JPH05208244A - 複層鋳片の連続鋳造方法 - Google Patents
複層鋳片の連続鋳造方法Info
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- JPH05208244A JPH05208244A JP5019191A JP5019191A JPH05208244A JP H05208244 A JPH05208244 A JP H05208244A JP 5019191 A JP5019191 A JP 5019191A JP 5019191 A JP5019191 A JP 5019191A JP H05208244 A JPH05208244 A JP H05208244A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 異なる組成の外層と内層からなる複層鋳片を
連続鋳造する場合の、両者の溶融金属間の混合を防止
し、均一な外層厚みを有する複層鋳片を安定して製造す
る連続鋳造方法を提供する。 【構成】 鋳片全幅にわたって水平に静磁場を印加し、
静磁場帯の上下にそれぞれ組成の異なる溶融金属を供給
し、前記静磁場帯により組成の異なる溶融金属の混合を
抑制しながら複層鋳片を連続鋳造するに際し、前記静磁
場帯の下方側に供給される溶融金属を、浸漬ノズルの吐
出口より内側下方向に４０°〜７０°の方向を保持して
吐出させるようにして複層鋳片の連続鋳造を行う。
連続鋳造する場合の、両者の溶融金属間の混合を防止
し、均一な外層厚みを有する複層鋳片を安定して製造す
る連続鋳造方法を提供する。 【構成】 鋳片全幅にわたって水平に静磁場を印加し、
静磁場帯の上下にそれぞれ組成の異なる溶融金属を供給
し、前記静磁場帯により組成の異なる溶融金属の混合を
抑制しながら複層鋳片を連続鋳造するに際し、前記静磁
場帯の下方側に供給される溶融金属を、浸漬ノズルの吐
出口より内側下方向に４０°〜７０°の方向を保持して
吐出させるようにして複層鋳片の連続鋳造を行う。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、組成の異なる２種類の
溶融状態の金属を複層にして凝固させ、複層鋳片を連続
的に製造する方法に関する。
溶融状態の金属を複層にして凝固させ、複層鋳片を連続
的に製造する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来知られている複層鋳片の連続鋳造方
法としては、例えば特公昭６１−２５２８９８号公報に
おいて、長さの異なる２本の浸漬ノズルを鋳型内にある
溶融金属のプ−ルに挿入し、それぞれの吐出口位置を鋳
造方向の異なる位置に設けて異なる溶融金属を供給し、
さらに静磁場の制動力により上記溶融金属を仕切り、複
層に凝固させるようにした方法が提案されている。
法としては、例えば特公昭６１−２５２８９８号公報に
おいて、長さの異なる２本の浸漬ノズルを鋳型内にある
溶融金属のプ−ルに挿入し、それぞれの吐出口位置を鋳
造方向の異なる位置に設けて異なる溶融金属を供給し、
さらに静磁場の制動力により上記溶融金属を仕切り、複
層に凝固させるようにした方法が提案されている。
【０００３】図４は上記方法を説明する略側面図であ
り、これは鋳型11内に長さの異なる外層用および内層用
の２本の浸漬ノズル１２，１３を挿入し、これらの浸漬
ノズル１２，１３からそれぞれ異なる溶融金属１４，１
５を供給する。このとき鋳型１１内において、溶融金属
１４，１５間に水平方向に鋳型全幅にわたって延在する
静磁場を、電磁石または永久磁石１６によって印加して
形成する。
り、これは鋳型11内に長さの異なる外層用および内層用
の２本の浸漬ノズル１２，１３を挿入し、これらの浸漬
ノズル１２，１３からそれぞれ異なる溶融金属１４，１
５を供給する。このとき鋳型１１内において、溶融金属
１４，１５間に水平方向に鋳型全幅にわたって延在する
静磁場を、電磁石または永久磁石１６によって印加して
形成する。
【０００４】この静磁場帯１７の制動力によって静磁場
帯１７での溶融金属１４，１５の流動が抑制され、両溶
融金属１４，１５の混合が防止される。この結果静磁場
帯１７上部の溶融金属１４が鋳型１１から抜熱されて外
層の凝固シェル１８を形成し、他方静磁場帯１７下部の
溶融金属１５は表層の凝固シェル１８を介して抜熱され
て内層の凝固シェル１９を形成することで、異なる組成
の溶融金属からなる複層鋳片が得られる。
帯１７での溶融金属１４，１５の流動が抑制され、両溶
融金属１４，１５の混合が防止される。この結果静磁場
帯１７上部の溶融金属１４が鋳型１１から抜熱されて外
層の凝固シェル１８を形成し、他方静磁場帯１７下部の
溶融金属１５は表層の凝固シェル１８を介して抜熱され
て内層の凝固シェル１９を形成することで、異なる組成
の溶融金属からなる複層鋳片が得られる。
【０００５】また本出願人は、上記の複層鋳片の連続鋳
造法において、静磁場帯下部に供給する溶融金属に水平
方向の流動成分を与える方法を開発し、さきに特願昭６
３−１００５５１号として出願した。
造法において、静磁場帯下部に供給する溶融金属に水平
方向の流動成分を与える方法を開発し、さきに特願昭６
３−１００５５１号として出願した。
【０００６】図５はこの方法を説明する略側面図であ
り、浸漬ノズル１３から水平方向に溶融金属１５を吐出
させている状態を示す。
り、浸漬ノズル１３から水平方向に溶融金属１５を吐出
させている状態を示す。
【０００７】従来は一般に外層用の浸漬ノズル１２は水
平方向に溶融金属１４を吐出し、内層用の浸漬ノズル１
３は垂直に下方向に溶融金属１５を吐出させていたが、
この内層用の浸漬ノズル１３から溶融金属１５を水平方
向に吐出・旋回させることにより、静磁場帯１７下部の
鋳造方向と直交する断面において水平な旋回流が発生
し、溶融金属１５の温度が均一となる。
平方向に溶融金属１４を吐出し、内層用の浸漬ノズル１
３は垂直に下方向に溶融金属１５を吐出させていたが、
この内層用の浸漬ノズル１３から溶融金属１５を水平方
向に吐出・旋回させることにより、静磁場帯１７下部の
鋳造方向と直交する断面において水平な旋回流が発生
し、溶融金属１５の温度が均一となる。
【０００８】その結果表層の凝固シェル１８が鋳片周方
向で均一に成長し、鋳片の表層厚みが一定の複層鋳片が
得られるものである。
向で均一に成長し、鋳片の表層厚みが一定の複層鋳片が
得られるものである。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】ところでこのように、
静磁場帯１７の下部において浸漬ノズル１３からの溶融
金属１５を水平方向に吐出させた場合、静磁場帯１７と
浸漬ノズル１３の吐出口位置相互の距離が小さいため
に、吐出流が凝固シェル１８と衝突して生ずる上昇流に
よって、静磁場帯１７の溶融金属１４，１５間の界面を
乱すことになる。この結果、溶融金属１４，１５は混合
し、外層と内層との界面が不明瞭な複層鋳片が鋳造さ
れ、好ましくない。
静磁場帯１７の下部において浸漬ノズル１３からの溶融
金属１５を水平方向に吐出させた場合、静磁場帯１７と
浸漬ノズル１３の吐出口位置相互の距離が小さいため
に、吐出流が凝固シェル１８と衝突して生ずる上昇流に
よって、静磁場帯１７の溶融金属１４，１５間の界面を
乱すことになる。この結果、溶融金属１４，１５は混合
し、外層と内層との界面が不明瞭な複層鋳片が鋳造さ
れ、好ましくない。
【００１０】また浸漬ノズル１３から水平方向に吐出さ
れた溶融金属１５は、吐出直後に高温状態で減速されず
に外層の凝固シェル１８に衝突するために、その付近の
凝固シェル１８は洗われて再溶解し、周方向に表層厚み
が不均一な複層鋳片が製造され、同様に品質上問題とな
る。
れた溶融金属１５は、吐出直後に高温状態で減速されず
に外層の凝固シェル１８に衝突するために、その付近の
凝固シェル１８は洗われて再溶解し、周方向に表層厚み
が不均一な複層鋳片が製造され、同様に品質上問題とな
る。
【００１１】本発明は上記課題に鑑みなされたもので、
異なる組成の溶融金属間の混合を防止し、均一な外層厚
みを有する複層鋳片を安定して製造する連続鋳造方法を
提供する。
異なる組成の溶融金属間の混合を防止し、均一な外層厚
みを有する複層鋳片を安定して製造する連続鋳造方法を
提供する。
【００１２】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決する本発
明は、鋳型に供給された溶融金属の湯面レベルよりも下
方の位置で、鋳片全幅にわたって水平に磁力線が延在す
る静磁場を印加し、この静磁場帯を境として、２本の浸
漬ノズルより上下にそれぞれ組成の異なる金属を供給し
て複層鋳片を連続鋳造するに際し、前記静磁場帯の下方
側に供給される溶融金属を、浸漬ノズルの吐出口より内
側下方向に４０°〜７０°の方向を保持して吐出させる
ことを特徴とする複層鋳片の連続鋳造方法である。
明は、鋳型に供給された溶融金属の湯面レベルよりも下
方の位置で、鋳片全幅にわたって水平に磁力線が延在す
る静磁場を印加し、この静磁場帯を境として、２本の浸
漬ノズルより上下にそれぞれ組成の異なる金属を供給し
て複層鋳片を連続鋳造するに際し、前記静磁場帯の下方
側に供給される溶融金属を、浸漬ノズルの吐出口より内
側下方向に４０°〜７０°の方向を保持して吐出させる
ことを特徴とする複層鋳片の連続鋳造方法である。
【００１３】
【作用】以下本発明を作用と共に詳細に説明する。
【００１４】図１は本発明の方法を実施するのに適した
連続鋳造装置の一例を示す略側面図であり、これは鋳型
１内に長さの異なる外層用および内層用の２本の浸漬ノ
ズル２，３を挿入し、これらの浸漬ノズル２，３からそ
れぞれ異なる溶融金属４，５を供給する。このとき鋳型
１内において、溶融金属４，５間に水平方向に鋳型全幅
にわたって延在する静磁場を、電磁石または永久磁石６
によって印加して形成する。
連続鋳造装置の一例を示す略側面図であり、これは鋳型
１内に長さの異なる外層用および内層用の２本の浸漬ノ
ズル２，３を挿入し、これらの浸漬ノズル２，３からそ
れぞれ異なる溶融金属４，５を供給する。このとき鋳型
１内において、溶融金属４，５間に水平方向に鋳型全幅
にわたって延在する静磁場を、電磁石または永久磁石６
によって印加して形成する。
【００１５】図２は内層用の浸漬ノズル３先端吐出口３
ａの一例を示す詳細断面図であり、吐出口３ａは内側に
向かって斜めに開口され、要すれば開口部外側には斜向
板３ｂが取り付けられる。このようにして浸漬ノズル３
内を流下した溶融金属５は、この吐出口３ａにおいて、
斜向板３ｂなどの作用により内側下方向に４０°〜７０
°の方向に溶融金属５を吐出させる。なお吐出角度は、
溶融金属の流下速度に応じてノズル先端の開口角度，斜
向板の角度を適宜選択することにより調整可能である。
ａの一例を示す詳細断面図であり、吐出口３ａは内側に
向かって斜めに開口され、要すれば開口部外側には斜向
板３ｂが取り付けられる。このようにして浸漬ノズル３
内を流下した溶融金属５は、この吐出口３ａにおいて、
斜向板３ｂなどの作用により内側下方向に４０°〜７０
°の方向に溶融金属５を吐出させる。なお吐出角度は、
溶融金属の流下速度に応じてノズル先端の開口角度，斜
向板の角度を適宜選択することにより調整可能である。
【００１６】このようにして浸漬ノズル３の吐出口３ａ
から吐出された溶融金属５は、所定の下向き角度を維持
して外層の凝固シェル８に衝突し、上昇流５ａと下降流
５ｂとに分流する。この衝突するまでの間に溶融金属５
は減速されて凝固シェル８を洗うこともない。
から吐出された溶融金属５は、所定の下向き角度を維持
して外層の凝固シェル８に衝突し、上昇流５ａと下降流
５ｂとに分流する。この衝突するまでの間に溶融金属５
は減速されて凝固シェル８を洗うこともない。
【００１７】また上昇流５ａは下降流５ｂに比べて流速
も小さく、上昇過程でさらに減速され、さらに静磁場帯
７の制動力によって静磁場帯７での溶融金属５の流動が
抑制され、界面を乱すこともなく両溶融金属４，５の混
合が防止される。
も小さく、上昇過程でさらに減速され、さらに静磁場帯
７の制動力によって静磁場帯７での溶融金属５の流動が
抑制され、界面を乱すこともなく両溶融金属４，５の混
合が防止される。
【００１８】さらに上昇流５ａと下降流５ｂは静磁場帯
７の下部においてそれぞれ循環流を形成するので、溶融
金属５は淀むことはなく、従って外層の凝固シェル８は
周方向に均一の厚みをもち、かつ外層と内層との界面が
明瞭な複層鋳片が得られる。
７の下部においてそれぞれ循環流を形成するので、溶融
金属５は淀むことはなく、従って外層の凝固シェル８は
周方向に均一の厚みをもち、かつ外層と内層との界面が
明瞭な複層鋳片が得られる。
【００１９】溶融金属は以上のような動態を保ちなが
ら、静磁場帯７上部の溶融金属４は鋳型１から抜熱され
て外層の凝固シェル８を形成し、また静磁場帯７下部の
溶融金属５は、外層の凝固シェル８を介して抜熱され
て、内層の凝固シェル９を形成する。
ら、静磁場帯７上部の溶融金属４は鋳型１から抜熱され
て外層の凝固シェル８を形成し、また静磁場帯７下部の
溶融金属５は、外層の凝固シェル８を介して抜熱され
て、内層の凝固シェル９を形成する。
【００２０】
【実施例】水平断面が２５０ｍｍ×１６００ｍｍの鋳型
に、外層用の浸漬ノズルよりＳＵＳ３０４組成をもつ溶
融金属（融点１４５０℃）を注入し、また内層用の浸漬
ノズルから普通鋼組成をもつ溶融金属（融点１４９６
℃）を注入して、鋳造速度１．２ｍ／ｍｉｎで複層鋳片
を製造した。
に、外層用の浸漬ノズルよりＳＵＳ３０４組成をもつ溶
融金属（融点１４５０℃）を注入し、また内層用の浸漬
ノズルから普通鋼組成をもつ溶融金属（融点１４９６
℃）を注入して、鋳造速度１．２ｍ／ｍｉｎで複層鋳片
を製造した。
【００２１】なお内層用の浸漬ノズルは、溶融金属の吐
出角度がそれぞれ４０°，６０°，７０°となる浸漬ノ
ズルを使用し、また比較例として０°，３０°，８０°
の浸漬ノズルを使用して複層鋳片を鋳造した。
出角度がそれぞれ４０°，６０°，７０°となる浸漬ノ
ズルを使用し、また比較例として０°，３０°，８０°
の浸漬ノズルを使用して複層鋳片を鋳造した。
【００２２】図３にその鋳造結果を示し、ここでは溶融
金属の吐出角度の変化に伴う鋳片表面からの距離とＣｒ
濃度との関係であらわした。
金属の吐出角度の変化に伴う鋳片表面からの距離とＣｒ
濃度との関係であらわした。
【００２３】本実施例では、得られた鋳片は平均外層厚
みはそれぞれ１４．５ｍｍ，１５．０ｍｍ，１５．５ｍ
ｍであり、また外層厚み偏差は±０．０５％以内であっ
た。さらに外層から内層にかけてのＣｒ濃度は、図示の
ように外層と内層間で明瞭に分離している。
みはそれぞれ１４．５ｍｍ，１５．０ｍｍ，１５．５ｍ
ｍであり、また外層厚み偏差は±０．０５％以内であっ
た。さらに外層から内層にかけてのＣｒ濃度は、図示の
ように外層と内層間で明瞭に分離している。
【００２４】これに対して比較例では、外層厚みはそれ
ぞれ８〜２５ｍｍの範囲で変動し、その外層厚み偏差は
±１０％以上であった。また外層から内層にかけてのＣ
ｒ濃度は、図示のように外層と内層間でなだらかな変化
を示し、不明瞭な界面を表している。
ぞれ８〜２５ｍｍの範囲で変動し、その外層厚み偏差は
±１０％以上であった。また外層から内層にかけてのＣ
ｒ濃度は、図示のように外層と内層間でなだらかな変化
を示し、不明瞭な界面を表している。
【００２５】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、内層用の
浸漬ノズルから吐出される溶融金属を、吐出口より内側
下方向に所定の角度を保持して吐出させることにより、
内層用の溶融金属によって外層の凝固シェルを洗うこと
も無く、また静磁場帯による溶融金属の界面を乱すこと
もないので、溶融金属間の混合を防止し、外層の凝固シ
ェルは周方向に均一の厚みをもち、かつ外層と内層との
界面も明瞭な複層鋳片が得られ、優れた品質の複層鋳片
を安定した条件下で製造することができる。
浸漬ノズルから吐出される溶融金属を、吐出口より内側
下方向に所定の角度を保持して吐出させることにより、
内層用の溶融金属によって外層の凝固シェルを洗うこと
も無く、また静磁場帯による溶融金属の界面を乱すこと
もないので、溶融金属間の混合を防止し、外層の凝固シ
ェルは周方向に均一の厚みをもち、かつ外層と内層との
界面も明瞭な複層鋳片が得られ、優れた品質の複層鋳片
を安定した条件下で製造することができる。
【図１】本発明方法を実施するに適した連続鋳造装置の
一例を示す略側面図である。
一例を示す略側面図である。
【図２】内層用の浸漬ノズル先端吐出口の一例を示す詳
細断面図である。
細断面図である。
【図３】溶融金属の吐出角度の変化に伴う鋳片表面から
の距離とＣｒ濃度との関係を示す図面である。
の距離とＣｒ濃度との関係を示す図面である。
【図４】従来の複層鋳片の連続鋳造方法を説明する略側
面図である。
面図である。
【図５】従来の他の連続鋳造方法を説明する略側面図で
ある。
ある。
１，１１ 鋳型 ２，１２ 外層用の浸漬ノズル ３，１３ 内層用の浸漬ノズル ３ａ 吐出口 ３ｂ 斜向板 ４，１４ 外層用の溶融金属 ５，１５ 内層用の溶融金属 ５ａ 上昇流 ５ｂ 下降流 ６，１６ 磁石 ７，１７ 静磁場帯 ８，１８ 外層の凝固シェル ９，１９ 内層の凝固シェル
Claims (1)
- 【請求項１】 鋳型に供給された溶融金属の湯面レベル
よりも下方の位置で、鋳片全幅にわたって水平に磁力線
が延在する静磁場を印加し、この静磁場帯を境として、
２本の浸漬ノズルより上下にそれぞれ組成の異なる金属
を供給して複層鋳片を連続鋳造するに際し、前記静磁場
帯の下方側に供給される溶融金属を、浸漬ノズルの吐出
口より内側下方向に４０°〜７０°の方向を保持して吐
出させることを特徴とする複層鋳片の連続鋳造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5019191A JPH07115125B2 (ja) | 1991-02-25 | 1991-02-25 | 複層鋳片の連続鋳造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5019191A JPH07115125B2 (ja) | 1991-02-25 | 1991-02-25 | 複層鋳片の連続鋳造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05208244A true JPH05208244A (ja) | 1993-08-20 |
| JPH07115125B2 JPH07115125B2 (ja) | 1995-12-13 |
Family
ID=12852270
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5019191A Expired - Lifetime JPH07115125B2 (ja) | 1991-02-25 | 1991-02-25 | 複層鋳片の連続鋳造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07115125B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8802952B2 (en) | 2012-02-15 | 2014-08-12 | Yamaha Corporation | Keyboard device for electronic musical instrument |
| CN108348989A (zh) * | 2015-10-30 | 2018-07-31 | 新日铁住金株式会社 | 复层铸坯的连续铸造装置以及连续铸造方法 |
-
1991
- 1991-02-25 JP JP5019191A patent/JPH07115125B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8802952B2 (en) | 2012-02-15 | 2014-08-12 | Yamaha Corporation | Keyboard device for electronic musical instrument |
| CN108348989A (zh) * | 2015-10-30 | 2018-07-31 | 新日铁住金株式会社 | 复层铸坯的连续铸造装置以及连续铸造方法 |
| US10987730B2 (en) | 2015-10-30 | 2021-04-27 | Nippon Steel Corporation | Continuous casting apparatus and continuous casting method for multilayered slab |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07115125B2 (ja) | 1995-12-13 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19960604 |