JPH05235556A - Pattern cut structure of thin film substrate - Google Patents

Pattern cut structure of thin film substrate

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JPH05235556A
JPH05235556A JP4039293A JP3929392A JPH05235556A JP H05235556 A JPH05235556 A JP H05235556A JP 4039293 A JP4039293 A JP 4039293A JP 3929392 A JP3929392 A JP 3929392A JP H05235556 A JPH05235556 A JP H05235556A
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JP
Japan
Prior art keywords
pattern
layer
thin film
cut
film substrate
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP4039293A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masanori Gotou
正伯 後藤
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Filing date
Publication date
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Publication of JPH05235556A publication Critical patent/JPH05235556A/en
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  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
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Abstract

PURPOSE:To realize a pattern cut without relation to quantity of energy of laser beam on the occaion of cutting a pattern of a thin film substrate on whose surface a patterned insulating layer is formed. CONSTITUTION:In a pattern cut constitution of a thin film substrate having a multilayer insulating layer 2 on the surface thereof and a pattern 10 formed on the surface of the insulating layer 2 cut as required with a laser beam, a dummy pattern 4 ensuring higher reflectivity of laser beam or high absorption coefficient is formed, corresponding to the forming position of the pattern 10, at a lower layer L2 of the layer L3 forming the pattern 10.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、薄膜基板のパターンカ
ット構造に係り、特にセラミック等の基板に各層毎にパ
ターンを有する多層の絶縁層が形成された薄膜基板を、
当該絶縁層の表面層に形成されたパターンを設計変更,
または修復等によってレーザ光を用いてカットする薄膜
基板のパターンカット構造に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a pattern cut structure of a thin film substrate, and more particularly to a thin film substrate in which a multilayer insulating layer having a pattern for each layer is formed on a substrate such as ceramics.
Design change of the pattern formed on the surface layer of the insulating layer,
The present invention also relates to a pattern cut structure of a thin film substrate that is cut by using a laser beam for repair or the like.

【0002】近年では、コンピュータの高速化に伴い、
これに使用する回路基板はますます高密度化となり基板
の材料もガラスエポキシやフェノール樹脂板からポリイ
ミド薄膜基板へと変わってきた。
In recent years, as computers have become faster,
The circuit boards used for this are becoming more and more dense, and the board materials have changed from glass epoxy and phenol resin boards to polyimide thin film boards.

【0003】一方、一旦形成された配線パターンを設計
変更または修復等の理由により、配線を変える必要が生
ずると、前のパターンをカットし、新たにワイヤ等で接
続することで新しいパターンを形成することが行われ
る。
On the other hand, when it is necessary to change the wiring for a reason such as a design change or repair of the once formed wiring pattern, the previous pattern is cut and a new pattern is formed by newly connecting with a wire or the like. Is done.

【0004】ガラスエポキシやフェノール樹脂板等は機
械的強度の強い基板でのパターンカットは、ドリルやカ
ットナイフのような機械的切断が容易であったが、薄膜
基板に使用されているポリイミド薄膜基板はパターンが
形成されてきる部分が薄くて且つ柔らかいため機械的切
断方法は使用することができない。
Pattern cuts on substrates with strong mechanical strength, such as glass epoxy and phenol resin plates, were easy to cut mechanically with a drill or cut knife, but polyimide thin film substrates used as thin film substrates. Since the part where the pattern is formed is thin and soft, the mechanical cutting method cannot be used.

【0005】このため、カットされるべき部分にレーザ
光を照射して、このレーザ光によってパターンをカット
することが行われている。
For this reason, it is practiced to irradiate a portion to be cut with laser light and cut the pattern with this laser light.

【0006】[0006]

【従来の技術】従来は図4に示すように、セラミック等
の基板40の表面に各層毎にパターンニング(パターン
45,42)された絶縁層41,43が形成されてお
り、その絶縁層41,43のうち表面層43に形成され
たハンダ44を有するパターン45をカットする必要が
生ずると、カット部分Aにレーザ光を照射し、かかるカ
ット部分Aをカットしていた。
2. Description of the Related Art Conventionally, as shown in FIG. 4, insulating layers 41 and 43 which are patterned (patterns 45 and 42) for each layer are formed on the surface of a substrate 40 made of ceramic or the like. , 43, the pattern 45 having the solder 44 formed on the surface layer 43 needs to be cut, the cut portion A is irradiated with laser light to cut the cut portion A.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来で
はカット部分Aをカットする際、その下層になんら加工
処理を施していなかったためと、レーザ光のエネルギ量
を適宜調整することが困難であることから、図5に示す
ように、レーザ光のエネルギ量が大きい場合は、下層に
形成されたパターンおよび下層までもカットしてしまう
恐れがある(図5Cで示す)。
However, when the cut portion A is cut in the prior art, no processing is applied to the underlying layer, and it is difficult to appropriately adjust the energy amount of the laser light. As shown in FIG. 5, when the amount of energy of laser light is large, the pattern formed in the lower layer and even the lower layer may be cut (shown in FIG. 5C).

【0008】逆にあまりにもエネルギ量が小さいと、カ
ットの対象となるパターンを完全にカットすることがで
きなくなり、配線異常を起こす恐れがある(図5Bで示
す)。
On the other hand, if the amount of energy is too small, the pattern to be cut cannot be completely cut, and there is a risk of wiring abnormality (shown in FIG. 5B).

【0009】従って、本発明は、基板の表面にパターン
ニングされた絶縁層が形成された薄膜基板のパターンを
カットする場合、レーザ光のエネルギ量に左右されるこ
となくパターンカットが行われるようにすることを目的
とするものである。
Therefore, according to the present invention, when the pattern of the thin film substrate having the patterned insulating layer formed on the surface of the substrate is cut, the pattern cutting is performed without being influenced by the energy amount of the laser beam. The purpose is to do.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】上記目的は、その表面に
多層の絶縁層2を有し、該絶縁層2の表面に形成された
パターン10を必要に応じてレーザ光にてカットする薄
膜基板のパターンカット構造において、前記パターン1
0が形成された層L3の下層L2に、当該パターン10
の形成位置に対応してレーザ光の反射率の高い、または
吸収率の高いダミーパターン4を形成したことを特徴と
する薄膜基板のパターンカット構造、によって達成する
ことができる。
The above object is to provide a thin film substrate having a multi-layered insulating layer 2 on its surface and cutting a pattern 10 formed on the surface of the insulating layer 2 with laser light as necessary. In the pattern cut structure of
The pattern 10 is formed on the lower layer L2 of the layer L3 in which 0 is formed.
The pattern cut structure of the thin film substrate is characterized in that the dummy pattern 4 having a high reflectance or an absorptance of the laser beam is formed corresponding to the formation position.

【0011】[0011]

【作用】即ち、本発明によればカット対象となるパター
ンの下層の対応する位置にレーザ光の反射率の高いまた
は吸収率の高いダミーパターンを形成するようにしてい
るため、レーザ光のエネルギ量が多少大きくとも、この
ダミーパターンにそれ以上レーザ光がパ下層パターンお
よび下層の絶縁層をカットするようなことがなくなる。
That is, according to the present invention, since a dummy pattern having a high reflectance or an absorptance of the laser beam is formed at a corresponding position in the lower layer of the pattern to be cut, the energy amount of the laser beam is increased. However, the laser light will not further cut the dummy pattern to the lower layer pattern and the lower insulating layer.

【0012】[0012]

【実施例】以下、本発明の望ましい実施例を図面を用い
て説明する。図1は、本発明の実施例を示す図である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENT A preferred embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a diagram showing an embodiment of the present invention.

【0013】図2は、本発明の作用を示す図である。図
3は本発明の他の実施例を示す図である。尚、図1乃至
図3において同一符号を付したものは同一対象物をそれ
ぞれ示すものである。
FIG. 2 is a diagram showing the operation of the present invention. FIG. 3 is a diagram showing another embodiment of the present invention. The same reference numerals in FIGS. 1 to 3 denote the same objects.

【0014】図1に示すように、セラミック等の基板の
表面に、各層毎にパターンニングされた絶縁層2が形成
され薄膜基板が形成されており、この絶縁層2には、第
1層L1には内層パターン3が、第2層L2にはレーザ
光を反射または吸収するダミーパターンが部分的に、そ
して、第3層(表面層)L3には、パッド5およびその
パッド5と接続されるパターン10がそれぞれ形成され
ている。パッド5上には、図示しない入出力端子を接続
するハンダ7が塗布されている。
As shown in FIG. 1, a thin film substrate is formed by forming an insulating layer 2 patterned for each layer on the surface of a substrate such as ceramics. The insulating layer 2 has a first layer L1. Is partially connected to the inner layer pattern 3, the second layer L2 is partially connected to a dummy pattern for reflecting or absorbing laser light, and the third layer (surface layer) L3 is connected to the pad 5 and the pad 5 thereof. Each pattern 10 is formed. Solder 7 for connecting input / output terminals (not shown) is applied onto the pad 5.

【0015】尚、図示はしていないが、第3層L3に形
成されたパッド5,パターン10および第1層L1に形
成された内層パターン3は、基板内の配線とビア等によ
って接続されている。
Although not shown, the pad 5, pattern 10 formed on the third layer L3 and the inner layer pattern 3 formed on the first layer L1 are connected to the wiring in the substrate by a via or the like. There is.

【0016】今、第3層L3のパターンに変更が生じ、
パターンカットする必要が生ずると、レーザ光によって
図1のカット部6(斜線部分)をカットする。この時カ
ットされるパターン10(カット部6)の下層(L2)
には、少なくともそのカットされる部分にダミーパター
ン4が形成されており、このダミーパターン4によって
それ以上レーザ光のエネルギが内層パターン3および第
1層L1には達することがない(図2の符号8を参
照)。
Now, a change occurs in the pattern of the third layer L3,
When it becomes necessary to perform pattern cutting, the cutting portion 6 (hatched portion) in FIG. 1 is cut by laser light. Lower layer (L2) of the pattern 10 (cut portion 6) to be cut at this time
Has a dummy pattern 4 formed at least in its cut portion, and the dummy pattern 4 prevents the energy of the laser light from reaching the inner layer pattern 3 and the first layer L1 any more (reference numeral in FIG. 2). 8).

【0017】このようにダミーパターン4を設けること
で、これまではカットの際のレーザ光が必要以上に達さ
ないようにコントロールする必要があったが、エネルギ
ーコントロールをラフすにすることができる。
By providing the dummy pattern 4 in this way, it has been necessary to control the laser light during cutting so that it does not reach more than necessary, but the energy control can be roughened. ..

【0018】尚、上記ダミーパターンは部分的なパター
ンにて構成される他、第2層L2の全体にベタ層にて形
成してもよい。特には図3に示すように、絶縁層2内に
はグランド(GND)層またはシグナル層9が必ず設け
られていおり、且つこのグランド(GND)層またはシ
グナル層9は層全体にベタ印刷にて構成されるものであ
るため、このグランド(GND)層またはシグナル層9
をダミーパターンとするのも有効である。尚、グランド
(GND)層またはシグナル層9をダミーパターンとし
ても、層間を接続するためのビア等を設ければ特に問題
はない。
The dummy pattern may be a partial pattern or may be a solid layer over the entire second layer L2. In particular, as shown in FIG. 3, a ground (GND) layer or a signal layer 9 is always provided in the insulating layer 2, and the ground (GND) layer or the signal layer 9 is solid-printed on the entire layer. Since it is configured, this ground (GND) layer or signal layer 9
Is also effective as a dummy pattern. Even if the ground (GND) layer or the signal layer 9 is used as a dummy pattern, there is no particular problem as long as a via or the like for connecting the layers is provided.

【0019】[0019]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、薄
膜基板のパターンカットを高品質で実現することがで
き、発明に寄与するところが大きい。
As described above, according to the present invention, the pattern cutting of the thin film substrate can be realized with high quality, which greatly contributes to the invention.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施例を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の作用を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing an operation of the present invention.

【図3】本発明の他の実施例を示す図である。FIG. 3 is a diagram showing another embodiment of the present invention.

【図4】従来例を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing a conventional example.

【図5】課題を示す図である。FIG. 5 is a diagram showing a problem.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 薄膜基板, 2 絶縁層, 3 内層パターン, 4 ダミーパターン, 5 パッド, 6 カット部, 9 グランド(GND)層またはシグナル層, 1 thin film substrate, 2 insulating layer, 3 inner layer pattern, 4 dummy pattern, 5 pads, 6 cut parts, 9 ground (GND) layer or signal layer,

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 その表面に多層の絶縁層(2)を有し、
該絶縁層(2)の表面に形成されたパターン(10)を
必要に応じてレーザ光にてカットする薄膜基板のパター
ンカット構造において、 前記パターン(10)が形成された層(L3)の下層
(L2)に、当該パターン(10)の形成位置に対応し
てレーザ光の反射率の高い、または吸収率の高いダミー
パターン(4)を形成したことを特徴とする薄膜基板の
パターンカット構造。
1. A multi-layer insulation layer (2) is provided on the surface of the layer,
In a pattern cut structure of a thin film substrate, which cuts a pattern (10) formed on the surface of the insulating layer (2) with a laser beam as needed, a lower layer of a layer (L3) on which the pattern (10) is formed. A pattern cut structure for a thin film substrate, characterized in that a dummy pattern (4) having a high reflectance or an absorptance of a laser beam is formed in (L2) corresponding to the formation position of the pattern (10).
【請求項2】 前記ダミーパターン(4)は、グランド
パターンまたはシグナルパターンのいずれかであること
を特徴とする請求項1記載の薄膜基板のパターンカット
構造。
2. The pattern cut structure for a thin film substrate according to claim 1, wherein the dummy pattern (4) is either a ground pattern or a signal pattern.
JP4039293A 1992-02-26 1992-02-26 Pattern cut structure of thin film substrate Withdrawn JPH05235556A (en)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2007123902A (en) * 2005-10-28 2007-05-17 Samsung Electro Mech Co Ltd Method of manufacturing rigid flexible printed circuit board
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