JPH05245664A - レーザ加工装置 - Google Patents
レーザ加工装置Info
- Publication number
- JPH05245664A JPH05245664A JP4051256A JP5125692A JPH05245664A JP H05245664 A JPH05245664 A JP H05245664A JP 4051256 A JP4051256 A JP 4051256A JP 5125692 A JP5125692 A JP 5125692A JP H05245664 A JPH05245664 A JP H05245664A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser
- laser beam
- optical system
- pattern
- pattern mask
- Prior art date
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- Pending
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- Laser Beam Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 本発明のレーザ加工装置は、レーザ光を発振
するレーザ装置と、このレーザ装置からのレーザ光を伝
送する伝送光学系と、この伝送光学系により送られたレ
ーザ光を集光する集光光学系と、前記レーザ光により被
加工物にマーキングするパターンを形成すると共に、そ
の表面が前記レーザ光を吸収、散乱或いは散乱するよう
に加工されたパターンマスクとを有する。 【効果】 本発明によれば、パターンマスクの表面での
レーザ光の直接反射が防止できるので、伝送光学系やレ
ーザ装置の共振器等の光学部品や周辺機器の損傷や人体
への危険を防止することができる。
するレーザ装置と、このレーザ装置からのレーザ光を伝
送する伝送光学系と、この伝送光学系により送られたレ
ーザ光を集光する集光光学系と、前記レーザ光により被
加工物にマーキングするパターンを形成すると共に、そ
の表面が前記レーザ光を吸収、散乱或いは散乱するよう
に加工されたパターンマスクとを有する。 【効果】 本発明によれば、パターンマスクの表面での
レーザ光の直接反射が防止できるので、伝送光学系やレ
ーザ装置の共振器等の光学部品や周辺機器の損傷や人体
への危険を防止することができる。
Description
［発明の目的］
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、レーザ光を基に被加工
物にパターンを形成するマーキング加工を行なうレーザ
加工装置に関する。
物にパターンを形成するマーキング加工を行なうレーザ
加工装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に、マーキング加工を行なうレーザ
加工装置は、マスクイメージ法や直接マスク法により被
加工物上にレーザ光を照射し、その表面にレーザ光のエ
ネルギーによる変質或いは一部除去加工を行ない、パタ
ーンマスクに形成されたマスクと同じ形を描こうとする
ものである。
加工装置は、マスクイメージ法や直接マスク法により被
加工物上にレーザ光を照射し、その表面にレーザ光のエ
ネルギーによる変質或いは一部除去加工を行ない、パタ
ーンマスクに形成されたマスクと同じ形を描こうとする
ものである。
【０００３】図２は、従来この種のレーザ加工装置を示
すもので、レーザ光を発振するレーザ装置１と、このレ
ーザ装置１より出力されたレーザ光２を加工領域まで導
く反射鏡３ａ，３ｂ，３ｃを有する伝送光学系４と、パ
ターンを形成したパターンマスク５と、このパターンマ
スク５を介して送られたレーザ光２を集光するイメージ
ングレンズ６と、安全上レーザ光２の光路を覆う光路カ
バー（図示せず）から構成されている。
すもので、レーザ光を発振するレーザ装置１と、このレ
ーザ装置１より出力されたレーザ光２を加工領域まで導
く反射鏡３ａ，３ｂ，３ｃを有する伝送光学系４と、パ
ターンを形成したパターンマスク５と、このパターンマ
スク５を介して送られたレーザ光２を集光するイメージ
ングレンズ６と、安全上レーザ光２の光路を覆う光路カ
バー（図示せず）から構成されている。
【０００４】このように構成されたレーザ加工装置は、
イメージングレンズ６により、パターンマスク５に形成
されたパターンはスライド映写と同様の原理で被加工物
７上に結像される。そして、レーザ光のエネルギーによ
り、被加工物７上の表面は加工され、変質或いは一部除
去が行なわれ、これにより光の反射が異なり、被加工物
７上に形成されたマークが読取れる。
イメージングレンズ６により、パターンマスク５に形成
されたパターンはスライド映写と同様の原理で被加工物
７上に結像される。そして、レーザ光のエネルギーによ
り、被加工物７上の表面は加工され、変質或いは一部除
去が行なわれ、これにより光の反射が異なり、被加工物
７上に形成されたマークが読取れる。
【０００５】なお、ここではマスクイメージ法によるマ
ーキング加工について述べたが。パターンマスクを直接
被加工物上に設置し、レーザ光を照射する直接マスク法
によるマーキング加工も行なうことができる。
ーキング加工について述べたが。パターンマスクを直接
被加工物上に設置し、レーザ光を照射する直接マスク法
によるマーキング加工も行なうことができる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記従来のレ
ーザ加工装置においては、パターンマスクは通常金属薄
膜に所望のパターン形状を穴明加工により形成したもの
か、或いは、ガラス等の透過材にクロム（Ｃｒ）等の金
属の反射材を蒸着により塗布したものである。そして、
このパターンマスクは、板状に形成されている。
ーザ加工装置においては、パターンマスクは通常金属薄
膜に所望のパターン形状を穴明加工により形成したもの
か、或いは、ガラス等の透過材にクロム（Ｃｒ）等の金
属の反射材を蒸着により塗布したものである。そして、
このパターンマスクは、板状に形成されている。
【０００７】このようなパターンマスクでは、図２に示
すように、その表面でレーザ光の反射光Ｈは、伝送光学
系を伝わり、レーザ装置まで戻ることになり、伝送光学
系の反射鏡やレーザ装置内の共振器鏡等の損傷を発生さ
せる。
すように、その表面でレーザ光の反射光Ｈは、伝送光学
系を伝わり、レーザ装置まで戻ることになり、伝送光学
系の反射鏡やレーザ装置内の共振器鏡等の損傷を発生さ
せる。
【０００８】また、パターンマスクを反射光が伝送光学
系を伝わらないように配置すると、その反射光Ｈはレー
ザ加工装置の周辺機器の損傷や人体への危険を発生させ
る。そこで、本発明は、上記問題点を鑑み、パターンマ
スク表面でのレーザ光の直接反射を発生させず、反射光
による機器の損傷や人体への危険をなくしたレーザ加工
装置を提供することを目的とする。 ［発明の構成］
系を伝わらないように配置すると、その反射光Ｈはレー
ザ加工装置の周辺機器の損傷や人体への危険を発生させ
る。そこで、本発明は、上記問題点を鑑み、パターンマ
スク表面でのレーザ光の直接反射を発生させず、反射光
による機器の損傷や人体への危険をなくしたレーザ加工
装置を提供することを目的とする。 ［発明の構成］
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、レーザ光を発振するレーザ装置と、この
レーザ装置からのレーザ光を伝送する伝送光学系と、こ
の伝送光学系により送られたレーザ光を集光する集光光
学系と、前記レーザ光により被加工物にマーキングする
パターンを形成すると共に、その表面が前記レーザ光を
吸収、散乱或いは散乱するように加工されたパターンマ
スクとを備えたレーザ加工装置を提供する。
に、本発明は、レーザ光を発振するレーザ装置と、この
レーザ装置からのレーザ光を伝送する伝送光学系と、こ
の伝送光学系により送られたレーザ光を集光する集光光
学系と、前記レーザ光により被加工物にマーキングする
パターンを形成すると共に、その表面が前記レーザ光を
吸収、散乱或いは散乱するように加工されたパターンマ
スクとを備えたレーザ加工装置を提供する。
【００１０】
【作用】このように構成された本発明のレーザ加工装置
においては、パターンマスクの表面にレーザ光を吸収散
乱するように、或いは散乱するように加工したので、レ
ーザ光のパターンマスク表面での直接反射を防止するこ
とができ、機器の損傷や人体への危険を発生させない。
においては、パターンマスクの表面にレーザ光を吸収散
乱するように、或いは散乱するように加工したので、レ
ーザ光のパターンマスク表面での直接反射を防止するこ
とができ、機器の損傷や人体への危険を発生させない。
【００１１】
【実施例】以下、本発明の一実施例について、図面を用
いて説明する。
いて説明する。
【００１２】図１に示すように、本実施例のレーザ加工
装置は、パルスレーザ光Ｌを発振するＴＥＡ−ＣＯ2 レ
ーザ１０と、このＴＥＡ−ＣＯ2 レーザ１０から出力さ
れたパルスレーザ光Ｌを所定位置まで伝送する反射鏡１
１ａ，１１ｂ，１１ｃを有する伝送光学系１２と、反射
鏡１１ｂ，１１ｃ間に設けられ、この伝送光学系１２か
ら送られるレーザ光Ｌを介して、パターンを形成し、表
面にカーボン塗装を施されたパターンマスク１３と、こ
のパターンマスク１３を透過したレーザ光を被加工物１
４上に結像させるイメージングレンズ１５とから構成さ
れる。
装置は、パルスレーザ光Ｌを発振するＴＥＡ−ＣＯ2 レ
ーザ１０と、このＴＥＡ−ＣＯ2 レーザ１０から出力さ
れたパルスレーザ光Ｌを所定位置まで伝送する反射鏡１
１ａ，１１ｂ，１１ｃを有する伝送光学系１２と、反射
鏡１１ｂ，１１ｃ間に設けられ、この伝送光学系１２か
ら送られるレーザ光Ｌを介して、パターンを形成し、表
面にカーボン塗装を施されたパターンマスク１３と、こ
のパターンマスク１３を透過したレーザ光を被加工物１
４上に結像させるイメージングレンズ１５とから構成さ
れる。
【００１３】このように構成された本実施例のレーザ加
工装置においては、表面にカーボン塗装を施されたパタ
ーンマスク１３により、照射されたレーザ光Ｌのうち透
過する光以外の大部分は吸収され、ごく一部のみが散乱
光Ｍとして周囲に反射されることになるので、反射光が
直接伝送光学系１２を伝わって、ＴＥＡ−ＣＯ2 レーザ
１０へ逆戻りすることはなくなる。また、パターンマス
ク１３上のパターンと照射されたマーキング結像とは反
転した倒像になっている。
工装置においては、表面にカーボン塗装を施されたパタ
ーンマスク１３により、照射されたレーザ光Ｌのうち透
過する光以外の大部分は吸収され、ごく一部のみが散乱
光Ｍとして周囲に反射されることになるので、反射光が
直接伝送光学系１２を伝わって、ＴＥＡ−ＣＯ2 レーザ
１０へ逆戻りすることはなくなる。また、パターンマス
ク１３上のパターンと照射されたマーキング結像とは反
転した倒像になっている。
【００１４】なお、本実施例においてレーザ装置として
ＴＥＡ−ＣＯ2 レーザを用いたが、パルスＹＡＧレー
ザ、エキシマレーザ、金属蒸気レーザ等のパルスレーザ
であれば適用できる。また、パターンマスクの表面加工
としてカーボン塗装を施したが、これ以外にも黒アルマ
イト処理やセラミック溶射等の加工を施しても良い。次
に、本発明の他の実施例について述べる。なお、ここで
は先の実施例と異なる点についてのみ説明する。
ＴＥＡ−ＣＯ2 レーザを用いたが、パルスＹＡＧレー
ザ、エキシマレーザ、金属蒸気レーザ等のパルスレーザ
であれば適用できる。また、パターンマスクの表面加工
としてカーボン塗装を施したが、これ以外にも黒アルマ
イト処理やセラミック溶射等の加工を施しても良い。次
に、本発明の他の実施例について述べる。なお、ここで
は先の実施例と異なる点についてのみ説明する。
【００１５】本実施例のレーザ加工装置に用いられるパ
ターンマスクの表面は、サンドブラスト処理を施されて
おり、このパターンマスクに照射されたレーザ光のうち
パターンマスクに形成されたパターンを透過する光以外
は、サンドブラスト処理を施された表面で散乱され、反
射光が直接伝送光学系を伝わってＴＥＡ−ＣＯ2 レーザ
へ逆戻りしない。
ターンマスクの表面は、サンドブラスト処理を施されて
おり、このパターンマスクに照射されたレーザ光のうち
パターンマスクに形成されたパターンを透過する光以外
は、サンドブラスト処理を施された表面で散乱され、反
射光が直接伝送光学系を伝わってＴＥＡ−ＣＯ2 レーザ
へ逆戻りしない。
【００１６】なお、本実施例においても、先の実施例と
同様、レーザ装置としてＴＥＡ−ＣＯ2 レーザを用いた
が、これ以外にもパルスＹＡＧレーザ、エキシマレー
ザ、金属蒸気レーザ等のパルスレーザが適用できる。ま
た、本実施例においてはパターンマスク表面にサンドブ
ラスト処理を行なったが、これ以外にエッチング処理等
レーザ光が散乱する加工であれば、適用可能であること
は言うまでもない。
同様、レーザ装置としてＴＥＡ−ＣＯ2 レーザを用いた
が、これ以外にもパルスＹＡＧレーザ、エキシマレー
ザ、金属蒸気レーザ等のパルスレーザが適用できる。ま
た、本実施例においてはパターンマスク表面にサンドブ
ラスト処理を行なったが、これ以外にエッチング処理等
レーザ光が散乱する加工であれば、適用可能であること
は言うまでもない。
【００１７】
【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、パ
ターンマスクの表面でのレーザ光の直接反射が防止でき
るので、伝送光学系やレーザ装置の共振器等の光学部品
や周辺機器の損傷や人体への危険を防止することができ
る。
ターンマスクの表面でのレーザ光の直接反射が防止でき
るので、伝送光学系やレーザ装置の共振器等の光学部品
や周辺機器の損傷や人体への危険を防止することができ
る。
【図１】本発明の一実施例を示す概要構成図。
【図２】従来のレーザ加工装置を示す概要構成図。
１０……ＴＥＡ−ＣＯ2 レーザ １１ａ，１１ｂ，１
１ｃ……反射鏡 １２……伝送光学系 １３……パターンマ
スク １４……被加工物 １５……イメージン
グレンズ
１ｃ……反射鏡 １２……伝送光学系 １３……パターンマ
スク １４……被加工物 １５……イメージン
グレンズ
フロントページの続き (72)発明者 雨森 清行 東京都府中市晴見町２丁目24番の１ 東芝 エフエーシステムエンジニアリング株式会 社内
Claims (5)
- 【請求項１】 レーザ光を発振するレーザ装置と、この
レーザ装置からのレーザ光を伝送する伝送光学系と、こ
の伝送光学系により送られたレーザ光を集光する集光光
学系と、前記レーザ光により被加工物にマーキングする
パターンを形成し、その表面が前記レーザ光を吸収、散
乱するよう加工されたパターンマスクとを具備したこと
を特徴とするレーザ加工装置。 - 【請求項２】 前記パターンマスクの基板材料が金属薄
膜で形成され、この表面に黒アルマイト処理、グラファ
イトカーボン処理、セラミック溶射処理のいずれかを施
したことを特徴とする請求項１記載のレーザ加工装置。 - 【請求項３】 レーザ光を発振するレーザ装置と、この
レーザ装置からのレーザ光を伝送する伝送光学系と、こ
の伝送光学系により送られたレーザ光を集光する集光光
学系と、前記レーザ光により被加工物にマーキングする
パターンを形成すると共に、その表面が前記レーザ光を
散乱するように加工されたパターンマスクとを具備した
ことを特徴とするレーザ加工装置。 - 【請求項４】 前記パターンマスクは、その基板材料が
透明体で、かつその基板材料中にレーザ光散乱体を含ん
でいることを特徴とする請求項３記載のレーザ加工装
置。 - 【請求項５】 前記パターンマスクは、その基板材料が
透明体で、かつその表面の一部を不透明処理加工を行っ
たことを特徴とする請求項３記載のレーザ加工装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4051256A JPH05245664A (ja) | 1992-03-10 | 1992-03-10 | レーザ加工装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4051256A JPH05245664A (ja) | 1992-03-10 | 1992-03-10 | レーザ加工装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05245664A true JPH05245664A (ja) | 1993-09-24 |
Family
ID=12881873
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4051256A Pending JPH05245664A (ja) | 1992-03-10 | 1992-03-10 | レーザ加工装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05245664A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011165647A (ja) * | 2010-02-11 | 2011-08-25 | Samsung Mobile Display Co Ltd | レーザ熱転写用マスク、及びこれを利用した有機電界発光表示装置の製造方法 |
-
1992
- 1992-03-10 JP JP4051256A patent/JPH05245664A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011165647A (ja) * | 2010-02-11 | 2011-08-25 | Samsung Mobile Display Co Ltd | レーザ熱転写用マスク、及びこれを利用した有機電界発光表示装置の製造方法 |
| US8785081B2 (en) | 2010-02-11 | 2014-07-22 | Samsung Display Co., Ltd. | Mask for laser induced thermal imaging and method of fabricating organic electro-luminescence display device using the same |
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