JPH052161A - 液晶表示装置 - Google Patents
液晶表示装置Info
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- JPH052161A JPH052161A JP3154608A JP15460891A JPH052161A JP H052161 A JPH052161 A JP H052161A JP 3154608 A JP3154608 A JP 3154608A JP 15460891 A JP15460891 A JP 15460891A JP H052161 A JPH052161 A JP H052161A
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Abstract
コントラスト向上のためのブラックマスクを設けた液晶
表示装置に関し、遮光膜周辺すなわち電極エッジ周辺で
の光漏れをなくしコントラストのよい液晶表示装置を提
供することを目的とする。 【構成】 液晶表示装置において、互いに対向して所定
間隔をもって配置された第1と第2の透明基板(61,
65)と、第1の透明基板の第2の透明基板との対向面
上に配置され、所定の電極パターンを有する第1の透明
電極(62)と第2の透明基板の第1の透明基板との対
向面上に配置され、所定の電極パターンを有する第2の
透明電極(64)と、第1と第2の透明基板の対向面の
間に配置された複屈折制御型の液晶層(63)と、第2
の透明基板の第1の透明基板との対向面で第2の透明電
極がない部分に配置された非導電性の遮光膜(66)と
を有し、遮光膜は隣接する第2の透明電極の周辺縁を所
定の幅(661)をもって覆うように配置された構成で
ある。
Description
詳しくは、電圧制御複屈折型液晶を使用し、コントラス
ト向上のためのブラックマスクを設けた液晶表示装置の
改良された構造に関する。
構造を示す。図6の構成は、液晶分子の長軸方向が電極
面にほぼ垂直に配向したいわゆるホメオトロピック配向
した液晶セルで構成されている。
をおいて対向配置された2枚の透明ガラス基板21,2
5と、ガラス基板21,25の互いの対向面上に形成さ
れた透明電極22,24と、画素表示部以外での光透過
を防止してコントラストを向上させるためのブラックマ
スクと呼ばれる遮光膜26と、透明電極間に挟まれた液
晶23とを有する。液晶セル20の上下には偏光方向が
互いに直交する偏光板10,30が配置される。
0上に示した矢印A,Bはそれぞれ偏光軸の方向を示
す。液晶分子23はその長軸方向が光軸zにほぼそろっ
て(ホメオトロピック)配向されるが、応答性の向上の
ため等により若干傾きを設けて(プレチルト)配向され
ている。
6のy方向であり、偏光板10、30の偏光軸と約45
度の角度を形成している。図7にはz軸方向から見た液
晶分子23のプレチルト方向を示す。
ら光軸zにそって光が入射すると、入射光は偏光板10
によりA方向の直線偏光となり、液晶セル20に入射す
る。プレチルト量を無視すれば、液晶分子23はほぼz
軸に垂直に配向されているためA軸方向の直線偏光はそ
のまま通過し、A軸とは直交するB軸の偏光軸を有する
偏光板30で透過を阻止されて、表示は暗状態となる。
る電圧を印加してやれば、液晶分子23の配向は電界に
より傾けられ、光軸zに対し所定の角度をなす。従っ
て、液晶セル20に入射した直線偏光は互いに直交する
2成分に複屈折して、B軸方向に平行な成分の偏光が偏
光板30を透過して表示は明状態となる。
らみた、液晶分子23の閾値電圧付近(以下)の配向状
態を示す。図8における点線と実線はセグメント電極2
2とコモン電極24の位置を示す。図8において液晶分
子23の黒い点は長軸の一方の頭部を示しており分子の
傾き方向を表している。
分子は光軸方向に配向しているが、電極周辺箇所の液晶
分子は光軸にたいしてすでに傾きをもっている。これは
閾値電圧に達する以前にすでに光透過がブラックマスク
の近傍で生じていることを示すものである。
の様子を示す。図9はモノクローム液晶表示装置の液晶
セルの断面構造である。図9において、41,45は透
明ガラス基板、42,44はITOによる透明電極、4
3は液晶層、46はブラックマスクである。
る。図9における液晶セルの中央部では、上下のITO
電極により電界はほぼ平行にそろっているため、液晶分
子431は閾値電圧以下では傾かず、垂直配向のままで
ある。
た部分では、下の電極44が切れており、ブラックマス
ク46は非導電体であるためにこの電極エッジ部分では
図のように電界が曲がり電界集中が生じる。
32は閾値電圧以下の低い電圧でも傾き始める。この傾
き方向は、偏光板の偏光方向に対し45°の角度であ
る。このため、閾値以下のOFF電圧(暗状態)印加時
においても画素の周辺部、すなわちブラックマスクの近
傍で光漏れが生じて、結果的にコントラストの低下をき
たす。
断面構造である。図10において、51,56は透明ガ
ラス基板、52,54,55はITOによる透明電極、
53は液晶層、57はブラックマスク、58はカラーフ
ィルタである。この場合における電界と液晶分子の関係
は図9の場合と同様であり、画素周辺での光漏れを生じ
る。
示装置において、上記したような遮光膜すなわちブラッ
クマスク周辺での光漏れをなくしコントラストのよい液
晶表示装置を提供することにある。
に、本発明による液晶表示装置においては、互いに対向
して所定間隔をもって配置された第1と第2の透明基板
と、第1の透明基板の第2の透明基板との対向面上に配
置され、所定の電極パターンを有する第1の透明電極と
第2の透明基板の第1の透明基板との対向面上に配置さ
れ、所定の電極パターンを有する第2の透明電極と、第
1と第2の透明基板の対向面の間に配置された複屈折制
御型の液晶層と、第2の透明基板の第1の透明基板との
対向面で第2の透明電極がない部分に配置された非導電
性の遮光膜とを有し、遮光膜は隣接する第2の透明電極
の周辺縁を所定の幅をもって覆うように配置される。
で覆うことにより、そこの電極エッジ部の斜め電界が抑
制されて液晶分子が傾きにくくする。さらに、たとえ、
電極エッジ部で液晶分子が若干傾いても、その部分はブ
ラックマスクが覆っているために光漏れを阻止する。
の実施例を図1〜図4を参照して説明する。
晶表示装置におけるモノクローム液晶セルの実施例の断
面構造と、閾値電圧付近(以下)のOFF電圧印加時の
電界の様子を示す。
板、62,64はITOによる透明電極、63は液晶
層、66は誘電率の小さな材料からなるブラックマスク
である。誘電率が大きいと液晶層により大きな電圧が印
加されてしまうので、液晶の比誘電率と比較してあまり
比誘電率が大きくないブラックマスク材料を用いる。
比誘電率約3.0のものを用いる。なお、この時、液晶
の比誘電率は2.5である。
る。図9の従来の技術による液晶セルと異なる点は、ブ
ラックマスク66が隣接するITO電極64のエッジ部
の上をオーバラップ部661で覆っていることである。
のITO電極により電界はほぼ平行にそろっているた
め、液晶分子631は閾値電圧以下では傾かず、垂直配
向のままである。ところが、ブラックマスク66が配置
された電極エッジ部分では図のように電界が曲がり斜め
電界となる。しかし、誘電率の小さなブラックマスクの
オーバーラップ部661がITO電極61のエッジ部上
に配置され、最も電界集中の強い領域を占有する。
マスクとが容量分割する。ブラックマスクの誘電率が小
さいほどブラックマスク層の容量が小さくなり、ブラッ
クマスクに印加される電圧が増大する。このため、液晶
僧尼印加される電圧が減少する。液晶は電圧応答のた
め、斜め電界による液晶分子632の傾きを少ないもの
にする。
ラップ部61で遮光されるために、液晶分子632の傾
きによる光漏れを阻止する。
示装置におけるカラー表示液晶セルの実施例の断面構造
と、閾値電圧付近(以下)のOFF電圧印加時の電界の
様子を示す。
板、72,74,75はITOによる透明電極、73は
液晶層、77はブラックマスク、78はカラーフィルタ
である。この場合における電界と液晶分子の関係は図1
の場合と同様であり、電極エッジ部の画素周辺での光漏
れはブラックマスクのオーバッラップ部771が阻止す
る。オーバラップ部の幅はセルギャップ以上とし、かつ
開口率を減らさないように、なるべく小さな値とするこ
とが好ましい。もちろん、アライメントのマージンは必
要である。
ても、画素パターン幅が100μm、隣接画素パターン
間隔が20μmで液晶セルギャップが5μmとした場合
のブラックマスクのオーバラップ部の幅は10μm程度
が適当である。
のブラックマスク66を形成する基板の製造方法につい
て図3と図4を参照して説明する。
うに、ITO透明電極64をパターニングしたガラス基
板65上にスピンコート等により感光性遮光膜660を
塗布する。次に、フォトマスク80を用いて、電極64
の間隙およびその周囲の領域を露光する。
(B)に示すようなブラックマスク66が形成される。
このブラックマスク66は透明電極65上に所定幅延在
するオーバーラップ部661を有する。
に、ITO透明電極64をパターニングしたガラス基板
65上にレジスト層70を塗布し、図4(B)に示すよ
うに、フォトリソグラフィ工程によりITO電極のパタ
ーン幅よりも狭い幅(オーバラップ部の幅だけ狭くす
る)でパターニングしたレジスト層70を形成する。
パターニングしたレジスト層70を遮光性の膜に変化さ
せる。
遮光膜660をその上からスクリーン印刷等で塗布し、
図4(D)に示すように、ガラス背面より露光し、現像
してレジスト層70上の感光性遮光膜660を除去し、
ブラックマスク660を形成し、最後に図4(E)に示
すように、残ったレジスト層70を剥離する。
スクを形成することができる。なお、ブラックマスクの
形式等については、特願平3−68896号記載の技術
を用いることができる。
発明による液晶セルでの光透過率対電圧特性を比較した
グラフを示す。
ブが本願発明の実施例による液晶セルの特性である。図
5の特性で明らかなように、本願発明の実施例によるも
のの方がブラックマスクのオーバーラップ部の効果によ
り光透過率の立ち上がり前の領域が広く、透過率─電圧
特性がより急峻になっている。従って、閾値電圧付近の
OFF電圧印加時でも充分遮光し、コントラストが向上
できることがわかる。
明電極のエッジ部を所定の幅で覆うことにより、液晶分
子の傾きを防止し、たとえ、電極エッジ部で液晶分子が
若干傾いても、その部分は遮光膜が覆っているために光
漏れを阻止する。
膜を形成することにより、電極エッジ部の斜め電界が抑
制されて液晶分子が傾きにくくする。
る。
界の様子を示す図である。
と電界の様子を示す図である。
例を説明する図である。
別の一例を説明する図である。
対電圧特性を比較するグラフである。
晶表示装置のセル構造を示す図である。
示す図である。
様子を示す図である。
電界の様子を示す図である。
1,76 ガラス基板 22,24,42,44,52,54,55,62,6
4,72,74,75透明電極 23,43,53,63,73 液晶層 26,46,57,66,77 ブラックマスク(遮光
膜) 661,771オーバーラップ部
Claims (2)
- 【請求項1】 互いに対向して所定間隔をもって配置さ
れた第1と第2の透明基板と、前記第1の透明基板の前
記第2の透明基板との対向面上に配置され、所定の電極
パターンを有する第1の透明電極と、前記第2の透明基
板の前記第1の透明基板との対向面上に配置され、所定
の電極パターンを有する第2の透明電極と、前記第1と
第2の透明基板の前記対向面の間に配置された複屈折制
御型の液晶層と、前記第2の透明基板の前記第1の透明
基板との対向面で前記第2の透明電極がない部分に配置
された非導電性の遮光膜とを有し、前記遮光膜は隣接す
る前記第2の透明電極の周辺縁を所定の幅をもって覆う
ように配置されたことを特徴とする電圧制御複屈折型液
晶表示装置。 - 【請求項2】 前記第2の透明電極の上を覆う隣接する
前記遮光膜の間にカラーフィルタを配置したことを特徴
とする請求項1記載の電圧制御複屈折型液晶表示装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3154608A JP2791998B2 (ja) | 1991-06-26 | 1991-06-26 | 液晶表示装置 |
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---|---|
JPH052161A true JPH052161A (ja) | 1993-01-08 |
JP2791998B2 JP2791998B2 (ja) | 1998-08-27 |
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