JPH0524169A - 半導体レーザ製版装置 - Google Patents
半導体レーザ製版装置Info
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- JPH0524169A JPH0524169A JP17974691A JP17974691A JPH0524169A JP H0524169 A JPH0524169 A JP H0524169A JP 17974691 A JP17974691 A JP 17974691A JP 17974691 A JP17974691 A JP 17974691A JP H0524169 A JPH0524169 A JP H0524169A
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- Japan
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- semiconductor laser
- plate
- laser
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 半導体レーザを用いてグラビア版を製版する
際に、画像データの濃淡に合せて版の深さを変えて多階
調表現の出来る版胴の製版装置を得る。 【構成】 半導体レーザ１０で画像データ４１の濃淡に
合せて、版上に窪み１５を形成させる際に、濃淡に応じ
て半導体レーザ１０に流す電流値を変えることでパワ出
力を変化させ、深さの変化した版２を得る。
際に、画像データの濃淡に合せて版の深さを変えて多階
調表現の出来る版胴の製版装置を得る。 【構成】 半導体レーザ１０で画像データ４１の濃淡に
合せて、版上に窪み１５を形成させる際に、濃淡に応じ
て半導体レーザ１０に流す電流値を変えることでパワ出
力を変化させ、深さの変化した版２を得る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は半導体レーザを用いて映
像データの濃淡に応じた窪みの版を形成する様にした半
導体レーザ製版装置に関する。
像データの濃淡に応じた窪みの版を形成する様にした半
導体レーザ製版装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】本出願人は先に特開平２−１３９２３８
号公報によって、レーザを用いて熱可塑製樹脂からなる
版にレーザビームを照射し、画像の濃淡に対応した凹部
を形成する様にした凹版の版胴を得る製版装置を提案し
た。
号公報によって、レーザを用いて熱可塑製樹脂からなる
版にレーザビームを照射し、画像の濃淡に対応した凹部
を形成する様にした凹版の版胴を得る製版装置を提案し
た。
【０００３】上記公報に開示した構成の大要を図５を用
いて説明する。図５は版胴１に巻回した版２のパターン
形成方法を示す光学系の概念図であり、版胴１は金属性
の円筒であり、この版胴１の外径に沿って合成樹脂の版
２を巻付けて、皿螺子等で版胴１に穿った母螺に固定す
る。この固定方法は適宜方法のものを選択することが出
来て、例えば版２の裏面に接着剤を塗布して版胴に固定
することも出来る。
いて説明する。図５は版胴１に巻回した版２のパターン
形成方法を示す光学系の概念図であり、版胴１は金属性
の円筒であり、この版胴１の外径に沿って合成樹脂の版
２を巻付けて、皿螺子等で版胴１に穿った母螺に固定す
る。この固定方法は適宜方法のものを選択することが出
来て、例えば版２の裏面に接着剤を塗布して版胴に固定
することも出来る。
【０００４】版２の材料としては比較的融点の分布範囲
が狭く、硬化時には硬さがあり、融解時には樹脂が低温
で飛散又は昇華する熱可塑性樹脂がよく、例えば、ポリ
エチレン樹脂、アクリル樹脂、ポリプロピレン樹脂にカ
ーボンを２０％程度含有させたもの等を用いている。
又、版２の厚みは２００ミクロン程度のものが選択され
る。
が狭く、硬化時には硬さがあり、融解時には樹脂が低温
で飛散又は昇華する熱可塑性樹脂がよく、例えば、ポリ
エチレン樹脂、アクリル樹脂、ポリプロピレン樹脂にカ
ーボンを２０％程度含有させたもの等を用いている。
又、版２の厚みは２００ミクロン程度のものが選択され
る。
【０００５】版胴１は後述する版胴回転モータに連結さ
れ、版胴１は矢印Ｂ方向に回転される。
れ、版胴１は矢印Ｂ方向に回転される。
【０００６】図５では１Ｗ程度の半導体レーザ１０を用
いて版２に窪み１５を形成するための概念図を示すもの
である。
いて版２に窪み１５を形成するための概念図を示すもの
である。
【０００７】イメージスキャナー等で取り込まれた映像
入力信号１６は半導体レーザ１０に供給され、駆動電流
をＰＣＭ化した映像入力信号１６でオン，オフして直接
変調する。このため半導体レーザ１０から放出されるレ
ーザビームは映像信号に同期して点滅する。半導体レー
ザ１０を出たレーザビームはコリメート光学系１２で平
行光に成され、焦点レンズ１３を介して版２の表面位置
に焦点を結ぶ様に照射される。
入力信号１６は半導体レーザ１０に供給され、駆動電流
をＰＣＭ化した映像入力信号１６でオン，オフして直接
変調する。このため半導体レーザ１０から放出されるレ
ーザビームは映像信号に同期して点滅する。半導体レー
ザ１０を出たレーザビームはコリメート光学系１２で平
行光に成され、焦点レンズ１３を介して版２の表面位置
に焦点を結ぶ様に照射される。
【０００８】半導体レーザ１０，コリメート光学系１
２，焦点レンズ１３を含むレーザブロック１４は始めは
版胴１の最左端側の所定位置に焦点が合せられている。
版胴１は矢印Ｂ方向に後述する版胴回転用モータで回転
される様になされているので、版胴１を１回転させると
円周に沿った１トラック分の窪み１５がレーザビームで
飛散して所定の１トラック分の窪み１５を作る。次にレ
ーザブロック１４を１画素分版胴１の軸方向に移動させ
て、合成樹脂材を飛散させて行くと２トラック分に所定
の窪み１５が形成される。この様な走査を順次版胴１の
全面に亘って行えば合成樹脂材は映像入力信号１６の濃
淡に対応した窪み１５を形成する。
２，焦点レンズ１３を含むレーザブロック１４は始めは
版胴１の最左端側の所定位置に焦点が合せられている。
版胴１は矢印Ｂ方向に後述する版胴回転用モータで回転
される様になされているので、版胴１を１回転させると
円周に沿った１トラック分の窪み１５がレーザビームで
飛散して所定の１トラック分の窪み１５を作る。次にレ
ーザブロック１４を１画素分版胴１の軸方向に移動させ
て、合成樹脂材を飛散させて行くと２トラック分に所定
の窪み１５が形成される。この様な走査を順次版胴１の
全面に亘って行えば合成樹脂材は映像入力信号１６の濃
淡に対応した窪み１５を形成する。
【０００９】即ち、版胴１にはレーザビームが焦点レン
ズ１３を介して照射され、合成樹脂の版２表面に焦点を
結び版面を融かして合成樹脂を飛散或は昇華させる。
ズ１３を介して照射され、合成樹脂の版２表面に焦点を
結び版面を融かして合成樹脂を飛散或は昇華させる。
【００１０】半導体レーザ１０から出射されるレーザビ
ーム１１は図６に示す様に微小な活性層領域１０ａから
放出され、発光点に近い位置での光束断面は略矩形で、
その大きさは幅２００μｍ×厚み１μｍ程度でありレー
ザブロック１４内のコリメート光学系１２及び焦点レン
ズ１３を介して版２上に投影されるレーザビームスポッ
ト１０ｂの断面は略矩形でその大きさは幅１２０μｍ×
厚さ１μｍ程度である。
ーム１１は図６に示す様に微小な活性層領域１０ａから
放出され、発光点に近い位置での光束断面は略矩形で、
その大きさは幅２００μｍ×厚み１μｍ程度でありレー
ザブロック１４内のコリメート光学系１２及び焦点レン
ズ１３を介して版２上に投影されるレーザビームスポッ
ト１０ｂの断面は略矩形でその大きさは幅１２０μｍ×
厚さ１μｍ程度である。
【００１１】この様な断面矩形状のレーザビームスポッ
ト１０ｂを厚さ方向に移動させて、版２上に所定の画像
データの濃淡に応じた窪み１５を形成する様になされて
いる。即ち、半導体レーザ１０には上記した様に、映像
入力信号１６で変調されたオン，オフ信号に基づいて図
７Ａの如き電流Ｉが流され、オン期間ｔ1 ，ｔ2 ，ｔ 3
のデュレーションによって、図７Ｂの平面図及び図７Ｃ
の一部断面図に示す様に版２上に画像データに対応した
窪み１５が所定の面積Ｓ及び所定の深さｄとなる様に形
成される。
ト１０ｂを厚さ方向に移動させて、版２上に所定の画像
データの濃淡に応じた窪み１５を形成する様になされて
いる。即ち、半導体レーザ１０には上記した様に、映像
入力信号１６で変調されたオン，オフ信号に基づいて図
７Ａの如き電流Ｉが流され、オン期間ｔ1 ，ｔ2 ，ｔ 3
のデュレーションによって、図７Ｂの平面図及び図７Ｃ
の一部断面図に示す様に版２上に画像データに対応した
窪み１５が所定の面積Ｓ及び所定の深さｄとなる様に形
成される。
【００１２】図７Ａ，Ｂ，Ｃから解る様に半導体レーザ
１０に流される電流は一定の電流値Ｉであって、オン，
オフ信号のオン時に版２に形成される窪み１５の深さｄ
は駆動電流Ｉに依存し一定であり、濃淡表現は主に窪み
１５の面積Ｓによって決定する様に成されている。
１０に流される電流は一定の電流値Ｉであって、オン，
オフ信号のオン時に版２に形成される窪み１５の深さｄ
は駆動電流Ｉに依存し一定であり、濃淡表現は主に窪み
１５の面積Ｓによって決定する様に成されている。
【００１３】
【発明が解決しようとする課題】上述の半導体レーザ１
０にオン時に流す駆動電流Ｉは寿命を考慮して半導体レ
ーザのフルパワの７〜９割程度が出力出来る適度の電流
を流し、オフ時には全く電流を流さないか、レーザ保護
のため少量の電流を流す程度であった。この様な駆動電
流で画像データの濃淡に応じてオン，オフ期間ｔ
1 ｔ2 ，ｔ3 を変えると共に版胴１を一定速度で回転さ
せれば、画像データに対応した面積Ｓの異なる窪みを形
成して階調を表現することが出来るが、版２に形成され
る窪み１５の深さｄは常に一定であるために、深さ方向
の変化が乏しく、グラビア印刷の特徴であるインクの厚
み方向による階調表現が出来ない問題があった。
０にオン時に流す駆動電流Ｉは寿命を考慮して半導体レ
ーザのフルパワの７〜９割程度が出力出来る適度の電流
を流し、オフ時には全く電流を流さないか、レーザ保護
のため少量の電流を流す程度であった。この様な駆動電
流で画像データの濃淡に応じてオン，オフ期間ｔ
1 ｔ2 ，ｔ3 を変えると共に版胴１を一定速度で回転さ
せれば、画像データに対応した面積Ｓの異なる窪みを形
成して階調を表現することが出来るが、版２に形成され
る窪み１５の深さｄは常に一定であるために、深さ方向
の変化が乏しく、グラビア印刷の特徴であるインクの厚
み方向による階調表現が出来ない問題があった。
【００１４】本発明は叙上の如き問題点を解決するため
になされたもので、その目的とするところはグラビアの
版の窪みの深さ方向に変化を持たせ、印刷時にインクの
厚み方向に変化を持たせて階調表現出来る半導体レーザ
製版装置を提供するにある。
になされたもので、その目的とするところはグラビアの
版の窪みの深さ方向に変化を持たせ、印刷時にインクの
厚み方向に変化を持たせて階調表現出来る半導体レーザ
製版装置を提供するにある。
【００１５】
【課題を解決するための手段】本発明の製版装置はその
例が図１に示されている様に半導体レーザを用いて画像
データの濃淡に応じて版に窪みを形成する様にした半導
体レーザ製版装置に於いて、半導体レーザ１０で版２の
窪み１５を形成しているオン期間の電流値を画像データ
４１の濃淡に応じて変換させた電流値を記憶する記憶手
段４４と、この記憶手段４４の電流値に基づき半導体レ
ーザ１０に流す電流値を設定する電流値設定手段４５と
を具備し、この電流値設定手段４５の出力により半導体
レーザ１０のオンされる画素分の区間毎に電流値を変化
させて画像データに応じた深さの異なる窪みを形成して
なるものである。
例が図１に示されている様に半導体レーザを用いて画像
データの濃淡に応じて版に窪みを形成する様にした半導
体レーザ製版装置に於いて、半導体レーザ１０で版２の
窪み１５を形成しているオン期間の電流値を画像データ
４１の濃淡に応じて変換させた電流値を記憶する記憶手
段４４と、この記憶手段４４の電流値に基づき半導体レ
ーザ１０に流す電流値を設定する電流値設定手段４５と
を具備し、この電流値設定手段４５の出力により半導体
レーザ１０のオンされる画素分の区間毎に電流値を変化
させて画像データに応じた深さの異なる窪みを形成して
なるものである。
【００１６】
【作用】本発明の半導体レーザ製版装置では版胴に巻回
した版に半導体レーザからレーザビームを照射して、版
面上にグラビア版の窪みを形成する際に、半導体レーザ
に流す駆動電流を画像データの濃淡に応じて変化させ
て、半導体レーザパワ出力を変化させたので濃淡に応じ
て深さの異なる窪みが形成出来て、印刷物を得る時にイ
ンクの厚み方向に変化を持たせた階調を表現することが
出来るものが得られる。
した版に半導体レーザからレーザビームを照射して、版
面上にグラビア版の窪みを形成する際に、半導体レーザ
に流す駆動電流を画像データの濃淡に応じて変化させ
て、半導体レーザパワ出力を変化させたので濃淡に応じ
て深さの異なる窪みが形成出来て、印刷物を得る時にイ
ンクの厚み方向に変化を持たせた階調を表現することが
出来るものが得られる。
【００１７】
【実施例】以下、本発明の半導体レーザ製版装置を図１
乃至図４について説明する。図１で本発明を説明するに
先だち図２によって本例のレーザ製版装置の全体的な構
成を説明する。
乃至図４について説明する。図１で本発明を説明するに
先だち図２によって本例のレーザ製版装置の全体的な構
成を説明する。
【００１８】図２は本例に用いる半導体レーザ製版装置
の斜視図を示すもので、１１は半導体レーザ製版装置の
ベースで略長方形状の鋼板上に版胴回転部６２及びレー
ザブロック移動部６３が設けられる。版胴回転部６２は
略くの字状に形成した左右側壁６４Ｌ，６４Ｒ間に略円
筒状の版胴１を回転自在に枢着し、ベース１１上に配設
した版胴回転モータ７によって、駆動される様になさ
れ、レーザブロック１４内には半導体レーザ１０を含
み、版胴１の軸方向に沿って配設した案内部２２に沿っ
て移動する様になされている。
の斜視図を示すもので、１１は半導体レーザ製版装置の
ベースで略長方形状の鋼板上に版胴回転部６２及びレー
ザブロック移動部６３が設けられる。版胴回転部６２は
略くの字状に形成した左右側壁６４Ｌ，６４Ｒ間に略円
筒状の版胴１を回転自在に枢着し、ベース１１上に配設
した版胴回転モータ７によって、駆動される様になさ
れ、レーザブロック１４内には半導体レーザ１０を含
み、版胴１の軸方向に沿って配設した案内部２２に沿っ
て移動する様になされている。
【００１９】版胴１の円筒部の外周に沿って合成樹脂の
版２を巻付けて固定する。版胴１の左右には金属製のキ
ャップ３Ｌ，３Ｒが嵌着され、左右キャップ３Ｌ，３Ｒ
に一体に形成した軸４Ｌ，４Ｒが左右側壁６４Ｌ，６４
Ｒに回動自在に枢着されている。軸４Ｒは複数のプーリ
６‥‥とベルト５‥‥を介してベース１１上に固定され
た版胴回転モータ７に連結されて、これらプーリ６及び
ベルト５を介して版胴１に巻回した版２は矢印Ａ或はＢ
方向に回転する。
版２を巻付けて固定する。版胴１の左右には金属製のキ
ャップ３Ｌ，３Ｒが嵌着され、左右キャップ３Ｌ，３Ｒ
に一体に形成した軸４Ｌ，４Ｒが左右側壁６４Ｌ，６４
Ｒに回動自在に枢着されている。軸４Ｒは複数のプーリ
６‥‥とベルト５‥‥を介してベース１１上に固定され
た版胴回転モータ７に連結されて、これらプーリ６及び
ベルト５を介して版胴１に巻回した版２は矢印Ａ或はＢ
方向に回転する。
【００２０】レーザブロック移動部６３はベース１１の
左右側壁６４Ｌ，６４Ｒ上に形成したく字状の段部に略
矩形状のサブベース６５が載置され、このサブベース６
５上に案内部２２が形成されている。
左右側壁６４Ｌ，６４Ｒ上に形成したく字状の段部に略
矩形状のサブベース６５が載置され、このサブベース６
５上に案内部２２が形成されている。
【００２１】更にサブベース６５上には軸受部２３Ｌ，
２３Ｒが植立され、これら軸受部２３Ｌ，２３Ｒ間にレ
ーザブロック移動部６３のボールねじ２６が橋絡され、
レーザブロック移動用モータ２４でボールねじ２６は回
転駆動される。即ち、ボールねじ２６はレーザブロック
移動用モータ２４の軸とカップリング用の軸継ぎ手２５
で係合され、ボールねじ２６を駆動する。
２３Ｒが植立され、これら軸受部２３Ｌ，２３Ｒ間にレ
ーザブロック移動部６３のボールねじ２６が橋絡され、
レーザブロック移動用モータ２４でボールねじ２６は回
転駆動される。即ち、ボールねじ２６はレーザブロック
移動用モータ２４の軸とカップリング用の軸継ぎ手２５
で係合され、ボールねじ２６を駆動する。
【００２２】ボールねじ２６には移動子２７が螺合さ
れ、この移動子２７とレーザブロック取付台２８がアー
ム２９で固定され、レーザブロック取付台２８上にはレ
ーザブロック１４が載置され、このレーザブロック１４
が案内部２２に沿って版胴１の軸方向に移動すること
で、レーザブロック１４内の半導体レーザ１０から照射
されたレーザビーム１１は版胴１に巻回した版２のＸ及
びＹ軸の全方向に対向して窪み１５を形成することが出
来る。
れ、この移動子２７とレーザブロック取付台２８がアー
ム２９で固定され、レーザブロック取付台２８上にはレ
ーザブロック１４が載置され、このレーザブロック１４
が案内部２２に沿って版胴１の軸方向に移動すること
で、レーザブロック１４内の半導体レーザ１０から照射
されたレーザビーム１１は版胴１に巻回した版２のＸ及
びＹ軸の全方向に対向して窪み１５を形成することが出
来る。
【００２３】この様な半導体レーザ製版装置を用いて、
グラビアの版２を形成する形成方法を図１の系統図を用
いて説明する。
グラビアの版２を形成する形成方法を図１の系統図を用
いて説明する。
【００２４】図１で入力操作部３０は停止、リセット等
のステータス信号３１をマイクロコンピュータ（以下Ｃ
ＰＵと記す）３２に供給する。ＣＰＵ３２は正転又は逆
転パルスをレーザブロック移動用モータドライバ３３と
版胴回転用モータドライバ３５とに供給し、レーザブロ
ック移動用モータ２４と版胴回転用モータ７とを回転駆
動させる。版胴駆動用モータ７で版胴１を回転させ、半
導体レーザ１０で映像入力信号１６のデータに対応した
窪み１５を版面上に形成し、版胴１が回転したらレーザ
ブロック移動用モータ２４を１画素データ分移動させ
て、版胴１の円周に沿って画面の濃淡に応じた窪み１５
を作って行く様にＣＰＵ３２がコントロールしている。
のステータス信号３１をマイクロコンピュータ（以下Ｃ
ＰＵと記す）３２に供給する。ＣＰＵ３２は正転又は逆
転パルスをレーザブロック移動用モータドライバ３３と
版胴回転用モータドライバ３５とに供給し、レーザブロ
ック移動用モータ２４と版胴回転用モータ７とを回転駆
動させる。版胴駆動用モータ７で版胴１を回転させ、半
導体レーザ１０で映像入力信号１６のデータに対応した
窪み１５を版面上に形成し、版胴１が回転したらレーザ
ブロック移動用モータ２４を１画素データ分移動させ
て、版胴１の円周に沿って画面の濃淡に応じた窪み１５
を作って行く様にＣＰＵ３２がコントロールしている。
【００２５】データＲＡＭ３８にはイメージスキャナ等
で取り込んだデジタル画像データ４１が格納されてい
る。ＣＰＵ３２は製版すべき画素の画像データ４１をデ
ータＲＡＭ３８より読みだし、これをグレースケール変
換回路４２に送る。グレースケール変換回路４２は画像
の濃淡をレーザ照射時間の長短に変換する役割を持つ。
このグレースケール変換回路４２の出力によりレーザド
ライバ４３を介して半導体レーザ１０を駆動する。
で取り込んだデジタル画像データ４１が格納されてい
る。ＣＰＵ３２は製版すべき画素の画像データ４１をデ
ータＲＡＭ３８より読みだし、これをグレースケール変
換回路４２に送る。グレースケール変換回路４２は画像
の濃淡をレーザ照射時間の長短に変換する役割を持つ。
このグレースケール変換回路４２の出力によりレーザド
ライバ４３を介して半導体レーザ１０を駆動する。
【００２６】グレースケール変換回路４２には予め用意
された半導体レーザ１０のオン時に流す電流値テーブル
を有する。この電流値テーブルは例えば画像データ４１
の値が階調で２５５で表される時は１．５Ａ、同様に１
２８で表せる時には１．０Ａ等と画像データの値に応じ
た定められた電流値がＲＯＭ或はＲＡＭ等の記憶手段４
４に格納されている。
された半導体レーザ１０のオン時に流す電流値テーブル
を有する。この電流値テーブルは例えば画像データ４１
の値が階調で２５５で表される時は１．５Ａ、同様に１
２８で表せる時には１．０Ａ等と画像データの値に応じ
た定められた電流値がＲＯＭ或はＲＡＭ等の記憶手段４
４に格納されている。
【００２７】グレースケール変換回路４２の出力は上述
の記憶手段４４からの電流値を読み出し、この電流値を
レーザドライバ４３を介して半導体レーザ１０に流す様
な電流値設定回路４５に供給される。即ち、電流値設定
回路４５では電流値テーブルの値の半導体レーザ駆動電
流を作り出す様になされる。
の記憶手段４４からの電流値を読み出し、この電流値を
レーザドライバ４３を介して半導体レーザ１０に流す様
な電流値設定回路４５に供給される。即ち、電流値設定
回路４５では電流値テーブルの値の半導体レーザ駆動電
流を作り出す様になされる。
【００２８】上述の構成の系統図での本例の動作を図３
及び図４を用いて説明する。上述の１Ｗ程度のレーザパ
ワを出力するための例えば、ＳＬＤ−３０４（ソニー製
半導体レーザ）の駆動電流（ｍＡ）とレーザバワ出力
（ｍＷ）との特性曲線図は図４に示す如き特性を示して
いる。即ち駆動電流が２００ｍＡ程度或はレーザパワ出
力は零であり、駆動電流２５０ｍＡ程度から徐々に出力
が立ち上る特性を示している。この半導体レーザの特性
曲線４６から解る様に駆動電流を２５０ｍＡ乃至２００
０ｍＡ範囲まで変化させれば、パワ出力は０乃至１００
０ｍＡ程度まで変化出来る。
及び図４を用いて説明する。上述の１Ｗ程度のレーザパ
ワを出力するための例えば、ＳＬＤ−３０４（ソニー製
半導体レーザ）の駆動電流（ｍＡ）とレーザバワ出力
（ｍＷ）との特性曲線図は図４に示す如き特性を示して
いる。即ち駆動電流が２００ｍＡ程度或はレーザパワ出
力は零であり、駆動電流２５０ｍＡ程度から徐々に出力
が立ち上る特性を示している。この半導体レーザの特性
曲線４６から解る様に駆動電流を２５０ｍＡ乃至２００
０ｍＡ範囲まで変化させれば、パワ出力は０乃至１００
０ｍＡ程度まで変化出来る。
【００２９】そこで、本例ではグレースケール変換回路
４２にＣＰＵ３２から供給された画像データ４１の濃淡
に応じて記憶手段４４の電流値テーブルから、その濃淡
に対応した電流値を読み出して、電流値設定回路４５に
供給する。電流値設定回路４５では図３Ａに示す様に、
半導体レーザ１０に流す電流をＩ1 ，Ｉ2 ，Ｉ3 ‥‥の
様に作り出して、レーザドライバ４３を介して、オン期
間の一画素分の時間ｔ 3 ，ｔ1 ，ｔ2 だけ半導体レーザ
１０に供給して、電流Ｉ1 ，Ｉ2 ，Ｉ3 を流すことで、
この電流値に対応したパワ出力のレーザビーム１１が版
胴１に巻回した版２の表面に照射されて、窪み１５が図
３Ｂ及び図３Ｃに示す様に形成される。即ち、電流値Ｉ
3 の様に電流が大きい所では版２に形成される窪み１５
の深さｄ 2 は深くなり、濃度の濃い階調を表現すること
が出来る。又、濃度の淡い所では電流値Ｉ1 の様に電流
が小さい小パワであるため窪み１５の深さｄ3 も浅くな
る様になされる。
４２にＣＰＵ３２から供給された画像データ４１の濃淡
に応じて記憶手段４４の電流値テーブルから、その濃淡
に対応した電流値を読み出して、電流値設定回路４５に
供給する。電流値設定回路４５では図３Ａに示す様に、
半導体レーザ１０に流す電流をＩ1 ，Ｉ2 ，Ｉ3 ‥‥の
様に作り出して、レーザドライバ４３を介して、オン期
間の一画素分の時間ｔ 3 ，ｔ1 ，ｔ2 だけ半導体レーザ
１０に供給して、電流Ｉ1 ，Ｉ2 ，Ｉ3 を流すことで、
この電流値に対応したパワ出力のレーザビーム１１が版
胴１に巻回した版２の表面に照射されて、窪み１５が図
３Ｂ及び図３Ｃに示す様に形成される。即ち、電流値Ｉ
3 の様に電流が大きい所では版２に形成される窪み１５
の深さｄ 2 は深くなり、濃度の濃い階調を表現すること
が出来る。又、濃度の淡い所では電流値Ｉ1 の様に電流
が小さい小パワであるため窪み１５の深さｄ3 も浅くな
る様になされる。
【００３０】本例の半導体レーザ製版装置によれば版２
に窪み１５の深さ方向の変化を持たせることが出来るた
め本例で製作した版を用いてグラビア印刷を行なった印
刷物はグラビア印刷本来のインキの厚みに変化を持たせ
た階調表現が可能となり、多階調の印刷を行うことが出
来る。
に窪み１５の深さ方向の変化を持たせることが出来るた
め本例で製作した版を用いてグラビア印刷を行なった印
刷物はグラビア印刷本来のインキの厚みに変化を持たせ
た階調表現が可能となり、多階調の印刷を行うことが出
来る。
【００３１】
【発明の効果】本発明の半導体レーザ製版装置によれば
製版された版の窪みの深さ方向に変化を持たせることが
出来るので印刷物の厚み方向に変化を持たせて、階調表
現することの出来るものが得られる。
製版された版の窪みの深さ方向に変化を持たせることが
出来るので印刷物の厚み方向に変化を持たせて、階調表
現することの出来るものが得られる。
【図１】本発明の半導体レーザ製版装置の系統図であ
る。
る。
【図２】本発明の半導体レーザ製版装置の斜視図であ
る。
る。
【図３】本発明の半導体レーザ製版装置の波形及び窪み
説明図である。
説明図である。
【図４】本発明の半導体レーザ製版装置に用いる半導体
レーザの発光−電流特性図である。
レーザの発光−電流特性図である。
【図５】従来のレーザ走査系を示す光学系の概念図であ
る。
る。
【図６】従来の半導体レーザ製版装置に用いる半導体レ
ーザのパターン説明図である。
ーザのパターン説明図である。
【図７】従来の半導体レーザ製版装置に用いる半導体レ
ーザの波形及び窪み説明図である。
ーザの波形及び窪み説明図である。
１ 版胴 ２ 版 １０ 半導体レーザ ４３ レーザドライバ ４４ 電流値テーブル記憶手段 ４５ 電流値設定回路
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成４年３月２４日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は半導体レーザを用いて画
像データの濃淡に応じた窪みの版を形成する様にした半
導体レーザ製版装置に関する。
像データの濃淡に応じた窪みの版を形成する様にした半
導体レーザ製版装置に関する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００２】
【従来の技術】本出願人は先に特開平２−１３９２３８
号公報によって、レーザを用いて熱可塑性樹脂からなる
版にレーザビームを照射し、画像の濃淡に対応した凹部
を形成する様にした凹版の版胴を得る製版装置を提案し
た。
号公報によって、レーザを用いて熱可塑性樹脂からなる
版にレーザビームを照射し、画像の濃淡に対応した凹部
を形成する様にした凹版の版胴を得る製版装置を提案し
た。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００７】イメージスキャナー等で取り込まれた画像
入力信号１６は半導体レーザ１０に供給され、駆動電流
をＰＣＭ化した画像入力信号１６でオン，オフして直接
変調する。このため半導体レーザ１０から放出されるレ
ーザビームは画像信号に同期して点滅する。半導体レー
ザ１０を出たレーザビームはコリメート光学系１２で平
行光に成され、焦点レンズ１３を介して版２の表面位置
に焦点を結ぶ様に照射される。
入力信号１６は半導体レーザ１０に供給され、駆動電流
をＰＣＭ化した画像入力信号１６でオン，オフして直接
変調する。このため半導体レーザ１０から放出されるレ
ーザビームは画像信号に同期して点滅する。半導体レー
ザ１０を出たレーザビームはコリメート光学系１２で平
行光に成され、焦点レンズ１３を介して版２の表面位置
に焦点を結ぶ様に照射される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００８】半導体レーザ１０，コリメート光学系１
２，焦点レンズ１３を含むレーザブロック１４は始めは
版胴１の最左端側の所定位置に焦点が合せられている。
版胴１は矢印Ｂ方向に後述する版胴回転用モータで回転
される様になされているので、版胴１を１回転させると
円周に沿った１トラック分の窪み１５がレーザビームで
飛散して所定の１トラック分の窪み１５を作る。次にレ
ーザブロック１４を１画素分版胴１の軸方向に移動させ
て、合成樹脂材を飛散させて行くと２トラック分に所定
の窪み１５が形成される。この様な走査を順次版胴１の
全面に亘って行えば合成樹脂材は画像入力信号１６の濃
淡に対応した窪み１５を形成する。
２，焦点レンズ１３を含むレーザブロック１４は始めは
版胴１の最左端側の所定位置に焦点が合せられている。
版胴１は矢印Ｂ方向に後述する版胴回転用モータで回転
される様になされているので、版胴１を１回転させると
円周に沿った１トラック分の窪み１５がレーザビームで
飛散して所定の１トラック分の窪み１５を作る。次にレ
ーザブロック１４を１画素分版胴１の軸方向に移動させ
て、合成樹脂材を飛散させて行くと２トラック分に所定
の窪み１５が形成される。この様な走査を順次版胴１の
全面に亘って行えば合成樹脂材は画像入力信号１６の濃
淡に対応した窪み１５を形成する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１０】半導体レーザ１０から出射されるレーザビ
ーム１１は図６に示す様に微小な活性層領域１０ａから
放出され、発振領域は略矩形で、その大きさはたとえば
幅２００μｍ×厚み１μｍ程度でありレーザブロック１
４内のコリメート光学系１２及び焦点レンズ１３を介し
て版２上に投影されるレーザビームスポット１０ｂの断
面は略矩形でその大きさは光学系によって変わるがたと
えば幅１２０μｍ×厚さ１μｍ程度である。
ーム１１は図６に示す様に微小な活性層領域１０ａから
放出され、発振領域は略矩形で、その大きさはたとえば
幅２００μｍ×厚み１μｍ程度でありレーザブロック１
４内のコリメート光学系１２及び焦点レンズ１３を介し
て版２上に投影されるレーザビームスポット１０ｂの断
面は略矩形でその大きさは光学系によって変わるがたと
えば幅１２０μｍ×厚さ１μｍ程度である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１１】この様な断面矩形状のレーザビームスポッ
ト１０ｂを厚さ方向に移動させて、版２上に所定の画像
データの濃淡に応じた窪み１５を形成する様になされて
いる。即ち、半導体レーザ１０には上記した様に、画像
入力信号１６で変調されたオン，オフ信号に基づいて図
７Ａの如き電流Ｉが流され、オン期間ｔ1 ，ｔ2 ，ｔ 3
のデュレーションによって、図７Ｂの平面図及び図７Ｃ
の一部断面図に示す様に版２上に画像データに対応した
窪み１５が所定の面積Ｓ及び所定の深さｄとなる様に形
成される。
ト１０ｂを厚さ方向に移動させて、版２上に所定の画像
データの濃淡に応じた窪み１５を形成する様になされて
いる。即ち、半導体レーザ１０には上記した様に、画像
入力信号１６で変調されたオン，オフ信号に基づいて図
７Ａの如き電流Ｉが流され、オン期間ｔ1 ，ｔ2 ，ｔ 3
のデュレーションによって、図７Ｂの平面図及び図７Ｃ
の一部断面図に示す様に版２上に画像データに対応した
窪み１５が所定の面積Ｓ及び所定の深さｄとなる様に形
成される。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１８】図２は本例に用いる半導体レーザ製版装置
の斜視図を示すもので、１１は半導体レーザ製版装置の
ベースで略長方形状の鋼板上に版胴回転部６２及びレー
ザブロック移動部６３が設けられる。版胴回転部６２は
略くの字状に形成した左右側壁６４Ｌ，６４Ｒ間に略円
筒状の版胴１を回転自在に枢着し、右側壁６４Ｒ上に配
設した版胴回転モータ７によって、駆動される様になさ
れ、レーザブロック１４内には半導体レーザ１０を含
み、版胴１の軸方向に沿って配設した案内部２２に沿っ
て移動する様になされている。
の斜視図を示すもので、１１は半導体レーザ製版装置の
ベースで略長方形状の鋼板上に版胴回転部６２及びレー
ザブロック移動部６３が設けられる。版胴回転部６２は
略くの字状に形成した左右側壁６４Ｌ，６４Ｒ間に略円
筒状の版胴１を回転自在に枢着し、右側壁６４Ｒ上に配
設した版胴回転モータ７によって、駆動される様になさ
れ、レーザブロック１４内には半導体レーザ１０を含
み、版胴１の軸方向に沿って配設した案内部２２に沿っ
て移動する様になされている。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１９】版胴１の円筒部の外周に沿って合成樹脂の
版２を巻付けて固定する。版胴１の左右には金属製のキ
ャップ３Ｌ，３Ｒが嵌着され、左右キャップ３Ｌ，３Ｒ
に一体に形成した軸４Ｌ，４Ｒが左右側壁６４Ｌ，６４
Ｒに回動自在に枢着されている。軸４Ｒは複数のプーリ
６‥‥とベルト５‥‥を介して右側壁６４Ｒに固定され
た版胴回転モータ７に連結されて、これらプーリ６及び
ベルト５を介して版胴１に巻回した版２は矢印Ａ或はＢ
方向に回転する。
版２を巻付けて固定する。版胴１の左右には金属製のキ
ャップ３Ｌ，３Ｒが嵌着され、左右キャップ３Ｌ，３Ｒ
に一体に形成した軸４Ｌ，４Ｒが左右側壁６４Ｌ，６４
Ｒに回動自在に枢着されている。軸４Ｒは複数のプーリ
６‥‥とベルト５‥‥を介して右側壁６４Ｒに固定され
た版胴回転モータ７に連結されて、これらプーリ６及び
ベルト５を介して版胴１に巻回した版２は矢印Ａ或はＢ
方向に回転する。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正内容】
【００２４】図１で入力操作部３０は停止、リセット等
のステータス信号３１をマイクロコンピュータ（以下Ｃ
ＰＵと記す）３２に供給する。ＣＰＵ３２は正転又は逆
転パルスをレーザブロック移動用モータドライバ３３と
版胴回転用モータドライバ３５とに供給し、レーザブロ
ック移動用モータ２４と版胴回転用モータ７とを回転駆
動させる。版胴回転用モータ７で版胴１を回転させ、半
導体レーザ１０で画像入力信号１６のデータに対応した
窪み１５を版面上に形成し、版胴１が回転したらレーザ
ブロック移動用モータ２４を１画素データ分移動させ
て、版胴１の円周に沿って画素の濃淡に応じた窪み１５
を作って行く様にＣＰＵ３２がコントロールしている。
のステータス信号３１をマイクロコンピュータ（以下Ｃ
ＰＵと記す）３２に供給する。ＣＰＵ３２は正転又は逆
転パルスをレーザブロック移動用モータドライバ３３と
版胴回転用モータドライバ３５とに供給し、レーザブロ
ック移動用モータ２４と版胴回転用モータ７とを回転駆
動させる。版胴回転用モータ７で版胴１を回転させ、半
導体レーザ１０で画像入力信号１６のデータに対応した
窪み１５を版面上に形成し、版胴１が回転したらレーザ
ブロック移動用モータ２４を１画素データ分移動させ
て、版胴１の円周に沿って画素の濃淡に応じた窪み１５
を作って行く様にＣＰＵ３２がコントロールしている。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正内容】
【００２５】データＲＡＭ３８にはイメージスキャナ等
で取り込んだデジタル画像データ４１が格納されてい
る。ＣＰＵ３２は製版すべき画素の画像データ４１をデ
ータＲＡＭ３８より読みだし、これをグレースケール変
換回路４２に送る。グレースケール変換回路４２は画像
の濃淡を半導体レーザに流す電流の大小に変換する役割
を持つ。このグレースケール変換回路４２の出力により
レーザドライバ４３を介して半導体レーザ１０を駆動す
る。
で取り込んだデジタル画像データ４１が格納されてい
る。ＣＰＵ３２は製版すべき画素の画像データ４１をデ
ータＲＡＭ３８より読みだし、これをグレースケール変
換回路４２に送る。グレースケール変換回路４２は画像
の濃淡を半導体レーザに流す電流の大小に変換する役割
を持つ。このグレースケール変換回路４２の出力により
レーザドライバ４３を介して半導体レーザ１０を駆動す
る。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正内容】
【００２８】上述の構成の系統図での本例の動作を図３
及び図４を用いて説明する。上述の１Ｗ程度のレーザパ
ワを出力するための例えば、ＳＬＤ−３０４（ソニー製
半導体レーザ）の駆動電流（ｍＡ）とレーザパワ出力
（ｍＷ）との特性曲線図は図４に示す如き特性を示して
いる。即ち駆動電流が２００ｍＡ程度まではレーザパワ
出力は零であり、駆動電流２５０ｍＡ程度から徐々に出
力が立ち上る特性を示している。この半導体レーザの特
性曲線４６から解る様に駆動電流を２５０ｍＡ乃至１５
００〜１６００ｍＡ範囲まで変化させれば、パワ出力は
０乃至１０００ｍＷ程度まで変化出来る。 ─────────────────────────────────────────────────────
及び図４を用いて説明する。上述の１Ｗ程度のレーザパ
ワを出力するための例えば、ＳＬＤ−３０４（ソニー製
半導体レーザ）の駆動電流（ｍＡ）とレーザパワ出力
（ｍＷ）との特性曲線図は図４に示す如き特性を示して
いる。即ち駆動電流が２００ｍＡ程度まではレーザパワ
出力は零であり、駆動電流２５０ｍＡ程度から徐々に出
力が立ち上る特性を示している。この半導体レーザの特
性曲線４６から解る様に駆動電流を２５０ｍＡ乃至１５
００〜１６００ｍＡ範囲まで変化させれば、パワ出力は
０乃至１０００ｍＷ程度まで変化出来る。 ─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成４年３月２４日
【手続補正１】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図５
【補正方法】変更
【補正内容】
【図５】
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図６
【補正方法】変更
【補正内容】
【図６】
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 【請求項１】 半導体レーザを用いて画像データの濃淡
に応じて版に窪みを形成する様にした半導体レーザ製版
装置に於いて、 上記半導体レーザで上記版の窪みを形成しているオン期
間の電流値を画像データの濃淡に応じて変換させた電流
値を記憶する記憶手段と、 上記記憶手段の電流値に基づき上記半導体レーザに流す
電流値を設定する電流値設定手段とを具備し、 上記電流値設定手段の出力により上記半導体レーザのオ
ンされる画素分の区間毎に電流値を変化させて画像デー
タに応じた深さの異なる窪みを形成してなることを特徴
とする半導体レーザ製版装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17974691A JPH0524169A (ja) | 1991-07-19 | 1991-07-19 | 半導体レーザ製版装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17974691A JPH0524169A (ja) | 1991-07-19 | 1991-07-19 | 半導体レーザ製版装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0524169A true JPH0524169A (ja) | 1993-02-02 |
Family
ID=16071146
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17974691A Pending JPH0524169A (ja) | 1991-07-19 | 1991-07-19 | 半導体レーザ製版装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0524169A (ja) |
-
1991
- 1991-07-19 JP JP17974691A patent/JPH0524169A/ja active Pending
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