JPH05221915A - １，４−ベンゾキノン誘導体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】 下記一般式[Ｉ] 【化１】 {式中、Ｒ¹は−(ＣＨ₂)mＣＨ＝ＣＨ(ＣＨ₂)nＣＨ₃(mは
２〜１５の整数、nは１〜５の整数を表わす)、Ｒ²、Ｒ³
は一方が、メトキシ基を表わし、他方がＲ¹と同じ置換
基を表わす}で表わされる１,４−ベンゾキノン誘導体。 【効果】 上記化合物［Ｉ］は抗酸化剤、抗炎症剤とし
ての利用が期待される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、新規な１,４−ベンゾ
キノン誘導体に関し、詳細には抗酸化剤、抗炎症剤等と
しての利用が期待される１,４−ベンゾキノン誘導体に
関する。

【０００２】

【従来の技術および発明が解決しようとする課題】ヒオ
ウギ(Ｂelamcanda chinensis)はアヤメ科の植物であ
り、従来から抗炎症作用、鎮咳作用、去痰作用等を有す
ることが知られている(Ｄictionary of Ｃhinese Ｃrud
e Ｄrugs,Ｓhanghai Ｓcientific Ｔechnologic Ｐubli
sher,Ｓhanghai,１９７７,１８８３−１８８４)。特開
昭６３−３０４１７号公報には、その根茎部である射干
(ヤカン)に含まれる下記式の化合物が抗アレルギー作用
を有することが開示されている。

【０００３】

【化２】 (ただし、Ｒ⁴は水酸基または−Ｏ−Ｄ−β−グルコー
ス、Ｒ⁵はメトキシ基、またはＲ⁴およびＲ⁵は一緒にな
ってメチレンジオキシ基、Ｒ⁶およびＲ⁸は水酸基または
メトキシ基、Ｒ⁷は水素原子またはメトキシ基、Ｒ⁹は水
素原子、水酸基またはメトキシ基を意味する）。

【０００４】一方本発明者らは、ヒオウギの種子から下
記構造で表わされるフェノール誘導体を単離し、その５
−リポキシゲネース阻害活性を測定した(Ｃhem.Ｐharm.
Ｂull．,３９(７),１８７７−１８７９,１９９１)。

【化３】

【化４】

【０００５】このように、ヒオウギに含まれる生理活性
物質は薬学的に非常に興味が持たれるものの、その成分
についてはまだ十分には明らかにされていない。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、天然物か
らの生理活性成分の研究の一環として、かかるヒオウギ
に着目して研究を重ね、その結果ヒオウギの種子中に新
規なベンゾキノン誘導体を見出し、本発明を完成するに
至った。

【０００７】

【発明の構成】即ち本発明の要旨は下記一般式[Ｉ]

【化５】 {式中、Ｒ¹は−(ＣＨ₂)mＣＨ＝ＣＨ(ＣＨ₂)nＣＨ₃(mは
２〜１５の整数、nは１〜５の整数を表わす)、Ｒ²、Ｒ³
は一方がメトキシ基を表わし、他方がＲ¹と同じ置換基
を表わす}で表わされる１,４−ベンゾキノン誘導体に存
する。以下、本発明を説明するに、本発明の１,４−ベ
ンゾキノン誘導体は、前記一般式[Ｉ]で表わされる。以
下に、一般式[Ｉ]で表わされる好ましい化合物の具体例
を示す。

【０００８】

【表１】

【０００９】次に本発明化合物の製造法について説明す
る。本発明化合物は以下に示すように抽出、単離、もし
くは合成により製造することができる。

【００１０】即ち、一般式[Ｉ]の化合物はヒオウギの種
子から抽出、単離される。上記抽出、単離は例えば次の
ようにして実施される。まず、ヒオウギの乾燥種子を塩
化メチレン、クロロホルム等の溶媒を用いて抽出し、抽
出液を減圧下に濃縮して第１次抽出物を得、次いで該抽
出物から、目的化合物の理化学的性状を利用した各種の
方法により目的物を採取する。該目的物の採取は、通常
の方法、例えばシリカゲル、活性炭、イオン交換樹脂、
セファデックス等の吸着剤に対する吸着親和力の差を利
用する方法、二液相間の分配率の差を利用する方法、こ
れらの方法の組合せ等により実施できる。好ましい採取
方法としては、上記第１次抽出物をシリカゲルクロマト
グラフィーにかけ、例えばn−ヘキサンと酢酸エチルの
混合溶媒等の適当な溶媒で溶出し、この溶出液を減圧濃
縮し、濃縮液をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで
精製した後、セファデックスに供し、例えば塩化メチレ
ンとメタノールの混合溶媒等の適当な溶媒で溶出後、シ
リカゲルカラムクロマトグラフィーで精製する方法を例
示できる。

【００１１】又、一般式[Ｉ]の化合物は以下の合成によ
る方法でも製造することができる。 (１)Ｒ¹およびＲ³が同一の置換基を表わす化合物の合成

【化６】

【００１２】

【化７】

【００１３】

【化８】 (式中、kは１〜１４の整数を、qは１〜５の整数を表す)

【００１４】即ち、まず化合物[ＩＩ]に化合物[ＩＩＩ]
を反応させて((a)工程)化合物[ＩＶ]とし、これを還元
して((b)工程)化合物[Ｖ]とし、これをp−トルエンスル
ホン酸等の酸と反応させて((c)工程)化合物[ＶＩ]と
し、これを酸化して((d)工程)化合物[ＶＩＩ]とし、こ
れを化合物[ＶＩＩＩ]と反応させて((e)工程)化合物[Ｉ
Ｘ]とし、これのメトキシ基の一方のみを切断して((f)
工程)化合物[Ｘ]とし、これをブロム化して((g)工程)化
合物[ＸＩ]とし、これを酸化して((h)工程)化合物[ＸＩ
Ｉ]を得る。

【００１５】又、化合物[Ｘ]の水酸基をＭＯＭ(メトキ
シメチル基)等の保護基で保護して((i)工程)化合物[Ｘ
ＩＩＩ]とし、これをホウ酸化して((j)工程)化合物[Ｘ
ＩＶ]を得る。化合物[ＸＩＩ]と化合物[ＸＩＶ]を反応
させて((k)工程)化合物[ＸＶ]とし、これを臭化水素酸
等の酸と反応させて((l)工程)化合物[Ｉ−a]を製造する
ことができる。

【００１６】(a)工程は、テトラヒドロフラン、ジエチ
ルエーテル等の溶媒中好ましくは１〜５当量、更に好ま
しくは１.１〜２当量のn−ブチルリチウム、水素化ナト
リウム、カリウムt−ブトキシド等の塩基の存在下、好
ましくは１〜５当量更に好ましくは、１.１当量〜２当
量の化合物[ＩＩＩ]を用いて、好ましくは０℃〜５０
℃、更に好ましくは０℃〜室温の温度範囲で行なわれ
る。この際、反応は無水条件下に行なうのが一層好まし
い。

【００１７】(b)工程はメタノール、エタノール、プロ
パノール等の溶媒中、好ましくは５％w／w〜１５％w／
w、更に好ましくは７％w／w〜１２％w／wのＰd／Ｃ,Ｐd
−Ｂlack等の触媒の存在下水素気流下で、好ましくは０
℃〜５０℃、更に好ましくは０℃〜室温の温度範囲で行
なわれる。

【００１８】(c)工程はテトラヒドロフラン、ジオキサ
ン等の溶媒と水との混合溶媒中、好ましくは０.０５〜
５当量、更に好ましくは０.１〜１当量のp−トルエンス
ルホン酸、塩酸、硫酸等の酸の存在下、好ましくは０℃
〜５０℃、更に好ましくは０℃〜室温の温度範囲で行な
われる。

【００１９】(d)工程はジクロルメタン、ジクロルエタ
ン等の溶媒中、好ましくは２〜５当量、更に好ましくは
２〜３当量の塩化オキザリル等の存在下、好ましくは１
〜５当量、更に好ましくは２.５〜３.５当量のジメチル
スルホキシドと、好ましくは５〜２０当量、更に好まし
くは５〜１０当量のトリエチルアミン等の塩基を用い
て、好ましくは−９０℃〜室温、更に好ましくは−８０
℃〜室温の温度範囲で行なわれる。この際反応は無水条
件下に行なうのが一層好ましい。

【００２０】(e)工程はテトラヒドロフラン、ジエチル
エーテル等の溶媒中、好ましくは１〜５当量、更に好ま
しくは１.１〜２当量のn−ブチルリチウム、水素化ナト
リウム、カリウムt−ブトキシド等の塩基の存在下、好
ましくは１〜５当量、更に好ましくは１.１〜２当量の
化合物[ＶＩＩＩ]を用いて、好ましくは０℃〜５０℃、
更に好ましくは０℃〜室温の温度範囲で行なわれる。こ
の際反応は無水条件下に行なうのが一層好ましい。

【００２１】(f)工程は、ジメチルホルムアミド等の溶
媒中、好ましくは１〜１５当量、更に好ましくは３〜１
０当量の水素化ナトリウム等の塩基の存在下、好ましく
は１〜１５当量、更に好ましくは３〜１０当量のエタン
チオールを用いて、好ましくは室温〜還流下、更に好ま
しくは５０℃〜還流下の温度範囲で行なわれる。この際
反応は無水条件下に行なうのが一層好ましい。

【００２２】(g)工程はジメチルホルムアミド等の溶媒
中、好ましくは０.８〜１.５当量、更に好ましくは０.
９〜１.２当量のＮ−ブロモコハク酸イミドを用いて、
好ましくは０℃〜５０℃、更に好ましくは０℃〜室温の
温度範囲で行なわれる。この際反応は無水条件下に行な
うのが一層好ましい。

【００２３】(h)工程はジメチルホルムアミド等の溶媒
中、好ましくは０.０５当量〜０.５当量、更に好ましく
は０.１当量〜０.３当量のサルコミンを用いて酸素気流
下で、好ましくは０℃〜５０℃、更に好ましくは０℃〜
室温の温度範囲で行なわれる。

【００２４】(i)工程は、ジクロルメタン、ジクロルエ
タン等の溶媒中、好ましくは１〜５当量、更に好ましく
は１.０５〜１.５当量のジイソプロピルエチルアミン等
の塩基の存在下、好ましくは１〜５当量、更に好ましく
は１.０５〜１.５当量のクロルメチルメチルエーテルを
用いて、好ましくは０℃〜５０℃、更に好ましくは０℃
〜室温の温度範囲で行なわれる。この際、反応は無水条
件下に行なうのが一層好ましい。

【００２５】(j)工程はテトラヒドロフラン、ジエチル
エーテル等の溶媒中、好ましくは１〜２当量、更に好ま
しくは１.０５〜１.５当量のn−ブチルリチウム等の塩
基の存在下、好ましくは１〜２当量、更に好ましくは
１.０５〜１.５当量のホウ酸トリメチルを用いて、好ま
しくは０℃〜５０℃、更に好ましくは０℃〜室温の温度
範囲で行なわれる。この際、反応は無水条件下に行なう
のが一層好ましい。

【００２６】(k)工程はテトラヒドロフラン等の溶媒
中、好ましくは０.０１〜０.５当量、更に好ましくは
０.０１〜０.１当量のテトラキストリフェニルホスフィ
ンパラジウム(o)と、好ましくは２〜１０当量、更に好
ましくは３〜５当量の炭酸ナトリウム等の塩基の存在
下、好ましくは１〜２当量、更に好ましくは、１〜１.
５当量の化合物[ＸＩＶ]を用いて、好ましくは室温〜還
流下、更に好ましくは５０℃〜還流下の温度範囲で行な
われる。

【００２７】(l)工程は、メタノール、エタノール、プ
ロパノール等の溶媒中、好ましくは１〜１００当量、更
に好ましくは１〜８０当量の臭化水素酸等の酸を用い
て、好ましくは室温〜７０℃、更に好ましくは５０℃〜
７０℃の温度範囲で行なわれる。

【００２８】(２)Ｒ¹およびＲ²が同一の置換基を表わす
化合物の合成

【化９】

【００２９】

【化１０】 (式中、k、qは前記定義に同じ)

【００３０】即ち、まず化合物[ＸＩ]の水酸基をＭＯＭ
等の保護基で保護して((m)工程)化合物[ＸＶＩ]とし、
これをホウ酸化して((n)工程)化合物[ＸＶＩＩ]を得
る。化合物[ＸＶＩＩ]と化合物[ＸＩＩ]を反応させて
((o)工程)化合物[ＸＶＩＩＩ]とし、これを臭化水素酸
等の酸と反応させて((p)工程)化合物[Ｉ−b]を製造する
ことができる。

【００３１】(m)工程は、ジクロルメタン、ジクロルエ
タン等の溶媒中、好ましくは１〜５当量、更に好ましく
は１.０５〜１.５当量のジイソプロピルエチルアミン等
の塩基の存在下、好ましくは１〜５当量、更に好ましく
は１.０５〜１.５当量のクロルメチルメチルエーテルを
用いて、好ましくは０℃〜５０℃、更に好ましくは０℃
〜室温の温度範囲で行なわれる。この際反応は無水条件
下に行なうのが一層好ましい。

【００３２】(n)工程はテトラヒドロフラン、ジエチル
エーテル等の溶媒中、好ましくは１〜２当量、更に好ま
しくは１.０５〜１.５当量のn−ブチルリチウム等の塩
基の存在下、好ましくは１〜２当量、更に好ましくは
１.０５〜１.５当量のホウ酸トリメチルを用いて、好ま
しくは−９０℃〜室温、更に好ましくは−８０℃〜室温
の温度範囲で行なわれる。この際反応は無水条件下に行
なうのが一層好ましい。

【００３３】(o)工程はテトラヒドロフラン等の溶媒
中、好ましくは０.０１〜０.５当量、更に好ましくは
０.０１〜０.１当量のテトラキストリフェニルホスフィ
ンパラジウム(o)と、好ましくは２〜１０当量、更に好
ましくは３〜５当量の炭酸ナトリウムの存在下、好まし
くは１〜２当量、更に好ましくは１〜１.５当量の化合
物[ＸＶＩＩ]を用いて、好ましくは室温〜還流下、更に
好ましくは５０℃〜還流下の温度範囲で行なわれる。

【００３４】(p)工程は、メタノール、エタノール、プ
ロパノール等の溶媒中、好ましくは１〜１００当量、更
に好ましくは１〜８０当量の臭化水素酸等の酸を用い
て、好ましくは室温〜７０℃、更に好ましくは５０℃〜
７０℃の温度範囲で行なわれる。

【００３５】本発明の化合物の出発原料となる化合物
[ＩＩ]はＣhem．Ｂer．１０２,２８８１(１９６９)に記
載の方法、または、これに準ずる方法によって容易に合
成できる。

【００３６】本発明化合物を治療剤として用いる場合、
単独で、または薬学的に可能な担体と複合して投与す
る。その組成は、化合物の溶解度、化学的特質、投与経
路、投与計画等によって決定される。例えば、顆粒剤、
細粒剤、散剤、錠剤、硬カプセル剤、軟カプセル剤、シ
ロップ剤、乳剤、懸濁剤または液剤等の剤形にして、経
口投与しても良いし、注射剤として静脈内投与、筋肉内
投与、皮下投与してもよい。

【００３７】また、注射用の粒末にし、用時調整して使
用しても良い。経口、経腸、非経口若しくは局所投与に
適した医薬用の有機または無機の、固体または液体の担
体若しくは希釈剤を本発明化合物と共に用いることがで
きる。固形製剤を製造する際に用いられる賦形剤として
は、例えば乳糖、ショ糖、デンプン、タルク、セルロー
ス、デキストリン、カオリン、炭酸カルシウム等が用い
られる。経口投与のための液体製剤、即ち乳剤、シロッ
プ剤、懸濁剤、液剤等は、一般的に用いられる不活性な
希釈剤、例えば水又は植物油等を含む。この製剤は不活
性な希釈剤以外に補助剤、例えば湿潤剤、懸濁補助剤、
甘味剤、芳香剤、着色剤又は保存剤等を含むことができ
る。液体製剤にして、ゼラチンのような吸収されうる物
質のカプセル中に含ませても良い。非経口剤投与の製
剤、即ち注射剤等の製造に用いられる溶剤又は懸濁化剤
としては、たとえば水、プロピレングリコール、ポリエ
チレングリコール、ベンジルアルコール、オレイン酸エ
チル、レシチン等が挙げられる。製剤の調整方法は常法
によればよい。

【００３８】臨床投与量は、経口投与により用いる場合
には、成人に対し本発明の化合物として、一般には、１
日量１〜１０００mgであり、好ましくは１〜１００mgで
あるが、年令、病状、症状、同時投与の有無により適宜
増減することが更に好ましい。前記１日量の本発明化合
物は１日に１回、または適当間隔において１日に２若し
くは３回に分けて投与しても良いし、間欠投与しても良
い。また、注射剤として用いる場合には、成人に対し本
発明の化合物として、１日量０.１〜１００mgであり好
ましくは０.１〜５０mgである。

【００３９】

【発明の効果】本発明の一般式［Ｉ］で表わされる化合
物は抗炎症作用、抗酸化作用等の薬理作用を有すること
が期待され、医薬として有用であると考えられる。

【００４０】

【実施例】以下、本発明につき実施例を挙げて詳細に説
明するが、本発明は、その要旨を越えない限り以下に限
定されるものではない。実施例１ ヒオウギからの単離法 ヒオウギ(Ｂelamcanda chinensis Ｄ.Ｃ.)の乾燥種子の
塩化メチレン抽出物(１３g)をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー(Ｍerck Ｋiselgel ６０,７０−２３０ m
esh,３００g)に付し、n−ヘキサン、n−ヘキサン／酢酸
エチル(９:１,７:３,１:１,v／v各々１Ｌ)で順次溶出
し、フラクション１−１３に分画した。フラクション６
(２.４４g)をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(Ｗa
kogelＣ−３００,２４５g)に付し、n−ヘキサン／酢酸
エチル(３:２,v／v)で溶出し、フラクション１４−１８
に分画した。フラクション１８(１.０５g)を更にセファ
デックスＬＨ−２０(ファルマシア社製、２００Ｌ、塩
化メチレン／メタノール(３:７))で精製後、シリカゲル
カラムクロマトグラフィー(Ｍerck Ｋieselgel ６０,２
３０−４００mesh,２０g,塩化メチレン／酢酸エチル(２
０:１))をくりかえすと、ベラムカンダキノン（Ｂelamc
andaquinone）Ａ(１７.４mg)とベラムカンダキノン（Ｂ
elamcandaquinone）Ｂ(３.６mg)が単離できた。

【００４１】ベラムカンダキノンＡ ＵＶ:λmax(ＣＨＣl₃)２４３(ε５６００),２７２(ε１
１００)nm. ＩＲ:νmax(ＣＨＣl₃)３５７６(ＯＨ),１６７０,１６４
２(Ｃ＝０),１６１９(芳香族）cm^-1. ＥＩＭＳ m／z(rel.int.)６７６(１００)[Ｍ⁺],６６０
(７５),４８１(８０). ＨＲＥＩＭＳ ６７６.５０８１[Ｍ⁺]，理論値６７６.５
０６７（Ｃ₄₄Ｈ₆₈Ｏ₅として）.¹ Ｈ ＮＭＲ(４００ＭＨz,ＣＤＣl₃):δ０.８９(３Ｈ,t,
Ｊ＝４.４Ｈz),０.８９(３Ｈ,t,Ｊ＝４.４Ｈz),１.１５
−１.８０(３６Ｈ),２.０(４Ｈ),２.２５(１Ｈ,m),２.
３４(１Ｈ,m),２.５６(２Ｈ,t,Ｊ＝７.３Ｈz),３.７０
(３Ｈ,s),３.８２(３Ｈ,s),４.９５(ＯＨ),５.３４(４
Ｈ,m),５.９８(１Ｈ,s),６.３５(２Ｈ,s).¹³ Ｃ ＮＭＲ(１００ＭＨz,ＣＤＣl₃):δ１４.０(q),２
２.４(q),２６.９(t),２７.２(t),２７.７(t),２８.２
(t),２９.１−３１.０(x１８,t),３２.０(t),３６.４
(t),５５.６(q),５６.１(q),１０３.７(d),１０７.２
(d),１０７.７(s),１２９.９(d,x４),１３８.７(s),１
４６.０(s),１４６.８(s),１５３.０(s),１５７.５(s),
１５８.５(s),１８２.４(s),１８６.４(s).

【００４２】ベラムカンダキノンＢ ＵＶ:λmax(ＣＨＣl₃)２４０(ε３８００),２７５(ε６
９００)nm. ＩＲ:νmax(ＣＨＣl₃)３５７６(ＯＨ),１６６９(Ｃ＝
０),１６４０(Ｃ＝０),１６１０(芳香族)cm^-1. ＥＩＭＳ m／z(rel.int)６７６(１００)[Ｍ⁺],４８０
(２０),４８１(１０). ＨＲＥＩＭＳ ６７６.５０８０,理論値６７６.５０６７
（Ｃ₄₄Ｈ₆₈Ｏ₅として）.¹ Ｈ ＮＭＲ(４００ＭＨz,ＣＤＣl₃):δ０.８７(３Ｈ,t,
Ｊ＝４.５Ｈz),０.８９(３Ｈ,t,Ｊ＝６.６Ｈz),１.２０
−１.４０(１８Ｈ,m),１.６１(４Ｈ,m),２.０(４Ｈ,m),
２.１５(１Ｈ,m),２.２５(２Ｈ,m),２.２５(１Ｈ,m),
３.７９(３Ｈ,s),３.８４(３Ｈ,s),４.７８(１Ｈ,Ｏ
Ｈ),５.３４(４Ｈ,m),６.０１(１Ｈ,s),６.２８(１Ｈ,
d,Ｊ＝２.２Ｈz),６.４５(１Ｈ,d,Ｊ＝２.２Ｈz).¹³ Ｃ ＮＭＲ(１００ＭＨz,ＣＤＣl₃):δ１４.１(q),２
２.４(q),２６.９(t),２７.２(t),２７.９(t),２８.２
(t),２９.１−３０.２(x１８),３２.０(t),３３.７(t),
５５.２(q),５６.２(q),９９.３(d),１０７.１(d),１０
７.５(s),１１２.６(s),１２９.９(d,x４),１４０.８
(s),１４３.１(s),１４６.７(s),１５３.４(s),１５８.
７(s),１６０.７(s),１８２.３(s),１８６.９(s).

【化１１】

【化１２】

【００４３】実施例２ ベラムカンダキノンＡおよびＢ
の合成 １,３−ジメトキシ−５−{１０−(２−テトラヒドロピ
ラニルオキシ)−１−デセニル}ベンゼン[ＩＶ]の合成 トリフェニル−(３,５−ジメトキシベンジル)−ホスホ
ニウムブロマイド(ＩＩ)(７.５５g,１５mmol)を無水テ
トラヒドロフラン(９６ml)に溶かした溶液に、１.６Ｍ
n−ブチルリチウムヘキサン溶液(９.８７ml)を室温、ア
ルゴン気流下、注射器でゆっくりと滴下した。１５分撹
拌後、テトラヒドロフラン(１６ml)に溶かした１−(２
−テトラヒドロピラニルオキシ)ノナナール(ＩＩＩ)(３
g,１２ｍｍｏｌ）をゆっくり滴下した。反応溶液を１８
時間撹拌後、氷水を加え、酢酸エチルで３回抽出し、酢
酸エチル層を水（ｘ２)、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マ
グネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去して得られた
残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(２００g、ヘキサ
ン／酢酸エチル,１０:１)で精製して油状物として化合
物[ＩＶ](４.０４g,８７％)を得た。

【００４４】ＨＲＭＳ ３７６.２６０１,理論値 ３７
６.２６１４（Ｃ₂₃Ｈ₃₆Ｏ₄として）. ＩＲ(film)１６００,１４８０cm^-1. ＥＩＭＳ m／z(rel.int.)３７６[Ｍ⁺](３３),３００(４
７),２９２(７３),１９１(６１),１５２(１００).¹ Ｈ ＮＭＲ(２００ＭＨz,ＣＤＣl₃):δ３.７９(６Ｈ,
s),４.５６(１Ｈ,t,Ｊ＝６.５Ｈz),６.２８(１Ｈ,d,Ｊ
＝１８.０Ｈz),６.３５(１Ｈ,dt,Ｊ＝１８.０,６.５Ｈ
z),６.４２(１Ｈ,t,Ｊ＝２.２Ｈz),６.７１(２Ｈ,d,Ｊ
＝２.２Ｈz).

【００４５】１,３−ジメトキシ−５−{１０−(２−テ
トラヒドロピラニルオキシ)−１−デカニル}ベンゼン
[Ｖ]の合成 化合物[ＩＶ](３.６g,９.５mmol)をエタノール(３００m
l)に溶かした溶液に１０％Ｐd／Ｃ(４００mg)を加え、
常圧で水素気流下で１２時間撹拌した。触媒濾過後、濾
液を減圧下濃縮乾固して化合物[Ｖ](３.２７g,９０.６
％)を得た。

【００４６】ＨＲＭＳ ３７８.２７９０[Ｍ⁺]，理論値
３７８.２７７０（Ｃ₂₃Ｈ₃₈Ｏ₄として）. ＩＲ(film)１５９５,１４６０cm^-1. ＥＩＭＳ m／z(rel.int.)３７８[Ｍ⁺](４),２９４(２
３),１５２(１００).¹ Ｈ ＮＭＲ(２００ＭＨz,ＣＤＣl₃):δ２.５４(２Ｈ,t,
Ｊ＝７.６Ｈz),３.７８(６Ｈ,s)４.５８(１Ｈ,t,Ｊ＝
７.０Ｈz),６.２９(１Ｈ,t,Ｊ＝２.４Ｈz),６.３４(２
Ｈ,d,Ｊ＝２.４Ｈz).

【００４７】１０−(３,５−ジメトキシフェニル)−１
−デカノール[ＶＩ]の合成 化合物[Ｖ](３.４g,０.９mmol)をテトラヒドロフラン−
水(３０ml−１０ml)に溶かした溶液に、p−トルエンス
ルホン酸(１００mg)を加え、１８時間撹拌した。反応溶
液を氷水に加え、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層
を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水で洗
浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去し
て得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(９０
g,ヘキサン／酢酸エチル,５:１)で精製して、化合物[Ｖ
Ｉ](２.４９g,９４％)を得た。

【００４８】ＨＲＭＳ ２９４.２１９６，理論値２９
４.２１９５（Ｃ₁₈Ｈ₃₀Ｏ₃として）. ＩＲ(film)３４５０,２９２０cm^-1.¹ Ｈ ＮＭＲ(２００ＭＨz,ＣＤＣl₃):δ２.５４(２Ｈ,t,
Ｊ＝７.７Ｈz),３.６４(２Ｈ,t,Ｊ＝６.５Ｈz),３.７８
(６Ｈ,s),６.２９(１Ｈ,t,Ｊ＝２.３Ｈz),６.３４(２
Ｈ,d,Ｊ＝２.３Ｈz).

【００４９】１０−(３,５−ジメトキシフェニル)−１
−デカナール[ＶＩＩ]の合成 塩化オキザリル(１.４６ml,１６.３mmol)を含む塩化メ
チレン(５０ml)溶液に、−７８℃でジメチルスルホキシ
ド(１.７９ml)を滴下し、溶液を１０分間撹拌した。こ
の溶液に化合物[ＶＩ](２.４g,８.１５mmol)を塩化メチ
レン(１００ml)に溶かした溶液をゆっくりと滴下し、−
７８℃で１時間撹拌後、トリエチルアミン(８.７４ml)
を加え、反応温度を０℃まで昇温後、さらに２０分間撹
拌した。反応溶液に飽和食塩水を加え、酢酸エチルで抽
出し、酢酸エチル層を水、飽和食塩水で洗浄後、硫酸マ
グネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去して得られた
残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(１００g,ヘキサ
ン／酢酸エチル,５:１)で精製し、化合物[ＶＩＩ](１.
８５g,７８％)を得た。

【００５０】ＨＲＭＳ ２９２.２０１９[Ｍ⁺]，理論値
２９２.２０３８（Ｃ₁₈Ｈ₂₈Ｏ₃として）. ＩＲ(film)１７１５,１５９０cm^-1.¹ Ｈ ＮＭＲ(２００ＭＨz,ＣＤＣl₃)δ２.４１(２Ｈ,td,
Ｊ＝６.０,１.８Ｈz),２.５４(２Ｈ,t,Ｊ＝７.６Ｈz),
３.７８(６Ｈ,s),６.２９(１Ｈ,t,Ｊ＝２.２Ｈz),６.３
４(２Ｈ,d,Ｊ＝２.２Ｈz),９.７６(１Ｈ,t,Ｊ＝１.８Ｈ
z).

【００５１】１,３−ジメトキシ−５−{(Ｚ)−１０−ペ
ンタデセニル}ベンゼン[ＩＸ]の合成 無水テトラヒドロフラン(２０ml)中にn−ペンチルトリ
フェニルホスホニウムブロマイド[ＶＩＩＩ](４.７g,１
１.４mmol)を懸濁した溶液に、カリウムt−ブトキシド
(１.３g,１１.４mmol)をテトラヒドロフラン(１０ml)に
溶かした溶液を室温で滴下した。３０分撹拌後、化合物
[ＶＩＩ](２g,６.８mmol)をテトラヒドロフラン(５ml)
に溶かした溶液を滴下し、反応溶液を１時間撹拌後、水
を加えエーテルで抽出した。エーテル層を水、飽和食塩
水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧
下留去して得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィ
ー(６０g,ヘキサン／塩化メチレン,５:１)で精製し、化
合物[ＩＸ](２.１７g,９３％)を得た。

【００５２】ＨＲＭＳ ３４６.２８６６，理論値３４
６.２８７２（Ｃ₂₃Ｈ₃₈Ｏ₂として）. ＩＲ(film)１５９０cm^-1. ＥＩＭＳ m／z(re.int.)３４６[Ｍ⁺](７７),１９４(１
８),１６５(１２),１５２(１００).¹ Ｈ ＮＭＲ(２００ＭＨz,ＣＤＣl₃):δ０.８９(３Ｈ,t,
Ｊ＝５.６Ｈz),２.５４(２Ｈ,t,Ｊ＝７.７Ｈz),３.７７
(６Ｈ,s),５.３４(２Ｈ,t,Ｊ＝４.６Ｈz),６.２９(１
Ｈ,t,Ｊ＝２.２Ｈz),６.３４(２Ｈ,d,Ｊ＝２.２Ｈz).

【００５３】３−メトキシ−５−{(Ｚ)−１０−ペンタ
デセニル}フェノール[Ｘ]の合成 ５０％水素化ナトリウム(２.２５g,４６.８mmol)を無水
ジメチルホルムアミド(５０ml)に加え、この溶液にエタ
ンチオール(３.６ml,４７.１mmol)をジメチルホルムア
ミド(５０ml)に溶かした溶液を滴下した。５分撹拌後、
化合物[ＸＩ](３.６g,１０.４mmol)をジメチルホルムア
ミド(５０ml)に溶かした溶液を滴下し、反応溶液を３時
間還流した。室温に冷却後、反応溶液を２Ｎ塩酸で酸性
にし、エーテルで抽出し、エーテル層を飽和食塩水で洗
浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去
して得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(９
０g,ヘキサン／塩化メチレン,１:３)で精製し、化合物
[Ｘ](３.１３g,９０.５％)を得た。

【００５４】ＨＲＭＳ ３３２.２７１１，理論値３３
２.２７１５（Ｃ₂₂Ｈ₃₆Ｏ₂として）. ＩＲ(ＣＨＣl₃)３５００,３３００,１６００,１４６０c
m^-1.¹ Ｈ ＮＭＲ(４００ＭＨz,ＣＤＣl₃):δ０.８９(３Ｈ,t,
Ｊ＝７.１Ｈz),２.０２(４Ｈ,m),２.５１(２Ｈ,t,Ｊ＝
７.７Ｈz),３.７６(３Ｈ,s),５.２９(１Ｈ,s,ＯＨ),５.
３５(２Ｈ,t,Ｊ＝４.６Ｈz),６.２３(１Ｈ,dd,Ｊ＝２.
３,２.３Ｈz),６.２６(１Ｈ,dd,Ｊ＝２.３,２.３Ｈz),
６.３２(１Ｈ,dd,Ｊ＝２.３,２.３Ｈz)．

【００５５】２−ブロモ−５−メトキシ−３−{(Ｚ)−
１０−ペンタデセニル}フェノール[ＸＩ]の合成 化合物[Ｘ](１００mg,０.３mmol)をジメチルホルムアミ
ド(５ml)に溶かした溶液にＮ−ブロモコハク酸イミド
(５３.４mg,０.３mmol)を溶かした溶液を室温で加え、
２０時間撹拌した。反応溶液に水を加え、エーテルで抽
出し、エーテル層を水、飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去して得られた残
渣をシリカゲルクロマトグラフィー(３g,ヘキサン／塩
化メチレン,１:１)で精製し、化合物[ＸＩ](５２mg,４
２％)を得た。

【００５６】ＨＲＭＳ ４１０.１７８８，理論値４１
０.１８２０（Ｃ₂₂Ｈ₃₆Ｏ₂Ｂrとして）． ＥＩＭＳ m／z(rel.int.)４１２(４２),４１０(４２),
３３１(３９),２１８(９７),２１６(１００). ＩＲ(film)３５１２(ＯＨ),３００３cm^-1.¹ Ｈ ＮＭＲ(２００ＭＨz,ＣＤＣl₃):δ０.８９(３Ｈ,t,
Ｊ＝７.１Ｈz),２.６５(２Ｈ,t,Ｊ＝７.８Ｈz),３.７６
(３Ｈ,s),５.３５(２Ｈ,t,Ｊ＝４.４Ｈz),６.３９(１
Ｈ,d,Ｊ＝２.９Ｈz),６.４６(１Ｈ,d,Ｊ＝２.９Ｈ
ｚ）．

【００５７】６−ブロモ−３−メトキシ−５−｛（Ｚ)
−１０−ペンタデセニル}−１,４−ベンゾキノン[ＸＩ
Ｉ]の合成 化合物[ＸＩ](３１８mg)とサルコミン(３１mg)をジメチ
ルホルムアミド(５ml)に溶かした溶液に、室温で酸素気
流下２０時間撹拌した。反応液に水を加えエーテルで抽
出し、エーテル層を水、飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去して得られた残
渣をシリカゲルクロマトグラフィー(１０g,ヘキサン／
酢酸エチル,７:１)で精製すると、原料回収(１８８.３m
g)と化合物[ＸＩＩ](１００.６mg,７５.１％)を得た。

【００５８】mp８９−９１° ＩＲ(ＣＨＣl₃)１６７８,１６３９,１６２８cm^-1. ＨＲＭＳ ４２４.１６３１[Ｍ⁺]，理論値４２４.１６０
１（Ｃ₂₂Ｈ₃₃Ｏ₃Ｂrとして）. ＥＩＭＳ m／z(rel.int.)４２６[Ｍ⁺](５２),４２４(４
７),３４５(２８),２３３(３６),２３１(３６),１９３
(５７),１７９(３０),１５３(１００).¹ Ｈ ＮＭＲ(２００ＭＨz,ＣＤＣl₃):δ０.８９(３Ｈ,t,
Ｊ＝７.１Ｈz),２.６９(２Ｈ,t,Ｊ＝７.７Ｈz),３.８４
(３Ｈ,s),５.３５(２Ｈ,t,Ｊ＝４.３Ｈz),６.０７(１
Ｈ,s).

【００５９】３−メトキシメトキシ−５−{(Ｚ)−１０
−ペンタデセニル}アニソール[ＸＩＩＩ]の合成 化合物[Ｘ](１００mg,０.３mmol)を塩化メチレン(６ml)
に溶かした溶液にクロロメチルメチルエーテル(２６.６
mg,０.３３mmol),ジイソプロピルエチルアミン(４２.７
mg,０.３３mmol)を順次加え１８時間撹拌した。反応溶
液に酢酸エチルを加え、有機層を１０％硫酸銅水、水、
飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶
媒を減圧下留去して得られた残渣をシリカゲルクロマト
グラフィー(３g,ヘキサン／塩化メチレン,１:１)で精製
し、化合物[ＸＩＩＩ](９３.２mg,８２.５％)を得た。

【００６０】ＨＲＭＳ ３７６.２９８４[Ｍ⁺]，理論値
３７６.２９７３（Ｃ₂₄Ｈ₄₀Ｏ₃として）. ＩＲ(film)３００１,１６０１,１４６６cm^-1. ＥＩＭＳ m／z(rel.int.)３７６[Ｍ⁺](１００),１８２
(９３),１３８(１００).¹ Ｈ ＮＭＲ(２００ＭＨz,ＣＤＣl₃):δ０.９０(３Ｈ,t,
Ｊ＝７.４Ｈz),２.５４(２Ｈ,t,Ｊ＝３.３Ｈz),３.４８
(３Ｈ,s),３.７８(３Ｈ,s),５.１５(２Ｈ,s),５.３４
(２Ｈ,s),６.４０(１Ｈ,d,Ｊ＝２.２Ｈz),６.４４(１
Ｈ,t,Ｊ＝２.２Ｈz),６.４７(１Ｈ,d,Ｊ＝２.２Ｈz).

【００６１】ジヒドロキシ−６−メトキシ−２−メトキ
シメトキシ−４−{(Ｚ)−１０−ペンタデセニル}ボラン
[ＸＩＶ]の合成 化合物[ＸＩＩＩ](７０mg,０.１９mmol)をテトラヒドロ
フラン(２ml)に溶かした溶液に１.６Ｍ n−ブチルリチ
ウム(０.１４ml,０.２１mmol)を室温で滴下し、３０分
撹拌後、ホウ酸トリメチル(０.０２４ml,０.２１mmol)
を加えた。更に、３０分撹拌後、水を加えエーテルで抽
出し、エーテル層を０.１Ｎ塩酸、飽和食塩水で洗浄
後、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し
て得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(３g,
ヘキサン／塩化メチレン,１:５)で精製すると、化合物
[ＸＩＶ](４０.６mg,７２.２％)が得られ、かつ原料回
収(１９.６mg)した。

【００６２】ＩＲ３５３３cm^-1．¹ Ｈ−ＮＭＲ(２００ＭＨz,ＣＤＣl₃):δ０.８６−０.９
３(m),１.２２−１.３３(m),１.５７−１.６５(m),１.
９７−２.０３(m),２.５９(２Ｈ,t,Ｊ＝７.７Ｈz),３.
５１(３Ｈ,s),３.９１(３Ｈ,s),５.２８(２Ｈ,s),５.３
５(２Ｈ,t,Ｊ＝５.４Ｈz),６.４９(２Ｈ,bs),６.６６
(１Ｈ,d,Ｊ＝１.７Ｈz),７.１７(１Ｈ,d,Ｊ＝１.７Ｈ
ｚ）．

【００６３】２−メトキシ−６−｛（Ｚ)−１０−ペン
タデセニル}−５−[６−メトキシ−２−メトキシメトキ
シ−４−{(Ｚ)−１０−ペンタデセニル}フェニル]−１,
４−ベンゾキノン[ＸＶ]の合成 アルゴン気流下でテトラキストリフェニルホスフィンパ
ラジウム(８.７mg)を入れたナスフラスコに、化合物[Ｘ
ＩＩ](５９mg,０.１４mmol)をテトラヒドロフラン(１m
l)に溶かした溶液、２Ｍ炭酸ナトリウム溶液(０.２８m
l)、化合物[ＸＩＶ(６１mg,０.１５mmol)をテトラヒド
ロフラン(１ml)に溶かした溶液を順次室温で加え、反応
溶液を１１時間還流した。酢酸エチルを加え、水、飽和
食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を
減圧下留去して得られた残渣をシリカゲルクロマトグラ
フィー(１０g，ヘキサン／塩化メチレン,１:３)で精製
し、化合物[ＸＶ](３６mg,３６％)を得た。

【００６４】ＨＲＭＳ ７２０.５３２５[Ｍ⁺]，理論値
７２０.５３２９（Ｃ₄₆Ｈ₇₂Ｏ₆として）. ＥＩＭＳ m／z(rel.int.)７２０(１００),６８８(４
０),６７５(３６).¹ Ｈ ＮＭＲ(２００ＭＨz,ＣＤＣl₃):δ０.９０(３Ｈ,t,
Ｊ＝７.０Ｈz),０.９２(３Ｈ,t,Ｊ＝７.０Ｈz),２.２５
(２Ｈ,m),２.５５(１Ｈ,t,Ｊ＝７.７Ｈz),２.６０(１
Ｈ,t,Ｊ＝７.７Ｈz),３.３６(３Ｈ,s),３.７０(３Ｈ,
s),３.８３(３Ｈ,s),５.０４(２Ｈ,s),５.３６(４Ｈ,
m),５.９６(１Ｈ,s),６.４９(１Ｈ,d,Ｊ＝１.７Ｈz),
６.６３(１Ｈ,d,Ｊ＝１.７Ｈz).

【００６５】ベラムカンダキノンＡの合成 化合物[ＸＶ](３５mg)をエタノール(２ml)に溶かし、４
８％臭化水素酸を２滴加えた。反応溶液を６５℃で１時
間加熱後、水を加え、エーテルで抽出し、エーテル層を
飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄後、
硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去して得
られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(１０g,酢
酸エチル／塩化メチレン,１:１０)で精製し、目的とす
る化合物(１１mg)を得た。¹Ｈ ＮＭＲ,ＩＲ,ＭＳがベラ
ムカンダキノンＡと一致した。

【００６６】ジヒドロキシ−４−メトキシ−２−メトキ
シメトキシ−６−{(Ｚ)−１０−ペンタデセニル}ボラン
[ＸＶＩＩ]の合成 化合物[ＸＩ]からクロロメチルメチルエーテルとジイソ
プロピルエチルアミンで得られた化合物[ＸＶＩ](１０
１mg,０.２２mmol)をテトラヒドロフラン(２ml)にとか
した溶液を−７８℃に冷却し、この溶液に１.６５Ｍ n
−ブチルリチウム(０.１６ml,０.２４mmol)を滴下し
た。反応溶液を３０分撹拌後、ホウ酸トリメチル(０.０
２７ml,０.２４mmol)を滴下し、さらに室温で１時間撹
拌した。水を加え、エーテルで抽出し、エーテル層を
０.１Ｎ塩酸、飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウム
で乾燥した。溶媒を減圧下留去して得られた残渣をシリ
カゲルクロマトグラフィー(１０g,酢酸エチル／ヘキサ
ン,１:５)で精製し、化合物[ＸＶＩＩ](５０mg,５４％)
を得た。

【００６７】¹Ｈ−ＮＭＲ(２００ＭＨz,ＣＤＣl₃):δ
０.８９(３Ｈ,t,Ｊ＝６.８Ｈz),１.２８−１.３８(m),
１.５６−１.６１(m),２.００−２.０５(m),２.８５(２
Ｈ,t,Ｊ＝７.５Ｈz),３.４９(３Ｈ,s),３.８１(３Ｈ,
s),５.２２(２Ｈ,s),５.３５(２Ｈ,t,Ｊ＝４.４Ｈz),
６.４６(１Ｈ,d,Ｊ＝２.２２Ｈz),６.５３(１Ｈ,d,Ｊ＝
２.２２Ｈz)

【００６８】ベラムカンダキノンＢの合成 アルゴン気流下でテトラキストリフェニルホスフィンパ
ラジウム(７.５mg)を入れたナスフラスコに、化合物[Ｘ
ＩＩ](５５mg,０.１３mmol)をテトラヒドロフラン(１m
l)に溶かした溶液、２Ｍ炭酸ナトリウム水溶液(０.２４
ml)、化合物[ＸＶＩＩ](６２mg,０.１５mmol)をテトラ
ヒドロフラン(１ml)に溶かした溶液を順次室温で加え反
応溶液を１１時間還流した。酢酸エチルを加え、水、飽
和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒
を減圧下留去して得られた残渣をシリカゲルクロマトグ
ラフィー(１０g.ヘキサン／塩化メチレン,１:３)で精製
し、化合物[ＸＶＩＩＩ](４.１mg)を得た。化合物[ＸＶ
ＩＩＩ](４.１mg)をメタノール(１ml)に溶かし、４８％
臭化水素酸(２滴)を加え、６５℃で撹拌した。水を加
え、エーテルで抽出し、エーテル層を飽和炭酸水素ナト
リウム水溶液、飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウム
で乾燥した。溶媒を減圧下留去して得られた残渣を薄層
クロマトグラフィー(０.２５mm,塩化メチレン／酢酸エ
チル,１５:１)分取し、目的とする化合物(１.１mg)を得
た。¹Ｈ ＮＭＲ,ＩＲは天然物のベラムカンダキノンＢ
と一致した。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 下記一般式[Ｉ] 【化１】 {式中、Ｒ¹は−(ＣＨ₂)mＣＨ＝ＣＨ(ＣＨ₂)nＣＨ₃(mは
   ２〜１５の整数、nは１〜５の整数を表わす)、Ｒ²、Ｒ³
   は一方がメトキシ基を表わし、他方がＲ¹と同じ置換基
   を表わす}で表わされる１,４−ベンゾキノン誘導体。