の置換基Ｒ5 が置換基を有してもよいアルキル基
であり、Ｒ6 、Ｒ7 およびＲ8 が置換基を有してもよい
アリール基である構造であると、ボレートアニオン上の
置換基Ｒ5 、すなわち置換基を有してもよいアルキル基
が優先的かつ効率的に開裂してラジカルを発生すると考
えられ、重合開始剤として用いる場合、著しい感度の向
上が認められる。
【００１１】一方、Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ7 およびＲ8 全てが
同時に置換基を有してもよいアリール基となると、ボレ
ートアニオンが効率的に開裂せず、重合開始剤として用
いる場合、このような構造は好ましくない。
同時に置換基を有してもよいアリール基となると、ボレ
ートアニオンが効率的に開裂せず、重合開始剤として用
いる場合、このような構造は好ましくない。
【００１２】したがって本発明に該当するスルホニウム
錯体およびオキソスルホニウム錯体の具体例としては、
カチオン部がジフェニルフェナシルスルホニウム、ビス
（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）フェナシルスルホニ
ウム、ビス（ｐ−クロロフェニル）フェナシルスルホニ
ウム、ジフェニル（ｐ−クロロフェナシル）スルホニウ
ム、ジフェニル（ｐ−ニトロフェナシル）スルホニウ
ム、ジフェニル（ｍ−メトキシフェナシル）スルホニウ
ム、ジフェニル（ｐ−シアノフェナシル）スルホニウ
ム、ジフェニル［（１−ナフチル）カルボニルメチル］
スルホニウム、ジフェニルベンジルスルホニウム、ビス
（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンジルスルホニウ
ム、ビス（ｐ−クロロフェニル）ベンジルスルホニウ
ム、ジフェニル（ｐ−クロロベンジル）スルホニウム、
ジフェニル（ｐ−ニトロベンジル）スルホニウム、ジフ
ェニル（ｐ−シアノベンジル）スルホニウム、ジフェニ
ル［（１−ナフチル）メチル］スルホニウム、ジフェニ
ルアリルスルホニウム、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフ
ェニル）アリルスルホニウム、ビス（ｐ−クロロフェニ
ル）アリルスルホニウム、ジフェニル（３，３−ジシア
ノ−２−フェニル−２−プロペニル）スルホニウム、ジ
フェニル［３，３−ビス（メトキシカルボニル）−２−
フェニル−２−プロペニル］スルホニウム、ジフェニル
（３，３−ジシアノ−２−メチル−２−プロペニル）ス
ルホニウム、ジフェニルフェナシルオキソスルホニウ
ム、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）フェナシル
オキソスルホニウム、ジフェニル（ｐ−クロロフェナシ
ル）オキソスルホニウム、ジフェニル（ｐ−シアノフェ
ナシル）オキソスルホニウム、ジフェニル［（１−ナフ
チル）カルボニルメチル］オキソスルホニウム、ジフェ
ニルベンジルオキソスルホニウム、ビス（ｐ−クロロフ
ェニル）ベンジルオキソスルホニウム、ジフェニル（ｐ
−シアノベンジル）オキソスルホニウム、ジフェニルア
リルオキソスルホニウム、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチル
フェニル）アリルオキソスルホニウム、ジフェニル
（３，３−ジシアノ−２−フェニル−２−プロペニル）
オキソスルホニウム、ジフェニル［３，３−ビス（メト
キシカルボニル）−２−フェニル−２−プロペニル］オ
キソスルホニウム等の各スルホニウムカチオンまたはオ
キソスルホニウムカチオンと、アニオン部がｔｅｒｔ−
ブチルトリエチルボレート、フェニルトリエチルボレー
ト、トリブチルベンジルボレート、ジエチルジブチルボ
レート、ジブチルジフェニルボレート、メチルトリフェ
ニルボレート、エチルトリフェニルボレート、プロピル
トリフェニルボレート、イソプロピルトリフェニルボレ
ート、ブチルトリフェニルボレート、ｓｅｃ−ブチルト
リフェニルボレート、ｔｅｒｔ−ブチルトリフェニルボ
レート、ドデシルトリフェニルボレート、ベンジルトリ
フェニルボレート、ビニルトリフェニルボレート、エチ
ニルトリフェニルボレート、ブチルトリメシチルボレー
ト、ブチルトリス（ｐ−メトキシフェニル）ボレート、
ブチルトリス（ｐ−フルオロフェニル）ボレート、ブチ
ルトリス（ｐ−ブロモフェニル）ボレート、ｓｅｃ−ブ
チルトリス（ｐ−メトキシフェニル）ボレート、ｓｅｃ
−ブチルトリス（ｐ−フルオロフェニル）ボレート、ｔ
ｅｒｔ−ブチルトリス（ｐ−ブロモフェニル）ボレー
ト、ブチルトリス［３，５−ビス（トリフルオロメチ
ル）フェニル］ボレート等の各ボレートアニオンとの組
み合わせより構成されるスルホニウム錯体およびオキソ
スルホニウム錯体が挙げられるが、本発明はこれらの例
に限定されるわけではない。
錯体およびオキソスルホニウム錯体の具体例としては、
カチオン部がジフェニルフェナシルスルホニウム、ビス
（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）フェナシルスルホニ
ウム、ビス（ｐ−クロロフェニル）フェナシルスルホニ
ウム、ジフェニル（ｐ−クロロフェナシル）スルホニウ
ム、ジフェニル（ｐ−ニトロフェナシル）スルホニウ
ム、ジフェニル（ｍ−メトキシフェナシル）スルホニウ
ム、ジフェニル（ｐ−シアノフェナシル）スルホニウ
ム、ジフェニル［（１−ナフチル）カルボニルメチル］
スルホニウム、ジフェニルベンジルスルホニウム、ビス
（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンジルスルホニウ
ム、ビス（ｐ−クロロフェニル）ベンジルスルホニウ
ム、ジフェニル（ｐ−クロロベンジル）スルホニウム、
ジフェニル（ｐ−ニトロベンジル）スルホニウム、ジフ
ェニル（ｐ−シアノベンジル）スルホニウム、ジフェニ
ル［（１−ナフチル）メチル］スルホニウム、ジフェニ
ルアリルスルホニウム、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフ
ェニル）アリルスルホニウム、ビス（ｐ−クロロフェニ
ル）アリルスルホニウム、ジフェニル（３，３−ジシア
ノ−２−フェニル−２−プロペニル）スルホニウム、ジ
フェニル［３，３−ビス（メトキシカルボニル）−２−
フェニル−２−プロペニル］スルホニウム、ジフェニル
（３，３−ジシアノ−２−メチル−２−プロペニル）ス
ルホニウム、ジフェニルフェナシルオキソスルホニウ
ム、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）フェナシル
オキソスルホニウム、ジフェニル（ｐ−クロロフェナシ
ル）オキソスルホニウム、ジフェニル（ｐ−シアノフェ
ナシル）オキソスルホニウム、ジフェニル［（１−ナフ
チル）カルボニルメチル］オキソスルホニウム、ジフェ
ニルベンジルオキソスルホニウム、ビス（ｐ−クロロフ
ェニル）ベンジルオキソスルホニウム、ジフェニル（ｐ
−シアノベンジル）オキソスルホニウム、ジフェニルア
リルオキソスルホニウム、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチル
フェニル）アリルオキソスルホニウム、ジフェニル
（３，３−ジシアノ−２−フェニル−２−プロペニル）
オキソスルホニウム、ジフェニル［３，３−ビス（メト
キシカルボニル）−２−フェニル−２−プロペニル］オ
キソスルホニウム等の各スルホニウムカチオンまたはオ
キソスルホニウムカチオンと、アニオン部がｔｅｒｔ−
ブチルトリエチルボレート、フェニルトリエチルボレー
ト、トリブチルベンジルボレート、ジエチルジブチルボ
レート、ジブチルジフェニルボレート、メチルトリフェ
ニルボレート、エチルトリフェニルボレート、プロピル
トリフェニルボレート、イソプロピルトリフェニルボレ
ート、ブチルトリフェニルボレート、ｓｅｃ−ブチルト
リフェニルボレート、ｔｅｒｔ−ブチルトリフェニルボ
レート、ドデシルトリフェニルボレート、ベンジルトリ
フェニルボレート、ビニルトリフェニルボレート、エチ
ニルトリフェニルボレート、ブチルトリメシチルボレー
ト、ブチルトリス（ｐ−メトキシフェニル）ボレート、
ブチルトリス（ｐ−フルオロフェニル）ボレート、ブチ
ルトリス（ｐ−ブロモフェニル）ボレート、ｓｅｃ−ブ
チルトリス（ｐ−メトキシフェニル）ボレート、ｓｅｃ
−ブチルトリス（ｐ−フルオロフェニル）ボレート、ｔ
ｅｒｔ−ブチルトリス（ｐ−ブロモフェニル）ボレー
ト、ブチルトリス［３，５−ビス（トリフルオロメチ
ル）フェニル］ボレート等の各ボレートアニオンとの組
み合わせより構成されるスルホニウム錯体およびオキソ
スルホニウム錯体が挙げられるが、本発明はこれらの例
に限定されるわけではない。
【００１３】本発明の一般式（１）のスルホニウム錯体
またはオキソスルホニウム錯体は、一般式（２）のスル
ホニウム錯体またはオキソスルホニウム錯体と、一般式
（３）で表される有機ホウ素化合物とを所定の有機溶媒
または水、あるいは水と有機溶媒との混合溶媒中で反応
させて合成することが可能である。
またはオキソスルホニウム錯体は、一般式（２）のスル
ホニウム錯体またはオキソスルホニウム錯体と、一般式
（３）で表される有機ホウ素化合物とを所定の有機溶媒
または水、あるいは水と有機溶媒との混合溶媒中で反応
させて合成することが可能である。
【００１４】一般式（２） （ただしＲ1 およびＲ2 は置換基を有してもよいアリー
ル基を、Ｒ3 は置換基を有してもよいフェナシル基、置
換基を有してもよいベンジル基もしくは置換基を有して
もよいアリル基を、Ｒ4 は酸素原子もしくは孤立電子対
を、またＸはハロゲン原子、ＢＦ4 、ＰＦ6 、Ｓｂ
Ｆ6 、ＳｂＣｌ6 、ＡｓＦ6 、ＣｌＯ4 等の無機系アニ
オン、ベンゾエート、メチル硫酸、トリフルオロメチル
硫酸、ベンゼンスルホネートおよびｐ−トルエンスルホ
ネート等の有機酸のアニオンを示す。）
ル基を、Ｒ3 は置換基を有してもよいフェナシル基、置
換基を有してもよいベンジル基もしくは置換基を有して
もよいアリル基を、Ｒ4 は酸素原子もしくは孤立電子対
を、またＸはハロゲン原子、ＢＦ4 、ＰＦ6 、Ｓｂ
Ｆ6 、ＳｂＣｌ6 、ＡｓＦ6 、ＣｌＯ4 等の無機系アニ
オン、ベンゾエート、メチル硫酸、トリフルオロメチル
硫酸、ベンゼンスルホネートおよびｐ−トルエンスルホ
ネート等の有機酸のアニオンを示す。）
【００１５】一般式（３） （ただしＭはアルカリ金属、アンモニウムもしくは置換
アンモニウムを、Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ7 およびＲ8 はそれぞ
れ独立に、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を
有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルケ
ニル基、置換基を有してもよいアルキニル基、置換基を
有してもよい脂環基より選ばれる基を示し、Ｒ5 、
Ｒ6 、Ｒ7 およびＲ8 全てが同時に置換基を有してもよ
いアリール基となることはない。）
アンモニウムを、Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ7 およびＲ8 はそれぞ
れ独立に、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を
有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルケ
ニル基、置換基を有してもよいアルキニル基、置換基を
有してもよい脂環基より選ばれる基を示し、Ｒ5 、
Ｒ6 、Ｒ7 およびＲ8 全てが同時に置換基を有してもよ
いアリール基となることはない。）
【００１６】一般式（１）のスルホニウム錯体またはオ
キソスルホニウム錯体を合成する際の出発物質となる一
般式（２）のスルホニウム錯体またはオキソスルホニウ
ム錯体は、日本化学会編、新実験化学講座、第１４巻、
１８３８頁（１９７８年、丸善）や大饗茂編、有機硫黄
化学（合成反応編）、２３７頁（１９８２年、化学同
人）、B.M.Trost およびL.S.Melvin,Jr 著、「Sulfer Y
lides 」、６頁、（１９７５年、Academic Press）に引
用されている文献や、さらには日本化学会誌、第８７
巻、第５号、４５６頁（１９６６年）や日本化学会誌、
第８７巻、第１０号、１９６９頁（１９６６年）、ジャ
ーナル・オブ・ケミカル・ソサエティー（J.Chem.Soc.
）、（Ｃ）、６８２頁（１９７０年）、ヨーロッパ特
許第３５９６９号等に記載のスルホニウム錯体およびオ
キソスルホニウム錯体を用いることが可能である。
キソスルホニウム錯体を合成する際の出発物質となる一
般式（２）のスルホニウム錯体またはオキソスルホニウ
ム錯体は、日本化学会編、新実験化学講座、第１４巻、
１８３８頁（１９７８年、丸善）や大饗茂編、有機硫黄
化学（合成反応編）、２３７頁（１９８２年、化学同
人）、B.M.Trost およびL.S.Melvin,Jr 著、「Sulfer Y
lides 」、６頁、（１９７５年、Academic Press）に引
用されている文献や、さらには日本化学会誌、第８７
巻、第５号、４５６頁（１９６６年）や日本化学会誌、
第８７巻、第１０号、１９６９頁（１９６６年）、ジャ
ーナル・オブ・ケミカル・ソサエティー（J.Chem.Soc.
）、（Ｃ）、６８２頁（１９７０年）、ヨーロッパ特
許第３５９６９号等に記載のスルホニウム錯体およびオ
キソスルホニウム錯体を用いることが可能である。
【００１７】また、一般式（１）のスルホニウム錯体ま
たはオキソスルホニウム錯体を合成する際のもう一方の
出発物質である一般式（３）で表される有機ホウ素化合
物については、リービッヒーズ・アナーレン（Liebig's
Ann. ）、第５６３号、１１０頁、（１９４９年）、ジ
ャーナル・オブ・オーガニック・ケミストリー（J.Org.
Chem. ）、第２９巻、１９７１頁（１９６４年）、ジャ
ーナル・オブ・ケミカル・ソサエティー・パーキン２
（J.Chem.Soc.,Perkin 2）、１２２５頁（１９７８年）
等に記載の有機ホウ素化合物を用いることが可能であ
る。
たはオキソスルホニウム錯体を合成する際のもう一方の
出発物質である一般式（３）で表される有機ホウ素化合
物については、リービッヒーズ・アナーレン（Liebig's
Ann. ）、第５６３号、１１０頁、（１９４９年）、ジ
ャーナル・オブ・オーガニック・ケミストリー（J.Org.
Chem. ）、第２９巻、１９７１頁（１９６４年）、ジャ
ーナル・オブ・ケミカル・ソサエティー・パーキン２
（J.Chem.Soc.,Perkin 2）、１２２５頁（１９７８年）
等に記載の有機ホウ素化合物を用いることが可能であ
る。
【００１８】この場合の溶媒としては、該溶剤に対する
原料の溶解性や目的とするスルホニウム錯体あるいはオ
キソスルホニウム錯体の性質等に応じて使い分けること
が好ましい。
原料の溶解性や目的とするスルホニウム錯体あるいはオ
キソスルホニウム錯体の性質等に応じて使い分けること
が好ましい。
【００１９】例えば、原料がいずれも水溶性の場合、具
体的には原料のスルホニウム錯体あるいはオキソスルホ
ニウム錯体のアニオン部が塩素あるいは臭素で、原料の
ホウ素化合物のカチオン部がアルカリ金属の場合、反応
溶媒に水を用いると、目的とするスルホニウム錯体ある
いはオキソスルホニウム錯体は水に殆ど不溶なため、反
応系中に生成した結晶を濾過、水洗、乾燥するだけで目
的とするスルホニウム錯体あるいはオキソスルホニウム
錯体を得ることができる。またこの際、あらかじめ反応
系中に水との混和性に劣る有機溶媒であるジクロロメタ
ンやクロロホルム、酢酸エチル、ベンゼン、エーテル等
を共存させておけば、目的とするスルホニウム錯体ある
いはオキソスルホニウム錯体を生成と同時に有機層中に
抽出できる。この方法は、特に水に対し不安定であった
り結晶化しにくい油状のスルホニウム錯体あるいはオキ
ソスルホニウム錯体の合成に適している。ただしこの場
合、用いる有機溶媒が生成したスルホニウム錯体あるい
はオキソスルホニウム錯体を溶解することが必要であ
る。一方、原料のいずれかが水に対する溶解性の乏しい
場合、具体的には原料のスルホニウム錯体あるいはオキ
ソスルホニウム錯体のアニオン部がＢＦ4 、ＰＦ6 、Ｓ
ｂＦ6 、ＡｓＦ6 、ＣｌＯ4 、メチル硫酸、トリフルオ
ロメチル硫酸、ベンゼンスルホネートおよびｐ−トルエ
ンスルホネート等であったり、原料の有機ホウ素化合物
のカチオン部が４級アンモニウム等の場合、反応溶媒は
原料に対する溶解性の高い有機溶媒あるいは水と有機溶
媒との混合溶媒を用いるのが好ましい。この際、水と相
互に混ざり合うような有機溶媒、例えば、低級アルコー
ル、アセトニトリル、アセトン、テトラヒドロフラン、
ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等を用い
ると、反応終了後、過剰量の水等の目的とするスルホニ
ウム錯体あるいはオキソスルホニウム錯体を溶解しにく
い溶媒の添加により、容易に目的とするスルホニウム錯
体あるいはオキソスルホニウム錯体を結晶もしくは油状
物質の形で得ることができる。このようにして得たスル
ホニウム錯体あるいはオキソスルホニウム錯体は、通常
の目的に対してこのまま使用しても差し支えないが、有
機溶媒から再結晶化させて、さらに高純度品を得ること
も可能である。
体的には原料のスルホニウム錯体あるいはオキソスルホ
ニウム錯体のアニオン部が塩素あるいは臭素で、原料の
ホウ素化合物のカチオン部がアルカリ金属の場合、反応
溶媒に水を用いると、目的とするスルホニウム錯体ある
いはオキソスルホニウム錯体は水に殆ど不溶なため、反
応系中に生成した結晶を濾過、水洗、乾燥するだけで目
的とするスルホニウム錯体あるいはオキソスルホニウム
錯体を得ることができる。またこの際、あらかじめ反応
系中に水との混和性に劣る有機溶媒であるジクロロメタ
ンやクロロホルム、酢酸エチル、ベンゼン、エーテル等
を共存させておけば、目的とするスルホニウム錯体ある
いはオキソスルホニウム錯体を生成と同時に有機層中に
抽出できる。この方法は、特に水に対し不安定であった
り結晶化しにくい油状のスルホニウム錯体あるいはオキ
ソスルホニウム錯体の合成に適している。ただしこの場
合、用いる有機溶媒が生成したスルホニウム錯体あるい
はオキソスルホニウム錯体を溶解することが必要であ
る。一方、原料のいずれかが水に対する溶解性の乏しい
場合、具体的には原料のスルホニウム錯体あるいはオキ
ソスルホニウム錯体のアニオン部がＢＦ4 、ＰＦ6 、Ｓ
ｂＦ6 、ＡｓＦ6 、ＣｌＯ4 、メチル硫酸、トリフルオ
ロメチル硫酸、ベンゼンスルホネートおよびｐ−トルエ
ンスルホネート等であったり、原料の有機ホウ素化合物
のカチオン部が４級アンモニウム等の場合、反応溶媒は
原料に対する溶解性の高い有機溶媒あるいは水と有機溶
媒との混合溶媒を用いるのが好ましい。この際、水と相
互に混ざり合うような有機溶媒、例えば、低級アルコー
ル、アセトニトリル、アセトン、テトラヒドロフラン、
ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等を用い
ると、反応終了後、過剰量の水等の目的とするスルホニ
ウム錯体あるいはオキソスルホニウム錯体を溶解しにく
い溶媒の添加により、容易に目的とするスルホニウム錯
体あるいはオキソスルホニウム錯体を結晶もしくは油状
物質の形で得ることができる。このようにして得たスル
ホニウム錯体あるいはオキソスルホニウム錯体は、通常
の目的に対してこのまま使用しても差し支えないが、有
機溶媒から再結晶化させて、さらに高純度品を得ること
も可能である。
【００２０】また反応温度は、反応溶媒の融点以上で、
かつ原料もしくは生成するスルホニウム錯体あるいはオ
キソスルホニウム錯体が分解する温度以下であればどの
ような温度で反応させてもかまわないが、本反応は反応
に際し多量の熱の出入りが無いこと、また室温付近です
みやかに反応が進行することから、経済性、安全性の面
からも室温付近で反応させることが好ましい。
かつ原料もしくは生成するスルホニウム錯体あるいはオ
キソスルホニウム錯体が分解する温度以下であればどの
ような温度で反応させてもかまわないが、本反応は反応
に際し多量の熱の出入りが無いこと、また室温付近です
みやかに反応が進行することから、経済性、安全性の面
からも室温付近で反応させることが好ましい。
【００２１】本発明の一般式（１）のスルホニウム錯体
もしくはオキソスルホニウム錯体は、そのＦＤ−ＭＳス
ペクトルが、それぞれスルホニウムカチオンまたはオキ
ソスルホニウムカチオンに由来するフラグメントピーク
を示し、また元素分析値によって、スルホニウム錯体も
しくはオキソスルホニウム錯体を構成する元素の組成を
決定できるので、これによって同定することができる。
もしくはオキソスルホニウム錯体は、そのＦＤ−ＭＳス
ペクトルが、それぞれスルホニウムカチオンまたはオキ
ソスルホニウムカチオンに由来するフラグメントピーク
を示し、また元素分析値によって、スルホニウム錯体も
しくはオキソスルホニウム錯体を構成する元素の組成を
決定できるので、これによって同定することができる。
【００２２】
【作用】本発明の一般式（１）で表されるスルホニウム
錯体またはオキソスルホニウム錯体は、スルホニウムカ
チオンまたはオキソスルホニウムカチオン上に、置換基
を有してもよいフェナシル基、置換基を有してもよいベ
ンジル基もしくは置換基を有してもよいアリル基を導入
することによって、光および／または熱エネルギーの付
与により励起し分解することにより、効率よくフリーラ
ジカルを発生するものと考えられる。また、これと同時
に結晶性、有機溶剤に対する溶解性の向上が得られ、こ
れによって良好な安定性が得られる。
錯体またはオキソスルホニウム錯体は、スルホニウムカ
チオンまたはオキソスルホニウムカチオン上に、置換基
を有してもよいフェナシル基、置換基を有してもよいベ
ンジル基もしくは置換基を有してもよいアリル基を導入
することによって、光および／または熱エネルギーの付
与により励起し分解することにより、効率よくフリーラ
ジカルを発生するものと考えられる。また、これと同時
に結晶性、有機溶剤に対する溶解性の向上が得られ、こ
れによって良好な安定性が得られる。
【００２３】
【実施例】以下、実施例および参考例にて本発明を詳細
に説明するが、本発明は下記のみに限定されるものでは
ない。
に説明するが、本発明は下記のみに限定されるものでは
ない。
【００２４】実施例１ ジフェニルフェナシルスルホニウムブチルトリフェニル
ボレートの合成 ジフェニルフェナシルスルホニウムパークロレート６．
６５ｇをアセトニトリル１００ｍｌに溶解させた溶液
に、ブチルトリフェニルほう酸リチウム５．０３ｇをア
セトニトリル５０ｍｌに溶解させた溶液を加え、室温に
て３０分撹拌した。その後、水２００ｍｌを加え沈澱し
た黄色の油状成分を分取し、ジクロロメタン１００ｍｌ
を加えた。ジクロロメタン層を水洗、乾燥後、濃縮し、
白色結晶のジフェニルフェナシルスルホニウムブチルト
リフェニルボレート３．６７ｇを得た。 融点 １２１〜１２４℃（１１０℃くらいから徐々に分
解） ＩＲスペクトルを第１図に示した。 ＦＤ−ＭＳ ｍ／ｚ ３０５（( Ｍ−Ｂ( Ｃ4 Ｈ9)( Ｃ
6 Ｈ5)3)+ ） 元素分析 Ｃ42Ｈ41ＢＯＳ 理論値 Ｃ；８３．４３％、Ｈ；６．８３％ 測定値 Ｃ；８３．５２％、Ｈ；６．９１％
ボレートの合成 ジフェニルフェナシルスルホニウムパークロレート６．
６５ｇをアセトニトリル１００ｍｌに溶解させた溶液
に、ブチルトリフェニルほう酸リチウム５．０３ｇをア
セトニトリル５０ｍｌに溶解させた溶液を加え、室温に
て３０分撹拌した。その後、水２００ｍｌを加え沈澱し
た黄色の油状成分を分取し、ジクロロメタン１００ｍｌ
を加えた。ジクロロメタン層を水洗、乾燥後、濃縮し、
白色結晶のジフェニルフェナシルスルホニウムブチルト
リフェニルボレート３．６７ｇを得た。 融点 １２１〜１２４℃（１１０℃くらいから徐々に分
解） ＩＲスペクトルを第１図に示した。 ＦＤ−ＭＳ ｍ／ｚ ３０５（( Ｍ−Ｂ( Ｃ4 Ｈ9)( Ｃ
6 Ｈ5)3)+ ） 元素分析 Ｃ42Ｈ41ＢＯＳ 理論値 Ｃ；８３．４３％、Ｈ；６．８３％ 測定値 Ｃ；８３．５２％、Ｈ；６．９１％
【００２５】実施例２ ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）フェナシルスル
ホニウム（ｓｅｃ−ブチル）トリフェニルボレートの合
成 ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）フェナシルスル
ホニウムヘキサフルオロホスフェート５．００ｇをアセ
トニトリル１００ｍｌに溶解させた溶液に、ｓｅｃ−ブ
チルトリフェニルほう酸リチウム２．６１ｇをアセトニ
トリル５０ｍｌに溶解させた溶液を加え、室温にて３０
分撹拌した。その後、水２００ｍｌを加え沈澱した黄色
の油状成分を分取し、ジクロロメタン１００ｍｌを加え
た。ジクロロメタン層を水洗、乾燥後、濃縮し、ビス
（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）フェナシルスルホニ
ウム（ｓｅｃ−ブチル）トリフェニルボレート４．３２
ｇを得た。 ＦＤ−ＭＳ ｍ／ｚ ４１７（( Ｍ−Ｂ( Ｃ4 Ｈ9)( Ｃ
6 Ｈ5)3)+ ） 元素分析 Ｃ50Ｈ57ＢＯＳ 理論値 Ｃ；８３．７７％、Ｈ；８．０１％ 測定値 Ｃ；８３．６３％、Ｈ；８．１３％
ホニウム（ｓｅｃ−ブチル）トリフェニルボレートの合
成 ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）フェナシルスル
ホニウムヘキサフルオロホスフェート５．００ｇをアセ
トニトリル１００ｍｌに溶解させた溶液に、ｓｅｃ−ブ
チルトリフェニルほう酸リチウム２．６１ｇをアセトニ
トリル５０ｍｌに溶解させた溶液を加え、室温にて３０
分撹拌した。その後、水２００ｍｌを加え沈澱した黄色
の油状成分を分取し、ジクロロメタン１００ｍｌを加え
た。ジクロロメタン層を水洗、乾燥後、濃縮し、ビス
（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）フェナシルスルホニ
ウム（ｓｅｃ−ブチル）トリフェニルボレート４．３２
ｇを得た。 ＦＤ−ＭＳ ｍ／ｚ ４１７（( Ｍ−Ｂ( Ｃ4 Ｈ9)( Ｃ
6 Ｈ5)3)+ ） 元素分析 Ｃ50Ｈ57ＢＯＳ 理論値 Ｃ；８３．７７％、Ｈ；８．０１％ 測定値 Ｃ；８３．６３％、Ｈ；８．１３％
【００２６】実施例３ ビス（ｐ−トリル）（ｐ−ニトロフェナシル）スルホニ
ウム−ｔｅｒｔ−ブチルトリス（ｐ−メトキシフェニ
ル）ボレートの合成 ビス（ｐ−トリル）（ｐ−ニトロフェナシル）スルホニ
ウムヘキサフルオロホスフェート５．００ｇをアセトニ
トリル１００ｍｌに溶解させた溶液に、テトラメチルア
ンモニウム−ｔｅｒｔ−ブチルトリス（ｐ−メトキシフ
ェニル）ボレート４．４３ｇをアセトン５０ｍｌに溶解
させた溶液を加え、室温にて３０分撹拌した。その後、
水２００ｍｌを加え沈澱した黄色の油状成分を分取し、
ジクロロメタン１００ｍｌを加えた。ジクロロメタン層
を水洗、乾燥後、濃縮し、ビス（ｐ−トリル）（ｐ−ニ
トロフェナシル）スルホニウム−ｔｅｒｔ−ブチルトリ
ス（ｐ−メトキシフェニル）ボレート２．２７ｇを得
た。 ＦＤ−ＭＳ ｍ／ｚ ３７８（( Ｍ−Ｂ( Ｃ4 Ｈ9)( Ｃ
6 Ｈ4 ＯＣＨ3)3)+ ） 元素分析 Ｃ47Ｈ50ＢＮＯ6 Ｓ 理論値 Ｃ；７３．５３％、Ｈ；６．５６％、Ｎ；１．
８２％ 測定値 Ｃ；７３．４２％、Ｈ；６．６４％、Ｎ；１．
７８％
ウム−ｔｅｒｔ−ブチルトリス（ｐ−メトキシフェニ
ル）ボレートの合成 ビス（ｐ−トリル）（ｐ−ニトロフェナシル）スルホニ
ウムヘキサフルオロホスフェート５．００ｇをアセトニ
トリル１００ｍｌに溶解させた溶液に、テトラメチルア
ンモニウム−ｔｅｒｔ−ブチルトリス（ｐ−メトキシフ
ェニル）ボレート４．４３ｇをアセトン５０ｍｌに溶解
させた溶液を加え、室温にて３０分撹拌した。その後、
水２００ｍｌを加え沈澱した黄色の油状成分を分取し、
ジクロロメタン１００ｍｌを加えた。ジクロロメタン層
を水洗、乾燥後、濃縮し、ビス（ｐ−トリル）（ｐ−ニ
トロフェナシル）スルホニウム−ｔｅｒｔ−ブチルトリ
ス（ｐ−メトキシフェニル）ボレート２．２７ｇを得
た。 ＦＤ−ＭＳ ｍ／ｚ ３７８（( Ｍ−Ｂ( Ｃ4 Ｈ9)( Ｃ
6 Ｈ4 ＯＣＨ3)3)+ ） 元素分析 Ｃ47Ｈ50ＢＮＯ6 Ｓ 理論値 Ｃ；７３．５３％、Ｈ；６．５６％、Ｎ；１．
８２％ 測定値 Ｃ；７３．４２％、Ｈ；６．６４％、Ｎ；１．
７８％
【００２７】実施例４ ビス（ｐ−クロロフェニル）（ｐ−メトキシフェナシ
ル）スルホニウムメチルトリス（ｐ−フルオロフェニ
ル）ボレートの合成 ビス（ｐ−クロロフェニル）（ｐ−メトキシフェナシ
ル）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート５．００
ｇをアセトニトリル１００ｍｌに溶解させた溶液に、メ
チルトリス（ｐ−フルオロフェニル）ほう酸リチウム
２．８０ｇをアセトニトリル５０ｍｌに溶解させた溶液
を加え、室温にて３０分撹拌した。その後、メタノール
２００ｍｌを加え沈澱した結晶を分取し、ジクロロメタ
ン１００ｍｌを加えた。ジクロロメタン層を水洗、乾燥
後、濃縮し、ビス（ｐ−クロロフェニル）（ｐ−メトキ
シフェナシル）スルホニウムメチルトリス（ｐ−フルオ
ロフェニル）ボレート３．３１ｇを得た。 ＦＤ−ＭＳ ｍ／ｚ ４０３（( Ｍ−Ｂ( ＣＨ3)( Ｃ6
Ｈ4 Ｆ)3) + ) 元素分析 Ｃ40Ｈ32ＢＣｌ2 Ｆ3 Ｏ2 Ｓ 理論値 Ｃ；６７．１５％、Ｈ；４．５１％ 測定値 Ｃ；６７．０９％、Ｈ；４．７２％
ル）スルホニウムメチルトリス（ｐ−フルオロフェニ
ル）ボレートの合成 ビス（ｐ−クロロフェニル）（ｐ−メトキシフェナシ
ル）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート５．００
ｇをアセトニトリル１００ｍｌに溶解させた溶液に、メ
チルトリス（ｐ−フルオロフェニル）ほう酸リチウム
２．８０ｇをアセトニトリル５０ｍｌに溶解させた溶液
を加え、室温にて３０分撹拌した。その後、メタノール
２００ｍｌを加え沈澱した結晶を分取し、ジクロロメタ
ン１００ｍｌを加えた。ジクロロメタン層を水洗、乾燥
後、濃縮し、ビス（ｐ−クロロフェニル）（ｐ−メトキ
シフェナシル）スルホニウムメチルトリス（ｐ−フルオ
ロフェニル）ボレート３．３１ｇを得た。 ＦＤ−ＭＳ ｍ／ｚ ４０３（( Ｍ−Ｂ( ＣＨ3)( Ｃ6
Ｈ4 Ｆ)3) + ) 元素分析 Ｃ40Ｈ32ＢＣｌ2 Ｆ3 Ｏ2 Ｓ 理論値 Ｃ；６７．１５％、Ｈ；４．５１％ 測定値 Ｃ；６７．０９％、Ｈ；４．７２％
【００２８】実施例５ フェニル（１−ナフチル）（１−ナフチル−カルボニル
メチル）スルホニウム（２−ｔｅｒｔ−ブチルエテニ
ル）トリス（ｐ−ブロモフェニル）ボレートの合成 フェニル（１−ナフチル）（１−ナフチル−カルボニル
メチル）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート
６．４１ｇをアセトニトリル１００ｍｌに溶解させた溶
液に、（２−ｔｅｒｔ−ブチルエテニル）トリス（ｐ−
ブロモフェニル）ほう酸リチウム５．５８ｇをアセトニ
トリル５０ｍｌに溶解させた溶液を加え、室温にて３０
分撹拌した。その後、水２００ｍｌを加え沈澱した黄色
の油状成分を分取し、ジクロロメタン１００ｍｌを加え
た。ジクロロメタン層を水洗、乾燥後、濃縮し、フェニ
ル（１−ナフチル）（１−ナフチル−カルボニルメチ
ル）スルホニウム（２−ｔｅｒｔ−ブチルエテニル）ト
リス（ｐ−ブロモフェニル）ボレート４．２７ｇを得
た。 ＦＤ−ＭＳ ｍ／ｚ ４０５（( Ｍ−Ｂ( Ｃ6 Ｈ11)(Ｃ
6 Ｈ4 Ｂｒ)3) + ) 元素分析 Ｃ52Ｈ44ＢＢｒ3 ＯＳ 理論値 Ｃ；６４．５５％、Ｈ；４．５８％ 測定値 Ｃ；６４．３９％、Ｈ；４．６９％
メチル）スルホニウム（２−ｔｅｒｔ−ブチルエテニ
ル）トリス（ｐ−ブロモフェニル）ボレートの合成 フェニル（１−ナフチル）（１−ナフチル−カルボニル
メチル）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート
６．４１ｇをアセトニトリル１００ｍｌに溶解させた溶
液に、（２−ｔｅｒｔ−ブチルエテニル）トリス（ｐ−
ブロモフェニル）ほう酸リチウム５．５８ｇをアセトニ
トリル５０ｍｌに溶解させた溶液を加え、室温にて３０
分撹拌した。その後、水２００ｍｌを加え沈澱した黄色
の油状成分を分取し、ジクロロメタン１００ｍｌを加え
た。ジクロロメタン層を水洗、乾燥後、濃縮し、フェニ
ル（１−ナフチル）（１−ナフチル−カルボニルメチ
ル）スルホニウム（２−ｔｅｒｔ−ブチルエテニル）ト
リス（ｐ−ブロモフェニル）ボレート４．２７ｇを得
た。 ＦＤ−ＭＳ ｍ／ｚ ４０５（( Ｍ−Ｂ( Ｃ6 Ｈ11)(Ｃ
6 Ｈ4 Ｂｒ)3) + ) 元素分析 Ｃ52Ｈ44ＢＢｒ3 ＯＳ 理論値 Ｃ；６４．５５％、Ｈ；４．５８％ 測定値 Ｃ；６４．３９％、Ｈ；４．６９％
【００２９】実施例６ ジフェニル−ｐ−フルオロフェナシルスルホニウム（２
−ｔｅｒｔ−ブチルエテニル）トリメシチルボレートの
合成 ジフェニル−ｐ−フルオロフェナシルスルホニウムパー
クロレート５．００ｇをアセトニトリル１００ｍｌに溶
解させた溶液に、（２−ｔｅｒｔ−ブチルエテニル）ト
リメシチルほう酸ナトリウム５．５９ｇをアセトン５０
ｍｌに溶解させた溶液を加え、室温にて３０分撹拌し
た。その後、水２００ｍｌを加え沈澱した黄色の油状成
分を分取し、ジクロロメタン１００ｍｌを加えた。ジク
ロロメタン層を水洗、乾燥後、濃縮し、ジフェニル−ｐ
−フルオロフェナシルスルホニウム（２−ｔｅｒｔ−ブ
チルエテニル）トリメシチルボレート３．１１ｇを得
た。 ＦＤ−ＭＳ ｍ／ｚ ３２３（( Ｍ−Ｂ( Ｃ6 Ｈ9)( Ｃ
6 Ｈ2(ＣＨ3)3)3)+ ） 元素分析 Ｃ53Ｈ58ＢＦＯＳ 理論値 Ｃ；８２．３６％、Ｈ；７．５６％ 測定値 Ｃ；８２．１９％、Ｈ；７．４２％
−ｔｅｒｔ−ブチルエテニル）トリメシチルボレートの
合成 ジフェニル−ｐ−フルオロフェナシルスルホニウムパー
クロレート５．００ｇをアセトニトリル１００ｍｌに溶
解させた溶液に、（２−ｔｅｒｔ−ブチルエテニル）ト
リメシチルほう酸ナトリウム５．５９ｇをアセトン５０
ｍｌに溶解させた溶液を加え、室温にて３０分撹拌し
た。その後、水２００ｍｌを加え沈澱した黄色の油状成
分を分取し、ジクロロメタン１００ｍｌを加えた。ジク
ロロメタン層を水洗、乾燥後、濃縮し、ジフェニル−ｐ
−フルオロフェナシルスルホニウム（２−ｔｅｒｔ−ブ
チルエテニル）トリメシチルボレート３．１１ｇを得
た。 ＦＤ−ＭＳ ｍ／ｚ ３２３（( Ｍ−Ｂ( Ｃ6 Ｈ9)( Ｃ
6 Ｈ2(ＣＨ3)3)3)+ ） 元素分析 Ｃ53Ｈ58ＢＦＯＳ 理論値 Ｃ；８２．３６％、Ｈ；７．５６％ 測定値 Ｃ；８２．１９％、Ｈ；７．４２％
【００３０】実施例７ フェニル（９−アンスリル）（ｐ−クロロフェナシル）
スルホニウム（ｔｅｒｔ−ブチル）トリエチルボレート
の合成 フェニル（９−アンスリル）（ｐ−クロロフェナシル）
スルホニウムヘキサフルオロアルセネート５．００ｇを
アセトニトリル１００ｍｌに溶解させた溶液に、ｔｅｒ
ｔ−ブチルトリエチルほう酸リチウム１．２９ｇをアセ
トニトリル５０ｍｌに溶解させた溶液を加え、室温にて
３０分撹拌した。その後、水２００ｍｌを加え沈澱した
黄色の油状成分を分取し、ジクロロメタン１００ｍｌを
加えた。ジクロロメタン層を水洗、乾燥後、濃縮し、フ
ェニル（９−アンスリル）（ｐ−クロロフェナシル）ス
ルホニウム（ｔｅｒｔ−ブチル）トリエチルボレート
２．４３ｇを得た。 ＦＤ−ＭＳ ｍ／ｚ ４３９（( Ｍ−Ｂ(tert-Ｃ4 Ｈ9)
( Ｃ2 Ｈ5)3)+ ） 元素分析 Ｃ38Ｈ44ＢＣｌＯＳ 理論値 Ｃ；７６．７０％、Ｈ；７．４５％ 測定値 Ｃ；７６．５８％、Ｈ；７．２９％
スルホニウム（ｔｅｒｔ−ブチル）トリエチルボレート
の合成 フェニル（９−アンスリル）（ｐ−クロロフェナシル）
スルホニウムヘキサフルオロアルセネート５．００ｇを
アセトニトリル１００ｍｌに溶解させた溶液に、ｔｅｒ
ｔ−ブチルトリエチルほう酸リチウム１．２９ｇをアセ
トニトリル５０ｍｌに溶解させた溶液を加え、室温にて
３０分撹拌した。その後、水２００ｍｌを加え沈澱した
黄色の油状成分を分取し、ジクロロメタン１００ｍｌを
加えた。ジクロロメタン層を水洗、乾燥後、濃縮し、フ
ェニル（９−アンスリル）（ｐ−クロロフェナシル）ス
ルホニウム（ｔｅｒｔ−ブチル）トリエチルボレート
２．４３ｇを得た。 ＦＤ−ＭＳ ｍ／ｚ ４３９（( Ｍ−Ｂ(tert-Ｃ4 Ｈ9)
( Ｃ2 Ｈ5)3)+ ） 元素分析 Ｃ38Ｈ44ＢＣｌＯＳ 理論値 Ｃ；７６．７０％、Ｈ；７．４５％ 測定値 Ｃ；７６．５８％、Ｈ；７．２９％
【００３１】実施例８ ジフェニル（ｐ−ブロモフェナシル）スルホニウムフェ
ニルトリブチルボレートの合成 ジフェニル（ｐ−ブロモフェナシル）スルホニウムテト
ラフルオロボレート５．００ｇをアセトニトリル１００
ｍｌに溶解させた溶液に、フェニルトリブチルほう酸リ
チウム２．８２ｇをアセトニトリル５０ｍｌに溶解させ
た溶液を加え、室温にて３０分撹拌した。その後、水２
００ｍｌを加え沈澱した黄色の油状成分を分取し、ジク
ロロメタン１００ｍｌを加えた。ジクロロメタン層を水
洗、乾燥後、濃縮し、ジフェニル（ｐ−ブロモフェナシ
ル）スルホニウムフェニルトリブチルボレート２．２３
ｇを得た。 ＦＤ−ＭＳ ｍ／ｚ ３８３（( Ｍ−Ｂ( Ｃ6 Ｈ5)( Ｃ
4 Ｈ9)3)+ ） 元素分析 Ｃ38Ｈ48ＢＢｒＯＳ 理論値 Ｃ；７０．９２％、Ｈ；７．５２％ 測定値 Ｃ；７１．０５％、Ｈ；７．３９％
ニルトリブチルボレートの合成 ジフェニル（ｐ−ブロモフェナシル）スルホニウムテト
ラフルオロボレート５．００ｇをアセトニトリル１００
ｍｌに溶解させた溶液に、フェニルトリブチルほう酸リ
チウム２．８２ｇをアセトニトリル５０ｍｌに溶解させ
た溶液を加え、室温にて３０分撹拌した。その後、水２
００ｍｌを加え沈澱した黄色の油状成分を分取し、ジク
ロロメタン１００ｍｌを加えた。ジクロロメタン層を水
洗、乾燥後、濃縮し、ジフェニル（ｐ−ブロモフェナシ
ル）スルホニウムフェニルトリブチルボレート２．２３
ｇを得た。 ＦＤ−ＭＳ ｍ／ｚ ３８３（( Ｍ−Ｂ( Ｃ6 Ｈ5)( Ｃ
4 Ｈ9)3)+ ） 元素分析 Ｃ38Ｈ48ＢＢｒＯＳ 理論値 Ｃ；７０．９２％、Ｈ；７．５２％ 測定値 Ｃ；７１．０５％、Ｈ；７．３９％
【００３２】実施例９ ジフェニル（ｐ−シアノフェナシル）スルホニウムアリ
ルトリエチルボレートの合成 ジフェニル（ｐ−シアノフェナシル）スルホニウムテト
ラフルオロボレート５．００ｇをアセトニトリル１００
ｍｌに溶解させた溶液に、アリルトリエチルほう酸リチ
ウム１．７５ｇをアセトニトリル５０ｍｌに溶解させた
溶液を加え、室温にて３０分撹拌した。その後、水２０
０ｍｌを加え沈澱した黄色の油状成分を分取し、ジクロ
ロメタン１００ｍｌを加えた。ジクロロメタン層を水
洗、乾燥後、濃縮し、ジフェニル（ｐ−シアノフェナシ
ル）スルホニウムアリルトリエチルボレート３．４１ｇ
を得た。 ＦＤ−ＭＳ ｍ／ｚ ３３０（( Ｍ−Ｂ( ＣＨ2 ＣＨＣ
Ｈ2)( Ｃ2 Ｈ5)3)+ ） 元素分析 Ｃ30Ｈ36ＢＮＯＳ 理論値 Ｃ；７６．７５％、Ｈ；７．７３％、Ｎ；２．
９８％ 測定値 Ｃ；７６．８２％、Ｈ；７．８２％、Ｎ；２．
８９％
ルトリエチルボレートの合成 ジフェニル（ｐ−シアノフェナシル）スルホニウムテト
ラフルオロボレート５．００ｇをアセトニトリル１００
ｍｌに溶解させた溶液に、アリルトリエチルほう酸リチ
ウム１．７５ｇをアセトニトリル５０ｍｌに溶解させた
溶液を加え、室温にて３０分撹拌した。その後、水２０
０ｍｌを加え沈澱した黄色の油状成分を分取し、ジクロ
ロメタン１００ｍｌを加えた。ジクロロメタン層を水
洗、乾燥後、濃縮し、ジフェニル（ｐ−シアノフェナシ
ル）スルホニウムアリルトリエチルボレート３．４１ｇ
を得た。 ＦＤ−ＭＳ ｍ／ｚ ３３０（( Ｍ−Ｂ( ＣＨ2 ＣＨＣ
Ｈ2)( Ｃ2 Ｈ5)3)+ ） 元素分析 Ｃ30Ｈ36ＢＮＯＳ 理論値 Ｃ；７６．７５％、Ｈ；７．７３％、Ｎ；２．
９８％ 測定値 Ｃ；７６．８２％、Ｈ；７．８２％、Ｎ；２．
８９％
【００３３】実施例１０ ジフェニル（ｐ−メチルフェナシル）スルホニウムベン
ジルトリエチルボレートの合成 ジフェニル（ｐ−メチルフェナシル）スルホニウム（ｐ
−トルエンスルホネート）５．００ｇをアセトニトリル
１００ｍｌに溶解させた溶液に、ベンジルトリエチルほ
う酸リチウム２．０７ｇをアセトニトリル５０ｍｌに溶
解させた溶液を加え、室温にて３０分撹拌した。その
後、水２００ｍｌを加え沈澱した黄色の油状成分を分取
し、ジクロロメタン１００ｍｌを加えた。ジクロロメタ
ン層を水洗、乾燥後、濃縮し、ジフェニル（ｐ−メチル
フェナシル）スルホニウムベンジルトリエチルボレート
２．１２ｇを得た。 ＦＤ−ＭＳ ｍ／ｚ ３１９（( Ｍ−Ｂ( ＣＨ2 Ｃ6 Ｈ
5)( Ｃ2 Ｈ5)3)+ ） 元素分析 Ｃ34Ｈ41ＢＯＳ 理論値 Ｃ；８０．３０％、Ｈ；８．１３％ 測定値 Ｃ；８０．２７％、Ｈ；８．０５％
ジルトリエチルボレートの合成 ジフェニル（ｐ−メチルフェナシル）スルホニウム（ｐ
−トルエンスルホネート）５．００ｇをアセトニトリル
１００ｍｌに溶解させた溶液に、ベンジルトリエチルほ
う酸リチウム２．０７ｇをアセトニトリル５０ｍｌに溶
解させた溶液を加え、室温にて３０分撹拌した。その
後、水２００ｍｌを加え沈澱した黄色の油状成分を分取
し、ジクロロメタン１００ｍｌを加えた。ジクロロメタ
ン層を水洗、乾燥後、濃縮し、ジフェニル（ｐ−メチル
フェナシル）スルホニウムベンジルトリエチルボレート
２．１２ｇを得た。 ＦＤ−ＭＳ ｍ／ｚ ３１９（( Ｍ−Ｂ( ＣＨ2 Ｃ6 Ｈ
5)( Ｃ2 Ｈ5)3)+ ） 元素分析 Ｃ34Ｈ41ＢＯＳ 理論値 Ｃ；８０．３０％、Ｈ；８．１３％ 測定値 Ｃ；８０．２７％、Ｈ；８．０５％
【００３４】実施例１１ ジフェニルフェナシルオキソスルホニウムブチルトリフ
ェニルボレートの合成 ジフェニルフェナシルオキソスルホニウムパークロレー
ト６．７２ｇをアセトニトリル１００ｍｌに溶解させた
溶液に、ブチルトリフェニルほう酸リチウム５．００ｇ
をテトラヒドロフラン５０ｍｌに溶解させた溶液を加
え、室温にて３０分撹拌した。その後、水２００ｍｌを
加え沈澱した黄色の油状成分を分取し、ジクロロメタン
１００ｍｌを加えた。ジクロロメタン層を水洗、乾燥
後、濃縮し、ジフェニルフェナシルオキソスルホニウム
ブチルトリフェニルボレート３．８７ｇを得た。 ＦＤ−ＭＳ ｍ／ｚ ３２１（( Ｍ−Ｂ( Ｃ4 Ｈ9)( Ｃ
6 Ｈ5)3)+ ） 元素分析 Ｃ42Ｈ41ＢＯ2 Ｓ 理論値 Ｃ；８１．２８％、Ｈ；６．６６％ 測定値 Ｃ；８１．３２％、Ｈ；６．７２％
ェニルボレートの合成 ジフェニルフェナシルオキソスルホニウムパークロレー
ト６．７２ｇをアセトニトリル１００ｍｌに溶解させた
溶液に、ブチルトリフェニルほう酸リチウム５．００ｇ
をテトラヒドロフラン５０ｍｌに溶解させた溶液を加
え、室温にて３０分撹拌した。その後、水２００ｍｌを
加え沈澱した黄色の油状成分を分取し、ジクロロメタン
１００ｍｌを加えた。ジクロロメタン層を水洗、乾燥
後、濃縮し、ジフェニルフェナシルオキソスルホニウム
ブチルトリフェニルボレート３．８７ｇを得た。 ＦＤ−ＭＳ ｍ／ｚ ３２１（( Ｍ−Ｂ( Ｃ4 Ｈ9)( Ｃ
6 Ｈ5)3)+ ） 元素分析 Ｃ42Ｈ41ＢＯ2 Ｓ 理論値 Ｃ；８１．２８％、Ｈ；６．６６％ 測定値 Ｃ；８１．３２％、Ｈ；６．７２％
【００３５】実施例１２ ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）フェナシルオキ
ソスルホニウム（ｓｅｃ−ブチル）トリフェニルボレー
トの合成 ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）フェナシルオキ
ソスルホニウムヘキサフルオロホスフェート５．００ｇ
をアセトニトリル１００ｍｌに溶解させた溶液に、ｓｅ
ｃ−ブチルトリフェニルほう酸リチウム２．５４ｇをア
セトニトリル５０ｍｌに溶解させた溶液を加え、室温に
て３０分撹拌した。その後、水２００ｍｌを加え沈澱し
た黄色の油状成分を分取し、ジクロロメタン１００ｍｌ
を加えた。ジクロロメタン層を水洗、乾燥後、濃縮し、
ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）フェナシルオキ
ソスルホニウム（ｓｅｃ−ブチル）トリフェニルボレー
ト４．４３ｇを得た。 ＦＤ−ＭＳ ｍ／ｚ ４３５（( Ｍ−Ｂ( Ｃ4 Ｈ9)( Ｃ
6 Ｈ5)3)+ ） 元素分析 Ｃ50Ｈ57ＢＯ2 Ｓ 理論値 Ｃ；８１．９４％、Ｈ；７．８４％ 測定値 Ｃ；８２．０２％、Ｈ；７．９４％
ソスルホニウム（ｓｅｃ−ブチル）トリフェニルボレー
トの合成 ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）フェナシルオキ
ソスルホニウムヘキサフルオロホスフェート５．００ｇ
をアセトニトリル１００ｍｌに溶解させた溶液に、ｓｅ
ｃ−ブチルトリフェニルほう酸リチウム２．５４ｇをア
セトニトリル５０ｍｌに溶解させた溶液を加え、室温に
て３０分撹拌した。その後、水２００ｍｌを加え沈澱し
た黄色の油状成分を分取し、ジクロロメタン１００ｍｌ
を加えた。ジクロロメタン層を水洗、乾燥後、濃縮し、
ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）フェナシルオキ
ソスルホニウム（ｓｅｃ−ブチル）トリフェニルボレー
ト４．４３ｇを得た。 ＦＤ−ＭＳ ｍ／ｚ ４３５（( Ｍ−Ｂ( Ｃ4 Ｈ9)( Ｃ
6 Ｈ5)3)+ ） 元素分析 Ｃ50Ｈ57ＢＯ2 Ｓ 理論値 Ｃ；８１．９４％、Ｈ；７．８４％ 測定値 Ｃ；８２．０２％、Ｈ；７．９４％
【００３６】実施例１３ ビス（ｐ−クロロフェニル）（ｐ−メトキシフェナシ
ル）オキソスルホニウムメチルトリス（ｐ−フルオロフ
ェニル）ボレートの合成 ビス（ｐ−クロロフェニル）（ｐ−メトキシフェナシ
ル）オキソスルホニウムヘキサフルオロホスフェート
５．００ｇをアセトニトリル１００ｍｌに溶解させた溶
液に、メチルトリス（ｐ−フルオロフェニル）ほう酸リ
チウム２．６２ｇをアセトニトリル５０ｍｌに溶解させ
た溶液を加え、室温にて３０分撹拌した。その後、水２
００ｍｌを加え沈澱した黄色の油状成分を分取し、ジク
ロロメタン１００ｍｌを加えた。ジクロロメタン層を水
洗、乾燥後、濃縮し、ビス（ｐ−クロロフェニル）（ｐ
−メトキシフェナシル）オキソスルホニウムメチルトリ
ス（ｐ−フルオロフェニル）ボレート３．２６ｇを得
た。 ＦＤ−ＭＳ ｍ／ｚ ４１９（( Ｍ−Ｂ( ＣＨ3)( Ｃ6
Ｈ4 Ｆ)3) + ) 元素分析 Ｃ40Ｈ32ＢＣｌ2 Ｆ3 Ｏ3 Ｓ 理論値 Ｃ；６５．６８％、Ｈ；４．４１％ 測定値 Ｃ；６５．７８％、Ｈ；４．５２％
ル）オキソスルホニウムメチルトリス（ｐ−フルオロフ
ェニル）ボレートの合成 ビス（ｐ−クロロフェニル）（ｐ−メトキシフェナシ
ル）オキソスルホニウムヘキサフルオロホスフェート
５．００ｇをアセトニトリル１００ｍｌに溶解させた溶
液に、メチルトリス（ｐ−フルオロフェニル）ほう酸リ
チウム２．６２ｇをアセトニトリル５０ｍｌに溶解させ
た溶液を加え、室温にて３０分撹拌した。その後、水２
００ｍｌを加え沈澱した黄色の油状成分を分取し、ジク
ロロメタン１００ｍｌを加えた。ジクロロメタン層を水
洗、乾燥後、濃縮し、ビス（ｐ−クロロフェニル）（ｐ
−メトキシフェナシル）オキソスルホニウムメチルトリ
ス（ｐ−フルオロフェニル）ボレート３．２６ｇを得
た。 ＦＤ−ＭＳ ｍ／ｚ ４１９（( Ｍ−Ｂ( ＣＨ3)( Ｃ6
Ｈ4 Ｆ)3) + ) 元素分析 Ｃ40Ｈ32ＢＣｌ2 Ｆ3 Ｏ3 Ｓ 理論値 Ｃ；６５．６８％、Ｈ；４．４１％ 測定値 Ｃ；６５．７８％、Ｈ；４．５２％
【００３７】実施例１４ ジフェニル（ｐ−ブロモフェナシル）オキソスルホニウ
ムフェニルトリブチルボレートの合成 ジフェニル（ｐ−ブロモフェナシル）オキソスルホニウ
ムテトラフルオロボレート５．００ｇをアセトニトリル
１００ｍｌに溶解させた溶液に、フェニルトリブチルほ
う酸リチウム２．８２ｇをアセトニトリル５０ｍｌに溶
解させた溶液を加え、室温にて３０分撹拌した。その
後、水２００ｍｌを加え沈澱した黄色の油状成分を分取
し、ジクロロメタン１００ｍｌを加えた。ジクロロメタ
ン層を水洗、乾燥後、濃縮し、ジフェニル（ｐ−ブロモ
フェナシル）オキソスルホニウムフェニルトリブチルボ
レート２．２３ｇを得た。 ＦＤ−ＭＳ ｍ／ｚ ４００（( Ｍ−Ｂ( Ｃ6 Ｈ5)( Ｃ
4 Ｈ9)3)+ ） 元素分析 Ｃ38Ｈ48ＢＢｒＯ2 Ｓ 理論値 Ｃ；７０．９２％、Ｈ；７．５２％ 測定値 Ｃ；７１．０５％、Ｈ；７．３９％
ムフェニルトリブチルボレートの合成 ジフェニル（ｐ−ブロモフェナシル）オキソスルホニウ
ムテトラフルオロボレート５．００ｇをアセトニトリル
１００ｍｌに溶解させた溶液に、フェニルトリブチルほ
う酸リチウム２．８２ｇをアセトニトリル５０ｍｌに溶
解させた溶液を加え、室温にて３０分撹拌した。その
後、水２００ｍｌを加え沈澱した黄色の油状成分を分取
し、ジクロロメタン１００ｍｌを加えた。ジクロロメタ
ン層を水洗、乾燥後、濃縮し、ジフェニル（ｐ−ブロモ
フェナシル）オキソスルホニウムフェニルトリブチルボ
レート２．２３ｇを得た。 ＦＤ−ＭＳ ｍ／ｚ ４００（( Ｍ−Ｂ( Ｃ6 Ｈ5)( Ｃ
4 Ｈ9)3)+ ） 元素分析 Ｃ38Ｈ48ＢＢｒＯ2 Ｓ 理論値 Ｃ；７０．９２％、Ｈ；７．５２％ 測定値 Ｃ；７１．０５％、Ｈ；７．３９％
【００３８】実施例１５ ジフェニルベンシルスルホニウムブチルトリフェニルボ
レートの合成 ジフェニルベンジルスルホニウムテトラフルオロボレー
ト５．００ｇをアセトニトリル１００ｍｌに溶解させた
溶液に、ブチルトリフェニルほう酸リチウム４．０５ｇ
をアセトニトリル５０ｍｌに溶解させた溶液を加え、室
温にて３０分撹拌した。その後、水２００ｍｌを加え沈
澱した黄色の油状成分を分取し、ジクロロメタン１００
ｍｌを加えた。ジクロロメタン層を水洗、乾燥後、濃縮
し、ジフェニルベンジルスルホニウムブチルトリフェニ
ルボレート２．９５ｇを得た。 ＦＤ−ＭＳ ｍ／ｚ ２７７（( Ｍ−Ｂ( Ｃ4 Ｈ9)( Ｃ
6 Ｈ5)3)+ ） 元素分析 Ｃ41Ｈ41ＢＳ 理論値 Ｃ；８５．４０％、Ｈ；７．１７％ 測定値 Ｃ；８５．３２％、Ｈ；７．０４％
レートの合成 ジフェニルベンジルスルホニウムテトラフルオロボレー
ト５．００ｇをアセトニトリル１００ｍｌに溶解させた
溶液に、ブチルトリフェニルほう酸リチウム４．０５ｇ
をアセトニトリル５０ｍｌに溶解させた溶液を加え、室
温にて３０分撹拌した。その後、水２００ｍｌを加え沈
澱した黄色の油状成分を分取し、ジクロロメタン１００
ｍｌを加えた。ジクロロメタン層を水洗、乾燥後、濃縮
し、ジフェニルベンジルスルホニウムブチルトリフェニ
ルボレート２．９５ｇを得た。 ＦＤ−ＭＳ ｍ／ｚ ２７７（( Ｍ−Ｂ( Ｃ4 Ｈ9)( Ｃ
6 Ｈ5)3)+ ） 元素分析 Ｃ41Ｈ41ＢＳ 理論値 Ｃ；８５．４０％、Ｈ；７．１７％ 測定値 Ｃ；８５．３２％、Ｈ；７．０４％
【００３９】実施例１６ ジフェニル（ｐ−シアノベンシル）スルホニウム（ｓｅ
ｃ−ブチル）トリフェニルボレートの合成 ジフェニル（ｐ−シアノベンジル）スルホニウムヘキサ
フルオロホスフェート５．００ｇをアセトニトリル１０
０ｍｌに溶解させた溶液に、ｓｅｃ−ブチルトリフェニ
ルほう酸リチウム３．３０ｇをアセトニトリル５０ｍｌ
に溶解させた溶液を加え、室温にて３０分撹拌した。そ
の後、水２００ｍｌを加え沈澱した黄色の油状成分を分
取し、ジクロロメタン１００ｍｌを加えた。ジクロロメ
タン層を水洗、乾燥後、濃縮し、ジフェニル（ｐ−シア
ノベンジル）スルホニウム（ｓｅｃ−ブチル）トリフェ
ニルボレート２．８２ｇを得た。 ＦＤ−ＭＳ ｍ／ｚ ３０２（( Ｍ−Ｂ( Ｃ4 Ｈ9)( Ｃ
6 Ｈ5)3)+ ） 元素分析 Ｃ42Ｈ40ＢＮＳ 理論値 Ｃ；８３．８５％、Ｈ；６．７０％、Ｎ；２．
３３％ 測定値 Ｃ；８３．９５％、Ｈ；６．６４％、Ｎ；２．
２８％
ｃ−ブチル）トリフェニルボレートの合成 ジフェニル（ｐ−シアノベンジル）スルホニウムヘキサ
フルオロホスフェート５．００ｇをアセトニトリル１０
０ｍｌに溶解させた溶液に、ｓｅｃ−ブチルトリフェニ
ルほう酸リチウム３．３０ｇをアセトニトリル５０ｍｌ
に溶解させた溶液を加え、室温にて３０分撹拌した。そ
の後、水２００ｍｌを加え沈澱した黄色の油状成分を分
取し、ジクロロメタン１００ｍｌを加えた。ジクロロメ
タン層を水洗、乾燥後、濃縮し、ジフェニル（ｐ−シア
ノベンジル）スルホニウム（ｓｅｃ−ブチル）トリフェ
ニルボレート２．８２ｇを得た。 ＦＤ−ＭＳ ｍ／ｚ ３０２（( Ｍ−Ｂ( Ｃ4 Ｈ9)( Ｃ
6 Ｈ5)3)+ ） 元素分析 Ｃ42Ｈ40ＢＮＳ 理論値 Ｃ；８３．８５％、Ｈ；６．７０％、Ｎ；２．
３３％ 測定値 Ｃ；８３．９５％、Ｈ；６．６４％、Ｎ；２．
２８％
【００４０】実施例１７ ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（ｐ−クロロベ
ンシル）スルホニウムメチルトリス（ｐ−メトキシフェ
ニル）ボレートの合成 ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（ｐ−クロロベ
ンシル）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート５．
００ｇをアセトニトリル１００ｍｌに溶解させた溶液
に、テトラメチルアンモニウムメチルトリス（ｐ−メト
キシフェニル）ボレート３．７０ｇをアセトニトリル５
０ｍｌに溶解させた溶液を加え、室温にて３０分撹拌し
た。その後、メタノール２００ｍｌを加え沈澱した結晶
を分取し、ジクロロメタン１００ｍｌを加えた。ジクロ
ロメタン層を水洗、乾燥後、濃縮し、ビス（ｐ−ｔｅｒ
ｔ−ブチルフェニル）（ｐ−クロロベンシル）スルホニ
ウムメチルトリス（ｐ−メトキシフェニル）ボレート
２．３１ｇを得た。 ＦＤ−ＭＳ ｍ／ｚ ４２３（( Ｍ−Ｂ( ＣＨ3)((Ｃ6
Ｈ4 ＯＣＨ3)3)+ ） 元素分析 Ｃ49Ｈ56ＢＣｌＯ3 Ｓ 理論値 Ｃ；７６．３０％、Ｈ；７．３２％ 測定値 Ｃ；７６．２１％、Ｈ；７．１８％
ンシル）スルホニウムメチルトリス（ｐ−メトキシフェ
ニル）ボレートの合成 ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（ｐ−クロロベ
ンシル）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート５．
００ｇをアセトニトリル１００ｍｌに溶解させた溶液
に、テトラメチルアンモニウムメチルトリス（ｐ−メト
キシフェニル）ボレート３．７０ｇをアセトニトリル５
０ｍｌに溶解させた溶液を加え、室温にて３０分撹拌し
た。その後、メタノール２００ｍｌを加え沈澱した結晶
を分取し、ジクロロメタン１００ｍｌを加えた。ジクロ
ロメタン層を水洗、乾燥後、濃縮し、ビス（ｐ−ｔｅｒ
ｔ−ブチルフェニル）（ｐ−クロロベンシル）スルホニ
ウムメチルトリス（ｐ−メトキシフェニル）ボレート
２．３１ｇを得た。 ＦＤ−ＭＳ ｍ／ｚ ４２３（( Ｍ−Ｂ( ＣＨ3)((Ｃ6
Ｈ4 ＯＣＨ3)3)+ ） 元素分析 Ｃ49Ｈ56ＢＣｌＯ3 Ｓ 理論値 Ｃ；７６．３０％、Ｈ；７．３２％ 測定値 Ｃ；７６．２１％、Ｈ；７．１８％
【００４１】実施例１８ ビス（ｐ−クロロフェニル）（ｐ−ブロモベンシル）ス
ルホニウム（２−フェニルエテニル）トリス（ｐ−フル
オロフェニル）ボレートの合成 ビス（ｐ−クロロフェニル）（ｐ−ブロモベンシル）ス
ルホニウムヘキサフルオロホスフェート５．００ｇをア
セトニトリル１００ｍｌに溶解させた溶液に、（２−フ
ェニルエテニル）トリス（ｐ−フルオロフェニル）ほう
酸リチウム３．５６ｇをアセトニトリル５０ｍｌに溶解
させた溶液を加え、室温にて３０分撹拌した。その後、
水２００ｍｌを加え沈澱した黄色の油状成分を分取し、
ジクロロメタン１００ｍｌを加えた。ジクロロメタン層
を水洗、乾燥後、濃縮し、ビス（ｐ−クロロフェニル）
（ｐ−ブロモベンシル）スルホニウム（２−フェニルエ
テニル）トリス（ｐ−フルオロフェニル）ボレート１．
８５ｇを得た。 ＦＤ−ＭＳ ｍ／ｚ ４２３（( Ｍ−Ｂ( ＣＨＣＨＣ6
Ｈ5)( Ｃ6 Ｈ4 Ｆ)3)+ ) 元素分析 Ｃ45Ｈ33ＢＢｒＣｌ2 Ｆ3 Ｓ 理論値 Ｃ；６５．５６％、Ｈ；４．０４％ 測定値 Ｃ；６５．４２％、Ｈ；３．９９％
ルホニウム（２−フェニルエテニル）トリス（ｐ−フル
オロフェニル）ボレートの合成 ビス（ｐ−クロロフェニル）（ｐ−ブロモベンシル）ス
ルホニウムヘキサフルオロホスフェート５．００ｇをア
セトニトリル１００ｍｌに溶解させた溶液に、（２−フ
ェニルエテニル）トリス（ｐ−フルオロフェニル）ほう
酸リチウム３．５６ｇをアセトニトリル５０ｍｌに溶解
させた溶液を加え、室温にて３０分撹拌した。その後、
水２００ｍｌを加え沈澱した黄色の油状成分を分取し、
ジクロロメタン１００ｍｌを加えた。ジクロロメタン層
を水洗、乾燥後、濃縮し、ビス（ｐ−クロロフェニル）
（ｐ−ブロモベンシル）スルホニウム（２−フェニルエ
テニル）トリス（ｐ−フルオロフェニル）ボレート１．
８５ｇを得た。 ＦＤ−ＭＳ ｍ／ｚ ４２３（( Ｍ−Ｂ( ＣＨＣＨＣ6
Ｈ5)( Ｃ6 Ｈ4 Ｆ)3)+ ) 元素分析 Ｃ45Ｈ33ＢＢｒＣｌ2 Ｆ3 Ｓ 理論値 Ｃ；６５．５６％、Ｈ；４．０４％ 測定値 Ｃ；６５．４２％、Ｈ；３．９９％
【００４２】実施例１９ フェニル（１−ナフチル）（１−ナフチルメチル）スル
ホニウムアリルトリス（ｐ−ブロモフェニル）ボレート
の合成 フェニル（１−ナフチル）（１−ナフチルメチル）スル
ホニウムヘキサフルオロアンチモネート５．００ｇをア
セトン１００ｍｌに溶解させた溶液に、アリルトリス
（ｐ−ブロモフェニル）ほう酸リチウム４．３０ｇをア
セトニトリル５０ｍｌに溶解させた溶液を加え、室温に
て３０分撹拌した。その後、水２００ｍｌを加え沈澱し
た黄色の油状成分を分取し、ジクロロメタン１００ｍｌ
を加えた。ジクロロメタン層を水洗、乾燥後、濃縮し、
フェニル（１−ナフチル）（１−ナフチルメチル）スル
ホニウムアリルトリス（ｐ−ブロモフェニル）ボレート
２．５２ｇを得た。 ＦＤ−ＭＳ ｍ／ｚ ３７７（( Ｍ−Ｂ( ＣＨ2 ＣＨＣ
Ｈ2)( Ｃ6 Ｈ4 Ｂｒ)3) + ） 元素分析 Ｃ48Ｈ38ＢＢｒ3 Ｓ 理論値 Ｃ；６４．２４％、Ｈ；４．２７％ 測定値 Ｃ；６４．３６％、Ｈ；４．２２％
ホニウムアリルトリス（ｐ−ブロモフェニル）ボレート
の合成 フェニル（１−ナフチル）（１−ナフチルメチル）スル
ホニウムヘキサフルオロアンチモネート５．００ｇをア
セトン１００ｍｌに溶解させた溶液に、アリルトリス
（ｐ−ブロモフェニル）ほう酸リチウム４．３０ｇをア
セトニトリル５０ｍｌに溶解させた溶液を加え、室温に
て３０分撹拌した。その後、水２００ｍｌを加え沈澱し
た黄色の油状成分を分取し、ジクロロメタン１００ｍｌ
を加えた。ジクロロメタン層を水洗、乾燥後、濃縮し、
フェニル（１−ナフチル）（１−ナフチルメチル）スル
ホニウムアリルトリス（ｐ−ブロモフェニル）ボレート
２．５２ｇを得た。 ＦＤ−ＭＳ ｍ／ｚ ３７７（( Ｍ−Ｂ( ＣＨ2 ＣＨＣ
Ｈ2)( Ｃ6 Ｈ4 Ｂｒ)3) + ） 元素分析 Ｃ48Ｈ38ＢＢｒ3 Ｓ 理論値 Ｃ；６４．２４％、Ｈ；４．２７％ 測定値 Ｃ；６４．３６％、Ｈ；４．２２％
【００４３】実施例２０ フェニル（ｐ−フェニルチオフェニル）（ｐ−ニトロベ
ンジル）スルホニウムベンジルトリフェニルボレートの
合成 フェニル（ｐ−フェニルチオフェニル）（ｐ−ニトロベ
ンジル）スルホニウムパークロレート５．００ｇをアセ
トニトリル１００ｍｌに溶解させた溶液に、ベンジルト
リフェニルほう酸リチウム３．２１ｇをアセトニトリル
５０ｍｌに溶解させた溶液を加え、室温にて３０分撹拌
した。その後、水２００ｍｌを加え沈澱した黄色の油状
成分を分取し、ジクロロメタン１００ｍｌを加えた。ジ
クロロメタン層を水洗、乾燥後、濃縮し、フェニル（ｐ
−フェニルチオフェニル）（ｐ−ニトロベンジル）スル
ホニウムベンジルトリフェニルボレート２．４２ｇを得
た。 ＦＤ−ＭＳ ｍ／ｚ ４３０（( Ｍ−Ｂ( ＣＨ2 Ｃ6 Ｈ
5)((Ｃ6 Ｈ5)3)+ ） 元素分析 Ｃ50Ｈ42ＢＮＯ2 Ｓ2 理論値 Ｃ；７８．６２％、Ｈ；５．５４％、Ｎ；１．
８３％ 測定値 Ｃ；７８．５４％、Ｈ；５．４１％、Ｎ；１．
８６％
ンジル）スルホニウムベンジルトリフェニルボレートの
合成 フェニル（ｐ−フェニルチオフェニル）（ｐ−ニトロベ
ンジル）スルホニウムパークロレート５．００ｇをアセ
トニトリル１００ｍｌに溶解させた溶液に、ベンジルト
リフェニルほう酸リチウム３．２１ｇをアセトニトリル
５０ｍｌに溶解させた溶液を加え、室温にて３０分撹拌
した。その後、水２００ｍｌを加え沈澱した黄色の油状
成分を分取し、ジクロロメタン１００ｍｌを加えた。ジ
クロロメタン層を水洗、乾燥後、濃縮し、フェニル（ｐ
−フェニルチオフェニル）（ｐ−ニトロベンジル）スル
ホニウムベンジルトリフェニルボレート２．４２ｇを得
た。 ＦＤ−ＭＳ ｍ／ｚ ４３０（( Ｍ−Ｂ( ＣＨ2 Ｃ6 Ｈ
5)((Ｃ6 Ｈ5)3)+ ） 元素分析 Ｃ50Ｈ42ＢＮＯ2 Ｓ2 理論値 Ｃ；７８．６２％、Ｈ；５．５４％、Ｎ；１．
８３％ 測定値 Ｃ；７８．５４％、Ｈ；５．４１％、Ｎ；１．
８６％
【００４４】実施例２１ ジフェニル（ｐ−メチルベンジル）スルホニウム（ｔｅ
ｒｔ−ブチル）トリエチルボレートの合成 ジフェニル（ｐ−メチルベンジル）スルホニウムヘキサ
フルオロアルセネート５．００ｇをアセトニトリル１０
０ｍｌに溶解させた溶液に、ｔｅｒｔ−ブチルトリエチ
ルほう酸リチウム１．６９ｇをアセトニトリル５０ｍｌ
に溶解させた溶液を加え、室温にて３０分撹拌した。そ
の後、水２００ｍｌを加え沈澱した黄色の油状成分を分
取し、ジクロロメタン１００ｍｌを加えた。ジクロロメ
タン層を水洗、乾燥後、濃縮し、ジフェニル（ｐ−メチ
ルベンジル）スルホニウム（ｔｅｒｔ−ブチル）トリエ
チルボレート１．２８ｇを得た。 ＦＤ−ＭＳ ｍ／ｚ ２９１（( Ｍ−Ｂ( ＣＨ2 Ｃ6 Ｈ
4 ＣＨ3)((Ｃ2 Ｈ5)3)+ ） 元素分析 Ｃ30Ｈ43ＢＳ 理論値 Ｃ；８０．６９％、Ｈ；９．７１％ 測定値 Ｃ；８０．４２％、Ｈ；９．６２％
ｒｔ−ブチル）トリエチルボレートの合成 ジフェニル（ｐ−メチルベンジル）スルホニウムヘキサ
フルオロアルセネート５．００ｇをアセトニトリル１０
０ｍｌに溶解させた溶液に、ｔｅｒｔ−ブチルトリエチ
ルほう酸リチウム１．６９ｇをアセトニトリル５０ｍｌ
に溶解させた溶液を加え、室温にて３０分撹拌した。そ
の後、水２００ｍｌを加え沈澱した黄色の油状成分を分
取し、ジクロロメタン１００ｍｌを加えた。ジクロロメ
タン層を水洗、乾燥後、濃縮し、ジフェニル（ｐ−メチ
ルベンジル）スルホニウム（ｔｅｒｔ−ブチル）トリエ
チルボレート１．２８ｇを得た。 ＦＤ−ＭＳ ｍ／ｚ ２９１（( Ｍ−Ｂ( ＣＨ2 Ｃ6 Ｈ
4 ＣＨ3)((Ｃ2 Ｈ5)3)+ ） 元素分析 Ｃ30Ｈ43ＢＳ 理論値 Ｃ；８０．６９％、Ｈ；９．７１％ 測定値 Ｃ；８０．４２％、Ｈ；９．６２％
【００４５】実施例２２ ジフェニル（ｐ−メトキシベンジル）スルホニウムフェ
ニルトリブチルボレートの合成 ジフェニル（ｐ−メトキシベンジル）スルホニウムテト
ラフルオロボレート５．００ｇをアセトニトリル１００
ｍｌに溶解させた溶液に、フェニルトリブチルほう酸リ
チウム３．２６ｇをアセトニトリル５０ｍｌに溶解させ
た溶液を加え、室温にて３０分撹拌した。その後、水２
００ｍｌを加え沈澱した黄色の油状成分を分取し、ジク
ロロメタン１００ｍｌを加えた。ジクロロメタン層を水
洗、乾燥後、濃縮し、ジフェニル（ｐ−メトキシベンジ
ル）スルホニウムフェニルトリブチルボレート１．９９
ｇを得た。 ＦＤ−ＭＳ ｍ／ｚ ３０７（( Ｍ−Ｂ( Ｃ6 Ｈ5)((Ｃ
4 Ｈ9)3)+ ） 元素分析 Ｃ38Ｈ51ＢＯＳ 理論値 Ｃ；８０．５４％、Ｈ；９．０７％ 測定値 Ｃ；８０．５３％、Ｈ；９．１２％
ニルトリブチルボレートの合成 ジフェニル（ｐ−メトキシベンジル）スルホニウムテト
ラフルオロボレート５．００ｇをアセトニトリル１００
ｍｌに溶解させた溶液に、フェニルトリブチルほう酸リ
チウム３．２６ｇをアセトニトリル５０ｍｌに溶解させ
た溶液を加え、室温にて３０分撹拌した。その後、水２
００ｍｌを加え沈澱した黄色の油状成分を分取し、ジク
ロロメタン１００ｍｌを加えた。ジクロロメタン層を水
洗、乾燥後、濃縮し、ジフェニル（ｐ−メトキシベンジ
ル）スルホニウムフェニルトリブチルボレート１．９９
ｇを得た。 ＦＤ−ＭＳ ｍ／ｚ ３０７（( Ｍ−Ｂ( Ｃ6 Ｈ5)((Ｃ
4 Ｈ9)3)+ ） 元素分析 Ｃ38Ｈ51ＢＯＳ 理論値 Ｃ；８０．５４％、Ｈ；９．０７％ 測定値 Ｃ；８０．５３％、Ｈ；９．１２％
【００４６】実施例２３ ジフェニル（ｐ−フェニルチオベンジル）スルホニウム
ベンジルトリエチルボレートの合成 ジフェニル（ｐ−フェニルチオベンジル）スルホニウム
ヘキサフルオロホスフェート５．００ｇをアセトニトリ
ル１００ｍｌに溶解させた溶液に、ベンジルトリエチル
ほう酸リチウム１．８５ｇをアセトニトリル５０ｍｌに
溶解させた溶液を加え、室温にて３０分撹拌した。その
後、水２００ｍｌを加え沈澱した黄色の油状成分を分取
し、ジクロロメタン１００ｍｌを加えた。ジクロロメタ
ン層を水洗、乾燥後、濃縮し、ジフェニル（ｐ−フェニ
ルチオベンジル）スルホニウムベンジルトリエチルボレ
ート２．０４ｇを得た。 ＦＤ−ＭＳ ｍ／ｚ ３８５（( Ｍ−Ｂ( ＣＨ2 Ｃ6 Ｈ
5)((Ｃ2 Ｈ5)3)+ ） 元素分析 Ｃ38Ｈ43ＢＳ2 理論値 Ｃ；７９．４２％、Ｈ；７．５４％ 測定値 Ｃ；７９．３１％、Ｈ；７．３９％
ベンジルトリエチルボレートの合成 ジフェニル（ｐ−フェニルチオベンジル）スルホニウム
ヘキサフルオロホスフェート５．００ｇをアセトニトリ
ル１００ｍｌに溶解させた溶液に、ベンジルトリエチル
ほう酸リチウム１．８５ｇをアセトニトリル５０ｍｌに
溶解させた溶液を加え、室温にて３０分撹拌した。その
後、水２００ｍｌを加え沈澱した黄色の油状成分を分取
し、ジクロロメタン１００ｍｌを加えた。ジクロロメタ
ン層を水洗、乾燥後、濃縮し、ジフェニル（ｐ−フェニ
ルチオベンジル）スルホニウムベンジルトリエチルボレ
ート２．０４ｇを得た。 ＦＤ−ＭＳ ｍ／ｚ ３８５（( Ｍ−Ｂ( ＣＨ2 Ｃ6 Ｈ
5)((Ｃ2 Ｈ5)3)+ ） 元素分析 Ｃ38Ｈ43ＢＳ2 理論値 Ｃ；７９．４２％、Ｈ；７．５４％ 測定値 Ｃ；７９．３１％、Ｈ；７．３９％
【００４７】実施例２４ ジフェニルベンシルオキソスルホニウムブチルトリフェ
ニルボレートの合成ジフェニルベンジルオキソスルホニ
ウムテトラフルオロボレート５．００ｇをアセトニトリ
ル１００ｍｌに溶解させた溶液に、ブチルトリフェニル
ほう酸リチウム４．００ｇをテトラヒドロフラン５０ｍ
ｌに溶解させた溶液を加え、室温にて３０分撹拌した。
その後、水２００ｍｌを加え沈澱した黄色の油状成分を
分取し、ジクロロメタン１００ｍｌを加えた。ジクロロ
メタン層を水洗、乾燥後、濃縮し、ジフェニルベンジル
オキソスルホニウムブチルトリフェニルボレート２．７
８ｇを得た。 ＦＤ−ＭＳ ｍ／ｚ ２９３（( Ｍ−Ｂ( Ｃ4 Ｈ9)( Ｃ
6 Ｈ5)3)+ ） 元素分析 Ｃ41Ｈ41ＢＯＳ 理論値 Ｃ；８３．０９％、Ｈ；６．９７％ 測定値 Ｃ；８３．１５％、Ｈ；７．０１％
ニルボレートの合成ジフェニルベンジルオキソスルホニ
ウムテトラフルオロボレート５．００ｇをアセトニトリ
ル１００ｍｌに溶解させた溶液に、ブチルトリフェニル
ほう酸リチウム４．００ｇをテトラヒドロフラン５０ｍ
ｌに溶解させた溶液を加え、室温にて３０分撹拌した。
その後、水２００ｍｌを加え沈澱した黄色の油状成分を
分取し、ジクロロメタン１００ｍｌを加えた。ジクロロ
メタン層を水洗、乾燥後、濃縮し、ジフェニルベンジル
オキソスルホニウムブチルトリフェニルボレート２．７
８ｇを得た。 ＦＤ−ＭＳ ｍ／ｚ ２９３（( Ｍ−Ｂ( Ｃ4 Ｈ9)( Ｃ
6 Ｈ5)3)+ ） 元素分析 Ｃ41Ｈ41ＢＯＳ 理論値 Ｃ；８３．０９％、Ｈ；６．９７％ 測定値 Ｃ；８３．１５％、Ｈ；７．０１％
【００４８】実施例２５ ジフェニル（ｐ−シアノベンシル）オキソスルホニウム
（ｓｅｃ−ブチル）トリフェニルボレートの合成 ジフェニル（ｐ−シアノベンジル）オキソスルホニウム
ヘキサフルオロホスフェート５．００ｇをジオキサン１
００ｍｌに溶解させた溶液に、ｓｅｃ−ブチルトリフェ
ニルほう酸リチウム３．２５ｇをジオキサン５０ｍｌに
溶解させた溶液を加え、室温にて３０分撹拌した。その
後、メタノール２００ｍｌを加え沈澱した結晶を分取
し、ジクロロメタン１００ｍｌを加えた。ジクロロメタ
ン層を水洗、乾燥後、濃縮し、ジフェニル（ｐ−シアノ
ベンジル）オキソスルホニウム（ｓｅｃ−ブチル）トリ
フェニルボレート２．４１ｇを得た。 ＦＤ−ＭＳ ｍ／ｚ ３１８（( Ｍ−Ｂ( Ｃ4 Ｈ9)( Ｃ
6 Ｈ5)3)+ ） 元素分析 Ｃ42Ｈ40ＢＮＯＳ 理論値 Ｃ；８１．６７％、Ｈ；６．５３％、Ｎ；２．
２７％ 測定値 Ｃ；８１．４９％、Ｈ；６．４７％、Ｎ；２．
２９％
（ｓｅｃ−ブチル）トリフェニルボレートの合成 ジフェニル（ｐ−シアノベンジル）オキソスルホニウム
ヘキサフルオロホスフェート５．００ｇをジオキサン１
００ｍｌに溶解させた溶液に、ｓｅｃ−ブチルトリフェ
ニルほう酸リチウム３．２５ｇをジオキサン５０ｍｌに
溶解させた溶液を加え、室温にて３０分撹拌した。その
後、メタノール２００ｍｌを加え沈澱した結晶を分取
し、ジクロロメタン１００ｍｌを加えた。ジクロロメタ
ン層を水洗、乾燥後、濃縮し、ジフェニル（ｐ−シアノ
ベンジル）オキソスルホニウム（ｓｅｃ−ブチル）トリ
フェニルボレート２．４１ｇを得た。 ＦＤ−ＭＳ ｍ／ｚ ３１８（( Ｍ−Ｂ( Ｃ4 Ｈ9)( Ｃ
6 Ｈ5)3)+ ） 元素分析 Ｃ42Ｈ40ＢＮＯＳ 理論値 Ｃ；８１．６７％、Ｈ；６．５３％、Ｎ；２．
２７％ 測定値 Ｃ；８１．４９％、Ｈ；６．４７％、Ｎ；２．
２９％
【００４９】実施例２６ ビス（ｐ−クロロフェニル）（ｐ−ブロモベンシル）オ
キソスルホニウム（２−フェニルエテニル）トリス（ｐ
−フルオロフェニル）ボレートの合成 ビス（ｐ−クロロフェニル）（ｐ−ブロモベンシル）オ
キソスルホニウムヘキサフルオロホスフェート５．００
ｇをアセトニトリル１００ｍｌに溶解させた溶液に、
（２−フェニルエテニル）トリス（ｐ−フルオロフェニ
ル）ほう酸リチウム３．４８ｇをアセトニトリル５０ｍ
ｌに溶解させた溶液を加え、室温にて３０分撹拌した。
その後、水２００ｍｌを加え沈澱した黄色の油状成分を
分取し、ジクロロメタン１００ｍｌを加えた。ジクロロ
メタン層を水洗、乾燥後、濃縮し、ビス（ｐ−クロロフ
ェニル）（ｐ−ブロモベンシル）オキソスルホニウム
（２−フェニルエテニル）トリス（ｐ−フルオロフェニ
ル）ボレート１．９５ｇを得た。 ＦＤ−ＭＳ ｍ／ｚ ４３９（( Ｍ−Ｂ( ＣＨＣＨＣ6
Ｈ5)( Ｃ6 Ｈ4 Ｆ)3)+ ） 元素分析 Ｃ45Ｈ33ＢＢｒＣｌ2 Ｆ3 ＯＳ 理論値 Ｃ；６４．３１％、Ｈ；３．９６％ 測定値 Ｃ；６４．１２％、Ｈ；３．９２％
キソスルホニウム（２−フェニルエテニル）トリス（ｐ
−フルオロフェニル）ボレートの合成 ビス（ｐ−クロロフェニル）（ｐ−ブロモベンシル）オ
キソスルホニウムヘキサフルオロホスフェート５．００
ｇをアセトニトリル１００ｍｌに溶解させた溶液に、
（２−フェニルエテニル）トリス（ｐ−フルオロフェニ
ル）ほう酸リチウム３．４８ｇをアセトニトリル５０ｍ
ｌに溶解させた溶液を加え、室温にて３０分撹拌した。
その後、水２００ｍｌを加え沈澱した黄色の油状成分を
分取し、ジクロロメタン１００ｍｌを加えた。ジクロロ
メタン層を水洗、乾燥後、濃縮し、ビス（ｐ−クロロフ
ェニル）（ｐ−ブロモベンシル）オキソスルホニウム
（２−フェニルエテニル）トリス（ｐ−フルオロフェニ
ル）ボレート１．９５ｇを得た。 ＦＤ−ＭＳ ｍ／ｚ ４３９（( Ｍ−Ｂ( ＣＨＣＨＣ6
Ｈ5)( Ｃ6 Ｈ4 Ｆ)3)+ ） 元素分析 Ｃ45Ｈ33ＢＢｒＣｌ2 Ｆ3 ＯＳ 理論値 Ｃ；６４．３１％、Ｈ；３．９６％ 測定値 Ｃ；６４．１２％、Ｈ；３．９２％
【００５０】実施例２７ ジフェニル（ｐ−メトキシベンジル）オキソスルホニウ
ムフェニルトリブチルボレートの合成 ジフェニル（ｐ−メトキシベンジル）オキソスルホニウ
ムテトラフルオロボレート５．００ｇをアセトニトリル
１００ｍｌに溶解させた溶液に、フェニルトリブチルほ
う酸リチウム３．１４ｇをアセトニトリル５０ｍｌに溶
解させた溶液を加え、室温にて３０分撹拌した。その
後、水２００ｍｌを加え沈澱した黄色の油状成分を分取
し、ジクロロメタン１００ｍｌを加えた。ジクロロメタ
ン層を水洗、乾燥後、濃縮し、ジフェニル（ｐ−メトキ
シベンジル）オキソスルホニウムフェニルトリブチルボ
レート２．２５ｇを得た。 ＦＤ−ＭＳ ｍ／ｚ ３２３（( Ｍ−Ｂ( Ｃ6 Ｈ5)((Ｃ
4 Ｈ9)3)+ ） 元素分析 Ｃ38Ｈ51ＢＯ2 Ｓ 理論値 Ｃ；７８．３３％、Ｈ；８．８２％ 測定値 Ｃ；７８．１２％、Ｈ；８．９２％
ムフェニルトリブチルボレートの合成 ジフェニル（ｐ−メトキシベンジル）オキソスルホニウ
ムテトラフルオロボレート５．００ｇをアセトニトリル
１００ｍｌに溶解させた溶液に、フェニルトリブチルほ
う酸リチウム３．１４ｇをアセトニトリル５０ｍｌに溶
解させた溶液を加え、室温にて３０分撹拌した。その
後、水２００ｍｌを加え沈澱した黄色の油状成分を分取
し、ジクロロメタン１００ｍｌを加えた。ジクロロメタ
ン層を水洗、乾燥後、濃縮し、ジフェニル（ｐ−メトキ
シベンジル）オキソスルホニウムフェニルトリブチルボ
レート２．２５ｇを得た。 ＦＤ−ＭＳ ｍ／ｚ ３２３（( Ｍ−Ｂ( Ｃ6 Ｈ5)((Ｃ
4 Ｈ9)3)+ ） 元素分析 Ｃ38Ｈ51ＢＯ2 Ｓ 理論値 Ｃ；７８．３３％、Ｈ；８．８２％ 測定値 Ｃ；７８．１２％、Ｈ；８．９２％
【００５１】実施例２８ ジフェニルアリルスルホニウムブチルトリフェニルボレ
ートの合成 ジフェニルアリルスルホニウムテトラフルオロボレート
５．００ｇをアセトニトリル１００ｍｌに溶解させた溶
液に、ブチルトリフェニルほう酸リチウム４．７０ｇを
アセトニトリル５０ｍｌに溶解させた溶液を加え、室温
にて３０分撹拌した。その後、水２００ｍｌを加え沈澱
した黄色の油状成分を分取し、ジクロロメタン１００ｍ
ｌを加えた。ジクロロメタン層を水洗、乾燥後、濃縮
し、ジフェニルアリルスルホニウムブチルトリフェニル
ボレート３．８７ｇを得た。 ＦＤ−ＭＳ ｍ／ｚ ２２７（( Ｍ−Ｂ( Ｃ4 Ｈ9)( Ｃ
6 Ｈ5)3)+ ） 元素分析 Ｃ37Ｈ39ＢＳ 理論値 Ｃ；８４．３９％、Ｈ；７．４７％ 測定値 Ｃ；８４．４２％、Ｈ；７．３４％
ートの合成 ジフェニルアリルスルホニウムテトラフルオロボレート
５．００ｇをアセトニトリル１００ｍｌに溶解させた溶
液に、ブチルトリフェニルほう酸リチウム４．７０ｇを
アセトニトリル５０ｍｌに溶解させた溶液を加え、室温
にて３０分撹拌した。その後、水２００ｍｌを加え沈澱
した黄色の油状成分を分取し、ジクロロメタン１００ｍ
ｌを加えた。ジクロロメタン層を水洗、乾燥後、濃縮
し、ジフェニルアリルスルホニウムブチルトリフェニル
ボレート３．８７ｇを得た。 ＦＤ−ＭＳ ｍ／ｚ ２２７（( Ｍ−Ｂ( Ｃ4 Ｈ9)( Ｃ
6 Ｈ5)3)+ ） 元素分析 Ｃ37Ｈ39ＢＳ 理論値 Ｃ；８４．３９％、Ｈ；７．４７％ 測定値 Ｃ；８４．４２％、Ｈ；７．３４％
【００５２】実施例２９ ジフェニル（３，３−ジシアノ−２−フェニル−２−プ
ロペニル）スルホニウム（ｓｅｃ−ブチル）トリフェニ
ルボレートの合成 ジフェニル（３，３−ジシアノ−２−フェニル−２−プ
ロペニル）スルホニウムテトラフルオロボレート５．０
０ｇをアセトニトリル１００ｍｌに溶解させた溶液に、
ｓｅｃ−ブチルトリフェニルほう酸リチウム３．３５ｇ
をアセトニトリル５０ｍｌに溶解させた溶液を加え、室
温にて３０分撹拌した。その後、水２００ｍｌを加え沈
澱した黄色の油状成分を分取し、ジクロロメタン１００
ｍｌを加えた。ジクロロメタン層を水洗、乾燥後、濃縮
し、ジフェニル（３，３−ジシアノ−２−フェニル−２
−プロペニル）スルホニウム（ｓｅｃ−ブチル）トリフ
ェニルボレート２．８７ｇを得た。 ＦＤ−ＭＳ ｍ／ｚ ３５３（( Ｍ−Ｂ( Ｃ4 Ｈ9)( Ｃ
6 Ｈ5)3)+ ） 元素分析 Ｃ45Ｈ41ＢＮ2 Ｓ 理論値 Ｃ；８２．８１％、Ｈ；６．３３％、Ｎ；４．
２９％ 測定値 Ｃ；８２．７２％、Ｈ；６．２７％、Ｎ；４．
３４％
ロペニル）スルホニウム（ｓｅｃ−ブチル）トリフェニ
ルボレートの合成 ジフェニル（３，３−ジシアノ−２−フェニル−２−プ
ロペニル）スルホニウムテトラフルオロボレート５．０
０ｇをアセトニトリル１００ｍｌに溶解させた溶液に、
ｓｅｃ−ブチルトリフェニルほう酸リチウム３．３５ｇ
をアセトニトリル５０ｍｌに溶解させた溶液を加え、室
温にて３０分撹拌した。その後、水２００ｍｌを加え沈
澱した黄色の油状成分を分取し、ジクロロメタン１００
ｍｌを加えた。ジクロロメタン層を水洗、乾燥後、濃縮
し、ジフェニル（３，３−ジシアノ−２−フェニル−２
−プロペニル）スルホニウム（ｓｅｃ−ブチル）トリフ
ェニルボレート２．８７ｇを得た。 ＦＤ−ＭＳ ｍ／ｚ ３５３（( Ｍ−Ｂ( Ｃ4 Ｈ9)( Ｃ
6 Ｈ5)3)+ ） 元素分析 Ｃ45Ｈ41ＢＮ2 Ｓ 理論値 Ｃ；８２．８１％、Ｈ；６．３３％、Ｎ；４．
２９％ 測定値 Ｃ；８２．７２％、Ｈ；６．２７％、Ｎ；４．
３４％
【００５３】実施例３０ ビス（ｐ−クロロフェニル）（３，３−ジシアノ−２−
メチル−２−プロペニル）スルホニウムメチルトリス
（ｐ−メトキシフェニル）ボレートの合成 ビス（ｐ−クロロフェニル）（３，３−ジシアノ−２−
メチル−２−プロペニル）スルホニウムヘキサフルオロ
ホスフェート５．００ｇをアセトニトリル１００ｍｌに
溶解させた溶液に、テトラメチルアンモニウムメチルト
リス（ｐ−メトキシフェニル）ボレート４．１７ｇをア
セトニトリル５０ｍｌに溶解させた溶液を加え、室温に
て３０分撹拌した。その後、水２００ｍｌを加え沈澱し
た黄色の油状成分を分取し、ジクロロメタン１００ｍｌ
を加えた。ジクロロメタン層を水洗、乾燥後、濃縮し、
ビス（ｐ−クロロフェニル）（３，３−ジシアノ−２−
メチル−２−プロペニル）スルホニウムメチルトリス
（ｐ−メトキシフェニル）ボレート２．８５ｇを得た。 ＦＤ−ＭＳ ｍ／ｚ ３５９（( Ｍ−Ｂ( ＣＨ3)( Ｃ6
Ｈ4 ＯＣＨ3)3)+ ） 元素分析 Ｃ40Ｈ37ＢＣｌ2 Ｎ2 Ｏ3 Ｓ 理論値 Ｃ；６７．９０％、Ｈ；５．２７％、Ｎ；３．
９６％ 測定値 Ｃ；６８．０２％、Ｈ；５．３４％、Ｎ；４．
０２％
メチル−２−プロペニル）スルホニウムメチルトリス
（ｐ−メトキシフェニル）ボレートの合成 ビス（ｐ−クロロフェニル）（３，３−ジシアノ−２−
メチル−２−プロペニル）スルホニウムヘキサフルオロ
ホスフェート５．００ｇをアセトニトリル１００ｍｌに
溶解させた溶液に、テトラメチルアンモニウムメチルト
リス（ｐ−メトキシフェニル）ボレート４．１７ｇをア
セトニトリル５０ｍｌに溶解させた溶液を加え、室温に
て３０分撹拌した。その後、水２００ｍｌを加え沈澱し
た黄色の油状成分を分取し、ジクロロメタン１００ｍｌ
を加えた。ジクロロメタン層を水洗、乾燥後、濃縮し、
ビス（ｐ−クロロフェニル）（３，３−ジシアノ−２−
メチル−２−プロペニル）スルホニウムメチルトリス
（ｐ−メトキシフェニル）ボレート２．８５ｇを得た。 ＦＤ−ＭＳ ｍ／ｚ ３５９（( Ｍ−Ｂ( ＣＨ3)( Ｃ6
Ｈ4 ＯＣＨ3)3)+ ） 元素分析 Ｃ40Ｈ37ＢＣｌ2 Ｎ2 Ｏ3 Ｓ 理論値 Ｃ；６７．９０％、Ｈ；５．２７％、Ｎ；３．
９６％ 測定値 Ｃ；６８．０２％、Ｈ；５．３４％、Ｎ；４．
０２％
【００５４】実施例３１ ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）［３，３−ビス
（メトキシカルボニル）−２−フェニル−２−プロペニ
ル］スルホニウムビニルトリス（ｐ−フルオロフェニ
ル）ボレートの合成 ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）［３，３−ビス
（メトキシカルボニル）−２−フェニル−２−プロペニ
ル］スルホニウムパークロレート５．００ｇをアセトニ
トリル１００ｍｌに溶解させた溶液に、ビニルトリス
（ｐ−フルオロフェニル）ほう酸リチウム４．１７ｇを
アセトニトリル５０ｍｌに溶解させた溶液を加え、室温
にて３０分撹拌した。その後、水２００ｍｌを加え沈澱
した黄色の油状成分を分取し、ジクロロメタン１００ｍ
ｌを加えた。ジクロロメタン層を水洗、乾燥後、濃縮
し、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）［３，３−
ビス（メトキシカルボニル）−２−フェニル−２−プロ
ペニル］スルホニウムビニルトリス（ｐ−フルオロフェ
ニル）ボレート２．８５ｇを得た。 ＦＤ−ＭＳ ｍ／ｚ ５３１（( Ｍ−Ｂ( ＣＨＣＨ2)(
Ｃ6 Ｈ4 Ｆ)3) + ） 元素分析 Ｃ53Ｈ54ＢＦ3 Ｏ4 Ｓ 理論値 Ｃ；７４．４７％、Ｈ；６．３７％ 測定値 Ｃ；７４．５６％、Ｈ；６．２９％
（メトキシカルボニル）−２−フェニル−２−プロペニ
ル］スルホニウムビニルトリス（ｐ−フルオロフェニ
ル）ボレートの合成 ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）［３，３−ビス
（メトキシカルボニル）−２−フェニル−２−プロペニ
ル］スルホニウムパークロレート５．００ｇをアセトニ
トリル１００ｍｌに溶解させた溶液に、ビニルトリス
（ｐ−フルオロフェニル）ほう酸リチウム４．１７ｇを
アセトニトリル５０ｍｌに溶解させた溶液を加え、室温
にて３０分撹拌した。その後、水２００ｍｌを加え沈澱
した黄色の油状成分を分取し、ジクロロメタン１００ｍ
ｌを加えた。ジクロロメタン層を水洗、乾燥後、濃縮
し、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）［３，３−
ビス（メトキシカルボニル）−２−フェニル−２−プロ
ペニル］スルホニウムビニルトリス（ｐ−フルオロフェ
ニル）ボレート２．８５ｇを得た。 ＦＤ−ＭＳ ｍ／ｚ ５３１（( Ｍ−Ｂ( ＣＨＣＨ2)(
Ｃ6 Ｈ4 Ｆ)3) + ） 元素分析 Ｃ53Ｈ54ＢＦ3 Ｏ4 Ｓ 理論値 Ｃ；７４．４７％、Ｈ；６．３７％ 測定値 Ｃ；７４．５６％、Ｈ；６．２９％
【００５５】実施例３２ ビス（ｐ−フルオロフェニル）（３，３−ジシアノ−２
−ｐ−トリル−２−プロペニル）スルホニウムフェニル
トリブチルボレートの合成 ビス（ｐ−フルオロフェニル）（３，３−ジシアノ−２
−ｐ−トリル−２−プロペニル）スルホニウム（ｐ−ト
ルエンスルホネート）５．００ｇをアセトニトリル１０
０ｍｌに溶解させた溶液に、フェニルトリブチルほう酸
リチウム２．３８ｇをアセトニトリル５０ｍｌに溶解さ
せた溶液を加え、室温にて３０分撹拌した。その後、水
２００ｍｌを加え沈澱した黄色の油状成分を分取し、ジ
クロロメタン１００ｍｌを加えた。ジクロロメタン層を
水洗、乾燥後、濃縮し、ビス（ｐ−フルオロフェニル）
（３，３−ジシアノ−２−ｐ−トリル−２−プロペニ
ル）スルホニウムフェニルトリブチルボレート２．０９
ｇを得た。 ＦＤ−ＭＳ ｍ／ｚ ４０３（( Ｍ−Ｂ( Ｃ6 Ｈ5)( Ｃ
4 Ｈ9)3)+ ） 元素分析 Ｃ42Ｈ46ＢＦ2 Ｎ2 Ｓ 理論値 Ｃ；７６．１２％、Ｈ；７．４５％、Ｎ；４．
２３％ 測定値 Ｃ；７６．２３％、Ｈ；７．３９％、Ｎ；４．
３２％
−ｐ−トリル−２−プロペニル）スルホニウムフェニル
トリブチルボレートの合成 ビス（ｐ−フルオロフェニル）（３，３−ジシアノ−２
−ｐ−トリル−２−プロペニル）スルホニウム（ｐ−ト
ルエンスルホネート）５．００ｇをアセトニトリル１０
０ｍｌに溶解させた溶液に、フェニルトリブチルほう酸
リチウム２．３８ｇをアセトニトリル５０ｍｌに溶解さ
せた溶液を加え、室温にて３０分撹拌した。その後、水
２００ｍｌを加え沈澱した黄色の油状成分を分取し、ジ
クロロメタン１００ｍｌを加えた。ジクロロメタン層を
水洗、乾燥後、濃縮し、ビス（ｐ−フルオロフェニル）
（３，３−ジシアノ−２−ｐ−トリル−２−プロペニ
ル）スルホニウムフェニルトリブチルボレート２．０９
ｇを得た。 ＦＤ−ＭＳ ｍ／ｚ ４０３（( Ｍ−Ｂ( Ｃ6 Ｈ5)( Ｃ
4 Ｈ9)3)+ ） 元素分析 Ｃ42Ｈ46ＢＦ2 Ｎ2 Ｓ 理論値 Ｃ；７６．１２％、Ｈ；７．４５％、Ｎ；４．
２３％ 測定値 Ｃ；７６．２３％、Ｈ；７．３９％、Ｎ；４．
３２％
【００５６】実施例３３ フェニル（１−ナフチル）［３，３−ジシアノ−２−
（ｐ−クロロフェニル）−２−プロペニル］スルホニウ
ムアリルトリエチルボレートの合成 フェニル（１−ナフチル）［３，３−ジシアノ−２−
（ｐ−クロロフェニル）−２−プロペニル］スルホニウ
ムヘキサフルオロアステネート５．００ｇをアセトニト
リル１００ｍｌに溶解させた溶液に、アリルトリエチル
ほう酸リチウム１．１６ｇをアセトニトリル５０ｍｌに
溶解させた溶液を加え、室温にて３０分撹拌した。その
後、水２００ｍｌを加え沈澱した黄色の油状成分を分取
し、ジクロロメタン１００ｍｌを加えた。ジクロロメタ
ン層を水洗、乾燥後、濃縮し、フェニル（１−ナフチ
ル）［３，３−ジシアノ−２−（ｐ−クロロフェニル）
−２−プロペニル］スルホニウムアリルトリエチルボレ
ート１．５３ｇを得た。 ＦＤ−ＭＳ ｍ／ｚ ４３７（( Ｍ−Ｂ( ＣＨ2 ＣＨＣ
Ｈ2)( Ｃ2 Ｈ5)3)+ ） 元素分析 Ｃ36Ｈ38ＢＣｌＮ2 Ｓ 理論値 Ｃ；７４．９３％、Ｈ；６．６４％、Ｎ；４．
８６％ 測定値 Ｃ；７５．０２％、Ｈ；６．５４％、Ｎ；４．
９２％
（ｐ−クロロフェニル）−２−プロペニル］スルホニウ
ムアリルトリエチルボレートの合成 フェニル（１−ナフチル）［３，３−ジシアノ−２−
（ｐ−クロロフェニル）−２−プロペニル］スルホニウ
ムヘキサフルオロアステネート５．００ｇをアセトニト
リル１００ｍｌに溶解させた溶液に、アリルトリエチル
ほう酸リチウム１．１６ｇをアセトニトリル５０ｍｌに
溶解させた溶液を加え、室温にて３０分撹拌した。その
後、水２００ｍｌを加え沈澱した黄色の油状成分を分取
し、ジクロロメタン１００ｍｌを加えた。ジクロロメタ
ン層を水洗、乾燥後、濃縮し、フェニル（１−ナフチ
ル）［３，３−ジシアノ−２−（ｐ−クロロフェニル）
−２−プロペニル］スルホニウムアリルトリエチルボレ
ート１．５３ｇを得た。 ＦＤ−ＭＳ ｍ／ｚ ４３７（( Ｍ−Ｂ( ＣＨ2 ＣＨＣ
Ｈ2)( Ｃ2 Ｈ5)3)+ ） 元素分析 Ｃ36Ｈ38ＢＣｌＮ2 Ｓ 理論値 Ｃ；７４．９３％、Ｈ；６．６４％、Ｎ；４．
８６％ 測定値 Ｃ；７５．０２％、Ｈ；６．５４％、Ｎ；４．
９２％
【００５７】実施例３４ ジフェニルアリルオキソスルホニウムブチルトリフェニ
ルボレートの合成 ジフェニルアリルオキソスルホニウムテトラフルオロボ
レート５．００ｇをアセトニトリル１００ｍｌに溶解さ
せた溶液に、ブチルトリフェニルほう酸リチウム４．７
０ｇをアセトニトリル５０ｍｌに溶解させた溶液を加
え、室温にて３０分撹拌した。その後、水２００ｍｌを
加え沈澱した黄色の油状成分を分取し、ジクロロメタン
１００ｍｌを加えた。ジクロロメタン層を水洗、乾燥
後、濃縮し、ジフェニルアリルオキソスルホニウムブチ
ルトリフェニルボレート３．８７ｇを得た。 ＦＤ−ＭＳ ｍ／ｚ ２４３（( Ｍ−Ｂ(n- Ｃ4 Ｈ9)(
Ｃ6 Ｈ5)3)+ ） 元素分析 Ｃ37Ｈ39ＢＯＳ 理論値 Ｃ；８１．９１％、Ｈ；７．２５％ 測定値 Ｃ；８２．０１％、Ｈ；７．３２％
ルボレートの合成 ジフェニルアリルオキソスルホニウムテトラフルオロボ
レート５．００ｇをアセトニトリル１００ｍｌに溶解さ
せた溶液に、ブチルトリフェニルほう酸リチウム４．７
０ｇをアセトニトリル５０ｍｌに溶解させた溶液を加
え、室温にて３０分撹拌した。その後、水２００ｍｌを
加え沈澱した黄色の油状成分を分取し、ジクロロメタン
１００ｍｌを加えた。ジクロロメタン層を水洗、乾燥
後、濃縮し、ジフェニルアリルオキソスルホニウムブチ
ルトリフェニルボレート３．８７ｇを得た。 ＦＤ−ＭＳ ｍ／ｚ ２４３（( Ｍ−Ｂ(n- Ｃ4 Ｈ9)(
Ｃ6 Ｈ5)3)+ ） 元素分析 Ｃ37Ｈ39ＢＯＳ 理論値 Ｃ；８１．９１％、Ｈ；７．２５％ 測定値 Ｃ；８２．０１％、Ｈ；７．３２％
【００５８】（実施例３５） ジフェニル（３，３−ジシアノ−２−フェニル−２−プ
ロペニル）オキソスルホニウム（ｓｅｃ−ブチル）トリ
フェニルボレートの合成 ジフェニル（３，３−ジシアノ−２−フェニル−２−プ
ロペニル）オキソスルホニウムテトラフルオロボレート
５．００ｇをアセトニトリル１００ｍｌに溶解させた溶
液に、ｓｅｃ−ブチルトリフェニルほう酸リチウム３．
３５ｇをアセトニトリル５０ｍｌに溶解させた溶液を加
え、室温にて３０分撹拌した。その後、水２００ｍｌを
加え沈澱した黄色の油状成分を分取し、ジクロロメタン
１００ｍｌを加えた。ジクロロメタン層を水洗、乾燥
後、濃縮し、ジフェニル（３，３−ジシアノ−２−フェ
ニル−２−プロペニル）オキソスルホニウム（ｓｅｃ−
ブチル）トリフェニルボレート２．８７ｇを得た。 ＦＤ−ＭＳ ｍ／ｚ ３６９（( Ｍ−Ｂ( Ｃ4 Ｈ9)( Ｃ
6 Ｈ5)3)+ ） 元素分析 Ｃ45Ｈ41ＢＮ2 ＯＳ 理論値 Ｃ；８０．８３％、Ｈ；６．１８％、Ｎ；４．
１９％ 測定値 Ｃ；８０．７５％、Ｈ；６．２４％、Ｎ；４．
２５％
ロペニル）オキソスルホニウム（ｓｅｃ−ブチル）トリ
フェニルボレートの合成 ジフェニル（３，３−ジシアノ−２−フェニル−２−プ
ロペニル）オキソスルホニウムテトラフルオロボレート
５．００ｇをアセトニトリル１００ｍｌに溶解させた溶
液に、ｓｅｃ−ブチルトリフェニルほう酸リチウム３．
３５ｇをアセトニトリル５０ｍｌに溶解させた溶液を加
え、室温にて３０分撹拌した。その後、水２００ｍｌを
加え沈澱した黄色の油状成分を分取し、ジクロロメタン
１００ｍｌを加えた。ジクロロメタン層を水洗、乾燥
後、濃縮し、ジフェニル（３，３−ジシアノ−２−フェ
ニル−２−プロペニル）オキソスルホニウム（ｓｅｃ−
ブチル）トリフェニルボレート２．８７ｇを得た。 ＦＤ−ＭＳ ｍ／ｚ ３６９（( Ｍ−Ｂ( Ｃ4 Ｈ9)( Ｃ
6 Ｈ5)3)+ ） 元素分析 Ｃ45Ｈ41ＢＮ2 ＯＳ 理論値 Ｃ；８０．８３％、Ｈ；６．１８％、Ｎ；４．
１９％ 測定値 Ｃ；８０．７５％、Ｈ；６．２４％、Ｎ；４．
２５％
【００５９】実施例３６ ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）［３，３−ビス
（メトキシカルボニル）−２−フェニル−２−プロペニ
ル］オキソスルホニウムビニルトリス（ｐ−フルオロフ
ェニル）ボレートの合成 ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）［３，３−ビス
（メトキシカルボニル）−２−フェニル−２−プロペニ
ル］オキソスルホニウムパークロレート５．００ｇをア
セトニトリル１００ｍｌに溶解させた溶液に、ビニルト
リス（ｐ−フルオロフェニル）ほう酸リチウム４．１７
ｇをアセトニトリル５０ｍｌに溶解させた溶液を加え、
室温にて３０分撹拌した。その後、水２００ｍｌを加え
沈澱した黄色の油状成分を分取し、ジクロロメタン１０
０ｍｌを加えた。ジクロロメタン層を水洗、乾燥後、濃
縮し、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）［３，３
−ビス（メトキシカルボニル）−２−フェニル−２−プ
ロペニル］オキソスルホニウムビニルトリス（ｐ−フル
オロフェニル）ボレート２．８５ｇを得た。 ＦＤ−ＭＳ ｍ／ｚ ５４７（( Ｍ−Ｂ( ＣＨＣＨ2)(
Ｃ6 Ｈ4 Ｆ)3) + ） 元素分析 Ｃ53Ｈ54ＢＦ3 Ｏ5 Ｓ 理論値 Ｃ；７３．１０％、Ｈ；６．２５％ 測定値 Ｃ；７３．２１％、Ｈ；６．２９％
（メトキシカルボニル）−２−フェニル−２−プロペニ
ル］オキソスルホニウムビニルトリス（ｐ−フルオロフ
ェニル）ボレートの合成 ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）［３，３−ビス
（メトキシカルボニル）−２−フェニル−２−プロペニ
ル］オキソスルホニウムパークロレート５．００ｇをア
セトニトリル１００ｍｌに溶解させた溶液に、ビニルト
リス（ｐ−フルオロフェニル）ほう酸リチウム４．１７
ｇをアセトニトリル５０ｍｌに溶解させた溶液を加え、
室温にて３０分撹拌した。その後、水２００ｍｌを加え
沈澱した黄色の油状成分を分取し、ジクロロメタン１０
０ｍｌを加えた。ジクロロメタン層を水洗、乾燥後、濃
縮し、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）［３，３
−ビス（メトキシカルボニル）−２−フェニル−２−プ
ロペニル］オキソスルホニウムビニルトリス（ｐ−フル
オロフェニル）ボレート２．８５ｇを得た。 ＦＤ−ＭＳ ｍ／ｚ ５４７（( Ｍ−Ｂ( ＣＨＣＨ2)(
Ｃ6 Ｈ4 Ｆ)3) + ） 元素分析 Ｃ53Ｈ54ＢＦ3 Ｏ5 Ｓ 理論値 Ｃ；７３．１０％、Ｈ；６．２５％ 測定値 Ｃ；７３．２１％、Ｈ；６．２９％
【００６０】実施例３７ ビス（ｐ−フルオロフェニル）［３，３−ジシアノ−２
−ｐ−トリル−２−プロペニル］スルホニウムフェニル
トリブチルボレートの合成 ビス（ｐ−フルオロフェニル）［３，３−ジシアノ−２
−ｐ−トリル−２−プロペニル］スルホニウム（ｐ−ト
ルエンスルホネート）５．００ｇをアセトニトリル１０
０ｍｌに溶解させた溶液に、フェニルトリブチルほう酸
リチウム２．３８ｇをアセトニトリル５０ｍｌに溶解さ
せた溶液を加え、室温にて３０分撹拌した。その後、水
２００ｍｌを加え沈澱した黄色の油状成分を分取し、ジ
クロロメタン１００ｍｌを加えた。ジクロロメタン層を
水洗、乾燥後、濃縮し、ビス（ｐ−フルオロフェニル）
［３，３−ジシアノ−２−ｐ−トリル−２−プロペニ
ル］スルホニウムフェニルトリブチルボレート２．０９
ｇを得た。 ＦＤ−ＭＳ ｍ／ｚ ４１９（( Ｍ−Ｂ( Ｃ6 Ｈ5)( Ｃ
4 Ｈ9)3)+ ） 元素分析 Ｃ42Ｈ46ＢＦ2 Ｎ2 ＯＳ 理論値 Ｃ；７４．３２％、Ｈ；７．２８％、Ｎ；４．
１３％ 測定値 Ｃ；７４．２５％、Ｈ；７．３４％、Ｎ；４．
２２％
−ｐ−トリル−２−プロペニル］スルホニウムフェニル
トリブチルボレートの合成 ビス（ｐ−フルオロフェニル）［３，３−ジシアノ−２
−ｐ−トリル−２−プロペニル］スルホニウム（ｐ−ト
ルエンスルホネート）５．００ｇをアセトニトリル１０
０ｍｌに溶解させた溶液に、フェニルトリブチルほう酸
リチウム２．３８ｇをアセトニトリル５０ｍｌに溶解さ
せた溶液を加え、室温にて３０分撹拌した。その後、水
２００ｍｌを加え沈澱した黄色の油状成分を分取し、ジ
クロロメタン１００ｍｌを加えた。ジクロロメタン層を
水洗、乾燥後、濃縮し、ビス（ｐ−フルオロフェニル）
［３，３−ジシアノ−２−ｐ−トリル−２−プロペニ
ル］スルホニウムフェニルトリブチルボレート２．０９
ｇを得た。 ＦＤ−ＭＳ ｍ／ｚ ４１９（( Ｍ−Ｂ( Ｃ6 Ｈ5)( Ｃ
4 Ｈ9)3)+ ） 元素分析 Ｃ42Ｈ46ＢＦ2 Ｎ2 ＯＳ 理論値 Ｃ；７４．３２％、Ｈ；７．２８％、Ｎ；４．
１３％ 測定値 Ｃ；７４．２５％、Ｈ；７．３４％、Ｎ；４．
２２％
【００６１】参考例１〜６および比較例１、２ ラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合
物としてペンタエリスリトールトリアクリレート５０部
と本発明のスルホニウム錯体としてジフェニルフェナシ
ルスルホニウムブチルトリフェニルボレート１部からな
る混合物をガラス板上に約５ミクロンの厚さに塗布し、
さらにこの上に厚さ約２５ミクロンのポリエチレンテレ
フタレートフィルムを密着させたサンプルを作成した。
このサンプルを１５０℃のオーブン中で１０分間保持し
たところ、このサンプルは硬化し明らかに重合生成物を
与えた。ジフェニルフェナシルスルホニウムブチルトリ
フェニルボレートのかわりに、ジフェニルベンジルスル
ホニウムブチルトリフェニルボレート、ジフェニルアリ
ルスルホニウムブチルトリフェニルボレート、ジフェニ
ルフェナシルオキソスルホニウムブチルトリフェニルボ
レート、ジフェニルベンジルオキソスルホニウムブチル
トリフェニルボレート、ジフェニルアリルオキソスルホ
ニウムブチルトリフェニルボレートを用いた場合、いず
れもサンプルは硬化し明らかに重合生成物を与えたが、
ジフェニルフェナシルスルホニウムブチルトリフェニル
ボレートのかわりに、公知のジフェニルフェナシルスル
ホニウムテトラフルオロボレート、ジフェニルフェナシ
ルオキソスルホニウムヘキサフルオロホスフェートを含
んだサンプルでは同条件下では重合生成物は認められな
かった。
物としてペンタエリスリトールトリアクリレート５０部
と本発明のスルホニウム錯体としてジフェニルフェナシ
ルスルホニウムブチルトリフェニルボレート１部からな
る混合物をガラス板上に約５ミクロンの厚さに塗布し、
さらにこの上に厚さ約２５ミクロンのポリエチレンテレ
フタレートフィルムを密着させたサンプルを作成した。
このサンプルを１５０℃のオーブン中で１０分間保持し
たところ、このサンプルは硬化し明らかに重合生成物を
与えた。ジフェニルフェナシルスルホニウムブチルトリ
フェニルボレートのかわりに、ジフェニルベンジルスル
ホニウムブチルトリフェニルボレート、ジフェニルアリ
ルスルホニウムブチルトリフェニルボレート、ジフェニ
ルフェナシルオキソスルホニウムブチルトリフェニルボ
レート、ジフェニルベンジルオキソスルホニウムブチル
トリフェニルボレート、ジフェニルアリルオキソスルホ
ニウムブチルトリフェニルボレートを用いた場合、いず
れもサンプルは硬化し明らかに重合生成物を与えたが、
ジフェニルフェナシルスルホニウムブチルトリフェニル
ボレートのかわりに、公知のジフェニルフェナシルスル
ホニウムテトラフルオロボレート、ジフェニルフェナシ
ルオキソスルホニウムヘキサフルオロホスフェートを含
んだサンプルでは同条件下では重合生成物は認められな
かった。
【００６２】参考例７〜１２および比較例３、４ ラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合
物としてペンタエリスリトールトリアクリレート５０部
と重合開始剤としてジメチルフェナシルスルホニウムブ
チルトリフェニルボレート１部を希釈溶剤としてジオキ
サン１００部に溶解し、この混合物をガラス板上に約５
ミクロンの厚さに塗布し、これを７０℃の熱風オーブン
中で２分間乾燥した後、次いでこの上に１０％ポリビニ
ルアルコール水溶液を約５ミクロンの厚さに塗布し、こ
れを再び７０℃の熱風オーブン中で２分間乾燥させたサ
ンプルを作成した。このサンプルを５００ｍＷの高圧水
銀ランプで３０秒照射したところ、このサンプルは硬化
し明らかに重合生成物を与えた。ジフェニルフェナシル
スルホニウムブチルトリフェニルボレートのかわりに、
ジフェニルベンジルスルホニウムブチルトリフェニルボ
レート、ジフェニルアリルスルホニウムブチルトリフェ
ニルボレート、ジフェニルフェナシルオキソスルホニウ
ムブチルトリフェニルボレート、ジフェニルベンジルオ
キソスルホニウムブチルトリフェニルボレート、ジフェ
ニルアリルオキソスルホニウムブチルトリフェニルボレ
ートを用いた場合、いずれもサンプルは硬化し明らかに
重合生成物を与えたが、ジフェニルフェナシルスルホニ
ウムブチルトリフェニルボレートのかわりに、公知のジ
フェニルフェナシルスルホニウムテトラフルオロボレー
ト、ジフェニルフェナシルオキソスルホニウムヘキサフ
ルオロホスフェートを含んだサンプルでは同条件下では
重合生成物は認められなかった。
物としてペンタエリスリトールトリアクリレート５０部
と重合開始剤としてジメチルフェナシルスルホニウムブ
チルトリフェニルボレート１部を希釈溶剤としてジオキ
サン１００部に溶解し、この混合物をガラス板上に約５
ミクロンの厚さに塗布し、これを７０℃の熱風オーブン
中で２分間乾燥した後、次いでこの上に１０％ポリビニ
ルアルコール水溶液を約５ミクロンの厚さに塗布し、こ
れを再び７０℃の熱風オーブン中で２分間乾燥させたサ
ンプルを作成した。このサンプルを５００ｍＷの高圧水
銀ランプで３０秒照射したところ、このサンプルは硬化
し明らかに重合生成物を与えた。ジフェニルフェナシル
スルホニウムブチルトリフェニルボレートのかわりに、
ジフェニルベンジルスルホニウムブチルトリフェニルボ
レート、ジフェニルアリルスルホニウムブチルトリフェ
ニルボレート、ジフェニルフェナシルオキソスルホニウ
ムブチルトリフェニルボレート、ジフェニルベンジルオ
キソスルホニウムブチルトリフェニルボレート、ジフェ
ニルアリルオキソスルホニウムブチルトリフェニルボレ
ートを用いた場合、いずれもサンプルは硬化し明らかに
重合生成物を与えたが、ジフェニルフェナシルスルホニ
ウムブチルトリフェニルボレートのかわりに、公知のジ
フェニルフェナシルスルホニウムテトラフルオロボレー
ト、ジフェニルフェナシルオキソスルホニウムヘキサフ
ルオロホスフェートを含んだサンプルでは同条件下では
重合生成物は認められなかった。
【００６３】参考例１３〜１８および比較例５〜７ 希釈溶剤としてメチルエチルケトン３６０部、バインダ
ーとしてポリメチルメタクリレート２０部、ラジカル重
合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物としてペ
ンタエリスリトールトリアクリレート２０部、増感剤と
して３，３’−カルボニルビス（７−ジエチルアミノク
マリン）１部からなる溶液２ｇに重合開始剤として下記
第１表に示した本発明のスルホニウム錯体あるいはオキ
ソスルホニウム錯体１．２×１０-5モルを加え感光液と
した。この感光液をスピンコーターにて約２μｍの厚さ
にガラス板上に塗布し、さらにこの上に酸素遮断層とし
て１０％ポリビニルアルコール水溶液をスピンコーター
にて約５μｍの厚さに塗布し感光板とした。この感光板
にビーム径１．５ｍｍのアルゴンイオンレーザ光（４８
８ｎｍ）を照射時間を変えて露光した後、水およびトル
エンにて現像処理を行いレーザビーム径と同等の大きさ
の硬化スポット径を与える露光エネルギーを感度として
第１表に示した。比較例として重合開始剤に公知のジフ
ェニルフェナシルスルホニウムテトラフルオロボレー
ト、ジフェニルフェナシルオキソスルホニウムヘキサフ
ルオロホスフェートならびにトリフェニルスルホニウム
ブチルトリフェニルボレートを用いた場合の感度を併せ
て第１表に示した。第１表の結果より明かなように、本
発明のスルホニウム錯体あるいはオキソスルホウム錯体
を重合開始剤に用いた場合、公知のジフェニルフェナシ
ルスルホニウムテトラフルオロボレート、ジフェニルフ
ェナシルオキソスルホニウムヘキサフルオロホスフェー
トならびにトリフェニルスルホニウムブチルトリフェニ
ルボレートを重合開始剤に用いた場合よりもいずれも感
度が向上していることがわかる。
ーとしてポリメチルメタクリレート２０部、ラジカル重
合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物としてペ
ンタエリスリトールトリアクリレート２０部、増感剤と
して３，３’−カルボニルビス（７−ジエチルアミノク
マリン）１部からなる溶液２ｇに重合開始剤として下記
第１表に示した本発明のスルホニウム錯体あるいはオキ
ソスルホニウム錯体１．２×１０-5モルを加え感光液と
した。この感光液をスピンコーターにて約２μｍの厚さ
にガラス板上に塗布し、さらにこの上に酸素遮断層とし
て１０％ポリビニルアルコール水溶液をスピンコーター
にて約５μｍの厚さに塗布し感光板とした。この感光板
にビーム径１．５ｍｍのアルゴンイオンレーザ光（４８
８ｎｍ）を照射時間を変えて露光した後、水およびトル
エンにて現像処理を行いレーザビーム径と同等の大きさ
の硬化スポット径を与える露光エネルギーを感度として
第１表に示した。比較例として重合開始剤に公知のジフ
ェニルフェナシルスルホニウムテトラフルオロボレー
ト、ジフェニルフェナシルオキソスルホニウムヘキサフ
ルオロホスフェートならびにトリフェニルスルホニウム
ブチルトリフェニルボレートを用いた場合の感度を併せ
て第１表に示した。第１表の結果より明かなように、本
発明のスルホニウム錯体あるいはオキソスルホウム錯体
を重合開始剤に用いた場合、公知のジフェニルフェナシ
ルスルホニウムテトラフルオロボレート、ジフェニルフ
ェナシルオキソスルホニウムヘキサフルオロホスフェー
トならびにトリフェニルスルホニウムブチルトリフェニ
ルボレートを重合開始剤に用いた場合よりもいずれも感
度が向上していることがわかる。
【００６４】
【表１】
【００６５】
【発明の効果】本発明の一般式（１）で表されるスルホ
ニウム錯体およびオキソスルホニウム錯体は、スルホニ
ウムカチオンまたはオキソスルホニウムカチオン上の置
換基として、置換基を有してもよいフェナシル基、置換
基を有してもよいベンジル基もしくは置換基を有しても
よいアリル基を導入することによって、光および／また
は熱エネルギーの付与により、効率よくフリーラジカル
を発生する。
ニウム錯体およびオキソスルホニウム錯体は、スルホニ
ウムカチオンまたはオキソスルホニウムカチオン上の置
換基として、置換基を有してもよいフェナシル基、置換
基を有してもよいベンジル基もしくは置換基を有しても
よいアリル基を導入することによって、光および／また
は熱エネルギーの付与により、効率よくフリーラジカル
を発生する。
【００６６】したがって、重合性物質の重合開始剤とし
て著しく良好な効果を有し、水銀灯やレーザ等の各種光
源による光エネルギーおよび／または加熱やサーマルヘ
ッド等による熱エネルギーの付与により、高感度を必要
とする各種刷版材料、ホログラム材料やマイクロカプセ
ルを利用した各種記録媒体やインキ、接着剤、粘着剤、
粘接着剤、封止剤等の良好な物性をもった重合物や硬化
物の形成に有用である。
て著しく良好な効果を有し、水銀灯やレーザ等の各種光
源による光エネルギーおよび／または加熱やサーマルヘ
ッド等による熱エネルギーの付与により、高感度を必要
とする各種刷版材料、ホログラム材料やマイクロカプセ
ルを利用した各種記録媒体やインキ、接着剤、粘着剤、
粘接着剤、封止剤等の良好な物性をもった重合物や硬化
物の形成に有用である。
【００６７】
図１は実施例１で合成したスルホニウム錯体のＩＲスペ
クトル（ＫＢｒ錠剤中）を示す。
クトル（ＫＢｒ錠剤中）を示す。
Claims (2)
- 【請求項１】光および／または熱エネルギーの付与によ
り活性なラジカルを発生することを特徴とする一般式
（１）で表されるスルホニウム錯体またはオキソスルホ
ニウム錯体。 一般式（１） （ただしＲ1 およびＲ2 は置換基を有してもよいアリー
ル基を、Ｒ3 は置換基を有してもよいフェナシル基、置
換基を有してもよいベンジル基もしくは置換基を有して
もよいアリル基を、Ｒ4 は酸素原子もしくは孤立電子対
を、Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ7 およびＲ8 はそれぞれ独立に、置
換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよい
アリール基、置換基を有してもよいアルケニル基、置換
基を有してもよいアルキニル基、置換基を有してもよい
脂環基より選ばれる基を示し、Ｒ5、Ｒ6 、Ｒ7 および
Ｒ8 全てが同時に置換基を有してもよいアリール基とな
ることはない。） - 【請求項２】一般式（１）において、Ｒ5 が置換基を有
してもよいアルキル基であり、Ｒ6、Ｒ7 およびＲ8 が
置換基を有してもよいアリール基であることを特徴とす
る請求項１記載のスルホニウム錯体またはオキソスルホ
ニウム錯体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8953592A JP2803454B2 (ja) | 1992-03-13 | 1992-03-13 | スルホニウム錯体またはオキソスルホニウム錯体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8953592A JP2803454B2 (ja) | 1992-03-13 | 1992-03-13 | スルホニウム錯体またはオキソスルホニウム錯体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05255347A true JPH05255347A (ja) | 1993-10-05 |
| JP2803454B2 JP2803454B2 (ja) | 1998-09-24 |
Family
ID=13973514
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8953592A Expired - Lifetime JP2803454B2 (ja) | 1992-03-13 | 1992-03-13 | スルホニウム錯体またはオキソスルホニウム錯体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2803454B2 (ja) |
Cited By (11)
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| EP0871607A1 (en) * | 1995-10-31 | 1998-10-21 | Spectra Group Limited Inc | Photosensitive intramolecular electron transfer compounds |
| JP2001253869A (ja) * | 2000-03-09 | 2001-09-18 | Hitachi Chem Co Ltd | ビススルホニウムボレート化合物及びその製造法 |
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| EP1626309A2 (en) | 2004-03-25 | 2006-02-15 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Hologram recording material, hologram recording method and holographic optical element |
| EP1627736A1 (en) | 2004-08-18 | 2006-02-22 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | Method of manufacturing light sensitive planographic printing plates and method of using the same |
| WO2007052470A1 (ja) | 2005-11-01 | 2007-05-10 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | 平版印刷版材料、平版印刷版、平版印刷版の作製方法及び平版印刷版の印刷方法 |
| JP2011201836A (ja) * | 2010-03-26 | 2011-10-13 | Jx Nippon Oil & Energy Corp | ボレート化合物 |
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|---|---|---|---|---|
| US9016846B2 (en) | 2010-08-19 | 2015-04-28 | Konica Minolta Holdings, Inc. | Actinic energy radiation curable inkjet ink and actinic energy radiation curable inkjet recording method |
| EP2650132B1 (en) | 2010-12-10 | 2019-10-16 | Konica Minolta, Inc. | Inkjet recording device |
| EP2703173A4 (en) | 2011-04-27 | 2014-10-01 | Konica Minolta Inc | INK JET PRINTING DEVICE |
| WO2013128945A1 (ja) | 2012-03-01 | 2013-09-06 | コニカミノルタ株式会社 | インクジェット記録方法 |
| WO2013165003A1 (ja) | 2012-05-01 | 2013-11-07 | コニカミノルタ株式会社 | 画像形成装置 |
| JP6183455B2 (ja) | 2013-03-29 | 2017-08-23 | コニカミノルタ株式会社 | 画像形成装置 |
-
1992
- 1992-03-13 JP JP8953592A patent/JP2803454B2/ja not_active Expired - Lifetime
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| EP0871607A4 (en) * | 1995-10-31 | 1999-09-29 | Spectra Group Ltd Inc | PHOTOSENSITIVE INTRA-MOLECULAR ELECTRON TRANSFER COMPOUNDS |
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