JPH05246071A - イオンフロー静電記録ヘッドの製造方法 - Google Patents
イオンフロー静電記録ヘッドの製造方法Info
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- JPH05246071A JPH05246071A JP4047134A JP4713492A JPH05246071A JP H05246071 A JPH05246071 A JP H05246071A JP 4047134 A JP4047134 A JP 4047134A JP 4713492 A JP4713492 A JP 4713492A JP H05246071 A JPH05246071 A JP H05246071A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】本発明は、誘電体層を安価に製造でき、イオン
の発生効率が高く、放電による誘電体層の破壊を防止し
て長寿命にすることを最も主要な特徴とする。 【構成】誘電体ペーストを加熱硬化して形成された誘電
体層４上にペルヒドロポリシラザンと希釈用キシレンと
を主成分とする溶液を塗布し、この誘電体層４上に塗布
溶液を介して第２電極６を位置合わせ状態で配置した
後、塗布溶液を加熱硬化して誘電体層４と第２電極６と
の間を接着することを特徴としている。
の発生効率が高く、放電による誘電体層の破壊を防止し
て長寿命にすることを最も主要な特徴とする。 【構成】誘電体ペーストを加熱硬化して形成された誘電
体層４上にペルヒドロポリシラザンと希釈用キシレンと
を主成分とする溶液を塗布し、この誘電体層４上に塗布
溶液を介して第２電極６を位置合わせ状態で配置した
後、塗布溶液を加熱硬化して誘電体層４と第２電極６と
の間を接着することを特徴としている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は例えば静電式の印刷や複
写を行なう静電記録装置で使用されるイオンフロー静電
記録ヘッドの製造方法に関する。
写を行なう静電記録装置で使用されるイオンフロー静電
記録ヘッドの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に、例えば静電印刷等において、高
電流密度のイオンを発生させ、これを抽出して選択的に
被帯電部材に付与して、この被帯電部材を画像状に帯電
させる静電記録装置が知られている。
電流密度のイオンを発生させ、これを抽出して選択的に
被帯電部材に付与して、この被帯電部材を画像状に帯電
させる静電記録装置が知られている。
【０００３】この静電記録装置に用いられるイオンフロ
ー静電記録ヘッドは誘電体層とその誘電体層の一方の側
に固着され、第１の方向に伸びる複数の第１電極と、誘
電体層の他方の側に固着され、第１電極の伸び方向と交
差する方向に伸びる複数の第２電極とを有し、複数の第
１電極と複数の第２電極とでマトリックスを構成する。
ー静電記録ヘッドは誘電体層とその誘電体層の一方の側
に固着され、第１の方向に伸びる複数の第１電極と、誘
電体層の他方の側に固着され、第１電極の伸び方向と交
差する方向に伸びる複数の第２電極とを有し、複数の第
１電極と複数の第２電極とでマトリックスを構成する。
【０００４】このマトリックスの選択された部分に対応
する第１電極と第２電極との間に交互に高電圧を印加す
ることにより、その部分に対向する第２電極の近傍に正
・負のイオンが発生する。この発生したイオンを選択的
に抽出して被帯電部材を帯電させることができる。した
がって、マトリックス構造の電極を選択的に駆動するこ
とにより、ドットによる静電記録を行なうことができ
る。
する第１電極と第２電極との間に交互に高電圧を印加す
ることにより、その部分に対向する第２電極の近傍に正
・負のイオンが発生する。この発生したイオンを選択的
に抽出して被帯電部材を帯電させることができる。した
がって、マトリックス構造の電極を選択的に駆動するこ
とにより、ドットによる静電記録を行なうことができ
る。
【０００５】ここで使用される誘電体層を形成する誘電
物質は、イオン発生のために印加される高電圧でも絶縁
破壊しないことが要求される。また、イオンの発生を効
率よくするためには誘電体層を形成する誘電物質として
高い誘電率を持つものが適している。
物質は、イオン発生のために印加される高電圧でも絶縁
破壊しないことが要求される。また、イオンの発生を効
率よくするためには誘電体層を形成する誘電物質として
高い誘電率を持つものが適している。
【０００６】例えば特表昭５７−５０１３４８号公報で
は誘電物質としてマイカが用いられ、有機ポリシロキサ
ン系の接着剤により電極に固着させている。ここで用い
られるマイカは、シート状で厚さは非常に薄いものとな
っている。
は誘電物質としてマイカが用いられ、有機ポリシロキサ
ン系の接着剤により電極に固着させている。ここで用い
られるマイカは、シート状で厚さは非常に薄いものとな
っている。
【０００７】また、近年では特開平２−１５３７６０号
公報のようにマイカの代わりにシリコーン変性ポリマー
等の有機高分子材料に酸化チタンや、チタン酸バリウム
などの無機の粉末を分散させてペースト状にした誘電物
質をフレキシブル基板およびこの基板上に積層された第
１電極上に塗布し、加熱硬化することにより、誘電体層
を形成する方法も提唱されている。
公報のようにマイカの代わりにシリコーン変性ポリマー
等の有機高分子材料に酸化チタンや、チタン酸バリウム
などの無機の粉末を分散させてペースト状にした誘電物
質をフレキシブル基板およびこの基板上に積層された第
１電極上に塗布し、加熱硬化することにより、誘電体層
を形成する方法も提唱されている。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】イオンフロー静電記録
ヘッドの誘電体層を形成する誘電物質として使用される
マイカは電気特性に優れているが、天然物であるため、
均一で安定な品質を得にくい問題がある。さらに、天然
物のマイカを任意の形状に成形するすることは非常に困
難なため、イオンフロー静電記録ヘッドの安定供給とコ
スト面で大きな問題がある。
ヘッドの誘電体層を形成する誘電物質として使用される
マイカは電気特性に優れているが、天然物であるため、
均一で安定な品質を得にくい問題がある。さらに、天然
物のマイカを任意の形状に成形するすることは非常に困
難なため、イオンフロー静電記録ヘッドの安定供給とコ
スト面で大きな問題がある。
【０００９】また、誘電体ペーストを塗布したのち加熱
硬化することにより誘電体層を形成する方法は、有機物
をバインダーとして用いるため、高い誘電率を得ること
が難しいうえ、イオンフロー静電記録ヘッドの動作中、
イオン発生時の放電により、誘電体層の表面分子鎖の結
合が切断され易いため、絶縁破壊を起こし易い問題があ
る。
硬化することにより誘電体層を形成する方法は、有機物
をバインダーとして用いるため、高い誘電率を得ること
が難しいうえ、イオンフロー静電記録ヘッドの動作中、
イオン発生時の放電により、誘電体層の表面分子鎖の結
合が切断され易いため、絶縁破壊を起こし易い問題があ
る。
【００１０】これは、誘電体ペーストを加熱硬化して形
成された誘電体層の誘電率の低さを補なうために例えば
印加電圧を高くしたり、誘電体層を薄くする必要性があ
るので、より顕著な問題として発現している。
成された誘電体層の誘電率の低さを補なうために例えば
印加電圧を高くしたり、誘電体層を薄くする必要性があ
るので、より顕著な問題として発現している。
【００１１】さらに、誘電体層上に第２電極を積層する
作業時には、有機高分子からなる接着剤や、粘着材が用
いられるが、これらもまた耐電圧が十分ではなく、絶縁
破壊の起点となるおそれがある。
作業時には、有機高分子からなる接着剤や、粘着材が用
いられるが、これらもまた耐電圧が十分ではなく、絶縁
破壊の起点となるおそれがある。
【００１２】また、誘電体層上に塗布された接着剤や、
粘着材が第２電極の開口部内にはみ出すことにより、イ
オンフロー静電記録ヘッドの動作時にこのイオンフロー
静電記録ヘッドからのイオン発生を阻害するおそれがあ
る。
粘着材が第２電極の開口部内にはみ出すことにより、イ
オンフロー静電記録ヘッドの動作時にこのイオンフロー
静電記録ヘッドからのイオン発生を阻害するおそれがあ
る。
【００１３】本発明は上記事情に着目してなされたもの
で、その目的は、誘電体層としてマイカを用いるより場
合よりも安価に製造することができるうえ、イオンの発
生効率が高く、放電による誘電体層の破壊を起こし難
い、長寿命のイオンフロー静電記録ヘッドの製造方法を
提供することにある。
で、その目的は、誘電体層としてマイカを用いるより場
合よりも安価に製造することができるうえ、イオンの発
生効率が高く、放電による誘電体層の破壊を起こし難
い、長寿命のイオンフロー静電記録ヘッドの製造方法を
提供することにある。
【００１４】
【課題を解決するための手段】本発明は有機高分子材料
と溶剤からなるバインダーに無機の粉体を分散させた誘
電体ペーストをイオンフロー静電記録ヘッド本体の絶縁
基板上およびこの絶縁基板上に積層された第１電極上に
塗布したのち、加熱硬化して誘電体層を形成する誘電体
層形成工程と、少なくともアルコキシドシランまたはシ
ラザンのうちのいずれか一方と、希釈用溶剤とを主成分
とする溶液を前記誘電体層上に塗布する溶液塗布工程
と、前記誘電体層上に前記塗布溶液を介して第２電極を
位置合わせ状態で配置した後、前記塗布溶液を加熱硬化
して前記誘電体層と前記第２電極との間を接着する第２
電極接着工程とを具備したものである。
と溶剤からなるバインダーに無機の粉体を分散させた誘
電体ペーストをイオンフロー静電記録ヘッド本体の絶縁
基板上およびこの絶縁基板上に積層された第１電極上に
塗布したのち、加熱硬化して誘電体層を形成する誘電体
層形成工程と、少なくともアルコキシドシランまたはシ
ラザンのうちのいずれか一方と、希釈用溶剤とを主成分
とする溶液を前記誘電体層上に塗布する溶液塗布工程
と、前記誘電体層上に前記塗布溶液を介して第２電極を
位置合わせ状態で配置した後、前記塗布溶液を加熱硬化
して前記誘電体層と前記第２電極との間を接着する第２
電極接着工程とを具備したものである。
【００１５】
【作用】上記の方法では誘電体ペーストを加熱硬化して
誘電体層を形成したのち、この誘電体層上に少なくとも
アルコキシドシランまたはシラザンのうちのいずれか一
方と、希釈用溶剤とを主成分とする溶液を塗布し、さら
にこの誘電体層上に塗布溶液を介して第２電極を位置合
わせ状態で配置した後、塗布溶液を加熱硬化して誘電体
層と第２電極との間を接着することにより、誘電体層上
で加熱硬化された塗布溶液によってＳｉＯ2 を主成分と
する珪素化合物層を形成し、誘電体層表面からのイオン
の発生効率を高める。また、有機高分子による接着剤、
粘着材を用いる必要がないため、絶縁破壊を助長した
り、第２電極の開口部に接着剤、粘着材がはみ出してイ
オン発生を阻害することもない。さらに、放電による誘
電体層の破壊は主に表面において顕著であるが、有機高
分子に比べ結合が極めて強いＳｉＯ2 を主成分とする珪
素化合物層を形成することにより、放電による破壊が起
こり難くするようにしたのである。
誘電体層を形成したのち、この誘電体層上に少なくとも
アルコキシドシランまたはシラザンのうちのいずれか一
方と、希釈用溶剤とを主成分とする溶液を塗布し、さら
にこの誘電体層上に塗布溶液を介して第２電極を位置合
わせ状態で配置した後、塗布溶液を加熱硬化して誘電体
層と第２電極との間を接着することにより、誘電体層上
で加熱硬化された塗布溶液によってＳｉＯ2 を主成分と
する珪素化合物層を形成し、誘電体層表面からのイオン
の発生効率を高める。また、有機高分子による接着剤、
粘着材を用いる必要がないため、絶縁破壊を助長した
り、第２電極の開口部に接着剤、粘着材がはみ出してイ
オン発生を阻害することもない。さらに、放電による誘
電体層の破壊は主に表面において顕著であるが、有機高
分子に比べ結合が極めて強いＳｉＯ2 を主成分とする珪
素化合物層を形成することにより、放電による破壊が起
こり難くするようにしたのである。
【００１６】
【実施例】以下、本発明の第１の実施例について図面を
参照して説明する。図１（Ａ），（Ｂ）は静電記録装置
のイオンフロー静電記録ヘッド１の概略構成を示すもの
で、２はイオンフロー静電記録ヘッド１の絶縁基板であ
る。
参照して説明する。図１（Ａ），（Ｂ）は静電記録装置
のイオンフロー静電記録ヘッド１の概略構成を示すもの
で、２はイオンフロー静電記録ヘッド１の絶縁基板であ
る。
【００１７】この絶縁基板２上にはイオン発生用の誘導
電極である複数の第１電極３…が設けられている。これ
らの複数の第１電極３…は一方向に向けて略平行に並設
されている。また、絶縁基板１上には第１電極３…の並
設面側にこれらの第１電極３…を埋設する状態で誘電体
層４が設けられている。この誘電体層４は絶縁基板２よ
び第１電極３…上に塗布された誘電体ペーストを加熱硬
化させて形成されている。
電極である複数の第１電極３…が設けられている。これ
らの複数の第１電極３…は一方向に向けて略平行に並設
されている。また、絶縁基板１上には第１電極３…の並
設面側にこれらの第１電極３…を埋設する状態で誘電体
層４が設けられている。この誘電体層４は絶縁基板２よ
び第１電極３…上に塗布された誘電体ペーストを加熱硬
化させて形成されている。
【００１８】また、誘電体層４の表面にはＳｉＯ2 を主
成分とする珪素化合物層によって形成される接着剤層５
を介して放電電極である複数の第２電極６…が接着され
ている。この場合、複数の第２電極６…は誘電体層４に
おける絶縁基板２とは反対側の面に第１電極３…と交差
する方向に並設されており、第１電極３…と第２電極６
…とによってマトリックスが構成されている。そして、
第２電極６…にはこのマトリックスと対応する部位にそ
れぞれイオン発生用の開口部６ａ…が形成されている。
成分とする珪素化合物層によって形成される接着剤層５
を介して放電電極である複数の第２電極６…が接着され
ている。この場合、複数の第２電極６…は誘電体層４に
おける絶縁基板２とは反対側の面に第１電極３…と交差
する方向に並設されており、第１電極３…と第２電極６
…とによってマトリックスが構成されている。そして、
第２電極６…にはこのマトリックスと対応する部位にそ
れぞれイオン発生用の開口部６ａ…が形成されている。
【００１９】また、誘電体層４の第２電極６…の並設面
側には第２電極６…を埋設する状態で絶縁体層７が設け
られている。この絶縁体層７には第２電極６…の各開口
部６ａ…と対応する部位に開口部７ａ…が形成されてい
る。
側には第２電極６…を埋設する状態で絶縁体層７が設け
られている。この絶縁体層７には第２電極６…の各開口
部６ａ…と対応する部位に開口部７ａ…が形成されてい
る。
【００２０】さらに、絶縁体層７の表面には帯状の第３
電極８が設けられている。この第３電極８には第１電極
３…と第２電極６…とのマトリックスと対応する部位に
開口部８ａ…が形成されている。この第３電極８の開口
部８ａ…は絶縁体層７の開口部７ａ…および第２電極６
…の開口部６ａ…と連通されてイオンフロー静電記録ヘ
ッド１のイオン流通過口９…が形成されている。
電極８が設けられている。この第３電極８には第１電極
３…と第２電極６…とのマトリックスと対応する部位に
開口部８ａ…が形成されている。この第３電極８の開口
部８ａ…は絶縁体層７の開口部７ａ…および第２電極６
…の開口部６ａ…と連通されてイオンフロー静電記録ヘ
ッド１のイオン流通過口９…が形成されている。
【００２１】そして、イオンフロー静電記録ヘッド１の
動作時には印字信号にもとづいて第１電極３…と第２電
極６…との間のマトリックスが適宜選択され、選択され
たマトリックス部分に対応する第１電極３…と第２電極
６…との間に交流電圧が印加される。これにより、選択
されたマトリックス部分に対応する第２電極６…の開口
部６ａ…内の近傍部位に正負イオンが発生する。このと
き、第２電極６…と第３電極８との間にはバイアス電圧
が印加され、その極性によって決まるイオンのみが第２
電極６…の開口部６ａ…内の近傍部位に発生したイオン
から抽出される。そして、抽出されたイオンは絶縁体層
７の開口部７ａおよび第３電極８の開口部８ａ…を通過
し、図示しない誘電体ドラムを局部的に帯電させる。し
たがって、第１電極３…および第２電極６…の選択的駆
動により、誘電体ドラム上にドット潜像を形成すること
ができる。
動作時には印字信号にもとづいて第１電極３…と第２電
極６…との間のマトリックスが適宜選択され、選択され
たマトリックス部分に対応する第１電極３…と第２電極
６…との間に交流電圧が印加される。これにより、選択
されたマトリックス部分に対応する第２電極６…の開口
部６ａ…内の近傍部位に正負イオンが発生する。このと
き、第２電極６…と第３電極８との間にはバイアス電圧
が印加され、その極性によって決まるイオンのみが第２
電極６…の開口部６ａ…内の近傍部位に発生したイオン
から抽出される。そして、抽出されたイオンは絶縁体層
７の開口部７ａおよび第３電極８の開口部８ａ…を通過
し、図示しない誘電体ドラムを局部的に帯電させる。し
たがって、第１電極３…および第２電極６…の選択的駆
動により、誘電体ドラム上にドット潜像を形成すること
ができる。
【００２２】次に、図１（Ａ），（Ｂ）のイオンフロー
静電記録ヘッド１の製造方法について詳細に説明する。
まず、絶縁基板２上に第１電極３…が形成される。この
場合、絶縁基板２は例えば厚さ１００μｍのガラス−エ
ポキシＦＲＰ（繊維強化プラスチック）板が使用され
る。そして、この絶縁基板２上に例えば厚さ１８μｍの
銅箔が貼着されたのち、絶縁基板２上の銅箔が通常のフ
ォトリソグラフィーおよびエッチング加工でパターニン
グされて複数の第１電極３…が回路形成される。続い
て、第１電極３…が貼りつけられた絶縁基板２は洗浄さ
れ、乾燥される。
静電記録ヘッド１の製造方法について詳細に説明する。
まず、絶縁基板２上に第１電極３…が形成される。この
場合、絶縁基板２は例えば厚さ１００μｍのガラス−エ
ポキシＦＲＰ（繊維強化プラスチック）板が使用され
る。そして、この絶縁基板２上に例えば厚さ１８μｍの
銅箔が貼着されたのち、絶縁基板２上の銅箔が通常のフ
ォトリソグラフィーおよびエッチング加工でパターニン
グされて複数の第１電極３…が回路形成される。続い
て、第１電極３…が貼りつけられた絶縁基板２は洗浄さ
れ、乾燥される。
【００２３】また、絶縁基板２上に第１電極３…を形成
した後、絶縁基板２上の第１電極３のパターン間および
第１電極３…上に誘電体層４が形成される。この誘電体
層４の形成時には予め誘電体ペーストを作成する。
した後、絶縁基板２上の第１電極３のパターン間および
第１電極３…上に誘電体層４が形成される。この誘電体
層４の形成時には予め誘電体ペーストを作成する。
【００２４】この誘電体ペーストはバインダー樹脂にシ
リコーン変性ポリエステル／アルキッド、例えばイー・
エス・エル日本株式会社製の「ＥＳＬ２４１」（商品
名）を使用し、これに希釈用溶剤として酢酸２−（２−
エトキシエトキシ）エチルを加えて粘度を調整しなが
ら、酸化チタン（ＴｉＯ2 ）の粉体（フィラー）を徐々
に加えて混合することにより、混合粉体の含有量８２w
t．％に調整したものである。
リコーン変性ポリエステル／アルキッド、例えばイー・
エス・エル日本株式会社製の「ＥＳＬ２４１」（商品
名）を使用し、これに希釈用溶剤として酢酸２−（２−
エトキシエトキシ）エチルを加えて粘度を調整しなが
ら、酸化チタン（ＴｉＯ2 ）の粉体（フィラー）を徐々
に加えて混合することにより、混合粉体の含有量８２w
t．％に調整したものである。
【００２５】また、減圧脱泡装置により、誘電体ペース
トの脱泡作業を行なう。ここで加えた粉体は、シランカ
ップリング剤の３〜５wt．％エタノール溶液中で混合
し、乾燥させたものである。さらに、絶縁基板２上およ
び第１電極３…上に、接着性向上のためのシランカップ
リング剤が予め塗布されたのち、８０度の温風で風乾さ
せる。
トの脱泡作業を行なう。ここで加えた粉体は、シランカ
ップリング剤の３〜５wt．％エタノール溶液中で混合
し、乾燥させたものである。さらに、絶縁基板２上およ
び第１電極３…上に、接着性向上のためのシランカップ
リング剤が予め塗布されたのち、８０度の温風で風乾さ
せる。
【００２６】次に、この誘電体ペーストは図２に示すよ
うに例えばスクリーン印刷等の手段によって絶縁基板２
上の第１電極３のパターン間および第１電極３…上に塗
布される。続いて、塗布された誘電体ペーストは１５０
℃で４時間加熱硬化され、例えば厚さ３３μｍの誘電体
層４が形成される（誘電体層形成工程）。
うに例えばスクリーン印刷等の手段によって絶縁基板２
上の第１電極３のパターン間および第１電極３…上に塗
布される。続いて、塗布された誘電体ペーストは１５０
℃で４時間加熱硬化され、例えば厚さ３３μｍの誘電体
層４が形成される（誘電体層形成工程）。
【００２７】次に、この誘電体層４の上にペルヒドロポ
リシラザン、例えば東燃（株）社製の「東燃ポリシラザ
ン」（商品名）を希釈用溶剤であるキシレンで約２０％
に希釈した溶液が塗布される（溶液塗布工程）。
リシラザン、例えば東燃（株）社製の「東燃ポリシラザ
ン」（商品名）を希釈用溶剤であるキシレンで約２０％
に希釈した溶液が塗布される（溶液塗布工程）。
【００２８】さらに、誘電体層４の上にこの塗布溶液を
介して第２電極６…が載置される。この第２電極６…は
予め厚さ３０μｍのステンレス箔をフォトエッチング等
で複数の第２電極６…および各第２電極６の開口部６ａ
…の電極パターンがそれぞれパターニングされた電極板
によって形成されている。そして、この第２電極６…の
電極板は図３に示すように第２電極６…の各開口部６ａ
…を複数の第１電極３…に位置合わせした状態で、誘電
体層４の上に塗布溶液を介して接合される。
介して第２電極６…が載置される。この第２電極６…は
予め厚さ３０μｍのステンレス箔をフォトエッチング等
で複数の第２電極６…および各第２電極６の開口部６ａ
…の電極パターンがそれぞれパターニングされた電極板
によって形成されている。そして、この第２電極６…の
電極板は図３に示すように第２電極６…の各開口部６ａ
…を複数の第１電極３…に位置合わせした状態で、誘電
体層４の上に塗布溶液を介して接合される。
【００２９】さらに、誘電体層４と第２電極６…との接
合後、上記積層体が大気中で約２００度で１時間加熱さ
れることにより、ペルヒドロポリシラザン溶液が加熱硬
化され、誘電体層４に第２電極６…が固定される。この
場合、ペルヒドロポリシラザン溶液の加熱硬化によって
ＳｉＯ2 を主成分とする珪素化合物層の接着剤層５が形
成され、この接着剤層５を介して第２電極６…が誘電体
層４に接着される（第２電極接着工程）。
合後、上記積層体が大気中で約２００度で１時間加熱さ
れることにより、ペルヒドロポリシラザン溶液が加熱硬
化され、誘電体層４に第２電極６…が固定される。この
場合、ペルヒドロポリシラザン溶液の加熱硬化によって
ＳｉＯ2 を主成分とする珪素化合物層の接着剤層５が形
成され、この接着剤層５を介して第２電極６…が誘電体
層４に接着される（第２電極接着工程）。
【００３０】次に、この第２電極６…およびこの第２電
極６…の各開口部６ａ…内の誘電体層４の上に絶縁体層
７を形成する例えば厚さ１００μｍ程度の感光性絶縁フ
ィルム（ソルダーレジスト）を真空ラミネートする。さ
らに、この感光性絶縁フィルムに露光・現像等のフォト
エッチング処理を施して複数の第２電極６…の開口部６
ａ…と対応した開口部７ａを形成する。
極６…の各開口部６ａ…内の誘電体層４の上に絶縁体層
７を形成する例えば厚さ１００μｍ程度の感光性絶縁フ
ィルム（ソルダーレジスト）を真空ラミネートする。さ
らに、この感光性絶縁フィルムに露光・現像等のフォト
エッチング処理を施して複数の第２電極６…の開口部６
ａ…と対応した開口部７ａを形成する。
【００３１】また、このように形成された絶縁体層７の
上に例えば厚さ３０μｍ程度のステンレス箔に第２電極
６…の開口部６ａ…と対応した開口部８ａ…が形成され
た第３電極８が接合される。この第３電極８はその開口
部８ａ…を第２電極６…の開口部６ａ…と対応させた状
態で位置決めして接着されることにより、イオンフロ−
静電記録ヘッド１が製造される。
上に例えば厚さ３０μｍ程度のステンレス箔に第２電極
６…の開口部６ａ…と対応した開口部８ａ…が形成され
た第３電極８が接合される。この第３電極８はその開口
部８ａ…を第２電極６…の開口部６ａ…と対応させた状
態で位置決めして接着されることにより、イオンフロ−
静電記録ヘッド１が製造される。
【００３２】そこで、上記方法によれば誘電体ペースト
を加熱硬化して誘電体層４を形成したのち、この誘電体
層４上にペルヒドロポリシラザンと、キシレンとを主成
分とする溶液を塗布し、さらにこの誘電体層４上に塗布
溶液を介して第２電極６…を位置合わせ状態で配置した
後、塗布溶液を加熱硬化して誘電体層４と第２電極６…
との間を接着するようにした。
を加熱硬化して誘電体層４を形成したのち、この誘電体
層４上にペルヒドロポリシラザンと、キシレンとを主成
分とする溶液を塗布し、さらにこの誘電体層４上に塗布
溶液を介して第２電極６…を位置合わせ状態で配置した
後、塗布溶液を加熱硬化して誘電体層４と第２電極６…
との間を接着するようにした。
【００３３】ここで、誘電体層４の表面からの放電の効
率を上げるためには高い誘電率を持つ物質を誘電体層４
に用いる事が一般的であるが、ＳｉＯ2 の存在がイオン
の発生効率を向上させる事が鋭意検討の結果、確認され
ている。このＳｉＯ2 は誘電率自体は高くなく、高誘電
化による効果ではない事は明らかである。
率を上げるためには高い誘電率を持つ物質を誘電体層４
に用いる事が一般的であるが、ＳｉＯ2 の存在がイオン
の発生効率を向上させる事が鋭意検討の結果、確認され
ている。このＳｉＯ2 は誘電率自体は高くなく、高誘電
化による効果ではない事は明らかである。
【００３４】また、アルコキシドシラン、シラザンを加
熱硬化することによりＳｉＯ2 を主成分とする珪素化合
物が得られることは一般に知られている。したがって、
本実施例のように誘電体層４上にペルヒドロポリシラザ
ン溶液を塗布し、第２電極６…を配置後、加熱硬化して
ＳｉＯ2 を主成分とする珪素化合物層の接着剤層５を形
成することにより、誘電体層４表面からのイオンの発生
効率を高めることができる。
熱硬化することによりＳｉＯ2 を主成分とする珪素化合
物が得られることは一般に知られている。したがって、
本実施例のように誘電体層４上にペルヒドロポリシラザ
ン溶液を塗布し、第２電極６…を配置後、加熱硬化して
ＳｉＯ2 を主成分とする珪素化合物層の接着剤層５を形
成することにより、誘電体層４表面からのイオンの発生
効率を高めることができる。
【００３５】そのため、イオンフロー静電記録ヘッド１
の動作時に従来に比べて印加電圧を下げたり、誘電体層
４の厚さを厚くすることができるので、絶縁破壊を起こ
し難くすることができる。
の動作時に従来に比べて印加電圧を下げたり、誘電体層
４の厚さを厚くすることができるので、絶縁破壊を起こ
し難くすることができる。
【００３６】また、第２電極６…を誘電体層４表面に固
定する手段として従来のように有機高分子による接着
剤、粘着材を用いる必要がないので、イオンフロー静電
記録ヘッド１の動作時に絶縁破壊を助長したり、第２電
極６…の開口部６ａ…内に接着剤、粘着材がはみ出して
イオン発生を阻害するおそれもない。
定する手段として従来のように有機高分子による接着
剤、粘着材を用いる必要がないので、イオンフロー静電
記録ヘッド１の動作時に絶縁破壊を助長したり、第２電
極６…の開口部６ａ…内に接着剤、粘着材がはみ出して
イオン発生を阻害するおそれもない。
【００３７】さらに、イオンフロー静電記録ヘッド１の
動作時に放電による誘電体層４の破壊は主に表面におい
て顕著であるが、有機高分子に比べて結合が極めて強い
ＳｉＯ2 を主成分とする珪素化合物層の接着剤層５を形
成することにより、放電による破壊が起こり難くするこ
とができる。そのため、誘電体層４の表面の耐電圧性を
高めることができ、極めて長寿命のイオンフロー静電記
録ヘッド１を得る事ができる。
動作時に放電による誘電体層４の破壊は主に表面におい
て顕著であるが、有機高分子に比べて結合が極めて強い
ＳｉＯ2 を主成分とする珪素化合物層の接着剤層５を形
成することにより、放電による破壊が起こり難くするこ
とができる。そのため、誘電体層４の表面の耐電圧性を
高めることができ、極めて長寿命のイオンフロー静電記
録ヘッド１を得る事ができる。
【００３８】次に、この発明の第２の実施例について説
明する。この実施例では誘電体層４の形成時に使用され
る誘電体ペーストが変更されている。すなわち、ここで
は誘電体物質のバインダーとしてビスマレイミド・トリ
アジンレジンである三菱瓦斯化学株式会社製の「ＢＴ
ＲＥＳＩＮ」（商品名）を用い、希釈用溶剤として酢酸
２−（２−エトキシエトキシ）エチルを用いて粘度を調
整しながら、酸化チタンの粉体を徐々に加えて混合し、
混合粉体の含有量８２wt．％の誘電体ペーストを作成す
る。
明する。この実施例では誘電体層４の形成時に使用され
る誘電体ペーストが変更されている。すなわち、ここで
は誘電体物質のバインダーとしてビスマレイミド・トリ
アジンレジンである三菱瓦斯化学株式会社製の「ＢＴ
ＲＥＳＩＮ」（商品名）を用い、希釈用溶剤として酢酸
２−（２−エトキシエトキシ）エチルを用いて粘度を調
整しながら、酸化チタンの粉体を徐々に加えて混合し、
混合粉体の含有量８２wt．％の誘電体ペーストを作成す
る。
【００３９】また、減圧脱泡装置により、誘電体ペース
トの脱泡作業を行なう。ここで加えた粉体は、シランカ
ップリング剤の３〜５wt．％エタノール溶液中で混合
し、乾燥させたものである。さらに、絶縁基板２上およ
び第１電極３…上に、接着性向上のためのシランカップ
リング剤が予め塗布されたのち、８０度の温風で風乾さ
せる。
トの脱泡作業を行なう。ここで加えた粉体は、シランカ
ップリング剤の３〜５wt．％エタノール溶液中で混合
し、乾燥させたものである。さらに、絶縁基板２上およ
び第１電極３…上に、接着性向上のためのシランカップ
リング剤が予め塗布されたのち、８０度の温風で風乾さ
せる。
【００４０】次に、この誘電体ペーストは図２に示すよ
うに例えばスクリーン印刷等の手段によって絶縁基板２
上の第１電極３のパターン間および第１電極３…上に塗
布される。続いて、塗布された誘電体ペーストは１５０
℃で４時間加熱硬化され、例えば厚さ３３μｍの誘電体
層４が形成される（誘電体層形成工程）。
うに例えばスクリーン印刷等の手段によって絶縁基板２
上の第１電極３のパターン間および第１電極３…上に塗
布される。続いて、塗布された誘電体ペーストは１５０
℃で４時間加熱硬化され、例えば厚さ３３μｍの誘電体
層４が形成される（誘電体層形成工程）。
【００４１】次に、この誘電体層４の上にアルコキシド
シラン溶液を塗布したのち、誘電体層４の上にこの塗布
溶液を介して第２電極６…が載置される。この第２電極
６…は予めステンレス箔をフォトエッチング等で複数の
第２電極６…および各第２電極６の開口部６ａ…の電極
パターンがそれぞれパターニングされた電極板によって
形成されている。そして、この第２電極６…の電極板は
第２電極６…の各開口部６ａ…を複数の第１電極３…に
位置合わせした状態で、誘電体層４の上にアルコキシド
シランの塗布溶液を介して接合される。
シラン溶液を塗布したのち、誘電体層４の上にこの塗布
溶液を介して第２電極６…が載置される。この第２電極
６…は予めステンレス箔をフォトエッチング等で複数の
第２電極６…および各第２電極６の開口部６ａ…の電極
パターンがそれぞれパターニングされた電極板によって
形成されている。そして、この第２電極６…の電極板は
第２電極６…の各開口部６ａ…を複数の第１電極３…に
位置合わせした状態で、誘電体層４の上にアルコキシド
シランの塗布溶液を介して接合される。
【００４２】さらに、誘電体層４と第２電極６…との接
合後、上記積層体が大気中で約２００度で１時間加熱さ
れることにより、アルコキシドシランの塗布溶液が加熱
硬化され、誘電体層４に第２電極６…が固定される。こ
の場合、アルコキシドシラン溶液の加熱硬化によってＳ
ｉＯ2 を主成分とする珪素化合物層の接着剤層５が形成
され、この接着剤層５を介して第２電極６…が誘電体層
４に接着される（第２電極接着工程）。他の工程は、第
１の実施例と同様である。
合後、上記積層体が大気中で約２００度で１時間加熱さ
れることにより、アルコキシドシランの塗布溶液が加熱
硬化され、誘電体層４に第２電極６…が固定される。こ
の場合、アルコキシドシラン溶液の加熱硬化によってＳ
ｉＯ2 を主成分とする珪素化合物層の接着剤層５が形成
され、この接着剤層５を介して第２電極６…が誘電体層
４に接着される（第２電極接着工程）。他の工程は、第
１の実施例と同様である。
【００４３】そこで、上記方法では誘電体層４上に塗布
されたアルコキシドシラン溶液を加熱硬化してＳｉＯ2
を主成分とする珪素化合物層の接着剤層５を形成し、こ
の接着剤層５を介して誘電体層４と第２電極６…との間
を接着するようにしたので、この場合も第１の実施例と
同様に、誘電体層４表面からのイオンの発生効率を高め
ることができる他、第１の実施例と同様の効果を得るこ
とができる。さらに、その他この発明の要旨を逸脱しな
い範囲で種々変形実施できることは勿論である。
されたアルコキシドシラン溶液を加熱硬化してＳｉＯ2
を主成分とする珪素化合物層の接着剤層５を形成し、こ
の接着剤層５を介して誘電体層４と第２電極６…との間
を接着するようにしたので、この場合も第１の実施例と
同様に、誘電体層４表面からのイオンの発生効率を高め
ることができる他、第１の実施例と同様の効果を得るこ
とができる。さらに、その他この発明の要旨を逸脱しな
い範囲で種々変形実施できることは勿論である。
【００４４】
【発明の効果】本発明によれば誘電体ペーストを加熱硬
化して誘電体層を形成したのち、この誘電体層上に少な
くともアルコキシドシランまたはシラザンのうちのいず
れか一方と、希釈用溶剤とを主成分とする溶液を塗布
し、さらにこの誘電体層上に塗布溶液を介して第２電極
を位置合わせ状態で配置した後、塗布溶液を加熱硬化し
て誘電体層と第２電極との間を接着するようにしたの
で、誘電体層としてマイカを用いるより場合よりも安価
に製造することができるうえ、イオンの発生効率が高
く、放電による誘電体層の破壊を起こし難く、イオンフ
ロー静電記録ヘッド本体の長寿命化を図ることができ
る。
化して誘電体層を形成したのち、この誘電体層上に少な
くともアルコキシドシランまたはシラザンのうちのいず
れか一方と、希釈用溶剤とを主成分とする溶液を塗布
し、さらにこの誘電体層上に塗布溶液を介して第２電極
を位置合わせ状態で配置した後、塗布溶液を加熱硬化し
て誘電体層と第２電極との間を接着するようにしたの
で、誘電体層としてマイカを用いるより場合よりも安価
に製造することができるうえ、イオンの発生効率が高
く、放電による誘電体層の破壊を起こし難く、イオンフ
ロー静電記録ヘッド本体の長寿命化を図ることができ
る。
【図１】 この発明の一実施例を示すもので、（Ａ）は
イオンフロ−静電記録ヘッドの概略構成を示す要部の縦
断面図、（Ｂ）はイオンフロ−静電記録ヘッドの断面斜
視図。
イオンフロ−静電記録ヘッドの概略構成を示す要部の縦
断面図、（Ｂ）はイオンフロ−静電記録ヘッドの断面斜
視図。
【図２】 誘電体層形成工程を説明するための要部の縦
断面図。
断面図。
【図３】 第２電極接着工程を説明するための要部の縦
断面図。
断面図。
２…絶縁基板，３…第１電極，４…誘電体層，５…接着
剤層，６…第２電極。
剤層，６…第２電極。
Claims (1)
- 【請求項１】 有機高分子材料と溶剤からなるバインダ
ーに無機の粉体を分散させた誘電体ペーストをイオンフ
ロー静電記録ヘッド本体の絶縁基板上およびこの絶縁基
板上に積層された第１電極上に塗布したのち、加熱硬化
して誘電体層を形成する誘電体層形成工程と、少なくと
もアルコキシドシランまたはシラザンのうちのいずれか
一方と、希釈用溶剤とを主成分とする溶液を前記誘電体
層上に塗布する溶液塗布工程と、前記誘電体層上に前記
塗布溶液を介して第２電極を位置合わせ状態で配置した
後、前記塗布溶液を加熱硬化して前記誘電体層と前記第
２電極との間を接着する第２電極接着工程とを具備した
ことを特徴とするイオンフロー静電記録ヘッドの製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4047134A JPH05246071A (ja) | 1992-03-04 | 1992-03-04 | イオンフロー静電記録ヘッドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4047134A JPH05246071A (ja) | 1992-03-04 | 1992-03-04 | イオンフロー静電記録ヘッドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05246071A true JPH05246071A (ja) | 1993-09-24 |
Family
ID=12766657
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4047134A Withdrawn JPH05246071A (ja) | 1992-03-04 | 1992-03-04 | イオンフロー静電記録ヘッドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05246071A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006173349A (ja) * | 2004-12-15 | 2006-06-29 | Sony Corp | 固体撮像素子の製造方法及び固体撮像素子 |
-
1992
- 1992-03-04 JP JP4047134A patent/JPH05246071A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006173349A (ja) * | 2004-12-15 | 2006-06-29 | Sony Corp | 固体撮像素子の製造方法及び固体撮像素子 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19990518 |