JPH05215921A - 複屈折板及び液晶表示素子 - Google Patents
複屈折板及び液晶表示素子Info
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- JPH05215921A JPH05215921A JP4154055A JP15405592A JPH05215921A JP H05215921 A JPH05215921 A JP H05215921A JP 4154055 A JP4154055 A JP 4154055A JP 15405592 A JP15405592 A JP 15405592A JP H05215921 A JPH05215921 A JP H05215921A
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- birefringent plate
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Abstract
(57)【要約】
【目的】複屈折板による干渉色補償効果が画面内で均一
で、色むら等のない見栄えの良い液晶表示素子を得る。 【構成】液晶表示素子の干渉色補償用の複屈折板とし
て、基板１１上に液晶性モノマー１４等の液晶性化合物
からなる層を形成し、磁場、電場、基板配向処理によっ
て所定の方向に配向させ、その配向状態を固定して形成
してなる複屈折板を用いることを特徴とする液晶表示素
子。
で、色むら等のない見栄えの良い液晶表示素子を得る。 【構成】液晶表示素子の干渉色補償用の複屈折板とし
て、基板１１上に液晶性モノマー１４等の液晶性化合物
からなる層を形成し、磁場、電場、基板配向処理によっ
て所定の方向に配向させ、その配向状態を固定して形成
してなる複屈折板を用いることを特徴とする液晶表示素
子。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、液晶表示素子に関する
ものである。
ものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、両電極間の液晶分子のツイスト角
を大きくして、鋭い電圧−透過率変化を起し、高密度の
ドットマトリクス表示をする方法として、スーパーツイ
スト素子［ T.J.Scheffer and J.Nehring ,Appl.,Phy
s.,Lett.45 (10) 1021-1023 (1984)］が知られていた。
を大きくして、鋭い電圧−透過率変化を起し、高密度の
ドットマトリクス表示をする方法として、スーパーツイ
スト素子［ T.J.Scheffer and J.Nehring ,Appl.,Phy
s.,Lett.45 (10) 1021-1023 (1984)］が知られていた。
【０００３】しかし、この方法は用いられる液晶表示素
子の液晶の屈折率異方性△ｎと液晶層の厚みｄとの積△
ｎ・ｄの値が実質的に０．８〜１．２μｍの間にあり
（特開昭６０−１０７２０号）、表示色として、黄緑色
と暗青色、青紫色と淡黄色等、特定の色相の組み合せで
のみ、良いコントラストが得られていた。
子の液晶の屈折率異方性△ｎと液晶層の厚みｄとの積△
ｎ・ｄの値が実質的に０．８〜１．２μｍの間にあり
（特開昭６０−１０７２０号）、表示色として、黄緑色
と暗青色、青紫色と淡黄色等、特定の色相の組み合せで
のみ、良いコントラストが得られていた。
【０００４】このようにこの液晶表示素子では白黒表示
ができなかったことにより、マルチカラーフィルターと
組合せて、マルチカラーまたはフルカラー表示ができな
い欠点があった。
ができなかったことにより、マルチカラーフィルターと
組合せて、マルチカラーまたはフルカラー表示ができな
い欠点があった。
【０００５】一方、同様な方式を使用し、液晶の屈折率
異方性と厚みとの積△ｎ・ｄを０．６μｍ付近と小さく
設定することにより、ほぼ白と黒に近い表示が得られる
方式が提案されている（ M.Schadt et al,Appl.Phys.Le
tt.50(5)、1987,p.236 ）。
異方性と厚みとの積△ｎ・ｄを０．６μｍ付近と小さく
設定することにより、ほぼ白と黒に近い表示が得られる
方式が提案されている（ M.Schadt et al,Appl.Phys.Le
tt.50(5)、1987,p.236 ）。
【０００６】しかし、この方式を使用した場合において
は表示が暗く、かつ、最大コントラストがあまり大きく
なく、青みを帯びるため、表示の鮮明度に欠ける欠点が
あった。
は表示が暗く、かつ、最大コントラストがあまり大きく
なく、青みを帯びるため、表示の鮮明度に欠ける欠点が
あった。
【０００７】また、白黒表示でかつコントラストの高い
液晶表示素子として、互いに逆らせんの液晶セルを２層
積層し、一方のセルのみ電圧を印加し、他方のセルは単
なる光学的な補償板として使用する方式が提案されてい
る［奥村ほか、テレビジョン学会技術報告、11(27),p.7
9(1987) ］。
液晶表示素子として、互いに逆らせんの液晶セルを２層
積層し、一方のセルのみ電圧を印加し、他方のセルは単
なる光学的な補償板として使用する方式が提案されてい
る［奥村ほか、テレビジョン学会技術報告、11(27),p.7
9(1987) ］。
【０００８】しかし、この方式は２層セルでの△ｎ・ｄ
のマッチングが非常に厳しく、歩留りの向上が困難なう
え、液晶セルが２層必要なため、液晶セルの薄く軽いと
いう特長を犠牲にしている欠点があった。
のマッチングが非常に厳しく、歩留りの向上が困難なう
え、液晶セルが２層必要なため、液晶セルの薄く軽いと
いう特長を犠牲にしている欠点があった。
【０００９】これらの問題を解決するために、ほぼ平行
に配置された配向制御膜を有する一対の透明電極付きの
基板間に挟持された旋光性物質を含有した誘電異方性が
正のネマチック液晶によるねじれ角が１６０〜３００°
の液晶層と、この液晶層を挟持する上下の基板の透明電
極間に電圧を印加する駆動手段とを有し、この液晶層の
外側に少なくとも１枚の複屈折板と一対の偏光板を設置
した液晶表示素子が提案されている。
に配置された配向制御膜を有する一対の透明電極付きの
基板間に挟持された旋光性物質を含有した誘電異方性が
正のネマチック液晶によるねじれ角が１６０〜３００°
の液晶層と、この液晶層を挟持する上下の基板の透明電
極間に電圧を印加する駆動手段とを有し、この液晶層の
外側に少なくとも１枚の複屈折板と一対の偏光板を設置
した液晶表示素子が提案されている。
【００１０】これによれば、従来の二層式スーパーツイ
スト液晶表示素子と比べてより薄く、軽くてコンパクト
な白黒表示液晶素子が得られる。
スト液晶表示素子と比べてより薄く、軽くてコンパクト
な白黒表示液晶素子が得られる。
【００１１】一方、ホモジニアス配向した液晶層を用い
て、その複屈折効果を利用したいわゆるＥＣＢ液晶素子
についても、これを白黒化するために上記の複屈折板を
用いることが提案されている。このように液晶素子に複
屈折板を組み合せて用いることには、様々な用途があ
る。
て、その複屈折効果を利用したいわゆるＥＣＢ液晶素子
についても、これを白黒化するために上記の複屈折板を
用いることが提案されている。このように液晶素子に複
屈折板を組み合せて用いることには、様々な用途があ
る。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】かかる複屈折板を製造
する方法として、従来にはいわゆる精密熱プレス法が知
られている。
する方法として、従来にはいわゆる精密熱プレス法が知
られている。
【００１３】しかしながら、この方法によるフィルム
は、大面積のものは面内方向に光軸が生じるため、一様
な屈折率を得にくく、表示むらの原因となるという欠点
を抱えている。また、液晶表示素子の製造上からも、複
屈折板をセル表面に貼りあわす工程が必要であり、工程
数が多くなるのみならず、貼り付けの不均一に起因する
表示むらを防ぐことはきわめて難しい。
は、大面積のものは面内方向に光軸が生じるため、一様
な屈折率を得にくく、表示むらの原因となるという欠点
を抱えている。また、液晶表示素子の製造上からも、複
屈折板をセル表面に貼りあわす工程が必要であり、工程
数が多くなるのみならず、貼り付けの不均一に起因する
表示むらを防ぐことはきわめて難しい。
【００１４】また、このような複屈折板において、ｎx
＞ｎz ＞ｎy （ｘ、ｙは面内、ｚは厚さ方向の屈折率）
というものを用いて広視角化すること、ｎx ＞ｎz ＝ｎ
y といういわゆる負の一軸性の複屈折板と、通常の正の
一軸性の複屈折板とを組み合わせることにより、広視角
化する提案がなされている（特開平２−２６４９１９
号、特開平２−２９１５１９号）。
＞ｎz ＞ｎy （ｘ、ｙは面内、ｚは厚さ方向の屈折率）
というものを用いて広視角化すること、ｎx ＞ｎz ＝ｎ
y といういわゆる負の一軸性の複屈折板と、通常の正の
一軸性の複屈折板とを組み合わせることにより、広視角
化する提案がなされている（特開平２−２６４９１９
号、特開平２−２９１５１９号）。
【００１５】前者のような複屈折板で均一性の高いもの
を得ることはきわめて難しい。また、後者のような場合
においても、貼り合せの工程が多くなることにより、貼
り付けの不均一の問題が大きい。
を得ることはきわめて難しい。また、後者のような場合
においても、貼り合せの工程が多くなることにより、貼
り付けの不均一の問題が大きい。
【００１６】
【課題を解決するための手段】本発明は前記の問題点を
解決すべくなされたものであり、基板上に硬化時に液晶
性を示す化合物を含む組成物からなる層を形成した後、
磁場または電場によって所定の方向に配向させつつ硬化
を行い、その配向状態を固定して形成してなる複屈折
板、及び、表面を配向処理した一対の基板間に硬化時に
液晶性を示す化合物を含む組成物からなる層を挟持し
て、該液晶性を示す化合物を配向させて硬化を行い、そ
の配向状態を固定して形成してなる複屈折板、並びにそ
れを用いた液晶表示素子を提供するものである。
解決すべくなされたものであり、基板上に硬化時に液晶
性を示す化合物を含む組成物からなる層を形成した後、
磁場または電場によって所定の方向に配向させつつ硬化
を行い、その配向状態を固定して形成してなる複屈折
板、及び、表面を配向処理した一対の基板間に硬化時に
液晶性を示す化合物を含む組成物からなる層を挟持し
て、該液晶性を示す化合物を配向させて硬化を行い、そ
の配向状態を固定して形成してなる複屈折板、並びにそ
れを用いた液晶表示素子を提供するものである。
【００１７】ここで、液晶性化合物とはそのものが単独
で液晶性を示すもの、組成物として液晶性を示すものの
いずれでもよい。少なくとも基板上に膜形成する時点で
は流動性を有する必要がある。液晶モノマー、オリゴマ
ーもしくはその混合物、ないしは高分子液晶などで加熱
もしくは溶剤に溶解するなどして流動性を持たせるよう
にしたものがある。液晶性モノマー、オリゴマーとは光
やラジカル触媒によって重合できる液晶性化合物であ
る。また、その配向状態を固定するためには、液晶モノ
マー等の場合は光等のエネルギー照射などにより重合さ
せてポリマーとする方法が採用できる。一方、高分子性
液晶の場合は温度降下、溶媒揮散により配向状態が固定
される。
で液晶性を示すもの、組成物として液晶性を示すものの
いずれでもよい。少なくとも基板上に膜形成する時点で
は流動性を有する必要がある。液晶モノマー、オリゴマ
ーもしくはその混合物、ないしは高分子液晶などで加熱
もしくは溶剤に溶解するなどして流動性を持たせるよう
にしたものがある。液晶性モノマー、オリゴマーとは光
やラジカル触媒によって重合できる液晶性化合物であ
る。また、その配向状態を固定するためには、液晶モノ
マー等の場合は光等のエネルギー照射などにより重合さ
せてポリマーとする方法が採用できる。一方、高分子性
液晶の場合は温度降下、溶媒揮散により配向状態が固定
される。
【００１８】かかる液晶性モノマーとしては例えば、 C
nH2n+1−Ph−Ph−CN、 CnH2n+1−Cy−Ph−CN、 CnH2n+1
−Ph−COO −Ph−CN、 CnH2n+1−Ph−COO −Ph(F) −C
N、 CnH2n+1−Cy−COO −Ph−O( CmH2m+1）、 CnH2n+1
−Cy−Ph−O( CmH2m+1) 、 CnH2n+1−Cy−Ph−Ph−CmH
2m+1 、 CnH2n+1−Cy−C2H4−Ph−Ph(F) −CmH2m+1 （P
hはベンゼン環、Cyはシクロヘキサン環、またPh(F) は
ベンゼン環の Hの１つが Fと置換したものを示す）等に
重合基を化学的に付加、または置換した化合物を使用す
ることができる。
nH2n+1−Ph−Ph−CN、 CnH2n+1−Cy−Ph−CN、 CnH2n+1
−Ph−COO −Ph−CN、 CnH2n+1−Ph−COO −Ph(F) −C
N、 CnH2n+1−Cy−COO −Ph−O( CmH2m+1）、 CnH2n+1
−Cy−Ph−O( CmH2m+1) 、 CnH2n+1−Cy−Ph−Ph−CmH
2m+1 、 CnH2n+1−Cy−C2H4−Ph−Ph(F) −CmH2m+1 （P
hはベンゼン環、Cyはシクロヘキサン環、またPh(F) は
ベンゼン環の Hの１つが Fと置換したものを示す）等に
重合基を化学的に付加、または置換した化合物を使用す
ることができる。
【００１９】また、この場合の重合基としてはアクリル
基、メタクリル基の他、α−クロロアクリレート基、ス
チリル基、ビニル基、ビニルエステル基、ビニルケトン
基などを挙げることができる。
基、メタクリル基の他、α−クロロアクリレート基、ス
チリル基、ビニル基、ビニルエステル基、ビニルケトン
基などを挙げることができる。
【００２０】液晶モノマーとして、光重合性のものを用
いる場合、通常、液晶性を乱さない範囲において光開始
剤を加えておくことができる。かかる光開始剤として
は、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ミヒラーケト
ン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインエーテル、ベン
ジルエーテル、ベンジルジメチルケタール、チオキサン
トン及びこれらの誘導体を挙げることができる。
いる場合、通常、液晶性を乱さない範囲において光開始
剤を加えておくことができる。かかる光開始剤として
は、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ミヒラーケト
ン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインエーテル、ベン
ジルエーテル、ベンジルジメチルケタール、チオキサン
トン及びこれらの誘導体を挙げることができる。
【００２１】高分子性液晶としては、サーモトロピック
型とライオトロピック型のいずれをも用いることができ
る。サーモトロピック型の場合は加熱して、ライオトロ
ピック型の場合は溶媒に溶かすことにより、流動性を持
たせ、自由に配向できるようになる。サーモトロピック
型の例としては、ポリメタクリレート系のH(CH2CH(C
H3))n-COO(CH2)2-O-Ph-COO-Ph-Ph-CN、また、ライオト
ロピック型の例としては、ポリ−γ−ベンジル−Ｌ−グ
ルタメート等が挙げられる。
型とライオトロピック型のいずれをも用いることができ
る。サーモトロピック型の場合は加熱して、ライオトロ
ピック型の場合は溶媒に溶かすことにより、流動性を持
たせ、自由に配向できるようになる。サーモトロピック
型の例としては、ポリメタクリレート系のH(CH2CH(C
H3))n-COO(CH2)2-O-Ph-COO-Ph-Ph-CN、また、ライオト
ロピック型の例としては、ポリ−γ−ベンジル−Ｌ−グ
ルタメート等が挙げられる。
【００２２】これら高分子性液晶、液晶性モノマーはそ
のままあるいは粘度を１００ｃｐｓ以上１００００ｃｐ
ｓ以下にするために液晶性ポリマー、溶剤、非液晶性ポ
リマーと混合して基板上に塗布される。その厚みは所望
の複屈折により異なるが、１〜１００μｍが好ましい。
のままあるいは粘度を１００ｃｐｓ以上１００００ｃｐ
ｓ以下にするために液晶性ポリマー、溶剤、非液晶性ポ
リマーと混合して基板上に塗布される。その厚みは所望
の複屈折により異なるが、１〜１００μｍが好ましい。
【００２３】このようにして塗布された膜の分子の配向
を制御する手段としては、例えば、磁場を用いるものが
ある。その方法を示したのが図１である。液晶性モノマ
ー１４が正の磁化率異方性を有するときは所望の傾きを
θとすると、基板１１を磁石１２、１３の磁力線の向き
から角度θだけ傾ける。磁場の強度は５Ｋガウス程度以
上が好ましい。液晶性モノマー１４の重合は、磁場中で
行ってもよいし、磁場から取り出して別に行ってもよ
い。重合は、光重合可能な液晶性モノマーを使用して光
重合により行なう方法が、簡便でかつ配向性が乱れにく
い利点がある。
を制御する手段としては、例えば、磁場を用いるものが
ある。その方法を示したのが図１である。液晶性モノマ
ー１４が正の磁化率異方性を有するときは所望の傾きを
θとすると、基板１１を磁石１２、１３の磁力線の向き
から角度θだけ傾ける。磁場の強度は５Ｋガウス程度以
上が好ましい。液晶性モノマー１４の重合は、磁場中で
行ってもよいし、磁場から取り出して別に行ってもよ
い。重合は、光重合可能な液晶性モノマーを使用して光
重合により行なう方法が、簡便でかつ配向性が乱れにく
い利点がある。
【００２４】また、磁場と同様に配向制御の手段として
電場を用いることもできる。配向力として電場をかける
ために、基板としては導電性のある金属板、あるいは、
透明導電膜つき基板をもちいて液晶を塗布するか、挟持
することが好ましい。コロナ放電を用いることもでき
る。磁場を使う場合は基板の種類を問わない。使用する
液晶の、誘電率異方性、磁化率異方性が正の場合は、電
場、磁場の方向に配向し、負の場合は垂直に配向する。
電場を用いることもできる。配向力として電場をかける
ために、基板としては導電性のある金属板、あるいは、
透明導電膜つき基板をもちいて液晶を塗布するか、挟持
することが好ましい。コロナ放電を用いることもでき
る。磁場を使う場合は基板の種類を問わない。使用する
液晶の、誘電率異方性、磁化率異方性が正の場合は、電
場、磁場の方向に配向し、負の場合は垂直に配向する。
【００２５】基板の配向処理による場合、基板の配向処
理の方法は多岐にわたる。複屈折板の用途、所望の複屈
折等により、基板に対して平行、垂直、斜めなどの配向
を施すことができる。平行配向方法としては、ポリイミ
ドのような有機ポリマーを塗布しラビングする方法、ラ
ングミュアプロジェット膜を用いる方法、平行配向を生
じる配向剤を塗布する方法などが挙げられる。垂直配向
法としては長鎖アルキル基を有するシランカップリング
剤を塗布する方法などが挙げられる。斜め配向方法とし
ては、一酸化珪素の斜め蒸着法や比較的高チルト角のＳ
ＴＮ用配向膜を用いる方法、ポリイミド膜のエージング
処理による方法がある。。
理の方法は多岐にわたる。複屈折板の用途、所望の複屈
折等により、基板に対して平行、垂直、斜めなどの配向
を施すことができる。平行配向方法としては、ポリイミ
ドのような有機ポリマーを塗布しラビングする方法、ラ
ングミュアプロジェット膜を用いる方法、平行配向を生
じる配向剤を塗布する方法などが挙げられる。垂直配向
法としては長鎖アルキル基を有するシランカップリング
剤を塗布する方法などが挙げられる。斜め配向方法とし
ては、一酸化珪素の斜め蒸着法や比較的高チルト角のＳ
ＴＮ用配向膜を用いる方法、ポリイミド膜のエージング
処理による方法がある。。
【００２６】以上説明したような方法を用いて、配向が
なされたらその状態を固定する。光重合性液晶の場合は
著しい温度上昇が光照射によって生じないように行うこ
とが好ましい。高分子液晶の場合は配向を乱さないよう
に徐冷するか、もしくは溶媒揮散する。
なされたらその状態を固定する。光重合性液晶の場合は
著しい温度上昇が光照射によって生じないように行うこ
とが好ましい。高分子液晶の場合は配向を乱さないよう
に徐冷するか、もしくは溶媒揮散する。
【００２７】２枚の配向処理した基板間に前記液晶性化
合物の層を挟み、２枚の基板の向きを変化させたり、複
数の配向処理法を組み合わせることにより、任意の方向
に配向させることが可能である。配向に用いた基板は液
晶性化合物の配向が固定された後、剥離されてもよい。
合物の層を挟み、２枚の基板の向きを変化させたり、複
数の配向処理法を組み合わせることにより、任意の方向
に配向させることが可能である。配向に用いた基板は液
晶性化合物の配向が固定された後、剥離されてもよい。
【００２８】液晶表示素子の広視角化において重要な複
屈折板は、前述したように、面内で直交する屈折率をｎ
x 、ｎy 、厚み方向の屈折率をｎz とすると、ｎx ＞ｎ
z ＞ｎy となるもの、または、ｎx ＝ｎz ＞ｎy となる
ものである。前者のようなものは、表面の一方が垂直配
向し、一方が平行配向したハイブリッド配列ネマチック
方式（ＨＡＮ）と呼ばれる配向をさせて得られる複屈折
板（ハイブリッド型複屈折板）、および両基板に対し液
晶分子のディレクタが斜めに向いている複屈折板（チル
ト型複屈折板）、チルト型複屈折板二枚を液晶分子のデ
ィレクタの向きが非平行になるように貼りあわせた複屈
折板（シェブロン型複屈折板）があり、後者の例とし
て、２枚のホメオトロピック処理された基板で挟持して
得られる複屈折板（ホメオトロピック複屈折板）があ
る。
屈折板は、前述したように、面内で直交する屈折率をｎ
x 、ｎy 、厚み方向の屈折率をｎz とすると、ｎx ＞ｎ
z ＞ｎy となるもの、または、ｎx ＝ｎz ＞ｎy となる
ものである。前者のようなものは、表面の一方が垂直配
向し、一方が平行配向したハイブリッド配列ネマチック
方式（ＨＡＮ）と呼ばれる配向をさせて得られる複屈折
板（ハイブリッド型複屈折板）、および両基板に対し液
晶分子のディレクタが斜めに向いている複屈折板（チル
ト型複屈折板）、チルト型複屈折板二枚を液晶分子のデ
ィレクタの向きが非平行になるように貼りあわせた複屈
折板（シェブロン型複屈折板）があり、後者の例とし
て、２枚のホメオトロピック処理された基板で挟持して
得られる複屈折板（ホメオトロピック複屈折板）があ
る。
【００２９】ここでディレクタとは、複屈折板の全体を
巨視的に眺めたとき、分子長軸が優先的に配向している
方向の単位ベクトルをいう。
巨視的に眺めたとき、分子長軸が優先的に配向している
方向の単位ベクトルをいう。
【００３０】チルト型複屈折板を得るための方法として
は、前述の磁界、電界による配向、、一酸化珪素の斜め
蒸着法や比較的高チルト角のＳＴＮ用配向膜を用いる方
法、ポリイミド膜のエージング処理による方法が挙げら
れる。傾き角の大きさは、基板に対して、通常、１０〜
８０°でよく、好ましくは３０〜６０°である。
は、前述の磁界、電界による配向、、一酸化珪素の斜め
蒸着法や比較的高チルト角のＳＴＮ用配向膜を用いる方
法、ポリイミド膜のエージング処理による方法が挙げら
れる。傾き角の大きさは、基板に対して、通常、１０〜
８０°でよく、好ましくは３０〜６０°である。
【００３１】シェブロン型複屈折板の製造は、チルト方
複屈折板の製造を２回繰り返すことで行うことができ
る。すなわち１層目に右上方向にチルトする層を設け、
続いて左上方向にチルトする層を設けるなどの方法であ
る。
複屈折板の製造を２回繰り返すことで行うことができ
る。すなわち１層目に右上方向にチルトする層を設け、
続いて左上方向にチルトする層を設けるなどの方法であ
る。
【００３２】本発明の複屈折板は複屈折（Δｎ・ｄ）が
通常０．１〜２．０μｍの範囲であり、複屈折板厚は、
液晶素子の複屈折にもよるが、数μｍから数十μｍ程度
が好ましい。
通常０．１〜２．０μｍの範囲であり、複屈折板厚は、
液晶素子の複屈折にもよるが、数μｍから数十μｍ程度
が好ましい。
【００３３】本発明の複屈折板の製造においては、複屈
折板の板厚が均一であることが重要である。厚さを均一
にするために通常の液晶表示素子を製造するのと同様、
スペーサを使用することができる。
折板の板厚が均一であることが重要である。厚さを均一
にするために通常の液晶表示素子を製造するのと同様、
スペーサを使用することができる。
【００３４】以上のように製造された複屈折板を用いて
液晶素子を形成するが、このとき、液晶素子としては通
常用いられるものが一般に適用できる。液晶素子用基板
は、通常は基板上に電極、具体的にはＩＴＯ（酸化イン
ジウム−酸化スズ）や酸化スズの透明電極、クロム、ア
ルミニウム等の不透明電極等が形成されるとともに液晶
配向膜が形成されている。さらに、この電極の下に基板
からのアルカリの溶出の防止の目的の絶縁膜、偏光膜、
カラーフィルター膜等のアンダーコート膜を形成してい
てもよく、電極の上に絶縁膜、カラーフィルター膜、光
透過防止膜等のオーバーコート膜を形成していてもよ
い。これらの電極を絶縁膜を介して２層構造にしてもよ
いし、ＴＦＴ、非線形抵抗素子等の能動素子を形成して
いてもよい。これらの電極、アンダーコート、オーバー
コート、その他のセル内の構成は従来の液晶表示素子の
構成が使用可能である。
液晶素子を形成するが、このとき、液晶素子としては通
常用いられるものが一般に適用できる。液晶素子用基板
は、通常は基板上に電極、具体的にはＩＴＯ（酸化イン
ジウム−酸化スズ）や酸化スズの透明電極、クロム、ア
ルミニウム等の不透明電極等が形成されるとともに液晶
配向膜が形成されている。さらに、この電極の下に基板
からのアルカリの溶出の防止の目的の絶縁膜、偏光膜、
カラーフィルター膜等のアンダーコート膜を形成してい
てもよく、電極の上に絶縁膜、カラーフィルター膜、光
透過防止膜等のオーバーコート膜を形成していてもよ
い。これらの電極を絶縁膜を介して２層構造にしてもよ
いし、ＴＦＴ、非線形抵抗素子等の能動素子を形成して
いてもよい。これらの電極、アンダーコート、オーバー
コート、その他のセル内の構成は従来の液晶表示素子の
構成が使用可能である。
【００３５】このようにして形成された基板を使用して
セル化し、内部に液晶を注入して、注入口を封止する。
この封入される液晶としては、通常のネマチック液晶の
ほか、二色性色素を添加した液晶や、強誘電性液晶（Ｓ
ｍＣ* 液晶）等種々の液晶が使用できる。セルの両側も
しくは片側に本発明にかかる複屈折板が配置される。更
に、セル用の基板として基板上に複屈折板を形成したも
のをそのまま用いることも可能である。
セル化し、内部に液晶を注入して、注入口を封止する。
この封入される液晶としては、通常のネマチック液晶の
ほか、二色性色素を添加した液晶や、強誘電性液晶（Ｓ
ｍＣ* 液晶）等種々の液晶が使用できる。セルの両側も
しくは片側に本発明にかかる複屈折板が配置される。更
に、セル用の基板として基板上に複屈折板を形成したも
のをそのまま用いることも可能である。
【００３６】また、このようにして製造された液晶セル
の外面に、一対の偏光板を設けるとともに必要に応じ
て、文字、図形、光不透過層、カラーフィルター等を印
刷したり、光の無反射層を形成したり、反射板、導光
板、照明を配置する。
の外面に、一対の偏光板を設けるとともに必要に応じ
て、文字、図形、光不透過層、カラーフィルター等を印
刷したり、光の無反射層を形成したり、反射板、導光
板、照明を配置する。
【００３７】なお、本発明では、干渉色補償用の複屈折
板を用いるので、液晶のねじれが大きい用途に適してい
る。このため、一対の基板の配向膜の配向処理方向が１
６０〜３６０°ねじれとなるようにされている液晶表示
素子に適している。さらに、この基板の両外面に一対の
偏光膜が配置され、夫々の偏光軸がそれに隣接する配向
方向に対して２０〜７０°ずらされているスーパーツイ
ステッドネマチック（ＳＴＮ）ＬＣＤに使用することが
好適である。
板を用いるので、液晶のねじれが大きい用途に適してい
る。このため、一対の基板の配向膜の配向処理方向が１
６０〜３６０°ねじれとなるようにされている液晶表示
素子に適している。さらに、この基板の両外面に一対の
偏光膜が配置され、夫々の偏光軸がそれに隣接する配向
方向に対して２０〜７０°ずらされているスーパーツイ
ステッドネマチック（ＳＴＮ）ＬＣＤに使用することが
好適である。
【００３８】即ち、液晶のねじれ角を１６０〜３６０°
とし、かつ本発明の高チルト角の配向膜を用いることに
より、配向異常を生ずることなく、かつ高コントラスト
の液晶表示素子を容易に得ることができる。このＳＴＮ
ＬＣＤに使用される液晶としては、誘電率異方性が正の
液晶が使用され、種々の液晶を混合して作成されればよ
い。
とし、かつ本発明の高チルト角の配向膜を用いることに
より、配向異常を生ずることなく、かつ高コントラスト
の液晶表示素子を容易に得ることができる。このＳＴＮ
ＬＣＤに使用される液晶としては、誘電率異方性が正の
液晶が使用され、種々の液晶を混合して作成されればよ
い。
【００３９】
実施例１ エチレンクロルヒドリンとｐ−オキシ安息香酸のエタノ
ール／水混合溶液に水酸化カリウムを作用させて得られ
るエーテル化合物に、メタクリル酸クロリドを反応させ
エステル化した。これを塩化チオニルで酸クロリドと
し、テトラヒドロフラン中ピリジンの存在下、ｐ−オキ
シ安息香酸とカップリングさせ、液晶性モノマーを得
た。この相転移温度は、固相→ネマチック相（１３４
℃）、ネマチック相→アイソトロピック相（１７５
℃）、アイソトロピック相→ネマチック相（１６０
℃），ネマチック相→固相（１１５℃）であった。
ール／水混合溶液に水酸化カリウムを作用させて得られ
るエーテル化合物に、メタクリル酸クロリドを反応させ
エステル化した。これを塩化チオニルで酸クロリドと
し、テトラヒドロフラン中ピリジンの存在下、ｐ−オキ
シ安息香酸とカップリングさせ、液晶性モノマーを得
た。この相転移温度は、固相→ネマチック相（１３４
℃）、ネマチック相→アイソトロピック相（１７５
℃）、アイソトロピック相→ネマチック相（１６０
℃），ネマチック相→固相（１１５℃）であった。
【００４０】次に、これに光開始剤としてベンジルジメ
チルケタール（商品名イルガチュア６５１、チバガイギ
ー製）を０．１％加え、これをＩＴＯ付きガラス基板で
ギャップが１０μｍのセルを作成し、真空注入法で液晶
を注入した。このセルを約１５０℃に保ち２０Ｖ、６０
Ｈｚの交流電場をかけ、垂直配向していることを確認し
た。この状態で約１００ｍＪ／ｃｍ2 の紫外線を照射し
た。このセルの屈折率異方性を大塚電子製ＭＣＰＤ−１
０００で測定したところ、厚さ方向に０．３μｍの大き
さの屈折率異方性を有し、面内方向の屈折率異方性は検
知されなかった。
チルケタール（商品名イルガチュア６５１、チバガイギ
ー製）を０．１％加え、これをＩＴＯ付きガラス基板で
ギャップが１０μｍのセルを作成し、真空注入法で液晶
を注入した。このセルを約１５０℃に保ち２０Ｖ、６０
Ｈｚの交流電場をかけ、垂直配向していることを確認し
た。この状態で約１００ｍＪ／ｃｍ2 の紫外線を照射し
た。このセルの屈折率異方性を大塚電子製ＭＣＰＤ−１
０００で測定したところ、厚さ方向に０．３μｍの大き
さの屈折率異方性を有し、面内方向の屈折率異方性は検
知されなかった。
【００４１】実施例２ Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−オクタデシル−３−アミノプロ
ピルトリメトキシシリルクロリド（ＤＭＯＡＰ、ダウコ
ーニング製［ＸＺ−２−２３００］）を塗布した２枚の
ガラス基板に、実施例１と同一の液晶を挟み、ホメオト
ロピック配向させた。これに高圧水銀灯で紫外線を５０
ｍＪ／ｃｍ2 照射した。
ピルトリメトキシシリルクロリド（ＤＭＯＡＰ、ダウコ
ーニング製［ＸＺ−２−２３００］）を塗布した２枚の
ガラス基板に、実施例１と同一の液晶を挟み、ホメオト
ロピック配向させた。これに高圧水銀灯で紫外線を５０
ｍＪ／ｃｍ2 照射した。
【００４２】このセルは８μｍのセルギャップで、厚さ
方向にのみ約０．２μｍの複屈折を持っていた。
方向にのみ約０．２μｍの複屈折を持っていた。
【００４３】実施例３ 実施例１の液晶性モノマーに光開始剤としてベンジルジ
メチルケタール（商品名イルガチュア６５１、チバガイ
ギー製）を０．１％及び溶媒を混合し、スピンコート法
で膜厚が８．７μｍの均一膜をガラス基板上に形成し
た。窒素雰囲気下でこの膜を約１５０℃に保ち９Ｋガウ
スの磁場中、磁力線に対し５５°に膜の角度を制御し
た。この状態で約１００ｍＪ／ｃｍ3 の紫外線を照射し
た。
メチルケタール（商品名イルガチュア６５１、チバガイ
ギー製）を０．１％及び溶媒を混合し、スピンコート法
で膜厚が８．７μｍの均一膜をガラス基板上に形成し
た。窒素雰囲気下でこの膜を約１５０℃に保ち９Ｋガウ
スの磁場中、磁力線に対し５５°に膜の角度を制御し
た。この状態で約１００ｍＪ／ｃｍ3 の紫外線を照射し
た。
【００４４】このようにして得られた複屈折板は波長５
４６ｎｍにおけるΔｎ・ｄを測定したところ、０．５９
μｍであった。また、ｎx ＝１．５０８，ｎy ＝１．４
４０，ｎz ＝１．４７２となっていた。
４６ｎｍにおけるΔｎ・ｄを測定したところ、０．５９
μｍであった。また、ｎx ＝１．５０８，ｎy ＝１．４
４０，ｎz ＝１．４７２となっていた。
【００４５】実施例４ Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−オクタデシル−３−アミノプロ
ピルトリメトキシシリルクロリド（ＤＭＯＡＰ）をガラ
ス基板に塗布し、垂直配向性の基板を作成した。また、
ポリイミド配向膜のＳ−１００（日産化学製）を塗布、
焼成した後ラビングして、平行配向性の基板を作成し
た。この２種の基板でギャップが８μｍの液晶セルを実
施例２と同様に作り、実施例１の液晶性モノマーを真空
注入した。透明温度以上に加熱してから徐冷して、所望
の配向状態に固定した。約１５０℃の温度にセルを保ち
ながら約１００ｍＪ／ｃｍ2 の紫外線を照射してその配
向状態を固定した。
ピルトリメトキシシリルクロリド（ＤＭＯＡＰ）をガラ
ス基板に塗布し、垂直配向性の基板を作成した。また、
ポリイミド配向膜のＳ−１００（日産化学製）を塗布、
焼成した後ラビングして、平行配向性の基板を作成し
た。この２種の基板でギャップが８μｍの液晶セルを実
施例２と同様に作り、実施例１の液晶性モノマーを真空
注入した。透明温度以上に加熱してから徐冷して、所望
の配向状態に固定した。約１５０℃の温度にセルを保ち
ながら約１００ｍＪ／ｃｍ2 の紫外線を照射してその配
向状態を固定した。
【００４６】この複屈折板の複屈折は、波長５４６ｎｍ
において、Δｎ・ｄとしては０．５８μｍであった。ま
た、ｎx ＝１．５１８，ｎy ＝１．４４２，ｎz ＝１．
４６６となっていた。
において、Δｎ・ｄとしては０．５８μｍであった。ま
た、ｎx ＝１．５１８，ｎy ＝１．４４２，ｎz ＝１．
４６６となっていた。
【００４７】実施例５ 実施例１の液晶性モノマーと磁力による配向方法を用
い、スピンコート法で膜厚が４．３μｍの均一膜厚の膜
をガラス基板上に形成した。配向時には、磁力線に対し
て約５５°に膜の角度を制御し、この状態で約１００ｍ
Ｊ／ｃｍ2 の紫外線を照射した。続いて、さらにスピン
コート法で膜厚が４．３μｍの均一膜厚の膜をこの基板
上に形成した。この場合は、先に制御した方向を逆方向
に、磁力線に対して約５５°に膜の角度となるように制
御し、この状態で約１００ｍＪ／ｃｍ2 の紫外線を照射
した。このようにして得られた複屈折板は波長５４６ｎ
ｍにおけるΔｎ・ｄを測定したところ、０．２９μｍで
あった。また、ｎx ＝１．５０８，ｎy ＝１．４４０，
ｎz ＝１．４７２となっていた。
い、スピンコート法で膜厚が４．３μｍの均一膜厚の膜
をガラス基板上に形成した。配向時には、磁力線に対し
て約５５°に膜の角度を制御し、この状態で約１００ｍ
Ｊ／ｃｍ2 の紫外線を照射した。続いて、さらにスピン
コート法で膜厚が４．３μｍの均一膜厚の膜をこの基板
上に形成した。この場合は、先に制御した方向を逆方向
に、磁力線に対して約５５°に膜の角度となるように制
御し、この状態で約１００ｍＪ／ｃｍ2 の紫外線を照射
した。このようにして得られた複屈折板は波長５４６ｎ
ｍにおけるΔｎ・ｄを測定したところ、０．２９μｍで
あった。また、ｎx ＝１．５０８，ｎy ＝１．４４０，
ｎz ＝１．４７２となっていた。
【００４８】実施例６、７、８ 実施例３、４、５の複屈折板を用いて図２に示したよう
なＳＴＮ型液晶素子を作成した。すなわち、ガラス板か
ら成る透明基板１Ａ、１Ｂ上に面抵抗１５Ω程度のＩＴ
Ｏのストライプパターンからなる透明電極２Ａ、２Ｂを
形成し、この上にポリイミドＬＱ1800（商品名、日立化
成工業製）を０．０６μｍの厚さになるように塗布、焼
成して膜形成した。
なＳＴＮ型液晶素子を作成した。すなわち、ガラス板か
ら成る透明基板１Ａ、１Ｂ上に面抵抗１５Ω程度のＩＴ
Ｏのストライプパターンからなる透明電極２Ａ、２Ｂを
形成し、この上にポリイミドＬＱ1800（商品名、日立化
成工業製）を０．０６μｍの厚さになるように塗布、焼
成して膜形成した。
【００４９】この膜をラビング布を用いてラビングし
た。このような基板を２枚用意し、１枚にはスペーサー
を散布し、他の１枚にはセルの周辺に注入孔を残してシ
ール材（商品名ストラクトボンド、三井東圧化学製）を
印刷して形成した。
た。このような基板を２枚用意し、１枚にはスペーサー
を散布し、他の１枚にはセルの周辺に注入孔を残してシ
ール材（商品名ストラクトボンド、三井東圧化学製）を
印刷して形成した。
【００５０】両基板と熱圧着してセル形成した後、２４
０°ツイストされたネマチック液晶４（ＺＬＩ−２２９
３（商品名、メルク製））を封入して液晶パネルを作成
した。
０°ツイストされたネマチック液晶４（ＺＬＩ−２２９
３（商品名、メルク製））を封入して液晶パネルを作成
した。
【００５１】その片側に実施例３の複屈折板５を配置し
て、更に両側に偏光板６Ａ、６Ｂを配置した。
て、更に両側に偏光板６Ａ、６Ｂを配置した。
【００５２】得られたＳＴＮ型液晶表示素子に電圧を印
加し、その透過率変化を調べた結果、良好なしきい値電
圧特性が得られ、１／２００デューティ、１／１５バイ
アスで駆動を行っても、複屈折板による干渉色補償効果
が均一で、視角が広く、見栄えの良いものであった。
加し、その透過率変化を調べた結果、良好なしきい値電
圧特性が得られ、１／２００デューティ、１／１５バイ
アスで駆動を行っても、複屈折板による干渉色補償効果
が均一で、視角が広く、見栄えの良いものであった。
【発明の効果】本発明によれば、複屈折板による干渉色
補償効果が画面内で均一で、色むら等のない見栄えの良
い液晶表示素子を得ることができる。
補償効果が画面内で均一で、色むら等のない見栄えの良
い液晶表示素子を得ることができる。
【図１】本発明に係る方法を示す概念的断面図
【図２】本発明の液晶表示素子の構成の一例を示す概念
的断面図
的断面図
１Ａ、１Ｂ：透明基板 ２Ａ、２Ｂ：透明電極 ３：シール材 ４：ネマチック液晶 ５：複屈折板 ６Ａ、６Ｂ：偏光板 １１：基板
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成４年９月９日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１４】また、このような複屈折板において、ｎx
＞ｎz ＞ｎy （ｘ、ｙは面内、ｚは厚さ方向の屈折率）
というものを用いて広視角化すること、ｎx ＝ｎz ＞ｎ
y といういわゆる負の一軸性の複屈折板と、通常の正の
一軸性の複屈折板とを組み合わせることにより、広視角
化する提案がなされている（特開平２−２６４９１９
号、特開平２−２９１５１９号）。
＞ｎz ＞ｎy （ｘ、ｙは面内、ｚは厚さ方向の屈折率）
というものを用いて広視角化すること、ｎx ＝ｎz ＞ｎ
y といういわゆる負の一軸性の複屈折板と、通常の正の
一軸性の複屈折板とを組み合わせることにより、広視角
化する提案がなされている（特開平２−２６４９１９
号、特開平２−２９１５１９号）。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１８】かかる液晶性モノマーとしては例えば、 C
nH2n+1−Ph−Ph−CN、 CnH2n+1−Cy−Ph−CN、 CnH2n+1
−Ph−COO −Ph−CN、 CnH2n+1−Ph−COO −Ph(F) −C
N、 CnH2n+1−Cy−COO −Ph−O( CmH2m+1）、 CnH2n+1
−Cy−Ph−O( CmH2m+1) 、 CnH2n+1−Cy−Ph−Ph−CmH
2m+1 、 CnH2n+1−Cy−C2H4−Ph−Ph(F) −CmH2m+1 （P
hはベンゼン環、Cyはシクロヘキサン環、またPh(F) は
ベンゼン環の Hの１つが Fと置換したものを示す）等に
重合基を化学的に付加、または置換した化合物を使用す
ることができる。
nH2n+1−Ph−Ph−CN、 CnH2n+1−Cy−Ph−CN、 CnH2n+1
−Ph−COO −Ph−CN、 CnH2n+1−Ph−COO −Ph(F) −C
N、 CnH2n+1−Cy−COO −Ph−O( CmH2m+1）、 CnH2n+1
−Cy−Ph−O( CmH2m+1) 、 CnH2n+1−Cy−Ph−Ph−CmH
2m+1 、 CnH2n+1−Cy−C2H4−Ph−Ph(F) −CmH2m+1 （P
hはベンゼン環、Cyはシクロヘキサン環、またPh(F) は
ベンゼン環の Hの１つが Fと置換したものを示す）等に
重合基を化学的に付加、または置換した化合物を使用す
ることができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正内容】
【００２１】高分子性液晶としては、サーモトロピック
型とライオトロピック型のいずれをも用いることができ
る。サーモトロピック型の場合は加熱して、ライオトロ
ピック型の場合は溶媒に溶かすことにより、流動性を持
たせ、自由に配向できるようになる。サーモトロピック
型の例としては、ポリメタクリレート系のH(CH2CH(C
H3))n-COO(CH2)2-O-Ph-COO-Ph-Ph-CN、また、ライオト
ロピック型の例としては、ポリ−γ−ベンジル−Ｌ−グ
ルタメート等が挙げられる。
型とライオトロピック型のいずれをも用いることができ
る。サーモトロピック型の場合は加熱して、ライオトロ
ピック型の場合は溶媒に溶かすことにより、流動性を持
たせ、自由に配向できるようになる。サーモトロピック
型の例としては、ポリメタクリレート系のH(CH2CH(C
H3))n-COO(CH2)2-O-Ph-COO-Ph-Ph-CN、また、ライオト
ロピック型の例としては、ポリ−γ−ベンジル−Ｌ−グ
ルタメート等が挙げられる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正内容】
【００２８】液晶表示素子の広視角化において重要な複
屈折板は、前述したように、面内で直交する屈折率をｎ
x 、ｎy 、厚み方向の屈折率をｎz とすると、ｎx ＞ｎ
z ＞ｎy となるもの、または、ｎx ＝ｎz ＞ｎy となる
ものである。前者のようなものは、表面の一方が垂直配
向し、一方が平行配向したハイブリッド配列ネマチック
方式（ＨＡＮ）と呼ばれる配向をさせて得られる複屈折
板（ハイブリッド型複屈折板）、および両基板に対し液
晶分子のディレクタが斜めに向いている複屈折板（チル
ト型複屈折板）、チルト型複屈折板二枚を液晶分子のデ
ィレクタの向きが非平行になるように貼りあわせた複屈
折板（シェブロン型複屈折板）があり、後者の例とし
て、２枚のホメオトロピック処理された基板で挟持して
得られる複屈折板（ホメオトロピック複屈折板）があ
る。
屈折板は、前述したように、面内で直交する屈折率をｎ
x 、ｎy 、厚み方向の屈折率をｎz とすると、ｎx ＞ｎ
z ＞ｎy となるもの、または、ｎx ＝ｎz ＞ｎy となる
ものである。前者のようなものは、表面の一方が垂直配
向し、一方が平行配向したハイブリッド配列ネマチック
方式（ＨＡＮ）と呼ばれる配向をさせて得られる複屈折
板（ハイブリッド型複屈折板）、および両基板に対し液
晶分子のディレクタが斜めに向いている複屈折板（チル
ト型複屈折板）、チルト型複屈折板二枚を液晶分子のデ
ィレクタの向きが非平行になるように貼りあわせた複屈
折板（シェブロン型複屈折板）があり、後者の例とし
て、２枚のホメオトロピック処理された基板で挟持して
得られる複屈折板（ホメオトロピック複屈折板）があ
る。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正内容】
【００３５】このようにして形成された基板を使用して
セル化し、内部に液晶を注入して、注入口を封止する。
この封入される液晶としては、通常のネマチック液晶の
ほか、二色性色素を添加した液晶や、強誘電性液晶（Ｓ
ｍＣ* 液晶）等種々の液晶が使用できる。セルの両側も
しくは片側に本発明にかかる複屈折板が配置される。更
に、セル用の基板として基板上に複屈折板を形成したも
のをそのまま用いることも可能である。
セル化し、内部に液晶を注入して、注入口を封止する。
この封入される液晶としては、通常のネマチック液晶の
ほか、二色性色素を添加した液晶や、強誘電性液晶（Ｓ
ｍＣ* 液晶）等種々の液晶が使用できる。セルの両側も
しくは片側に本発明にかかる複屈折板が配置される。更
に、セル用の基板として基板上に複屈折板を形成したも
のをそのまま用いることも可能である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正内容】
【００４０】次に、これに光開始剤としてベンジルジメ
チルケタール（商品名イルガチュア６５１、チバガイギ
ー製）を０．１％加え、これをＩＴＯ付きガラス基板で
ギャップが１０μｍのセルを作成し、真空注入法で液晶
を注入した。このセルを約１５０℃に保ち２０Ｖ、６０
Ｈｚの交流電場をかけ、垂直配向していることを確認し
た。この状態で約１００ｍＪ／ｃｍ2 の紫外線を照射し
た。このセルの屈折率異方性を大塚電子製ＭＣＰＤ−１
０００で測定したところ、厚さ方向に０．３μｍの大き
さの屈折率異方性を有し、面内方向の屈折率異方性は検
知されなかった。
チルケタール（商品名イルガチュア６５１、チバガイギ
ー製）を０．１％加え、これをＩＴＯ付きガラス基板で
ギャップが１０μｍのセルを作成し、真空注入法で液晶
を注入した。このセルを約１５０℃に保ち２０Ｖ、６０
Ｈｚの交流電場をかけ、垂直配向していることを確認し
た。この状態で約１００ｍＪ／ｃｍ2 の紫外線を照射し
た。このセルの屈折率異方性を大塚電子製ＭＣＰＤ−１
０００で測定したところ、厚さ方向に０．３μｍの大き
さの屈折率異方性を有し、面内方向の屈折率異方性は検
知されなかった。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正内容】
【００４１】実施例２ Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−オクタデシル−３−アミノプロ
ピルトリメトキシシリルクロリド（ＤＭＯＡＰ、ダウコ
ーニング製［ＸＺ−２−２３００］）を塗布した２枚の
ガラス基板に、実施例１と同一の液晶を挟み、ホメオト
ロピック配向させた。これに高圧水銀灯で紫外線を５０
ｍＪ／ｃｍ2 照射した。
ピルトリメトキシシリルクロリド（ＤＭＯＡＰ、ダウコ
ーニング製［ＸＺ−２−２３００］）を塗布した２枚の
ガラス基板に、実施例１と同一の液晶を挟み、ホメオト
ロピック配向させた。これに高圧水銀灯で紫外線を５０
ｍＪ／ｃｍ2 照射した。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正内容】
【００４３】実施例３ 実施例１の液晶性モノマーに光開始剤としてベンジルジ
メチルケタール（商品名イルガチュア６５１、チバガイ
ギー製）を０．１％及び溶媒を混合し、スピンコート法
で膜厚が８．７μｍの均一膜をガラス基板上に形成し
た。窒素雰囲気下でこの膜を約１５０℃に保ち９Ｋガウ
スの磁場中、磁力線に対し５５°に膜の角度を制御し
た。この状態で約１００ｍＪ／ｃｍ2 の紫外線を照射し
た。
メチルケタール（商品名イルガチュア６５１、チバガイ
ギー製）を０．１％及び溶媒を混合し、スピンコート法
で膜厚が８．７μｍの均一膜をガラス基板上に形成し
た。窒素雰囲気下でこの膜を約１５０℃に保ち９Ｋガウ
スの磁場中、磁力線に対し５５°に膜の角度を制御し
た。この状態で約１００ｍＪ／ｃｍ2 の紫外線を照射し
た。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正内容】
【００４４】このようにして得られた複屈折板は波長５
４６ｎｍにおけるΔｎ・ｄを測定したところ、０．５９
μｍであった。また、ｎx ＝１．５０８，ｎy ＝１．４
４０，ｎz ＝１．４７２となっていた。
４６ｎｍにおけるΔｎ・ｄを測定したところ、０．５９
μｍであった。また、ｎx ＝１．５０８，ｎy ＝１．４
４０，ｎz ＝１．４７２となっていた。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正内容】
【００４５】実施例４ Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−オクタデシル−３−アミノプロ
ピルトリメトキシシリルクロリド（ＤＭＯＡＰ）をガラ
ス基板に塗布し、垂直配向性の基板を作成した。また、
ポリイミド配向膜のＳ−１００（日産化学製）を塗布、
焼成した後ラビングして、平行配向性の基板を作成し
た。この２種の基板でギャップが８μｍの液晶セルを実
施例２と同様に作り、実施例１の液晶性モノマーを真空
注入した。透明温度以上に加熱してから徐冷して、所望
の配向状態に固定した。約１５０℃の温度にセルを保ち
ながら約１００ｍＪ／ｃｍ2 の紫外線を照射してその配
向状態を固定した。
ピルトリメトキシシリルクロリド（ＤＭＯＡＰ）をガラ
ス基板に塗布し、垂直配向性の基板を作成した。また、
ポリイミド配向膜のＳ−１００（日産化学製）を塗布、
焼成した後ラビングして、平行配向性の基板を作成し
た。この２種の基板でギャップが８μｍの液晶セルを実
施例２と同様に作り、実施例１の液晶性モノマーを真空
注入した。透明温度以上に加熱してから徐冷して、所望
の配向状態に固定した。約１５０℃の温度にセルを保ち
ながら約１００ｍＪ／ｃｍ2 の紫外線を照射してその配
向状態を固定した。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正内容】
【００４６】この複屈折板の複屈折は、波長５４６ｎｍ
において、Δｎ・ｄとしては０．５８μｍであった。ま
た、ｎx ＝１．５１８，ｎy ＝１．４４２，ｎz ＝１．
４６６となっていた。
において、Δｎ・ｄとしては０．５８μｍであった。ま
た、ｎx ＝１．５１８，ｎy ＝１．４４２，ｎz ＝１．
４６６となっていた。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】変更
【補正内容】
【００４７】実施例５ 実施例１の液晶性モノマーと磁力による配向方法を用
い、スピンコート法で膜厚が４．３μｍの均一膜厚の膜
をガラス基板上に形成した。配向時には、磁力線に対し
て約５５°に膜の角度を制御し、この状態で約１００ｍ
Ｊ／ｃｍ2 の紫外線を照射した。続いて、さらにスピン
コート法で膜厚が４．３μｍの均一膜厚の膜をこの基板
上に形成した。この場合は、先に制御した方向を逆方向
に、磁力線に対して約５５°に膜の角度となるように制
御し、この状態で約１００ｍＪ／ｃｍ2 の紫外線を照射
した。このようにして得られた複屈折板は波長５４６ｎ
ｍにおけるΔｎ・ｄを測定したところ、０．２９μｍで
あった。また、ｎx ＝１．５０８，ｎy ＝１．４４０，
ｎz ＝１．４７２となっていた。
い、スピンコート法で膜厚が４．３μｍの均一膜厚の膜
をガラス基板上に形成した。配向時には、磁力線に対し
て約５５°に膜の角度を制御し、この状態で約１００ｍ
Ｊ／ｃｍ2 の紫外線を照射した。続いて、さらにスピン
コート法で膜厚が４．３μｍの均一膜厚の膜をこの基板
上に形成した。この場合は、先に制御した方向を逆方向
に、磁力線に対して約５５°に膜の角度となるように制
御し、この状態で約１００ｍＪ／ｃｍ2 の紫外線を照射
した。このようにして得られた複屈折板は波長５４６ｎ
ｍにおけるΔｎ・ｄを測定したところ、０．２９μｍで
あった。また、ｎx ＝１．５０８，ｎy ＝１．４４０，
ｎz ＝１．４７２となっていた。
Claims (3)
- 【請求項１】基板上に硬化時に液晶性を示す化合物を含
む組成物からなる層を形成した後、磁場または電場によ
って所定の方向に配向させつつ硬化を行い、その配向状
態を固定して形成してなる複屈折板。 - 【請求項２】表面を配向処理した一対の基板間に硬化時
に液晶性を示す化合物を含む組成物からなる層を挟持し
て、該液晶性を示す化合物を配向させて硬化を行い、そ
の配向状態を固定して形成してなる複屈折板。 - 【請求項３】一対の電極付基板間に液晶層を挟持してな
り、かつ液晶層によって生ずる干渉色補償のための複屈
折板を該液晶層の少なくとも一方の側に備えてなる液晶
表示素子において、前記複屈折板として、請求項１また
は請求項２の複屈折板を用いることを特徴とする液晶表
示素子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4154055A JPH05215921A (ja) | 1991-12-13 | 1992-04-24 | 複屈折板及び液晶表示素子 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3-352253 | 1991-12-13 | ||
| JP35225391 | 1991-12-13 | ||
| JP4154055A JPH05215921A (ja) | 1991-12-13 | 1992-04-24 | 複屈折板及び液晶表示素子 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05215921A true JPH05215921A (ja) | 1993-08-27 |
Family
ID=26482481
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4154055A Pending JPH05215921A (ja) | 1991-12-13 | 1992-04-24 | 複屈折板及び液晶表示素子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05215921A (ja) |
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0827284A (ja) * | 1994-05-13 | 1996-01-30 | Fuji Photo Film Co Ltd | 薄膜の製造方法、光学的異方性シートおよび液晶表示装置 |
| EP0708352A1 (en) * | 1994-10-18 | 1996-04-24 | Kureha Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Polymeric optical low-pass filter and device thereof |
| US5528400A (en) * | 1994-06-08 | 1996-06-18 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Liquid crystal display device having negative uniaxial anisotropic film with inclined optical axis and protective films |
| EP0883016A1 (en) * | 1997-06-06 | 1998-12-09 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Method for producing phase retarder films |
| US6812982B2 (en) | 2000-05-12 | 2004-11-02 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Optical compensatory sheet producing method and apparatus, thermal treating method and apparatus, and dust removing method and apparatus |
| JP2005165238A (ja) * | 2003-11-28 | 2005-06-23 | Dainippon Printing Co Ltd | 光学素子の製造方法 |
| JP2007055193A (ja) * | 2005-08-26 | 2007-03-08 | Nippon Oil Corp | 光学フィルムの製造方法 |
| DE19635894B4 (de) * | 1995-09-04 | 2008-02-07 | Fujifilm Corp. | Verfahren zur Herstellung einer endlosen optischen Kompensationsfolie |
| US7527836B2 (en) | 2004-12-28 | 2009-05-05 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Optical element and method for manufacturing the same |
| US7531223B2 (en) | 2004-12-28 | 2009-05-12 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Optical element and method for manufacturing the same |
| US8009264B2 (en) | 2006-11-08 | 2011-08-30 | Dic Corporation | Composition for photo-alignment film, photo-alignment film, and optically anisotropic medium |
| US8077390B2 (en) | 2005-08-15 | 2011-12-13 | Zsolt John Laczik | Method of producing an optical element that has spatial variation in refractive index |
| WO2022091747A1 (ja) * | 2020-10-29 | 2022-05-05 | 富士フイルム株式会社 | 液晶部材および偏光レンズ |
-
1992
- 1992-04-24 JP JP4154055A patent/JPH05215921A/ja active Pending
Cited By (14)
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|---|---|---|---|---|
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| US8009264B2 (en) | 2006-11-08 | 2011-08-30 | Dic Corporation | Composition for photo-alignment film, photo-alignment film, and optically anisotropic medium |
| WO2022091747A1 (ja) * | 2020-10-29 | 2022-05-05 | 富士フイルム株式会社 | 液晶部材および偏光レンズ |
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