JPH05245360A - 真空処理装置 - Google Patents
真空処理装置Info
- Publication number
- JPH05245360A JPH05245360A JP5036992A JP5036992A JPH05245360A JP H05245360 A JPH05245360 A JP H05245360A JP 5036992 A JP5036992 A JP 5036992A JP 5036992 A JP5036992 A JP 5036992A JP H05245360 A JPH05245360 A JP H05245360A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- atmosphere
- vacuum processing
- sample
- valve
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J3/00—Processes of utilising sub-atmospheric or super-atmospheric pressure to effect chemical or physical change of matter; Apparatus therefor
- B01J3/006—Processes utilising sub-atmospheric pressure; Apparatus therefor
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】反応性ガスを用いた真空処理装置の真空処理容
器１１，１２内に設けた試料台１５に、配管１７および
第１の弁１９を介して試料台に配置された試料の裏面に
冷却ガスを供給する冷却ガス供給手段を接続し、該配管
１７に第２の弁２１を介して不活性ガス供給手段を接続
して、真空処理容器の大気開放時に冷却ガス供給用の配
管内に残留する処理後の処理ガスを不活性ガスによって
排除する。 【効果】冷却ガス供給用の配管内の残留ガスがなくな
り、真空処理容器の大気開放時における残留ガスの悪影
響を防止することができるので、装置の信頼性を向上さ
せることができる。
器１１，１２内に設けた試料台１５に、配管１７および
第１の弁１９を介して試料台に配置された試料の裏面に
冷却ガスを供給する冷却ガス供給手段を接続し、該配管
１７に第２の弁２１を介して不活性ガス供給手段を接続
して、真空処理容器の大気開放時に冷却ガス供給用の配
管内に残留する処理後の処理ガスを不活性ガスによって
排除する。 【効果】冷却ガス供給用の配管内の残留ガスがなくな
り、真空処理容器の大気開放時における残留ガスの悪影
響を防止することができるので、装置の信頼性を向上さ
せることができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は真空処理装置に係り、特
に反応性ガスを用いて試料の処理を行なう真空処理装置
に関するものである。
に反応性ガスを用いて試料の処理を行なう真空処理装置
に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来の真空処理装置は、例えば、特開昭
６０−１１５２２６号公報に記載のように、真空処理室
内に処理ガスを供給し該処理ガスのプラズマを発生させ
るとともに、基板裏面にＨｅガスを供給して基板の冷却
効率を高め、基板の処理を行なうようになっていた。
６０−１１５２２６号公報に記載のように、真空処理室
内に処理ガスを供給し該処理ガスのプラズマを発生させ
るとともに、基板裏面にＨｅガスを供給して基板の冷却
効率を高め、基板の処理を行なうようになっていた。
【０００３】このような真空処理装置では、真空処理を
重ねていくに従い、真空処理室内に反応生成物等が付着
しゴミの発生原因となるため、定期的に真空処理室内を
大気開放して処理室内部のクリーニングを行なってい
た。
重ねていくに従い、真空処理室内に反応生成物等が付着
しゴミの発生原因となるため、定期的に真空処理室内を
大気開放して処理室内部のクリーニングを行なってい
た。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上記従来技術は、真空
処理室内の大気開放時における反応生成物の付着の点に
ついて配慮されていなかった。すなわち、クリーニング
等における大気開放時には、Ｈｅガスの供給が停止さ
れ、基板が配置される下部電極に接続されたＨｅガスの
供給用配管に、真空処理で使用された処理ガスおよび反
応ガスが回り込み配管内へ反応生成物が付着する恐れが
ある。また、大気開放時における残留ガスと大気中の水
分との反応によって生成物が付着し、さらに反応生成物
の付着を助長する恐れがある。
処理室内の大気開放時における反応生成物の付着の点に
ついて配慮されていなかった。すなわち、クリーニング
等における大気開放時には、Ｈｅガスの供給が停止さ
れ、基板が配置される下部電極に接続されたＨｅガスの
供給用配管に、真空処理で使用された処理ガスおよび反
応ガスが回り込み配管内へ反応生成物が付着する恐れが
ある。また、大気開放時における残留ガスと大気中の水
分との反応によって生成物が付着し、さらに反応生成物
の付着を助長する恐れがある。
【０００５】本発明の目的は、真空処理容器の大気開放
時における残留ガスの悪影響を防止して、信頼性の高い
真空処理装置を提供することにある。
時における残留ガスの悪影響を防止して、信頼性の高い
真空処理装置を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、反応性ガスを用いた真空処理ならびに処理室内部を
大気開放可能な真空処理容器の内部に設けた試料台に、
配管および第１の弁を介して試料台に配置された試料の
裏面に冷却ガスを供給する冷却ガス供給手段を接続する
とともに、該配管に第２の弁を介して不活性ガス供給手
段を接続したものである。
に、反応性ガスを用いた真空処理ならびに処理室内部を
大気開放可能な真空処理容器の内部に設けた試料台に、
配管および第１の弁を介して試料台に配置された試料の
裏面に冷却ガスを供給する冷却ガス供給手段を接続する
とともに、該配管に第２の弁を介して不活性ガス供給手
段を接続したものである。
【０００７】
【作用】真空処理室内を大気開放する前に、第１の弁を
閉じて第２の弁を開き、冷却ガスの供給を停止するとと
もに配管を介して試料台に不活性ガス供給手段から不活
性ガスを送る。これにより真空処理室内の残留ガスの配
管内への侵入および真空処理室内大気開放時の残留ガス
と大気中の水分との反応による生成物の付着を防止で
き、信頼性の高い装置にできる。
閉じて第２の弁を開き、冷却ガスの供給を停止するとと
もに配管を介して試料台に不活性ガス供給手段から不活
性ガスを送る。これにより真空処理室内の残留ガスの配
管内への侵入および真空処理室内大気開放時の残留ガス
と大気中の水分との反応による生成物の付着を防止で
き、信頼性の高い装置にできる。
【０００８】
【実施例】本発明の一実施例を図１により説明する。
【０００９】図１は、本発明の真空処理装置の構成を示
す。真空処理室は、この場合、処理室１１と蓋１２とか
ら成り、蓋１２は処理室１１の上部開口部に取外し可能
に設けられている。蓋１２の上部には真空処理室内へ処
理用の反応性ガスを供給するための供給口１３が設けら
れ、処理室１１の下方には真空処理室内を減圧排気する
ための排気口１４が設けられている。処理室１１内には
上面に試料を配置可能な試料台１５が設けられている。
試料台１５には、この場合、試料台１５への試料の載置
および試料台１５からの試料の取外しのための試料押し
上げロッド２４が設けられており、該押し上げロッド２
４が設けられる空間を利用して冷却ガスの流路１６が形
成されている。流路１６には、配管１７および第１の弁
である、この場合、エアオペレートバルブ１９を介して
冷却ガス源が接続されている。また、配管１７はエアオ
ペレートバルブ１９の前部に分岐管１８を設けて分岐さ
せ、第２の弁であるバルブ２１およびフィルター２２を
介して不活性ガスの供給源である、この場合、窒素ガス
源が接続してある。
す。真空処理室は、この場合、処理室１１と蓋１２とか
ら成り、蓋１２は処理室１１の上部開口部に取外し可能
に設けられている。蓋１２の上部には真空処理室内へ処
理用の反応性ガスを供給するための供給口１３が設けら
れ、処理室１１の下方には真空処理室内を減圧排気する
ための排気口１４が設けられている。処理室１１内には
上面に試料を配置可能な試料台１５が設けられている。
試料台１５には、この場合、試料台１５への試料の載置
および試料台１５からの試料の取外しのための試料押し
上げロッド２４が設けられており、該押し上げロッド２
４が設けられる空間を利用して冷却ガスの流路１６が形
成されている。流路１６には、配管１７および第１の弁
である、この場合、エアオペレートバルブ１９を介して
冷却ガス源が接続されている。また、配管１７はエアオ
ペレートバルブ１９の前部に分岐管１８を設けて分岐さ
せ、第２の弁であるバルブ２１およびフィルター２２を
介して不活性ガスの供給源である、この場合、窒素ガス
源が接続してある。
【００１０】次に、上記のように構成した装置の動作に
ついて以下説明する。通常動作、すなわち、供給口１３
から反応性ガスを供給して試料を真空処理するときに
は、バルブ２１は閉じて窒素ガスが配管１７へ流れない
ようにし、冷却ガスをエアオペレートバルブ１９をコン
トロールして試料台１５へ送り、試料台１５に配置され
た試料裏面に供給する。エアオペレートバルブ１９は、
この場合、ノーマルクローズに設定されており、真空処
理室内を大気開放する際は閉となっている。これによ
り、大気開放前にバルブ２１を開き、試料台１５側へ窒
素ガスを送ることによって、配管１７および流路１６内
の残留ガスが排出される。
ついて以下説明する。通常動作、すなわち、供給口１３
から反応性ガスを供給して試料を真空処理するときに
は、バルブ２１は閉じて窒素ガスが配管１７へ流れない
ようにし、冷却ガスをエアオペレートバルブ１９をコン
トロールして試料台１５へ送り、試料台１５に配置され
た試料裏面に供給する。エアオペレートバルブ１９は、
この場合、ノーマルクローズに設定されており、真空処
理室内を大気開放する際は閉となっている。これによ
り、大気開放前にバルブ２１を開き、試料台１５側へ窒
素ガスを送ることによって、配管１７および流路１６内
の残留ガスが排出される。
【００１１】これによって、配管内の残留ガスがなくな
るとともに、真空処理室内の残留ガスが配管内へ侵入お
よび真空処理室内の大気開放時における残留ガスと大気
中の水分との反応による生成物の付着を防止することが
でき、真空処理装置の信頼性を向上させることができ
る。
るとともに、真空処理室内の残留ガスが配管内へ侵入お
よび真空処理室内の大気開放時における残留ガスと大気
中の水分との反応による生成物の付着を防止することが
でき、真空処理装置の信頼性を向上させることができ
る。
【００１２】
【発明の効果】本発明によれば、冷却ガス供給用の配管
内に残留する処理後の処理ガスを不活性ガスによって排
除し、真空処理容器の大気開放時における残留ガスの悪
影響を防止することができるので、装置の信頼性を向上
させることができるという効果がある。
内に残留する処理後の処理ガスを不活性ガスによって排
除し、真空処理容器の大気開放時における残留ガスの悪
影響を防止することができるので、装置の信頼性を向上
させることができるという効果がある。
【図１】本発明の一実施例である真空処理装置を示す構
成図である。
成図である。
【符号の説明】 １１…処理室，１２…蓋，１３…供給口，１４…排気
口，１５…試料台，１６…流路，１７…配管，１８…分
岐管，１９…エアオペレートバルブ，２０…冷却ガス，
２１…バルブ，２２…フィルター，２３…不活性ガス。
口，１５…試料台，１６…流路，１７…配管，１８…分
岐管，１９…エアオペレートバルブ，２０…冷却ガス，
２１…バルブ，２２…フィルター，２３…不活性ガス。
Claims (1)
- 【請求項１】反応性ガスを用いた真空処理ならびに内部
を大気開放可能な真空処理容器と、前記真空処理容器内
に試料を配置するための試料台と、前記試料台に配管お
よび第１の弁を介して接続され前記試料台に配置される
前記試料の裏面に冷却ガスを供給する冷却ガス供給手段
と、前記配管に第２の弁を介して接続した不活性ガス供
給手段とを具備して成ることを特徴とする真空処理装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5036992A JPH05245360A (ja) | 1992-03-09 | 1992-03-09 | 真空処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5036992A JPH05245360A (ja) | 1992-03-09 | 1992-03-09 | 真空処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05245360A true JPH05245360A (ja) | 1993-09-24 |
Family
ID=12856978
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5036992A Pending JPH05245360A (ja) | 1992-03-09 | 1992-03-09 | 真空処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05245360A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2020065079A (ja) * | 2017-09-14 | 2020-04-23 | 株式会社日立ハイテク | プラズマ処理装置および大気開放方法 |
-
1992
- 1992-03-09 JP JP5036992A patent/JPH05245360A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2020065079A (ja) * | 2017-09-14 | 2020-04-23 | 株式会社日立ハイテク | プラズマ処理装置および大気開放方法 |
| US10886106B2 (en) | 2017-09-14 | 2021-01-05 | Hitachi High-Tech Corporation | Plasma processing apparatus and method for venting a processing chamber to atmosphere |
| TWI750669B (zh) * | 2017-09-14 | 2021-12-21 | 日商日立全球先端科技股份有限公司 | 電漿處理裝置及大氣開放方法 |
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