JPH05241002A - マイクロレンズアレイとその製造方法及び液晶パネル - Google Patents

マイクロレンズアレイとその製造方法及び液晶パネル

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JPH05241002A
JPH05241002A JP4041099A JP4109992A JPH05241002A JP H05241002 A JPH05241002 A JP H05241002A JP 4041099 A JP4041099 A JP 4041099A JP 4109992 A JP4109992 A JP 4109992A JP H05241002 A JPH05241002 A JP H05241002A
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glass substrate
liquid crystal
microlens array
crystal panel
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Takeshi Goto
猛 後藤
Toshihiro Suzuki
敏弘 鈴木
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Fujitsu Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 マイクロレンズアレイとその製造方法及び液
晶パネルに関し、開口率を増加することができ、映像品
質を向上させることができるようにすることを目的とす
る。 【構成】 平坦な表面12aを有するガラス基板12の
該平坦な表面12aから内部に多数のマイクロレンズ1
4を形成したマイクロレンズアレイであって、各マイク
ロレンズ14が、該ガラス基板の該平坦な表面に相当す
る位置から該平坦な表面に垂直な線に沿って進むにつれ
て、屈折率がピーク値へ向かって次第に高くなる部分1
6と、ピーク値から次第に低くなる部分18とを含む構
成とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はマイクロレンズアレイと
その製造方法及び液晶パネルに関する。
【0002】
【従来の技術】液晶パネルは一対のガラス基板の間に液
晶を封入し、これらのガラス基板にそれぞれ設けた電極
間に電圧を印加することにより画像を形成するようにな
っている。液晶パネルには、単純マトリクス型とアクテ
ィブマトリクス型とがあり、最近は動作速度、表示品質
に優れるアクティブマトリクス型が注目されている。
【0003】アクティブマトリクス型の液晶パネルは、
一方のガラス基板(TFT基板と言う)に直交するゲー
トバスライン及びドレインバスラインをマトリクス状に
設け、ゲートバスラインとドレインバスラインとの各交
差領域に薄膜トランジスタ(TFT)及び透明な画素電
極を設けた構造になっている。他方のガラス基板(対向
基板と言う)には全面透明電極を設け、これらのガラス
基板を張り合わせる。さらに、光は対向電極の方から入
射され、TFT基板のTFTに光線が直接に当たらない
ように入射側の対向基板に遮光膜が設けられる。この遮
光膜はTFT基板の画素電極の部分のみに光を入射させ
る開口部を有するが、その他の部分は完全に閉塞されて
いる。
【0004】このため、対向基板の全面に入射した光の
うち、遮光膜の開口部を通る光のみが利用されることに
なり、開口率が小さくなる。特に、投写型液晶表示装置
に用いられる液晶パネルでは、液晶パネルに多数の画素
を形成することが求められており、一つずつの画素面積
が小さくなって、開口率がますます小さくなり、映像の
表示品質が低下する。また、液晶パネルの透過率は開口
率に大きく依存するため、開口率の小さい液晶パネルは
透過率も低く、十分な画像の明るさを得るために大容量
の光源を用いる必要があった。
【0005】こうした問題を解決する手段として、遮光
膜を使用せずに(あるいは遮光膜があっても)入射光線
を曲げてTFTに直接に当たらないようにする試みがな
されている。すなわち、光入射側の対向基板に微小な凸
レンズを配置し、TFT基板のTFTに向かって入射し
た光線を画素電極の方へ曲げるようにする。そして、多
数の微小な凸レンズをマイクロレンズアレイとして対向
基板と一体的に作り込むようになっている。これによれ
ば、実質的な開口率を増加させることができる。しか
し、対向基板に微小な凸レンズを作り込んだマイクロレ
ンズアレイには次のような問題点があった。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】マイクロレンズアレイ
を(液晶パネルとしたときの)対向基板の外側に作り込
んだ場合、対向基板に入射した平行光線は微小な凸レン
ズで曲げられ、ある角度で対向基板を透過し、そして、
TFT基板においてTFTに当たらないようにし且つ画
素電極で確実に集光することになる。しかし、対向基板
の厚さは画素間隔よりもかなり大きいので、対向基板を
透過する光線が別のTFTに当たらないように光線の角
度はかなり小さくしなければならない、そのためには凸
レンズはかなり平坦に近いものになる。しかし、現実的
には、平坦に近い凸レンズで曲げた光線を相対的に厚い
ガラス基板を透過させ、そして、TFTに当たらないよ
うにし且つ画素電極で確実に集光することは難しい。ま
た、入射光線が平行光線だけでなく角度バラツキをもつ
場合には、TFTに当たらないようにし且つ画素電極で
有効に集光することはますます難しくなる。このため、
凸レンズの効果があらわれにくい。
【0007】また、マイクロレンズアレイを対向基板の
内側に作り込んだ場合、液晶層の厚さに相当する小さな
ギャップでマイクロレンズアレイとTFT基板及び画素
電極が対面するので、あるTFTに向かって入射した光
線を画素電極の方へ向けるためには、凸レンズは光線の
角度を大きく曲げるものとしなければならない。このた
め、液晶層を透過する光線は大きな角度のままで液晶パ
ネルから出射するようになり、また出射光線は入射光線
よりも大きな角度バラツキをもつことになる。投写レン
ズによってスクリーンに投写される光線は、投写レンズ
の画角内の光線に限られるため、結果として投写レンズ
に入射する光線は減少し、スクリーン輝度の増加が期待
できない。
【0008】本発明の目的は、開口率を増加することが
でき、映像品質を向上させることのできるマイクロレン
ズアレイとその製造方法及び液晶パネルを提供すること
である。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明のマイクロレンズ
アレイは、平坦な表面12aを有するガラス基板12の
該平坦な表面12aから内部に多数のマイクロレンズ1
4を形成したマイクロレンズアレイであって、各マイク
ロレンズ14が、該ガラス基板の該平坦な表面に相当す
る位置から該平坦な表面に垂直な線に沿って進むにつれ
て、屈折率がピーク値へ向かって次第に高くなる部分1
6と、ピーク値から次第に低くなる部分18とを含むこ
とを特徴とするものである。本発明のもう一つの特徴に
よるマイクロレンズアレイは、平坦な表面12aを有す
るガラス基板12の該平坦な表面12aから内部に多数
のマイクロレンズ14を形成したマイクロレンズアレイ
であって、各マイクロレンズ14が、所定の屈折率のガ
ラス基板中に形成され、該所定の屈折率より高い屈折率
を生ずるイオンの拡散した第1の領域16、18と、該
第1の域中の一部に形成され、該高屈折率より低い屈折
率を生ずるイオンの拡散した第2の領域16とからなる
ことを特徴とするものである。これらのマイクロレンズ
アレイは液晶パネルの液晶を封入した基板及び液晶パネ
ルを使用した液晶表示装置に使用される。また、本発明
のマイクロレンズアレイの製造方法は、一様な所定の屈
折率を有するガラス基板を準備し、該所定の屈折率より
高い屈折率を生ずるイオンを該ガラス基板の表面の所定
の面積から拡散させて高屈折率領域を形成し、それか
ら、該高屈折率より低い屈折率を生ずるイオンを該高屈
折率領域の一部の表面から拡散させて低屈折率領域を形
成することを特徴とする。
【0010】
【作用】上記構成においては、マイクロレンズアレイ
は、平坦な表面を有するガラス基板の内部に形成されて
いるので、上記したガラス基板の外側又は内側に設けた
場合の問題点を解消できる。さらに、各マイクロレンズ
の屈折率がピーク値へ次第に高くなりかつピーク値から
次第に低くなるようになっているので、入射光線を曲げ
た後でその曲がりを元に戻すように復元する作用があ
る。このため、例えば液晶パネルを出射する光線の角度
バラツキがなくなる。
【0011】
【実施例】図1及び図2において、本発明のマイクロレ
ンズアレイ10は、平坦な表面12aを有するガラス基
板12の該平坦な表面12aから内部に多数のマイクロ
レンズ14を形成したものである。ガラス基板12の反
対側の表面12bも平坦であって、表面12aと表面1
2bは平行である。
【0012】図1から図3に示されるように、各マイク
ロレンズ14は、ガラス基板12の平坦な表面12aに
相当する位置から該平坦な表面12aに垂直な線に沿っ
て進むにつれて、屈折率がピーク値Pへ向かって次第に
高くなる部分16と、ピーク値Pから次第に低くなる部
分18とを含む。ガラス基板12の各マイクロレンズ1
4よりも表面12b側の部分20はガラス基板12の製
造時の屈折率と同じであり、全体的にほぼ一様である。
【0013】また、このマイクロレンズアレイ10は、
各マイクロレンズ14が、所定の屈折率のガラス基板中
に形成され、該所定の屈折率より高い屈折率を生ずるイ
オンの拡散した第1の領域16、18と、該第1の域中
の一部に形成され、該高屈折率より低い屈折率を生ずる
イオンの拡散した第2の領域16とからなる。すなわ
ち、実施例では、最初にイオンの拡散した第1の領域1
6、18は、屈折率がピーク値Pへ向かって次第に高く
なる部分16と屈折率がピーク値Pから次第に低くなる
部分18との合計の領域であり、後でイオンの拡散した
第2の領域16は屈折率がピーク値Pへ向かって次第に
高くなる部分16に相当する。
【0014】図2は、このマイクロレンズアレイ10を
設けたガラス基板12に矢印で示されるように平行光線
が表面12bに垂直に入射する場合を示している。前記
部分16、18は表面12a側から見て定義したもので
ある。表面12b側から見ると、前記定義による屈折率
がピーク値Pから次第に低くなる部分18では屈折率が
次第に高くなり、屈折率がピーク値Pへ向かって次第に
高くなる部分16では屈折率が次第に低くなる。従っ
て、光線は、屈折率の一様な部分20を通り、部分18
に達すると光の屈折により光線の進路が次第に曲げら
れ、それから部分16に達すると前の部分18での光線
の曲がりを元に戻すように光線が曲がる。従って、例え
ば、表面12aの遮光物24に向かって入射する光線2
2について見ると、光線22は、部分18で遮光物24
から逸れるように曲げられて斜めに進むが、次の部分1
6において前の曲がりを復元するように曲げられ、ガラ
ス基板12から出射するときには平行光線となってい
る。
【0015】図4は、ガラス基板12に設けたマイクロ
レンズアレイ10の製造方法を示す図である。(A)に
示されるように、最初に一様な屈折率を有するガラス基
板12を準備し、表面12aにマスク26を形成する。
マスク26は作成したいマイクロレンズ14の形状に応
じ、かつそのピッチに相当するピッチの開口部を有す
る。マスク26はCr、Au等のイオン交換率の低い金
属膜、又は安定な金属膜からなるのが望ましい。ガラス
は一般にSiO2 等の成分がアモルファスの編目構造を
形成している中に、1価又は2価のNa2 O、CaO等
の金属イオンが修飾酸化物として存在している。修飾酸
化物の金属イオンはそれぞれのイオン固有の電子分極率
をもち、その添加量に応じてガラス基板12の屈折率が
定まる。特に、1価の金属イオンは高温になると拡散係
数及び移動度が大きくなり、編目構造中を動くようにな
る。実施例では、ガラス基板12はNa2 Oを含み、よ
ってガラス基板12はNaイオンにより定まる一様な屈
折率を有するものである。
【0016】次に(B)に示されるように、ガラス基板
12の所定の屈折率より高い屈折率を生ずるイオンを該
ガラス基板12の表面12aの所定の面積(マスク26
の開口部)から拡散させて高屈折率領域を形成する。実
施例においては、自然拡散法によるイオン交換を利用し
ている。すなわち、ガラス基板12の屈折率を定めるN
aイオンより高い屈折率を生ずるTlイオンを含む硫酸
タリウム(Tl2 SO 4 )の溶融塩を容器28に準備
し、マスク26をしたガラス基板12の表面12a側を
この溶融塩に接触させてイオン交換を行う。なお、本発
明は自然拡散法によるイオン交換に限定されるものでは
なく、例えば電界印加イオン交換により実施することも
できる。
【0017】それによって、ガラス基板12のNaイオ
ンが外部に拡散し、Tlイオンがガラス基板12の内部
に拡散する。Tlイオンが拡散したガラス基板12の内
部の部分では屈折率が高くなる。ガラス基板12の内部
のTlイオンの濃度はマスク26の開口部の中心で最も
高く、深さ方向及び半径方向にいくに従って次第に減少
する。屈折率はTlイオンの濃度に比例するので、屈折
率は深さ方向及び半径方向にいくに従って次第に減少す
る。
【0018】そこで、(C)に示されるように、ガラス
基板12を硫酸タリウム(Tl2 SO4 )の溶融塩の容
器28から取り出すと、表面12aから屈折率が次第に
減少する第1の領域18、16が形成される。それか
ら、(D)に示されるように、Tlイオンにより生じる
屈折率より低い屈折率を生ずるイオン、例えばNaイオ
ンを含む硫酸ナトリウム(Na2 SO4)の溶融塩を容
器30に準備し、マスク26をしたガラス基板12の表
面12a側をこの溶融塩に接触させて2回目のイオン交
換を行い、第1の領域18、16の一部の表面からTl
イオンを外部に拡散させ、Naイオンをガラス基板12
の内部に拡散させる。
【0019】よって、(E)に示されるように、第1の
領域18、16の一部に第2の領域16が形成される。
今度は、ガラス基板12の内部のNaイオンの濃度はマ
スク26の開口部の中心で最も高くなり、深さ方向及び
半径方向にいくに従って2回目の拡散の効果は次第に減
少し、あるところから先は1回目の拡散の効果の方が優
勢となる。このようにして、屈折率が次第に高くなる部
分16と、次第に低くなる部分18とが形成される。
【0020】さらに、(F)に示されるように、マスク
26を除去し、マイクロレンズアレイ10を形成した表
面に保護膜32を形成する。保護膜32は例えばSiO
2 やSiNを蒸着することによって形成する。この保護
膜32は、例えばこのマイクロレンズアレイ10を形成
したガラス基板12を液晶パネルの基板として使用する
ときに、この基板からイオン性物質が液晶中にしみだ
し、液晶の特性を低下させるのを防止するために有効で
ある。
【0021】図5は本発明を投写型液晶表示装置に適用
する例を示し、図6は図5の液晶パネルの詳細図であ
る。この液晶パネル40は、マイクロレンズアレイ10
を形成したガラス基板12を使用している。液晶パネル
40はガラス基板12とガラス基板42との間に液晶4
4を封入してなるものであり、これらのガラス基板1
2、42の内面には図示しない電極及び配向膜が設けら
れる。さらに、この実施例においては、ガラス基板12
の内面に遮光膜46が設けられており、ガラス基板42
の内面にはTFT48が示されている。隣接するTFT
48の間には画素電極が配置される。
【0022】図5の投写型液晶表示装置は、光源50
と、集光レンズ52と、液晶パネル40と、投写レンズ
54と、スクリーン56とからなる。液晶パネル40の
両側には偏光子(図示せず)が配置される。光源50の
光線は集光レンズ52で集光となって液晶パネル40に
入射し、液晶パネル40において光変調を受け、投写レ
ンズ54からスクリーン56に投写される。従って、液
晶パネル40には角度をもった光線が入射し、且つ出射
する。
【0023】図6において、矢印で示されるように、液
晶パネル40に角度をもった光線が入射する場合を示し
ている。この場合にも、光線は、屈折率の一様な部分2
0を通り、部分18で遮光膜46から逸れるように曲げ
られて斜めに進むが、次の部分16において前の部分1
8での光線の曲がりを元に戻すように光線が曲がる。従
って、出射光線は入射光線と同じ角度となって投写レン
ズ64に向かう。従って、この実施例でも、遮光膜46
に向かって入射した光線を画素電極を通らせることがで
き、投写される画像の輝度を向上させることができる。
【0024】図7は、マイクロレンズアレイ10を形成
したガラス基板12を光出射側の基板とした液晶パネル
40を示す図である。液晶パネル40はガラス基板42
とガラス基板12との間に液晶44を封入してなるもの
であり、これらのガラス基板12、42の内面には図示
しない電極及び配向膜が設けられる。さらに、この実施
例においては、ガラス基板42の内面に遮光膜46が設
けられており、ガラス基板12の内面にはTFT48が
示されている。隣接するTFT48の間には画素電極が
配置される。
【0025】図7の構成では、入射光線は遮光膜46の
開口部を通ってガラス基板12に達し、マイクロレンズ
14の部分16で遮光膜46の影になる方向へ曲げら
れ、それから部分18で再び入射光線と平行な方向へ曲
げられる。従って、この実施例では、入射光線のうちで
直接に遮光膜46に向かったものは利用できないが、遮
光膜46の開口部を通って遮光膜46の影になる方向へ
曲げられることによって、遮光膜46の影のない映像を
形成することができる。すなわち、遮光膜46があれば
通常は明るい画素点と画素点の間に暗い影ができるが、
本発明では光線の一部が遮光膜46の影になる位置へ回
りこんでいるので、そのような影を減少し、表示品質
(映像品質)を向上させる事ができる。
【0026】図8は、マイクロレンズアレイ10を形成
したガラス基板12を光入射側及び光出射側の両側の基
板とした液晶パネルの40を示す図である。液晶パネル
40はガラス基板12とガラス基板12との間に液晶4
4を封入してなるものであり、これらのガラス基板1
2、12の内面には図示しない電極及び配向膜が設けら
れる。この実施例においては、光入射側となるガラス基
板42の内面に遮光膜46が設けられており、光出射側
となるガラス基板12の内面にはTFT48が示されて
いる。隣接するTFT48の間には画素電極が配置され
る。
【0027】図8の構成では、図6を参照して説明した
ように光入射側のマイクロレンズアレイ10により遮光
膜46に向かって入射する光線を絞りこんで遮光膜46
の開口部を通過させることができ、それから図7を参照
して説明したように光出射側のマイクロレンズアレイ1
0により光線を遮光膜46の影になる位置へ回りこませ
て、そのような影を減少し、表示品質(又は映像品質)
を向上させる事ができる。
【0028】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
液晶パネルの開口率を増加することができ、それによっ
て画像の明るさを向上させ、かつ低消費電力化が可能と
なる。また、遮光部の影をなくすようにすることによ
り、映像品質の改善を図ることができ、液晶パネルの特
性向上に寄与するところが大きい。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施例を示す図である。
【図2】図1の部分拡大図である。
【図3】図1のマイクロレンズの屈折率を示す図であ
る。
【図4】図1のマイクロレンズアレイの製造工程を順番
に示す図である。
【図5】本発明の第2実施例を示す図である。
【図6】図5の液晶パネルの拡大図である。
【図7】液晶パネルの他の例を示す図である。
【図8】液晶パネルの他の例を示す図である。
【符号の説明】
10…マイクロレンズアレイ 12…ガラス基板 14…マイクロレンズ 16…屈折率が大きくなる部分 18…屈折率が小さくなる部分 40…液晶パネル

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 平坦な表面(12a)を有するガラス基
    板(12)の該平坦な表面(12a)から内部に多数の
    マイクロレンズ(14)を形成したマイクロレンズアレ
    イであって、各マイクロレンズ(14)が、該ガラス基
    板の該平坦な表面に相当する位置から該平坦な表面に垂
    直な線に沿って進むにつれて、屈折率がピーク値へ向か
    って次第に高くなる部分(16)と、ピーク値から次第
    に低くなる部分(18)とを含むことを特徴とするマイ
    クロレンズアレイ。
  2. 【請求項2】 平坦な表面(12a)を有するガラス基
    板(12)の該平坦な表面(12a)から内部に多数の
    マイクロレンズ(14)を形成したマイクロレンズアレ
    イであって、各マイクロレンズ(14)が、所定の屈折
    率のガラス基板中に形成され、該所定の屈折率より高い
    屈折率を生ずるイオンの拡散した第1の領域(16、1
    8)と、該第1の域中の一部に形成され、該高屈折率よ
    り低い屈折率を生ずるイオンの拡散した第2の領域(1
    6)とからなることを特徴とするマイクロレンズアレ
    イ。
  3. 【請求項3】 ガラス基板の内部に多数のマイクロレン
    ズを形成したマイクロレンズアレイの製造方法であっ
    て、一様な所定の屈折率を有するガラス基板を準備し、
    該所定の屈折率より高い屈折率を生ずるイオンを該ガラ
    ス基板の表面の所定の面積から拡散させて高屈折率領域
    を形成し、それから、該高屈折率より低い屈折率を生ず
    るイオンを該高屈折率領域の一部の表面から拡散させて
    低屈折率領域を形成することを特徴とするマイクロレン
    ズアレイの製造方法。
  4. 【請求項4】 前記ガラス基板のマイクロレンズアレイ
    を形成した側の表面に保護膜を形成することを特徴とす
    る請求項1から3のいずれか1項に記載のマイクロレン
    ズアレイ。
  5. 【請求項5】 前記マイクロレンズアレイを形成したガ
    ラス基板を、液晶を封入した一対の基板からなる液晶パ
    ネルの少なくとも一方の基板としたことを特徴とする請
    求項4に記載の液晶パネル。
  6. 【請求項6】 前記マイクロレンズアレイのピッチと液
    晶パネルの画素ピッチが等しいことを特徴とする請求項
    5に記載の液晶パネル。
  7. 【請求項7】 前記マイクロレンズアレイのピッチと液
    晶パネルの画素ピッチが、光線入射側においては画素ピ
    ッチがマイクロレンズのピッチよりも小さく、光線出射
    側においては画素ピッチがマイクロレンズのピッチより
    も大きい、ことを特徴とする請求項5に記載の液晶パネ
    ル。
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