JPH0525178B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0525178B2 JPH0525178B2 JP60176191A JP17619185A JPH0525178B2 JP H0525178 B2 JPH0525178 B2 JP H0525178B2 JP 60176191 A JP60176191 A JP 60176191A JP 17619185 A JP17619185 A JP 17619185A JP H0525178 B2 JPH0525178 B2 JP H0525178B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electron beam
- sample
- chip
- sample stage
- front chamber
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 33
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 7
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 5
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 claims description 2
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 230000007723 transport mechanism Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Tests Of Electronic Circuits (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔概 要〕
チツプの位置決め方式であつて、電子ビーム装
置を用いて集積回路内部の電位を測定する際に、
予め前室でチツプの位置を測定しておき、これを
電子ビーム装置内に搬入し測定結果に基づいて電
子ビームの照射位置を決めるという効率のよいチ
ツプの位置決めが可能となる。
置を用いて集積回路内部の電位を測定する際に、
予め前室でチツプの位置を測定しておき、これを
電子ビーム装置内に搬入し測定結果に基づいて電
子ビームの照射位置を決めるという効率のよいチ
ツプの位置決めが可能となる。
本発明は電子ビームを用いる装置における電子
ビーム照射位置決定に用いるチツプの位置決め方
式に関するものである。
ビーム照射位置決定に用いるチツプの位置決め方
式に関するものである。
半導体製造の分野で、電子ビームを用いた装置
が広く用いられている。その一つとして、集積回
路内の電位を測定する電子ビーム装置がある。
が広く用いられている。その一つとして、集積回
路内の電位を測定する電子ビーム装置がある。
電子ビームを利用すると、拡大率は大きいが、
その分視野が小さく、電子ビームを照射する照射
位置の決定が困難である。
その分視野が小さく、電子ビームを照射する照射
位置の決定が困難である。
従つて操作性のよいチツプ位置決め方式が要望
されている。
されている。
電子ビーム装置を用いて集積回路内部の電位を
測定するのに電子ビーム装置は、電子ビームの照
射する点にチツプを位置決めするのに、電子ビー
ム装置を使用して行つている。即ち、電子ビーム
の走査と共に、試料を搭載した試料台を移動し
て、チツプの位置決めをしていた。
測定するのに電子ビーム装置は、電子ビームの照
射する点にチツプを位置決めするのに、電子ビー
ム装置を使用して行つている。即ち、電子ビーム
の走査と共に、試料を搭載した試料台を移動し
て、チツプの位置決めをしていた。
電子ビームの走査幅（画像の視野）が狭いため
に、該当するチツプ位置を発見することが困難で
あり、チツプ位置を見出すのに、電子ビームの走
査及び試料台の移動を何回も繰り返さなければな
らず、効率が悪いと云う問題があつた。
に、該当するチツプ位置を発見することが困難で
あり、チツプ位置を見出すのに、電子ビームの走
査及び試料台の移動を何回も繰り返さなければな
らず、効率が悪いと云う問題があつた。
本発明はこのような点に鑑みて創作されたもの
で、試料交換が容易で、試料全体が見渡される効
率のよいチツプ位置決め方式を提供することを目
的としている。
で、試料交換が容易で、試料全体が見渡される効
率のよいチツプ位置決め方式を提供することを目
的としている。
前記問題点は、集積回路内部の電位を電子ビー
ムにより測定する測定法における電子ビーム照射
方法において、試料台に集積回路からなる試料を
搭載し、該試料台を電子ビーム装置の前室に設置
した後、該前室に設けられたTVカメラによつて
該試料台上の基準位置に対する該試料の位置を測
定し、次いで該試料台を該前室から搬送手段によ
つて該電子ビーム装置の試料室に搬送し、前記試
料の位置の測定結果に基づいて電子ビームの該試
料に対する照射位置を決定して照射を行う電子ビ
ーム照射方法によつて解決される。
ムにより測定する測定法における電子ビーム照射
方法において、試料台に集積回路からなる試料を
搭載し、該試料台を電子ビーム装置の前室に設置
した後、該前室に設けられたTVカメラによつて
該試料台上の基準位置に対する該試料の位置を測
定し、次いで該試料台を該前室から搬送手段によ
つて該電子ビーム装置の試料室に搬送し、前記試
料の位置の測定結果に基づいて電子ビームの該試
料に対する照射位置を決定して照射を行う電子ビ
ーム照射方法によつて解決される。
前室でチツプの位置測定を行い、搬入機構でこ
のチツプを含む試料を電子ビーム装置に搬入する
ことにより、真空度及び磁界に左右されることな
く効率のよい位置決めが可能となる。
のチツプを含む試料を電子ビーム装置に搬入する
ことにより、真空度及び磁界に左右されることな
く効率のよい位置決めが可能となる。
第１図は本発明の実施例を示す断面図であつ
て、チツプ１−１は試料１（集積回路）の中央部
にあり、試料１は試料台５に搭載されている。試
料台５は、第２図に示すように構成されている。
即ち試料台の上面にチツプ１−１の位置決め原点
となる指標５−１が設けてある。この指標５−１
の間に試料１を搭載する。試料台５は搬入機構４
に設けられており、この搬入機構４はＸ軸、Ｙ軸
方向に試料台５を搬送する構造である。
て、チツプ１−１は試料１（集積回路）の中央部
にあり、試料１は試料台５に搭載されている。試
料台５は、第２図に示すように構成されている。
即ち試料台の上面にチツプ１−１の位置決め原点
となる指標５−１が設けてある。この指標５−１
の間に試料１を搭載する。試料台５は搬入機構４
に設けられており、この搬入機構４はＸ軸、Ｙ軸
方向に試料台５を搬送する構造である。
搬入機構４は、電子ビーム装置２と前室３とに
渡つて設けられている。前室３には、前室３を予
備排気する真空装置６が設けてある。前室３の上
面には、チツプ１−１と指標５−１との相対位置
を測定する例えば、TVカメラ７が設けてある。
渡つて設けられている。前室３には、前室３を予
備排気する真空装置６が設けてある。前室３の上
面には、チツプ１−１と指標５−１との相対位置
を測定する例えば、TVカメラ７が設けてある。
なお、電子ビーム装置２と前室３との間は、搬
入機構４と試料台５及び試料１とが通過可能なゲ
ート８が設けてある。
入機構４と試料台５及び試料１とが通過可能なゲ
ート８が設けてある。
試料１を交換する時は前室３にて行い、直ぐ真
空装置６を作動させる。作動中にTVカメラ７を
用いて、チツプ１−１と指標５−１との関係位置
の測定をする。
空装置６を作動させる。作動中にTVカメラ７を
用いて、チツプ１−１と指標５−１との関係位置
の測定をする。
測定後にゲート８を開いて、搬入機構４を作動
して試料１を電子ビーム装置２内に搬入する。電
子ビーム装置２は、上記した位置測定データに基
づいて、指標５−１を基準としてチツプの位置決
めを行う。更に必要に応じて電子ビームの照射位
置の細かい高精度な補正をする。
して試料１を電子ビーム装置２内に搬入する。電
子ビーム装置２は、上記した位置測定データに基
づいて、指標５−１を基準としてチツプの位置決
めを行う。更に必要に応じて電子ビームの照射位
置の細かい高精度な補正をする。
以上述べてきたように、本発明によれば、極め
て簡易な構成で、効率よくチツプの位置決めが行
われ、実用上極めて有効である。
て簡易な構成で、効率よくチツプの位置決めが行
われ、実用上極めて有効である。
第１図は本発明の実施例を示す断面図、第２図
は試料台の平面図である。 図において、１は試料、２は電子ビーム装置、
３は前室、４は搬入機構、５は試料台を示す。
は試料台の平面図である。 図において、１は試料、２は電子ビーム装置、
３は前室、４は搬入機構、５は試料台を示す。
Claims (1)
- １ 集積回路内部の電位を電子ビームにより測定
する測定法における電子ビーム照射方法におい
て、試料台に集積回路からなる試料を搭載し、該
試料台を電子ビーム装置の前室に設置した後、該
前室に設けられたTVカメラによつて該試料台上
の基準位置に対する該試料の位置を測定し、次い
で該試料台を該前室から搬送手段によつて該電子
ビーム装置の試料室に搬送し、前記試料の位置の
測定結果に基づいて電子ビームの該試料に対する
照射位置を決定して照射を行うことを特徴とする
電子ビーム照射方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60176191A JPS6235641A (ja) | 1985-08-09 | 1985-08-09 | 電子ビーム照射方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60176191A JPS6235641A (ja) | 1985-08-09 | 1985-08-09 | 電子ビーム照射方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6235641A JPS6235641A (ja) | 1987-02-16 |
| JPH0525178B2 true JPH0525178B2 (ja) | 1993-04-12 |
Family
ID=16009231
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60176191A Granted JPS6235641A (ja) | 1985-08-09 | 1985-08-09 | 電子ビーム照射方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6235641A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2017157692A (ja) * | 2016-03-02 | 2017-09-07 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 検査装置及び検査方法 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54144863A (en) * | 1978-05-02 | 1979-11-12 | Siemens Ag | Scan electron microscope |
| JPS5715434A (en) * | 1980-06-30 | 1982-01-26 | Mitsubishi Electric Corp | Bonding apparatus |
| JPS5969305A (ja) * | 1982-10-13 | 1984-04-19 | Hitachi Ltd | 搬送装置 |
-
1985
- 1985-08-09 JP JP60176191A patent/JPS6235641A/ja active Granted
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54144863A (en) * | 1978-05-02 | 1979-11-12 | Siemens Ag | Scan electron microscope |
| JPS5715434A (en) * | 1980-06-30 | 1982-01-26 | Mitsubishi Electric Corp | Bonding apparatus |
| JPS5969305A (ja) * | 1982-10-13 | 1984-04-19 | Hitachi Ltd | 搬送装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6235641A (ja) | 1987-02-16 |
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