JPH0523273B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0523273B2
JPH0523273B2 JP61074323A JP7432386A JPH0523273B2 JP H0523273 B2 JPH0523273 B2 JP H0523273B2 JP 61074323 A JP61074323 A JP 61074323A JP 7432386 A JP7432386 A JP 7432386A JP H0523273 B2 JPH0523273 B2 JP H0523273B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
reaction
compound
group
salts
water
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP61074323A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS62234087A (ja
Inventor
Kyoaki Katano
Takashi Tsuruoka
Katsuyoshi Iwamatsu
Hiroko Ogino
Ryoichi Okamoto
Takashi Yoshida
Masaji Sezaki
Shinichi Kondo
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Meiji Seika Kaisha Ltd
Original Assignee
Meiji Seika Kaisha Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Meiji Seika Kaisha Ltd filed Critical Meiji Seika Kaisha Ltd
Priority to JP61074323A priority Critical patent/JPS62234087A/ja
Publication of JPS62234087A publication Critical patent/JPS62234087A/ja
Publication of JPH0523273B2 publication Critical patent/JPH0523273B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/55Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

Landscapes

  • Nitrogen And Oxygen Or Sulfur-Condensed Heterocyclic Ring Systems (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野] 本発明は広範囲な抗菌スペクトルを有する新規
セフアロスポリン誘導体、さらに詳しくは、3位
に(2,3−ジヒドロ−1H−インドリジニウム
−5−イル)チオメチル基を有する新規セフアロ
スポリン誘導体に関するものである。 [従来の技術及び発明が解決しようとする問題
点] セフアロスポリン抗生物質は病原性細菌による
疾病の治療に広く使用されており、ペニシリン系
抗生物質のような他の抗生物質に耐性な細菌に起
因する疾患の治療に有効とされる。しかしなが
ら、セフアロスポリンを分解する酵素(セフアロ
スポリナーゼ)を産生することによりセフアロス
ポリン抗生物質に耐性を示す病原菌の増加、また
緑膿菌を含む日和見感染菌による疾病も臨床上問
題となつている。日和見感染菌の中で特に難治性
とされる緑膿菌に有効なβ−ラクタム剤も2、3
開発されているが、グラム陽性細菌や、また通常
のグラム陰性細菌のβーラクタマーゼ産生菌に対
する抗菌活性は充分とは言い難い。 [問題点を解決するための手段] 本発明者らはこれらの欠点を克服すべく鋭意研
究を重ねた結果、セフアロスポリン骨核3位に
(2,3−ジヒドロ−1H−インドリジニウム−5
−イル)チオメチル基を有するセフアロスポリン
化合物を発見するに至った。 本発明は既存セフアロスポリン抗生物質の欠点
を改善する新規誘導体及びその薬理学的に許容さ
れる塩を提供すること及びそれらを有効成分とす
る抗菌剤を提供することを目的とするものであ
る。すなわち一般式() (式中Rは水素原子、炭素数1〜4の直鎖又は
分枝のアルキル基、炭素数2〜4の直鎖又は分枝
のカルボキシアルキル基を表わす)を有する新規
セフアロスポリン化合物及びその薬理上許容され
る塩、及びこれを有効成分とする抗菌剤に関す
る。 本発明の上記式()を有する化合物の薬理学
上許容される塩としては、医学上許容される塩類
特に慣用の非毒性塩が含まれ、無機塩としては無
機塩基との塩、例えば、ナトリウム塩、カリウム
塩等のアルカリ金属塩、カルシウム塩、マグネシ
ウム塩等のアルカリ土類金属塩、アンモニウム
塩、有機塩としては有機塩基との塩類、例えば、
トリエチルアミン塩、ピリジン塩、エタノールア
ミン塩、トリエタノールアミン塩、ジシクロヘキ
シルアミン塩等の有機アミン塩及びリジン、アル
ギニンのような塩基性アミノ酸塩が挙げられる。 本発明の目的化合物を表わす式()中、Rの
具体例として、水素、メチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、n−ブチル、iso−ブチル、
t−ブチル、カルボキシメチル、2−カルボキシ
エチル、1−カルボキシエチル、1−メチル−1
−カルボキシエチル基等が挙げられる。 本発明の特徴である、セフアロスポリン骨核3
位に導入される式()の2,3−ジヒドロ−5
(1H)−インドリジンチオンは2,3−ジヒドロ
−6,7−ジ−トリメチルシリル−5(1H)−イ
ンドリジノン(ジヤーナル・オブ・オーガニツク
ケミストリー49巻、4786頁、1984年)の脱シリル
化と硫黄化反応により合成出来る。 本発明の一般式()の化合物は以下のAおよ
びBの方法で製造出来る。すなわち A 一般式() (式中、Rは前記の意味、R1水素原子又はア
ミノ基の保護基、R2は水素原子又はカルボキシ
ル基の保護基、Xはアセトキシル基又はハロゲン
原子を表わす)で表される化合物に式()の
2,3−ジヒドロ−5(1H)−インドリジンチオ
ンを反応せしめ、後、必要あれば保護基を除去す
ることにより一般式()の化合物を得る。 B 一般式() (式中R2は前記の意味)で示される化合物に
一般式() (式中、R1は前記の意味、R3水素原子、炭素
数1〜4の直鎖又は分枝のアルキル基、炭素数2
〜4のカルボン酸基が保護されたカルボキシアル
キル基を表わす)で示される化合物又はそのカル
ボン酸の反応性誘導体を反応させた後、必要あれ
ば保護基を除去することにより一般式()の化
合物を得る。 製造法A、及びBにおける一般式()及び
()の化合物は公知で、テトラヘドロン34巻、
2233頁、1978年や、特開昭55−149289号に記載の
方法に準じて得ることが出来る。 上記一般式におけるアミノ基、カルボキシル基
の保護基としては、β−ラクタム及びペプチド合
成の分野でこの目的に用いられるものが適宜に採
用される。 アミノ基の保護基としては、例えば、フタロイ
ル、ホルミル、モノクロロアセチル、ジクロロア
セチル、トリクロロアセチル、メトキシカルボニ
ル、エトキシカルボニル、t−ブトキシカルボニ
ル、トリクロロエトキシカルボニル、ベンジルオ
キシカルボニル、ジフエニルメチルオキシカルボ
ニル、p−ニトロベンジルオキシカルボニル、メ
トキシメチルオキシカルボニル、トリチル、トリ
メチルシリルが挙げられ、一方カルボキシル基の
保護基としては、例えば、t−ブチル、t−アミ
ル、ベンジル、p−ニトロベンジル、p−メトキ
シベンジル、ベンズヒドリル、フエニル、p−ニ
トロフエニル、メトキシメチル、エトキシメチ
ル、ベンジルオキシメチル、アセトキシメチル、
メチルチオメチル、トリチル、トリクロロエチ
ル、トリメチルシリル、ジメチルシリル、ジメチ
ルアミノエチル等が例示される。 製造法(A)における一般式()と式()
との反応は、通常セフアロスポリンの化学で常用
される方法が採られる。すなわち、一般式()
においてXがアセトキシル基である場合の反応
は、通常、水、リン酸緩衝液、アセトン、アセト
ニトリル、N,N−ジメチルホルムアミド、N,
N−ジメチルアセトアミド、テトラヒドロフラ
ン、ジメチルスルホキサイド、ジオキサン、メタ
ノール、エタノール等の極性溶媒あるいは、水と
の混合溶媒中で行なうことが好ましい。反応は中
性付近で行なうのが好ましく、反応温度は特に限
定されないが、通常は室温から70℃前後で行なう
のが好適である。 本反応に要する時間は反応条件によつても異な
るが通常1〜10時間である。又、本反応は、ヨウ
化ナトリウム、ヨウ化カリウム等のアルカリ金属
ハロゲン化物の存在下で行なうことにより促進さ
れる。 又、一般式()のXがハロゲンの化合物より
目的とする化合物を生成せしめる場合はハロゲン
としては、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられるが、
一般にはその反応性からヨウ素が好ましい。一般
式()のXがヨウ素の化合物は公知の方法(例
えば、特開昭56−131590号)に準じて前記Xがア
セトキシ基の化合物のアミノ基、カルボキシル基
の保護体より容易に調整される。 本反応は通常、アセトン、ジオキサン、テトラ
ヒドロフラン、酢酸エチル、アセトニトリル、
N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチ
ルアセトアミド等の溶媒中、非水条件下、反応さ
せることが好ましい。反応は通常0から50℃が好
ましく、1〜5時間で反応は終了する。製造法
(B)の基本反応はアシル化による縮合反応であ
り、ペニシリン、セフアロスポリンで用いられる
アシル化の一般的方法が適用される。 反応性誘導体としては、例えば、酸ハロゲン化
物、酸無水物、活性アミド、活性エステル等が挙
げられる。好ましい例としては、酸塩化物、酸臭
化物、酢酸、ピバリン酸、イソ吉草酸、トリクロ
ロ酢酸等の混合酸無水物、ピラゾール、イミダゾ
ール、ジメチルピラゾール、ベンズトリアゾー
ル、等との活性アミド、p−ニトロフエニルエス
テル、2,4−ジニトロフエニルエステル、トリ
クロロフエニルエステル、1−ヒドキシ−1H−
2−ピリドン、N−ヒドロキシサクシンイミド、
N−ヒドロキシフタルイミド等との活性エステル
が挙げられる。 又、この反応において、(V)の化合物を遊離
酸の形で使用する場合には、縮合剤の存在下で反
応を行なうが好ましく縮合剤の例としては、例え
ば、N,N−ジシクロヘキシルカボジイミド、N
−シクロヘキシル−N′−モルホリノエチルカル
ボジイミド、N−シクロヘキシル−N′−(4−ジ
エチルアミノシクロヘキシル)カルボジイミド等
のカルボジイミド化合物、N−メチルホルムアミ
ド、N,N−ジメチルホルムアミド等とのアミド
化合物と塩化チオニル、オキシ塩化リン、ホスゲ
ンなどのハロゲン化物との反応によつて生成する
試薬(いわゆるビルスマイヤー試薬)などの存在
下に行なうことができる。 本反応における反応性誘導体の中で、酸ハロゲ
ン化物、及び酸無水物における反応は、酸縮合剤
の存在が必須で、酸縮合剤としては例えば、トリ
エチルアミン、トリメチルアミン、エチルジイソ
プロピルアミン、N,N−ジメチルアニリン、N
−メチルモルホリン、ピリジン等の有機塩基、ナ
トリウム、カリウム、又はカルシウムの水酸化化
合物、アルカリ金属等の炭酸塩、重炭酸塩、並び
にエチレンオキサイド、プロピレンオキサイド等
のオキシランが挙げられる。 本反応は通常、反応に悪影響を及ぼさない溶媒
中で行なわれ、溶媒としては水、アセトン、アセ
トニトリル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、
塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、
N,N−ジメチルホルムアミド又は、これらの混
合溶媒が使用される。 反応温度は特に限定されないが、通常−30〜40
℃で行なわれ、反応時間は、30分〜10時間で反応
に完了に至る。 かくして得られたアシル化生成物が、保護基を
有する場合には、保護基の除去が必要となる。保
護基を除去する方法としては、その保護基の種類
に応じて、酸による方法、塩基による方法、ヒド
ラジンによる方法等が採られ、これらはβ−ラク
タム及びペプチド合成の分野で用いられる常方を
適宜選択して行なうことができる。 以上の如くして得られた一般式()の化合物
は、反応混合物中より常法により採取される。 例えばアンバーライトXAD−2(ローム アン
ド ハース(Rohm and Haas)社製)、ダイア
イオンHP−20(三菱化成(株)製)等の吸着性
レジンによる精製、沈澱法、結晶化法等を適宜組
合わせることにより達成させる。 一般式()で示される化合物又はその塩を主
成分として含有する抗菌剤は主として静注、筋
注、等の注射剤、カプセル剤、錠剤、散剤等の経
口剤乃至は直腸投与剤、油脂性座剤、水溶性座剤
等の種々の剤形で使用される。これらの各種製剤
は通常用いられている賦形剤、増量剤、結合剤、
湿潤化剤、崩壊剤、表面活性剤、滑沢剤、分散
剤、緩衝剤、保存剤、溶解補助剤、防腐剤、矯味
矯臭剤、無痛化剤等を用いて常法により製造する
ことができる。製剤法の具体例は後記の実施例に
よつてさらに詳細に説明する。 投与量は症状や年齢、性別等を考慮して、個々
の場合に応じて適宜決定されるが、通常成人1日
あたり250〜3000mgであり、これを1日1〜4回
に分けて投与する。 [発明の効果] 本発明の目的化合物()またはその塩類は新
規化合物であり、グラム陽性及び陰性菌を含む広
範囲の病原性微生物の発育を阻止する高い抗菌活
性を示し、β−ラクタマーゼにも安定である。本
発明の目的化合物()の有用性を示すために、
この化合物()の中の代表的なものについて測
定した抗菌活性を以下の第1表に示す。
【表】
【表】 本願化合物のマウスを用いた急性毒性試験の結
果、LD50は1g/Kg以上で低毒性である。本願化
合物は人並びに動物の病原菌による疾病に対し優
れた治療効果を示し、医療用及び動物薬として有
用である。 [実施例] 本発明は、さらに以下の実施例で詳しく説明さ
れるが、これらの例は単なる実例であつて本発明
を限定するものではなく、本発明の範囲を逸脱し
ない範囲で種々の変形及び修正が可能であること
はいうまでもない。 参考例 2,3−ジヒドロ−5(1H)−インドリジンチ
オンの合成 ジヤーナル・オヴ・オーガニツクケミストリー
49巻、4786頁(1984年)に掲載される2,3−ジ
ヒドロ−6,7−ビス(トリメチルシリル)−5
(1H)−インドリジノン(720mg)をテトラ−n−
ブチルアンモニウムフロライドの1MTHF溶液
(85ml)中、60℃で30分間攪拌する。少量の水を
加え、減圧下濃縮し、水を加え、エーテルにて抽
出する。エーテル層を水洗、硫酸マグネシウムで
脱水し、エーテルを留去する。残渣をSiO2(30
g)のカラムクロマトに付し、酢酸エチルにて溶
出し2,3−ジヒドロ−6−トリメチルシリル−
5(1H)−インドリジノンを640mg得た。次いで本
品をベンゼン(5ml)に溶かしトリフロロ酢酸
(5ml)を加え、60℃にて1時間攪はんする。反
応液を濃縮後、酢酸エチルを加え、NaHCO3
溶液、水にて順次抽出する。これらの水層を合併
しクロロホルムにて抽出し、硫酸マグネシウムで
脱水する。クロロホルムを留去し、残留物を
SiO2(20g)のカラムクロマトに付す。クロロホ
ルム−エタノール(20:1)にて溶出し、2,3
−ジヒドロ−5(1H)−インドリジノンを183mg
(53%)得た。本品(168mg)をベンゼン(5ml)
に溶かし、ローソン試薬(311mg)を加え、2時
間加熱還流する。冷後、クロロホルムを加え、沈
澱物を溶かし濃縮する。残渣をSiO2(20g、クロ
ロホルム:メタノール=50:1)のカラムクロマ
トに2回付し、標記化合物を167mg(89%)得た。 PMR(CDCl3):δ2.22(2H,tt)、3.20(2H,t),
4.58(2H,t)、6.55(1H,d)、7.16(1H,t)、
7.43(1H,t) 実施例 1 7β−[(Z)−2−(2−アミノ−4−チアゾリ
ル)−2−メトキシイミノアセタミド]−3−
[2,3−ジヒドロ−5(1H)−インドリジニウ
ム−5−イル]チオメチル−セフ−3−エム−
4−カルボン酸 セフオタキシム ナトリウム塩(95mg)、2,
3−ジヒドロ−5(1H)−インドリジンチオン
(43mg)、NaI(150mg)を50%アセトニトリル水に
溶かし、65−70℃にて7.5時間反応させる。アセ
トンを加え不溶物をデカンテーシヨンして採取
し、乾燥後、水に溶かしHP−20(15ml)にチヤ
ージする。 水洗後、5〜10%アセトン水にて溶出し、凍結
乾燥後、標記化合物を30mg得た。 PMR(D2O)δ:2.47(2H,m),3.52(1H+2H,
m),3.99(3H,s),4.23(1H,d),4,48
(1H,d),4.67(2H,m),5.18(1H,d),5.75
(1H,d),6.99(1H,s),7.65(1H,d),7.73
(1H,d),8.16(1H,t) 実施例 2 7β−[(Z)−2−(2−アミノ−4−チアゾリ
ル)−2−(カルボキシメトキシ)イミノアセタ
ミド]−3−[2,3−ジヒドロ−5(1H)−イ
ンドリジニウム−5−イル]チオメチル−セフ
−3−エム−4−カルボン酸 7β−[(Z)−2−(2−アミノ−4−チアゾリ
ル)−2−(カルボキシメトキシ)イミノアセタミ
ド]−3−アセトキシ−セフ−3−エム−4−カ
ルボン酸(102mg)、2,3−ジヒドロ−5(1H)
−インドリジンチオン(45mg),Nal(150mg)を
水(2ml)とアセトニトリル(1ml)の混液に溶
かし、飽和NaHCO3水にてPHを7.4に調整する。
65〜70°にて7時間反応後、アセトンを加え不溶
物をデカンテーシヨンして採取する。不溶物を乾
燥後水に溶かしHP−20(15ml)にチヤージする。
水洗後、5%アセトン水に溶出し、凍結乾燥し標
記化合物を31mg得た。 PMR(D2O)δ:2.47(2H,m),3.53(1H+2H,
m),3.76(1H,d),4.28(1H,d),4,43
(1H,d),4.59(2H,s),4.67(2H,m),5.19
(1H,d),5.76(1H,d),7.01(1H,s),7.64
(1H,d),7.75(1H,d),8.15(1H,t) 実施例 3 注射用製剤 1バイアル中実施例2の化合物1000mg(力価)
を含有するよう無菌的に分注した。 実施例 4 カプセル剤 実施例2の化合物 250部(力価) 乳糖 60部 ステアリン酸マグネシウム 5部 これらを均一に混合し250mg(力価)/カプセ
ルになるようカプセルに充填した。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 式 (式中Rは水素原子、炭素数1〜4の直鎖又は
    分枝のアルキル基、炭素数2〜4の直鎖又は分枝
    のカルボキシアルキル基を表わす)を有する新規
    セフアロスポリン化合物及びその薬理上許容され
    る塩。 2 式 (式中Rは水素原子、炭素数1〜4の直鎖又は
    分枝のアルキル基、炭素数2〜4の直鎖又は分枝
    のカルボキシアルキル基を表わす)を有する新規
    セフアロスポリン化合物及びその薬理上許容され
    る塩を有効成分とする抗菌剤。
JP61074323A 1986-04-02 1986-04-02 新規セフアロスポリン誘導体及び抗菌剤 Granted JPS62234087A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61074323A JPS62234087A (ja) 1986-04-02 1986-04-02 新規セフアロスポリン誘導体及び抗菌剤

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61074323A JPS62234087A (ja) 1986-04-02 1986-04-02 新規セフアロスポリン誘導体及び抗菌剤

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS62234087A JPS62234087A (ja) 1987-10-14
JPH0523273B2 true JPH0523273B2 (ja) 1993-04-02

Family

ID=13543788

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP61074323A Granted JPS62234087A (ja) 1986-04-02 1986-04-02 新規セフアロスポリン誘導体及び抗菌剤

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS62234087A (ja)

Also Published As

Publication number Publication date
JPS62234087A (ja) 1987-10-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR910000035B1 (ko) 세팔로스포린 화합물, 이의 제법 및 이를 함유하는 약학적 조성물
US4918068A (en) Cephem compounds
JPH0269484A (ja) 新規セフェム化合物、その製造法及び抗菌剤
EP0267733A2 (en) Cephalosporin compounds, process for their preparation and pharmaceutical compositions containing them
JPH0633281B2 (ja) 新規セファロスポリン化合物及び抗菌剤
EP0289002B1 (en) Novel cephalosporin compounds and antibacterial agents
EP0349340B1 (en) Novel cephem compound, method for producing the same and anti-bacterial agent
JPH03204883A (ja) セファロスポリン化合物およびその用途
KR100227009B1 (ko) 신규 세펨 유도체
CS236491B2 (en) Method of cephalosporines preparation
JPH0523273B2 (ja)
JPH0723381B2 (ja) 新規セフアロスポリン誘導体及び抗菌剤
JP2000514832A (ja) 抗菌性の置換7−アシルアミノ−3−(メチルヒドラゾノ)メチルセファロスポリンおよび中間体
US4705784A (en) Cephem compounds
JPH0613529B2 (ja) 新規セフアロスポリン誘導体及び抗菌剤
JPS6156238B2 (ja)
JPH0633280B2 (ja) 新規な1−オキサ−1−デチアセフアロスポリン化合物及びそれを含む抗菌剤
JPH064644B2 (ja) 新規セフアロスポリン誘導体及び抗菌剤
JPH0248580A (ja) 新規セファロスポリン系化合物及び抗菌剤
JPH0240073B2 (ja) Shinkisefuarosuhorinkagobutsuoyobisoreojukoseibuntosurukokinzai
US4761409A (en) Cephem derivatives
JPH0631261B2 (ja) 新規セファロスポリン誘導体及び抗菌剤
KR830001593B1 (ko) 세팔로스포린 항생제의 제조방법
JPS62195385A (ja) セフアロスポリン化合物およびその製造法
JPH0699448B2 (ja) 新規セファロスポリン化合物及び抗菌剤