JPH05249763A

JPH05249763A - 平版印刷用原版の製造方法

Info

Publication number: JPH05249763A
Application number: JP4984992A
Authority: JP
Inventors: Katsura Hirai; 桂平井; Yasuo Kojima; 康生児島; Sei Goto; 聖後藤
Original assignee: Konica Minolta Inc
Current assignee: Konica Minolta Inc
Priority date: 1992-03-06
Filing date: 1992-03-06
Publication date: 1993-09-28

Abstract

(57)【要約】【目的】導電性支持体上に光導電性物質及びキノンジ
アジド化合物を含有する感光性層を塗設する平版印刷用
原版の製造方法において、光導電性物質の分散性が向上
し、平版印刷用原版の電子写真特性が向上し、得られる
平版印刷版の印刷汚れが防止され、平版印刷用原版の製
造時等の安全性（塗布溶剤による）が改善され、感光性
層の塗布ムラが抑制される製造方法の提供。【構成】導電性支持体上に光導電性物質及びキノンジ
アジド化合物を含有する感光性層を有する平版印刷用原
版の製造方法において、該感光性層の塗布溶剤として、
プロピレングリコールモノアルキル（炭素数１〜３）エ
ーテル若しくはそのアセテート、ジエチレングリコール
ジアルキル（炭素数１又は２）エーテル、又はエチレン
グリコールモノプロピルエーテルを用いる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、導電性支持体上に光導
電性物質及びキノンジアジド化合物を含有する感光性層
が塗設された平版印刷用原版の製造方法に関し、更に詳
しくは感光性層用塗布液の溶剤に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、導電性支持体上に光導電性物質及
びキノンジアジド化合物を含有する感光性層を塗設した
平版印刷用原版が特開昭57-90648号、同58-150953号、
同60-194467号等で知られている。これらの平版印刷用
原版は、光導電性物質及びキノンジアジド化合物を含有
する感光性層上に電子写真方式でトナー画像を形成し、
該トナー画像を介して該感光性層を露光し、次いで溶出
現像して平版印刷版を得るものである。

【０００３】ところで、このような平版印刷用原版の製
造において、感光性層を支持体上に塗設する感光性層塗
布液の溶剤として、テトラヒドロフラン、メチルセロソ
ルブアセテート、メチルセロソルブ、エチルセロソル
ブ、エチルセロソルブアセテート等を用いることが知ら
れている。

【０００４】

【発明が解決しようとする問題点】しかしながら、これ
ら従来の溶剤は毒性が高く、製造時の作業環境に問題が
あるだけでなく、製版時にも感光層から溶剤蒸気が発生
し、安全性に問題がある。

【０００５】また、キノンジアジド化合物の添加により
光導電性顔料の分散性が低下し、従来の溶剤には、トナ
ー像（画像部）にピンホールが発生したり、溶出後の非
画像部に顔料を主とする感光層成分が点状に残り印刷で
汚れが発生することがある。また、光導電性顔料を含有
する場合は一般に塗布液の粘度が高く塗布ムラが発生し
やすくなるが、従来の溶剤でも塗布ムラを発生する場合
があり不十分であった。このような状況において、上記
従来の溶剤の欠点を解消する代替溶剤の選択が要求され
ていた。

【０００６】一方、感光性層を塗設するための塗布液に
含有させる溶剤には、一般に、塗布前や塗布時に塗布液
中の固形分濃度上昇を抑制する常温での難揮発性、塗布
後の乾燥性、ムラ無く塗布が行われるための塗布性が要
求され、これらの特性を劣化することなく代替すること
が必要である。

【０００７】さらに溶剤を変更した場合、光感度、暗減
衰等の電子写真特性が悪化することがあり、製版の可能
な範囲で悪化の起こらない溶剤の選択が必要である。し
かし、従来の溶剤はこれらすべてを満足するものはな
い。本発明は以上総ての問題点を解決することを目的と
する。

【０００８】即ち、本発明の目的は、導電性支持体上に
光導電性物質及びキノンジアジド化合物を含有する感光
性層を塗設する平版印刷用原版の製造方法において、第
１に、光導電性物質の分散性が向上する製造方法を提供
することであり、第２に、平版印刷用原版の電子写真特
性が向上する製造方法を提供することであり、第３に、
得られる平版印刷版の印刷汚れが防止される製造方法を
提供することであり、第４に、平版印刷用原版の製造時
及びそれを用いて製版する際の安全性が改善される製造
方法を提供することであり、第５に、感光性層の塗布ム
ラが抑制される製造方法を提供することである。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上記本発明の目的を達成
する本発明の構成は下記である。

【００１０】導電性支持体上に光導電性物質及びキノン
ジアジド化合物を含有する感光性層を塗設する平版印刷
用原版の製造方法において、該感光性層の分散及び塗布
に用いる溶剤として下記〜に示す有機溶剤から選ば
れる少なくとも１種を使用することを特徴とする平版印
刷用原版の製造方法。プロピレングリコールモノアルキル（炭素数１〜３）
エーテル又はそのアセテート。

【００１１】ジエチレングリコールジアルキル（炭素
数１又は２）エーテル。

【００１２】エチレングリコールモノプロピルエーテ
ル。

【００１３】以下、本発明について詳述する。

【００１４】本発明の感光性層に用いる光導電性物質と
して有機光導電性顔料及び顔料型以外の有機光導電性化
合物が挙げられる。

【００１５】有機光導電性顔料としては、例えば特公昭
40-2780号、同44-12671号、同46-30035号、同44-16474
号、同48-30513号、同50-7434号、特開昭47-18543号、
同47-18544号、同47-30330号、同47-37543号、同49-111
36号、同49-99142号、同51-109841号、同54-134632号、
同55-11715号、同55-105254号、同55-153948号、同55-1
61250号、同56-1944号、同56-2352号、同56-9752号、同
56-19063号、同56-29250号、同56-69644号、同56-50050
号、同59-12575号、同59-170862号、同５９−１７６７
５６号、同５９−２２４８４６号、同60-17751号、同60
-17752号、同60-17753号、同60-17754号、同60-17755
号、同60-17756号、同60-17757号、同60-17758号、同60
-177599号、同60-17760号、同60-17761号、同60-17762
号、同60-35750号、同60-194467号、同61-67869号、同6
1-67870号、同62-64266号、同62-198864号、同62-21725
6号、同63-97965号、同63-97966号、同63-226667号、同
63-226668号、特開平1-257862号、同1-260464号、同1-2
69944号、同2-7058号、同2-188758号、同2-188759号、
同2-125265号、同2-125266号、同3-102358号等に記載の
ペリレン顔料、キナクリドン顔料、ビスベンズイミダゾ
ール顔料、芳香族多縮合環化合物、モノアゾ顔料、ジス
アゾ顔料、トリスアゾ顔料、金属又は無金属フタロシア
ニン顔料、酸化亜鉛等の光導電性顔料が挙げられる。

【００１６】顔料型以外の有機光導電性化合物として
は、例えば特開昭57-161863号、同58-76843号、同58-10
0862号、同58-172649号、同58-207049号、同59-44060
号、同59-121058号、同59-128559号、同60-178886号、
特開平1-222263号、同1-161354号、同1-163752号、同1-
163753号、同1-186967号、同1-186968号、同1-188865
号、同1-216362号各公報に記載の有機光導電性化合物が
挙げられる。

【００１７】本発明の感光性層には、必要に応じて光導
電性物質に増感剤、電荷輸送剤等を併用することができ
る。

【００１８】本発明において、光導電性物質としては有
機光導電性顔料が好ましく、特に、感度、安定性等の点
からフタロシアニン顔料が好ましい。感光性層中の光導
電性物質の含有量は３〜50％、特に５〜25％の範囲が溶
出性（溶出処理後の顔料の支持体への付着による汚れ、
溶出スピード）及び感度の点から好ましい。

【００１９】本発明の感光性層に用いるキノンジアジド
化合物は、o-ナフトキノンジアジドの構造を含む物質で
あれば特に限定されないが、好ましい化合物としてo-ナ
フトキノンジアジドスルホン酸と、フェノール類及びア
ルデヒド又はケトンの重縮合樹脂とのエステル化合物が
挙げられる。該エステル化合物の中では、o-ナフトキノ
ンジアジド-4（または５）-スルホン酸のエステル化合
物が好ましく、特に電子写真特性の点からo-キノンジア
ジド-4-スルホン酸のエステル化合物が良い。

【００２０】前記フェノール類としては、例えば、フェ
ノール、o-クレゾール、m-クレゾール、p-クレゾール、
3,5-キシレノール、カルバクロール、チモール等の一価
フェノール、カテコール、レゾルシン、ヒドロキノン等
の二価フェノール、ピロガロール、フロログルシン等の
三価フェノール等が挙げられる。前記アルデヒドとして
はホルムアルデヒド、ベンズアルデヒド、アセトアルデ
ヒド、クロトンアルデヒド、フルフラール等が挙げられ
る。これらのうち好ましいものはホルムアルデヒドおよ
びベンズアルデヒドである。また、前記ケトンとしては
アセトン、メチルエチルケトン等が挙げられる。

【００２１】前記重縮合樹脂の具体的な例としては、フ
ェノール・ホルムアルデヒド樹脂、p-クレゾール・ホル
ムアルデヒド樹脂、m-クレゾール・ホルムアルデヒド樹
脂、m-，p-混合クレゾール・ホルムアルデヒド樹脂、ピ
ロガロール・アセトン樹脂等が挙げられる。電子写真特
性の点から、フェノールまたはｏ,ｍ若しくはｐのクレ
ゾールとホルムアルデヒドとの重縮合体が好ましく、よ
り好ましくはp-クレゾール・ホルムアルデヒド樹脂であ
る。

【００２２】前記o-ナフトキノンジアジド化合物のフェ
ノール類のＯＨ基に対するo-ナフトキノンジアジドスル
ホン酸の縮合率（ＯＨ基１個に対する反応率）は、15〜
80％が好ましく、より好ましくは20〜60％である。

【００２３】上記o-キノンジアジド化合物としては樹脂
のみならず、特開昭58-4345号公報に記載のある以下の
化合物も使用できる。すなわち例えば1,2-ナフトキノン
ジアジドスルホン酸エステル、1,2-ナフトキノンジアジ
ドスルホン酸アミドなどの公知の1,2-ナフトキノンジア
ジド化合物、さらに具体的にはジェイ・コサール（J.Ko
sar）著「ライト・センシティブシステム」（“Light-S
ensitive Systems”）第339〜352頁、（1965年）、ジョ
ン・ウィリーアンドサンズ（Jhon Wiley＆Sons）社
（ニューヨーク）やダブリュー・エス・ディー・フォレ
スト（WS.De Forest）著「フォトレジスト」（“Photor
esist”）第50巻，（1975年）、マグローヒル（Mc Graw
−Hill）社、（ニューヨーク）に記載されている1,2-ナ
フトキノンジアジド-5-スルホン酸シクロヘキシルエス
テル、1-（1,2-ナフトキノンジアジド-5-スルホニル）-
3,5-ジメチルピラゾール、1,2-ナフトキノンジアジド-5
-スルホン酸-4″-ヒドロキシジフェニル-4″-アゾ-β-
ナフト-ルエステル、N,N-ジ-（1,2-ナフトキノンジアジ
ド-5-スルホニル）-アニリン、2′-（1,2-ナフトキノン
ジアジド-5-スルホニルオキシ）-1-ヒドロキシ-アント
ラキノン、1,2-ナフトキノンジアジド-5-スルホン酸-2,
4-ジヒドロベンゾフェノンエステル、1,2-ナフトキノン
ジアジド-5-スルホン酸-2,3,4-トリヒドロキシベンゾフ
ェノンエステル、1,2-ナフトキノンジアジド-5-スルホ
ン酸クロリド２モルと4,4′-ジアミノベンゾフェノン１
モルの縮合物、1,2-ナフトキノンジアジド-5-スルホン
酸クロリド２モルと4,4′-ジヒドロキシ-1,1′-ジフェ
ニルスルホン１モルの縮合物、1,2-ナフトキノンジアジ
ド-5-スルホン酸クロリド１モルとプルプロガリン１モ
ルの縮合物、1,2-ナフトキノンジアジド-5-（N-ジヒド
ロアビエチル）-スルホンアミドなどの1,2-キノンジア
ジド化合物を例示することができる。また特公昭37-195
3号、同37-3627号、同37-13109号、同40-26126号、同40
-3801号、同45-5604号、同45-27345号、同51-13013号、
特開昭48-96575号、同48-63802号、同48-63803号各公報
に記載された1,2-ナフトキノンジアジド化合物をも挙げ
ることができる。

【００２４】本発明のo-ナフトキノンジアジド化合物と
しては上記化合物を各々単独で用いてもよいし、２種以
上組み合わせて用いてもよい。

【００２５】本発明に用いられるo-ナフトキノンジアジ
ド化合物の感光層中に示める含有量は、感光層１gあた
り、o-キノンジアジド部位が0.3×10^-3〜3.0×10^-3モル
の範囲が好ましく、0.4×10^-3〜1.5×10^-3モルの範囲が
より好ましい。

【００２６】本発明の感光性層は、バインダー樹脂を含
有させることが好ましい。バインダー樹脂としてはアル
カリ可溶性樹脂、例えばノボラック樹脂を用いることが
できる。

【００２７】ノボラック樹脂は、フェノール類と活性カ
ルボニル化合物の共重縮合体であり、該フェノール類と
しては、芳香族性の環に結合する水素原子の少なくとも
１つが水酸基で置換された化合物すべてが含まれ、具体
的には例えばフェノール、o-クレゾール、m-クレゾー
ル、p-クレゾール、3,5-キシレノール、2,4-キシレノー
ル、2,5-キシレノール、カルバクロール、チモール、カ
テコール、レゾルシン、ヒドロキノン、ピロガロール、
フロログルシン、またはアルキル基（炭素原子数１〜８
個）置換フェノール等が挙げられ、好ましくはフェノー
ル、o-クレゾール、m-クレゾール及びp-クレゾールであ
る。

【００２８】前記活性カルボニル化合物には、例えばア
ルデヒド、ケトン等が含まれ、具体的には例えばホルム
アルデヒド、アセトアルデヒド、ベンズアルデヒド、ア
クロレイン、フルフラール、アセトン等が挙げられる。

【００２９】ノボラック樹脂の具体例としては例えば、
フェノール／m-クレゾール・ホルムアルデヒド共重縮合
体樹脂、o-クレゾール／m-クレゾール・ホルムアルデヒ
ド共重縮合体樹脂、m-クレゾール／p-クレゾール・ホル
ムアルデヒド共重縮合体樹脂、o-クレゾール／m-クレゾ
ール／p-クレゾール・ホルムアルデヒド共重縮合体樹
脂、フェノール／m-クレゾール／p-クレゾール・ホルム
アルデヒド共重縮合体樹脂等が好ましい。

【００３０】上記共重縮合体樹脂のうちでフェノール／
m-クレゾール／p-クレゾールホルムアルデヒド樹脂が特
に好ましい。また、該樹脂におけるフェノールの比率
（仕込み混合比）は好ましくは０〜50重量％、より好ま
しくは５〜30重量％であり、m-クレゾール、p-クレゾー
ルの比率は３：７〜７：３（仕込み重量比）の範囲が好
ましい。

【００３１】上記のノボラック樹脂は単独で用いてもよ
いし、又２種以上を混合して用いてもよい。

【００３２】ノボラック樹脂の分子量（ポリスチレン標
準）は、好ましくは数平均分子量（Ｍｎ）が3.00×10²
〜7.50×10³、重量平均分子量（Ｍｗ）が1.00×10³〜3.
00×10⁴、より好ましくはＭｎが5.00×10²〜4.00×1
0³、Ｍｗが3.00×10³〜2.00×10⁴の範囲内の値である。

【００３３】このようなノボラック樹脂の分子量の測定
は、ＧＰＣ（ゲルパーミエーションクロマトグラフィー
法）によって行う。数平均分子量Ｍｎ及び重量平均分子
量Ｍｗの算出は、柘植盛雄、宮林達也、田中誠之著「日
本化学会誌」800頁〜805頁（1972年）に記載の方法によ
り、オリゴマー領域のピークを均す（ピークの山と谷の
中心を結ぶ）方法にて行うものとする。

【００３４】また、ノボラック樹脂の合成に用いられた
フェノール類の量比を確認する方法としては、熱分解ガ
スクロマトグラフィー（Pyrolysis-gaschromatograph
y，ＰＧＣ）を用いる。熱分解ガスクロマトグラフィー
については、その原理、装置及び実験条件は、例えば、
日本化学会編、柘植新著「新実験化学講座」第19巻高
分子化学〔Ｉ〕474頁〜485頁（丸善1978年発行）等に記
載されており、熱分解ガスクロマトグラフィーによるノ
ボラック樹脂の定性分析法は、柘植盛男、田中隆、田中
誠之著「分析化学」第18巻47頁〜52頁（1969年）に記載
された方法に準じるものとする。

【００３５】また本発明の感光性層中のノボラック樹脂
の含有量は５〜70重量％が好ましく、より好ましくは20
〜50重量％である。

【００３６】バインダー樹脂として、上記の他に、例え
ば、スチレンと無水マレイン酸の共重合体、スチレンと
無水マレイン酸モノアルキルエステルの共重合体、メタ
クリル酸／メタクリル酸エステル共重合体、スチレン／
メタクリル酸／メタクリル酸エステル共重合体、アクリ
ル酸／メタクリル酸エステル共重合体、スチレン／アク
リル酸／メタクリル酸エステル共重合体、酢酸ビニル／
クロトン酸共重合体、酢酸ビニル／クロトン酸／メタク
リル酸エステル共重合体等のアクリル酸エステル、メタ
クリル酸エステル、スチレン、酢酸ビニルなどのアクリ
ル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイ
ン酸、無水マレイン酸、フマル酸などのカルボン酸含有
モノマーあるいは酸無水物基含有モノマーとの共重合体
やメタクリルアミド、ビニルピロリドン、フェノール性
水酸基、スルホン酸基、スルホンアミド基、スルホンイ
ミド基をもつ単量体を含有する共重合体、フェノール樹
脂、部分ケン化酢酸ビニル樹脂、キシレン樹脂、ポリビ
ニルブチラール等のビニルアセタール樹脂を用いること
ができる。

【００３７】酸無水物基またはカルボン酸基を有するモ
ノマーを共重合成分として含有する共重合体及びフェノ
ール樹脂は、光導電層の電荷保持力及びその他の電子写
真特性が良好である点から好ましい。

【００３８】酸無水物基を有するモノマーを共重合成分
として含有する共重重合体としては、スチレンと無水マ
レイン酸の共重合体が好ましい。また、この共重合体の
ハーフエステルも使用することができる。カルボン酸基
を有するモノマーを共重合成分として含有する共重合体
としては、アクリル酸もしくはメタクリル酸と、アクリ
ル酸もしくはメタクリル酸のアルキルエステル、アリー
ルエステルもしくはアラルキルエステルとの２元以上の
共重合体が好ましい。また、酢酸ビニルとクロトン酸共
重合体、酢酸ビニルと炭素数２〜18のカルボン酸のビニ
ルエステルとクロトン酸との３元共重合体も好ましい例
である。

【００３９】本発明の製造方法において、支持体上に感
光性層を塗設する塗布液の作製に用いる溶剤あるいは分
散媒として、プロピレングリコールモノアルキル（炭
素数１〜３）エーテル若しくはそのアセテート、ジエ
チレングリコールジアルキル（炭素数１又は２）エーテ
ル、又はエチレングリコールモノプロピルエーテルを
用いる。（以下、上記〜を「本発明の溶剤」とい
う）上記の具体例としては、プロピレングリコールモノメ
チルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテ
ル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロ
ピレングリコールモノイソプロピルエーテル、プロピレ
ングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレ
ングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレ
ングリコールモノプロピルエーテルアセテート、プロピ
レングリコールモノイソプロピルエーテルアセテートが
挙げられ、上記の具体例としては、ジエチレングリコ
ールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチル
エーテル、及びジエチレングリコールメチルエチルエタ
ノールが挙げられる。

【００４０】本発明の溶剤のうち、プロピレングリコー
ルモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチ
ルエーテルアセテート、エチレングリコールモノプロピ
ルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル及
びジエチレングリコールメチルエチルエーテルが特に好
ましい。また、キノンジアジド化合物としてノボラック
樹脂とo-ナフトキノンジアジドスルホン酸とのエステル
化合物を用い、有機溶剤としてエチレングリコールモノ
プロピルエーテルまたはプロピレングリコールモノメチ
ルエーテルを用いる組み合わせが好ましい。

【００４１】本発明において、本発明の溶剤は１種を用
いてもまた２種以上を併用してもよい。本発明の溶剤は
他の溶剤と併用できるが塗布液が含有する全溶剤中の本
発明の溶剤の量は、10％以上であることが好ましく、よ
り好ましくは30％以上である。併用する溶剤は特に限定
されず、例えば以下の有機溶剤を用いる。

【００４２】プロパノール、ブタノール、アミルアルコ
ール、ヘキサノール、シクロヘキサノール等のアルコー
ル類；メチルエチルケトン、アセトン、シクロヘキサノ
ン、メチルプロピルケトン、メチルインブチルケトン等
のケトン類；乳酸メチル、乳酸エチル、酢酸ブチル等の
エステル；エチレングリコール、プロピレングリコー
ル、ジエチレングリコール等の多価アルコールとそのエ
ーテルまたはアセテートを含む誘導体；テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン。

【００４３】本発明の製造方法において、塗布液作製過
程における分散液中の固形分濃度は５〜60％が好まし
く、より好ましくは10〜30％であり、感光性層の塗設に
用いる塗布液中の固形分の濃度は、好ましくは５〜40
％、より好ましくは10〜20％である。

【００４４】

【実施例】以下、本発明を実施例でより具体的に説明す
る。

【００４５】実施例１〜14、比較例１〜４厚さ0.30mmのアルミニウム板（JIS1100）をカセイソー
ダ水溶液にて脱脂処理した後、0.3モル／ｌの塩酸水溶
液中（30℃）で、電流密度50Ａ／dm²の交流による電解
研磨粗面化処理を30秒間行った。次に、５％カセイソー
ダ水溶液中で60℃、10秒間デスマット処理を行い、さら
に、20％硫酸溶液中で20℃、電流密度３Ａ／dm²で、１
分間陽極酸化処理をし、水洗した。処理後、熱水（80
℃）に30秒間浸漬し、温風で乾燥し、平版印刷用原版用
のアルミニウム支持体を得た。

【００４６】続いて、次に示す組成の感光性層用塗布液
を、サンドグラインダーで３時間分散後、ワイヤーバー
にて前記支持体に塗布し、90℃で３分，55℃で48時間の
乾燥を行って、実施例１の平版印刷用原版を得た。塗設
された感光性層の膜厚は40mg／dm²であった。

【００４７】感光性層用塗布液 ε型銅フタロシアニン（東洋インキ（株）製“Liophoton-EK"） 15重量部 p-クレゾール，ホルムアルデヒド重縮合ノボラック樹脂(Ｍｗ2000)のo-ナフトキノンジアジド-4-スルホン酸エステル化合物(エステル化率33％)22.5重量部フェノール／m-クレゾール／p-クレゾール・ホルムアルデヒド重縮合ノボラック樹脂（仕込み混合比＝10：50：40（重量比）） 62.5重量部エチレングリコールモノプロピルエーテル 400重量部次に、実施例１の感光性層用塗布液組成中のエチレング
リコールモノプロピルエーテルを表１に示す溶剤に変え
たほかは実施例１と同様にして実施例２〜14及び比較例
１〜４の平版印刷用原版を作製した。

【００４８】以上の実施例１〜14及び比較例１〜４の平
版印刷用原版について下記の評価を行った。

【００４９】電子写真特性：感度、暗減衰及び残留電位
を（株）川口電機製作所製ＳＰ-428を用いて測定した。
その結果を表１〜表２に示す。これらの表中、感度は初
期電位200Ｖからの光減衰の半減露光量（ｌｕｘ・ｓｅ
ｃ）で示し、暗減衰は初期電位200Ｖからの暗中での減
衰を最小二乗法でｅｘｐ（−ｋｔ）曲線に近似し、ｋで
示した。いずれも値の小さい方が好ましい。

【００５０】塗布ムラ：目視により下記３段階に評価し
た。

【００５１】◎ 塗布ムラが全く無い ○ 塗布ムラがやや発生 △ 塗布ムラが発生印刷特性：前記各平版印刷用原版に対し、以下の方法で
製版を行なった。スコロトロンを用いて、版面電位＋20
0Ｖに帯電させた後、出力３ｍＷの半導体レーザーで走
査速度250ｍ／ｓｅｃの露光を行ない、静電潜像を形成
した。その直後に特公平2-19952号に示される液体現像
装置を用いて現像し、乾燥させた後、130℃，10秒の熱
定着を行なった。現像時間は７秒とした。

【００５２】液体現像剤は以下のように製造した。

【００５３】オクタデシルメタクリレート／メタクリル酸コポリマー（共重合比90：10）１重量部アイソパーＧ（エクソン社）５重量部ＭＡ−100（カーボンブラック，三菱化成）１重量部をガラスビーズで５時間分散した後、ポリエチレン（平均分子量2000，三洋化成サンワックス151Ｐ）１重量部アイソパーＧ４重量部の溶液を添加し、さらに、10時間分散した。この液を固
形分濃度0.3重量％となるようアイソパーＧで希釈して
用いた。このようにして平版印刷用原版上にトナー像を
形成した後、水銀灯より総量３Ｊ／cm²の紫外線を照射
し、特開昭58-74566号に示される装置を用いて、非画像
部感光層の溶出を行なった。溶出液にはコニカ（株）ポ
ジＰＳ版用現像液ＳＤＲ−１を水で６倍に希釈した液を
用いた。溶出時間は20秒、液温は27℃、供給量は15ｌ／
ｍ²とした。溶出の後、第１水洗、第２水洗、ガム引き
を経て平版印刷版を得た。

【００５４】得られた平版印刷版について下記のとおり
平版印刷版特性を評価した。

【００５５】ピンホール：目視により下記３段階に評価
した。

【００５６】◎ ピンホールが全く無い ○ ピンホールがやや発生 △ ピンホールが発生印刷汚れ：印刷物を作製し印刷汚れの発生を目視判定し
た。

【００５７】◎ 印刷汚れが全く無い ○ 印刷汚れがやや発生 △ 印刷汚れが発生以上の結果を表１に示す。

【００５８】

【表１】

【００５９】表１に示す結果から、本発明の溶剤は、従
来の溶剤と対比して、ピンホール及び印刷汚れが改善さ
れ（これから光導電性物質の分散性が向上していること
が分かる）、電子写真特性が向上し、また、感光性層の
塗布ムラが改善されることが分かる。

【００６０】実施例15〜19 分散及び塗布に用いる溶剤、光導電体層及びキノンジア
ジド化合物を下記表２に示すように変えたほかは実施例
１と同様の実験を行った。その結果を表３に示す。

【００６１】

【表２】

【００６２】

【表３】

【００６３】

【発明の効果】本発明によれば、導電性支持体上に光導
電性物質及びキノンジアジド化合物を含有する感光性層
を塗設する平版印刷用原版の製造方法において、光導電
性物質の分散性が向上し、平版印刷用原版の電子写真特
性が向上し、得られる平版印刷版の印刷汚れが防止さ
れ、平版印刷用原版の製造時及びそれを用いて製版する
際の安全性が改善され、感光性層の塗布ムラが抑制され
る製造方法が提供される。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】導電性支持体上に光導電性物質及びキノ
ンジアジド化合物を含有する感光性層を塗設する平版印
刷用原版の製造方法において、該感光性層の分散及び塗
布に用いる溶剤として下記〜に示す有機溶剤から選
ばれる少なくとも１種を使用することを特徴とする平版
印刷用原版の製造方法。プロピレングリコールモノアルキル（炭素数１〜３）
エーテル又はそのアセテート。ジエチレングリコールジアルキル（炭素数１又は２）
エーテル。エチレングリコールモノプロピルエーテル。