JPH03161182A - レーザマーキング方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の目的］ （産業上の利用分野） 本発明はレーザ光により被マーキング物にマークを形成
するようにしたレーザマーキング方法に関する。

（従来の技術） 近年、例えば小形の電子部品などの被マーキング物にレ
ーザ光を照射し、その照射部位を瞬時に高温として表面
物質を除去することにより、該電子部品の表面に文字や
図形といった所定のパターンでマークを形成することが
行われている。

このようなレーザ光によるマーキング方法を実施する装
置として、第５図に示すものが供されている。このもの
は、レーザ発振器１から出力されたレーザ光の光路２中
に薄板状のマスク３を設け、このマスク３を透過したレ
ーザ光をレンズ４で結像して披マーキング物５表面に照
射するように構或されている。前記マスク３には、例え
ば第６図に示すようなマスクパターン６（斜線を付して
示す）が貫通孔として形成されており、前記レーザ光が
このマスクパターン６部分だけを透過することにより、
第７図に示すように、被マーキング物５にはマスクパタ
ーン６に対応したｒＴＯｓＪのマーク７（斜線を付して
示す）が形戊されるようになっている。

（発明が解決しようとする課８） ところが、上記のようなマスク３を用いた装置では、次
のような問題点がある。

即ち、マスクパターン６はマスク３がらその一部をエッ
チングにより貫通させて形成されるものであるから、マ
スクパターン６の陰画部分（第６図で斜線が付されてい
ない部分）は必ずつながっていなければならず、言換え
れば、マスク３には、例えば円環や枠形などの該マスク
３の一部分を囲むような文字，図形を含んだマスクパタ
ーンを切目なく形成することはできない。従って、被マ
ーキング物５に、レーザ光による゛マークで周囲が囲ま
れた独立部分（以下「島」と称する）を形成することが
できない。このため、上述のような「島」を含む文字で
ある「０」の文字の場合には、第６図に示すように、マ
スクパターン６１；２個の不連続部６ａを形成しなくて
はならず、マーク７にもこれに対応した不連続部７ａが
形成されることになってしまい、この結果、形威された
マーク７の印象が不鮮明になるといった不具合が生じて
しまう。

また、マスクパターン６をエッチング加工によって形戒
する事情により、マスク３は薄板状のものとなっており
、このため、マスク３が取扱い中に曲り変形しやすい欠
点があった。

本発明は上記事情に鑑みてなされたもので、その目的は
、「島」を含む複雑なパターンのマークを切目なく鮮明
に形成することができ、構造が簡単でしかも構成部品の
変形などの虞もないレーザマーキング方法を提供するに
ある。

［発明の構成］ （課題を解決するための手段） 本発明のレーザマーキング方法は、レーザ発振器からの
レーザ光を、被マーキング物に形成するマークに対応し
たパターンの部位だけが被マーキング物にマークを施す
ことが可能な強さで反身・１させるようにしたところに
特徴を有する。

（作用） 上記手段によれば、レーザ発振器から出力されたレーザ
光は、マークに対応したパターンの部分だけで反射体に
より強く反射されて披マーキング物に照射され、．その
パターンで被マーキング物にマークを形成することがで
きる。この場合、反射体に形成されるパターンは反射体
を貫通するものではないから、マークで囲まれた「島」
の部分が他の部分とつながってなくても良く、ひいては
「島」を含むパターンのマークを切目なく形成すること
も可能となり、鮮明なマークが形成される。

また、反射体は薄板にする必要がないから、十分な強度
を備えたものとすることができる。

（実施例） 以下本発明の一実施例について、第１図乃至第４図を参
照して説明する。

第１図は本実施例に係るレーザマーキング方法１１の全
体構或を概略的に示している。この第１図において、１
２は周知のＣＯ２レーザ発振器であり、この場合、図で
右方向に向けてレーザ光Ｌを出力し、後述する反射体１
３の反射面１４に向けて照射するように構成されている
。また、この間のレーザ光Ｌの光路にはレンズ１５が設
けられ、レーザ光Ｌを所定の大きさに整形するようにな
っている。反射体１３の反射面１４に照射されたレーザ
光Ｌは、この反射面１４で反射して光路を図で左下方向
に変更し、照射位置に配置された被マ−キング物たる例
えば電子部品ｌ６の表面に照射されるようになっている
。また、この間にもレーザ光Ｌを所定の大きさに整形す
るためのレンズ１７が設けられている。

さて、前記反射体１３は、例えば銅板よりなり、その反
射面１４には、第２図に示すような、強反射部１８と散
乱部１９とが形戊されている。このうち強反射部１８は
、ｒＴＯｓＪの文字に対応したパターンで反射面１４を
平滑ないわゆる鏡面状態にすることにより形成され（便
宜上斜線を付して図示する）、レーザ光Ｌを強く反射す
るようになっている。そして、この強反射部１８以外の
部位がレーザ光Ｌを散乱させるように反射面１４を粗く
形威した散乱部１９となっている。これにより、反射体
１３の反射面１４は、ｒＴＯｓＪの文字パターンに対応
した強反射部１８だけが前記電子部品１６にマークを施
すことが可能な強さでレーザ光Ｌを反射するようになっ
ている。

次に、上記構成の作用について説明する。

レーザ発振器１２を駆動するとレーザ光Ｌが出カされ、
このレーザ光Ｌは、前述のように反射体１３の反射面１
４を反射して電子部品１６の表面に照射される。この照
射部位が瞬時に高温となり表面物質が除去されることに
より、該電子部品１６の表面に、第３図に示すように、
照射されたレーザ光Ｌの断面形状に相当するパターンの
マーク２０が形威される。このとき、反射面１４を反射
したレーザ光Ｌは強反射部１８にて強く反射し、散乱部
１つにて散乱するので、電子部品１６の表面に照射され
るレーザ光Ｌは、強反射部１３に対応する部位（ｒＴＯ
ｓＪの文字に対応する）だけが強度の高いビームとなる
。この場合、電子部品１６の表面に照射されたレーザ光
Ｌの強さは、第３図のＸ−Ｘ−に沿う直線部分をみると
、第４図に示すような分布となり、強反射部１８からの
反射光は電子部品１６表面物質を除去するに足るしきい
値強度Ａ以上であって、散乱部１つからの反射光はしき
い値強度Ａに満たないものとなっている。従って、電子
部品１６の表面に形成されたマーク２０は、第３図に斜
線を付して示すように、強反射部１８のパターンが転写
されたｒＴＯｓＪというパターンとなる。

このように本実施例によれば、レーザ発振器１２，光学
系及び反射体１３といった簡単な構成で済むものであっ
て、反射体１３に形成されるパターンは反射体１３を貫
通するものではないから、従来のようなマーク７に不連
続部７ａが形成されるものと異なり、「０」といった「
島」２１（第３図参照）を含む複雑なパターンでのマー
ク２０を切目なく形成することができる。この結果、マ
ーク２０の印象を鮮明にすることができ、また、より！
！雑なパターンのマークの形成も可能となる。

また、従来のもののようにマスク３をエッチング加工に
よって貫通させてマスクパターン６を形成するものでは
ないから、反射体１３を十分強度を備えたものとするこ
とができて、反射体１３の取扱いを容易とし、曲り変形
などを生じることを防止できる。

尚、上記実施例では、レーザ光Ｌが電子部品１６にマー
ク２０を施すことが不可能な強さでしか反射しない部分
（散乱部１９）を、レーザ光Ｌを散乱させるように反射
面１４を粗くすることにより形成したが、例えばレーザ
光を強く反射する反射面にレーザ光吸収剤よりなる塗料
を塗布し、この部分をレーザ光を吸収して反射させない
ように構成しても良く、この場合、筆を用いた簡単な作
業で済ませることができる。

その他、レーザ発振器としてはエキシマレーザなどを用
いても良く、また、反射体の材質としても様々なものを
採用できるなど、本発明は要旨を逸脱しない範囲内で種
々の変更が可能である。

［発明の効果］ 以上の説明にて明らかなように、本発明のレーザマーキ
ング方法によれば、レーザ発振器からのレーザ光を、パ
ターンに対応した部位だけが被マーキング物にマークを
施すことが可能な強さで反射させるようにしたので、「
島」を含む複雑なパターンのマークを切目なく鮮明に形
成することができ、構造が簡単でしかも構成部品の変形
などの虞もないという優れた効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

第１図乃至第４図は本発明の一実施例を示すもので、第
１図は全体構成を概略的に示す図、第２図は反射体の反
対面を示す図、第３図はマークが形成された被マーキン
グ物の平面図、第４図は被マーキング物に照射されたレ
ーザ光の強度分布を示す特性図である。また、第５図乃
至第７図は従来例を示すもので、第５図は第１図相当図
、第６図は第２図相当図、単７図は箇３図相当図である
。 図面中、１２はレーザ発振器、１３は反射体、１４は反
射面、１６は電子部品（披マーキング物）１８は強反射
部、１９は散乱部、２０はマーク、Ｌはレーザ光を示す
。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １、レーザ光の照射により被マーキング物に所定のパタ
   ーンでマークを形成するものであって、レーザ発振器か
   らのレーザ光を、前記パターンに対応した部位だけが前
   記被マーキング物にマークを施すことが可能な強さで反
   射させることにより前記披マーキング物にマークを形成
   することを特徴とするレーザマーキング方法。