JPH05205237A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 短波長域における電磁変換特性を確保しつ
つ、耐久性の向上を図る。 【構成】 金属磁性薄膜型の磁気記録媒体において、金
属磁性薄膜２表面に高さ９００ű１００Åの第１の表
面突起及び高さ２５０ű５０Åの第２の表面突起をそ
れぞれ０．８×１０⁴ 〜３．８×１０⁴ 個／ｍｍ² ，４
５０×１０⁴ 〜２０００×１０⁴ 個／ｍｍ² の密度で形
成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、非磁性支持体上に磁性
層として金属磁性薄膜を有する所謂金属磁性薄膜型の磁
気記録媒体に関する。

【０００２】

【従来の技術】例えばビデオテープレコーダ（ＶＴＲ）
等の分野においては、高画質化を図るために、高密度記
録化が一層強く要求されており、これに対応する磁気記
録媒体として、金属あるいはＣｏ−Ｎｉ等の合金からな
る磁性材料をメッキや真空薄膜形成技術（真空蒸着法、
スパッタリング法、イオンプレーティング法等）により
直接非磁性支持体上に被着せしめて磁性層を形成する、
所謂金属磁性薄膜型の磁気記録媒体が提案されている。

【０００３】この金属磁性薄膜型の磁気記録媒体は、保
磁力、角形比及び短波長域における電磁変換特性に優れ
るばかりでなく、磁性層の薄膜化が可能であるために記
録減磁や再生時の厚み損失が著しく小さいことや、磁性
層中に非磁性材料である結合剤等を混入する必要がない
ために磁性材料の充填密度を高くできること等、数々の
利点を有している。

【０００４】このような磁気記録媒体においては、高記
録密度化に伴って磁気記録媒体のトラック密度や記録密
度の増加が図られているが、記録密度が高くなると、ス
ペーシングロスが大きくなるので、その悪影響を防止す
るために磁気記録媒体の表面は平滑化される傾向にあ
る。しかしながら、磁気記録媒体の表面が平滑すぎる
と、磁気ヘッドと媒体が吸着を引起し、摩擦力が増大す
る。このため、媒体に生じる剪断力が大きくなり、磁気
記録媒体が大きな損傷を受けてしまう。

【０００５】そこで、良好なスチル特性を確保するため
に、従来より例えば非磁性支持体上に表面突起を設け、
その層状作用により該非磁性支持体上に積層形成される
磁性層、保護層等の表面に適当な粗度を付与し、磁気記
録媒体の表面性を制御しようとする方法が行われてい
る。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】ところが、上述のよう
に磁気記録媒体の表面性を制御する場合、非磁性支持体
上に形成される表面突起の大きさの制御が非常に重要と
なる。即ち、この表面突起が大きくなるにつれて、スペ
ーシングロスが問題となり、電磁変換特性の劣化が生じ
てしまう。これに対して、上記表面突起の高さを抑える
と、スペーシングロスによる悪影響から免れるものの、
十分な走行耐久性を確保することができなくなる。

【０００７】従って、上記表面突起の大きさや密度を良
好に制御して、高電磁変換特性と良好な走行性の両者を
バランス良く確保することは、非常に難しいとされてい
る。そこで本発明は、上述の従来の実情に鑑みて提案さ
れたものであり、良好な電磁変換特性を確保しつつ、耐
久性の向上を図ることが可能な磁気記録媒体を提供する
ことを目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明者等は、上述の目
的を達成せんものと鋭意研究の結果、磁性層表面に大き
さの異なる２種類の表面突起をそれぞれ所定の密度で形
成することにより、良好な走行耐久性と高電磁変換特性
の両方を確保することが可能となることを見出し、本発
明を完成するに至った。

【０００９】即ち、本発明の磁気記録媒体は、非磁性支
持体上に金属磁性薄膜よりなる磁性層を有する磁気記録
媒体において、上記磁性層表面に高さ９００ű１００
Åの突起を０．８×１０⁴ 〜３．８×１０⁴ 個／ｍｍ²
の密度で有し、高さ２５０ű５０Åの突起を４５０×
１０⁴ 〜２０００×１０⁴ の密度で有することを特徴と
するものである。

【００１０】また、非磁性支持体上に金属磁性薄膜より
なる磁性層を有する磁気記録媒体において、上記磁性層
上に粒径９００ű１００Åなる第１の粒子によって形
成される表面突起と、粒径２５０ű５０Åなる第２の
粒子によって形成される表面突起を有し、且つ上記第１
の粒子の密度が０．８×１０⁴ 〜３．８×１０⁴ 個／ｍ
ｍ² 、上記第２の粒子の密度が４５０×１０⁴ 〜２００
０×１０⁴ 個／ｍｍ²であることを特徴とするものであ
る。

【００１１】さらに、上記磁性層の膜厚が５０００Å以
上であるものである。また、さらに、上記磁性層上に保
護層が形成されているものである。さらに、また、非磁
性支持体上に金属磁性薄膜よりなる磁性層を有する磁気
記録媒体において、上記非磁性支持体上に粒径９００Å
±１００Åなる第１の粒子によって形成される表面突起
と、粒径２５０ű５０Åなる第２の粒子によって形成
される表面突起を有し、且つ上記第１の粒子の密度が
０．８×１０⁴ 〜３．８×１０⁴ 個／ｍｍ² 、上記第２
の粒子の密度が４５０×１０⁴ 〜２０００×１０⁴ 個／
ｍｍ² であることを特徴とするものである。

【００１２】また、上記粒子はＳｉＯ₂ 粒子であるもの
である。

【００１３】本発明は、非磁性支持体上に磁性層として
金属磁性薄膜が形成されてなる所謂金属磁性薄膜型の磁
気記録媒体に適用される。

【００１４】上記非磁性支持体としては、プラスチック
フィルム等が使用可能である。また、上記金属磁性薄膜
の構成材料としては、特に限定されるものではなく、例
えばＣｏ、Ｃｏ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｆｅ−Ｎ
ｉ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ等の従来公知の強磁性金属材料が
何れも使用可能である。上記金属磁性薄膜の成膜方法と
しては、真空薄膜形成技術が挙げられ、例えば真空蒸着
法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等が何
れも使用可能である。

【００１５】このような磁気記録媒体では、上記金属磁
性薄膜表面に表面突起を形成することにより、表面性が
制御されて、走行性が改善されるが、表面突起を形成す
る場合、その高さ分だけスペーシングロスが大きくなり
電磁変換特性の劣化を招く。

【００１６】そこで、本発明では、金属磁性薄膜表面に
高さの異なる２種類の表面突起、すなわち高さ９００Å
±１００Åの第１の表面突起と高さ２５０ű５０Åの
第２の表面突起をそれぞれ０．８×１０⁴ 〜３．８×１
０⁴ 個／ｍｍ² ，４５０×１０⁴ 〜２０００×１０⁴ の
密度で形成して表面性を制御することとする。これら高
さの異なる２種類の表面突起を所定の密度で形成するこ
とにより、電磁変換特性をほとんど劣化させることなく
走行耐久性が向上することとなる。例えば第１の表面突
起、第２の表面突起の密度が上記範囲からはずれると走
行耐久性，電磁変換特性のいずれかが劣化する。

【００１７】上記第１の表面突起，第２の表面突起を有
する磁気記録媒体は、各表面突起の高さに対応する粒径
の粒子を用いることによって作製できる。

【００１８】たとえば、非磁性支持体原材料（チップ）
に粒径が９００ű１００Åの第１の粒子を添加して分
散させ、この非磁性支持体原材料を用いて非磁性支持体
を作製する。これにより、第１の粒子の粒径に対応する
高さの表面突起が形成された非磁性支持体が得られる。
なお、このとき第１の粒子の原材料への添加量は非磁性
支持体表面に突出する表面突起の密度が上記範囲となる
ように調整する。

【００１９】さらにこの非磁性支持体上に粒径が２５０
ű５０Åの第２の粒子を上記範囲の密度となるように
配置して、バインダー樹脂等により定着させる。これに
より高さが９００ű１００Å，２５０ű５０Åの２
種類の表面突起を有する非磁性支持体が得られる。

【００２０】そして、この非磁性支持体上に金属磁性薄
膜を成膜する。突起を有する非磁性支持体上に金属磁性
薄膜を成膜すると層状作用により突起形状が該金属磁性
薄膜の表面に反映される。したがって、高さが９００Å
±１００Åの第１の表面突起，高さが２５０ű５０Å
の第２の表面突起を金属磁性薄膜表面に有する上記磁気
記録媒体が得られることとなる。

【００２１】なお、非磁性支持体の突起形状が金属磁性
薄膜表面へ反映される精度は、金属磁性薄膜の膜厚に依
存する。すなわち、金属磁性薄膜の膜厚が薄い場合に
は、比較的精度良く表面に非磁性支持体の突起形状が反
映されるが、金属磁性薄膜の膜厚が５０００Åを越える
と突起形状が精度良く表面に反映されなくなる。したが
って、このようにして表面突起を形成する場合には、金
属磁性薄膜は５０００Å以下の膜厚で形成することが好
ましい。

【００２２】また、上記方法は、表面突起を予め非磁性
支持体上に形成しておくものであるが、非磁性支持体と
しては表面平坦なものを用い、金属磁性薄膜表面に上記
第１の粒子，第２の粒子をそれぞれ所定の密度で配置
し、この上を保護層で覆おうことにより突起を保持する
ようにしても良い。

【００２３】表面突起を有する非磁性支持体表面に金属
磁性薄膜を形成する場合、表面突起により、金属磁性薄
膜内部の磁性粒子の配向性が影響を受け、電磁変換特性
が劣化する虞れがあるが、後者の方法によればこのよう
な不都合は回避される。

【００２４】なお、上記粒子としては、ＳｉＯ₂ 粒子_,
エマルジョン等が使用される。エマルジョンとしては、
水性エマルジョンであっても非水エマルジョンであって
もよく、さらにはラテックス等も使用可能である。ま
た、エマルジョンに含まれる合成樹脂の種類としても、
酢酸ビニル，アクリル酸エステル，メタクリル酸エステ
ル，塩化ビニリデン，塩化ビニル，エチレン，スチレン
等のホモポリマー，コポリマーからなる熱可塑性樹脂
や、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂，ブタジエン−スチ
レン共重合体，ブタジエン−アクリロニトリル共重合体
等の合成ゴム等、特に限定されるものではない。

【００２５】また、上記保護層としては、金属磁性薄膜
型の磁気記録媒体において通常使用されているものがい
ずれも使用可能である。例えば、カーボン，ＣｒＯ₂ ，
Ａｌ ₂ Ｏ₃ ，ＢＮ，Ｃｏ酸化物，ＭｇＯ，ＳｉＯ₂ ，Ｓ
ｉ₃ Ｏ₄ ，ＳｉＮ_x ，ＳｉＣ，ＳｉＮ_x −ＳｉＯ₂ ，Ｚ
ｒＯ₂ ＴｉＯ₂ ，ＴｉＣ等を真空薄膜成膜手段によって
成膜した単層膜，多層膜あるいは複合膜等が挙げられ
る。

【００２６】なお、以上が本発明の基本的な構成である
が、本発明においては、必要に応じて、上記非磁性支持
体上に下塗り膜やバックコート層、トップコート層等を
適宜形成しても良い。この場合、下塗り膜、バックコー
ト層、トップコート層等の成膜方法は、通常この種の磁
気記録媒体に適用される方法であればいすれでも良く、
特に限定されない。

【００２７】

【作用】非磁性支持体上に金属磁性薄膜よりなる磁性層
を有する磁気記録媒体において、上記磁性層表面に高さ
が異なる２種類の表面突起をそれぞれ所定の密度で形成
すると、電磁変換特性をほとんど劣化させることなく走
行耐久性が向上する。

【００２８】上記表面突起を形成するには、該表面突起
の高さに対応する粒径の粒子を保持する非磁性支持体を
用い、この上に金属磁性薄膜を形成する。上記粒子を保
持する非磁性支持体上に金属磁性薄膜を成膜すると層状
作用により粒子の形状が金属磁性薄膜表面に反映する。
したがって、金属磁性薄膜表面には上記粒子の粒径に対
応する高さの表面突起が形成される。

【００２９】あるいは、表面平坦な非磁性支持体上に金
属磁性薄膜を形成し、該金属磁性薄膜表面に上記粒子を
配置して突起を保持する。この場合、粒子を保持する非
磁性支持体上に金属磁性薄膜を成膜する場合に生じる磁
性粒子の配向性の劣化が回避される。

【００３０】

【実施例】以下、本発明を適用した具体的な実施例を図
面を参照しながら説明する。本実施例は、非磁性支持体
上に粒径の異なる２種類の粒子によって表面突起が形成
されている金属磁性薄膜型の磁気テープの例である。本
実施例の磁気テープは、図１に示すように、ポリエチレ
ンテレフタレート（ＰＥＴ）からなる非磁性支持体１上
に膜厚１μｍ以下とされる薄膜の磁性層２を有してな
る。この磁性層２は、金属磁性薄膜からなり、例えば真
空蒸着法等により成膜される。

【００３１】上記非磁性支持体１上には、比較的大きな
第１の表面突起３と、比較的小さな第２の表面突起４が
形成されている。上記第１の表面突起３は、粒径９００
ű１００Åなる第１の粒子５によって形成されるもの
であり、上記非磁性支持体１内に内添された上記第１の
粒子５の粒子形状が上記非磁性支持体１の表面に反映さ
れたかたちで形成されてなるものである。この時、上記
第１の粒子５の密度は、０．８×１０⁴ 〜３．８×１０
⁴個／ｍｍ² とされる。

【００３２】このような第１の粒子５は、その密度が上
記範囲内となるように上記非磁性支持体１内で適当に分
散されてその一部がある程度凝集したかたちで存在して
いる。この第１の粒子５として、本実施例ではＳｉＯ₂
粒子を使用した。

【００３３】一方、上記第２の表面突起４は、粒径２５
０ű５０Åなる第２の粒子６によって形成されるもの
であり、上記非磁性支持体１上に分散され、バインダー
樹脂等により定着されてなるものである。この時、上記
第２の粒子６の密度は、４５０×１０⁴ 〜２０００×１
０⁴ 個／ｍｍ² とされる。ここでは、上記第２の粒子６
として、ＳｉＯ₂ 粒子を使用した。

【００３４】そこで、上述のような構成を有する磁気テ
ープにおいて、上記第１の粒子５及び第２の粒子６の密
度を変化させた時の電磁変換特性及び耐久性を調べた。
この結果を図２乃至図７に示す。図２は、上記第１の粒
子５の密度とＲＦ特性の関係を示す。

【００３５】図２に示すように、各粒径の場合において
も上記第１の粒子５の密度が高くなるほど、ＲＦ特性は
低下する傾向にあり、−１ｄＢ以上の出力を得るために
は、粒径が６００ű１００Å及び９００ű１００Å
の場合でそれぞれ４．３×１０⁴ 個／ｍｍ² 以下、３．
８×１０⁴ 個／ｍｍ² 以下とし、粒径１２００ű１０
０Åの場合では０．８×１０⁴ 個／ｍｍ² 以下まで減ら
さなければならないことが判った。

【００３６】また、上述と同様に３種類の粒径の場合に
おいて、上記第１の粒子５の密度とクロッグまでのパス
回数の関係を調べ、これを図３に示した。上記クロッグ
までのパス回数は、５台のデッキのうち最初の１台がク
ロッグを起こすまでのパス回数とした。

【００３７】図３に示すように、上記第１の粒子５の粒
径を６００ű１００Å、９００ű１００Å及び１２
００ű１００Åとした場合、何れにおいても上記第１
の粒子５の密度が高くなるほど、クロッグまでのパス回
数が増加する傾向にあった。また、パス回数の下限を６
０回とすると、粒径が９００ű１００Å及び１２００
ű１００Åの場合には、密度をそれぞれ０．８×１０
⁴ 個／ｍｍ² 以上、０．４×１０⁴ 個／ｍｍ² 以上とす
れば良いのに対して、粒径６００ű１００Åの場合に
は２．２×１０⁴ 個／ｍｍ² 以上としなければならない
ことが判った。

【００３８】従って、良好な電磁変換特性と耐久性の両
者を実現可能とするためには、上記第１の粒子５の粒径
が６００ű１００Åの場合で２．２〜４．３×１０⁴
個／ｍｍ² 、９００ű１００Åの場合で０．８〜３．
８×１０⁴ 個／ｍｍ² 、１２００ű１００Åの場合で
０．４〜０．８×１０⁴ 個／ｍｍ² とする必要があるこ
とが判った。

【００３９】更に、この結果を、図４に示される上記第
１の粒子５の密度と４時間走行後での理想状態からのレ
ベルダウンの関係と併せて検討したところ、粒径６００
ű１００Åとした場合には、上記範囲内でレベルダウ
ンが大きく、使用不可能であった。また、粒径１２００
ű１００Åの場合では、上記範囲内で使用可能である
が、この範囲が非常に狭い点で実用に足らない。これに
対して、粒径９００ű１００Åの場合には、上記範囲
内で十分な特性を得ることができる。

【００４０】次に、上記第２の粒子６（粒径を１８０
Å、２５０Å及び３５０Åとした。）の密度とスチル特
性及びＲＦ特性の関係をそれぞれ調べた。なお、スチル
特性は、ｎ＝８のヘッドに関しクロッグを起こすまでの
平均時間（分）とした。この結果、図５に示すように、
実用的なスチル特性を得るためには、上記第２の粒子６
の密度をそれぞれ６５０×１０⁴ 個／ｍｍ² 以上、４５
０×１０⁴ 個／ｍｍ² 以上及び３８０×１０⁴ 個／ｍｍ
² 以上としなければならないことが判った。

【００４１】また、図６より、ＲＦ特性の観点から出力
を−１．５ｄＢ以上とするためには、粒径１８０Åの場
合で２８００×１０⁴ 個／ｍｍ² 以下、粒径２５０Åの
場合で２０００×１０⁴ 個／ｍｍ² 以下、粒径３５０Å
の場合で６００×１０⁴ 個／ｍｍ² 以下としなければな
らないことが判った。

【００４２】従って、良好な電磁変換特性と耐久性の両
者を実現可能とするためには、上記第２の粒子６の粒径
が１８０Åの場合で６５０〜２８００×１０⁴ 個／ｍｍ
² 、２５０Åの場合で４５０〜２０００×１０⁴ 個／ｍ
ｍ² 、３５０Åの場合で３８０〜６００×１０⁴ 個／ｍ
ｍ² とする必要があることが判った。更に、この結果を
図７に示される上記第２の粒子６の密度と４時間走行後
での理想状態からのレベルダウンの関係と併せて検討し
たところ、上記第２の粒子６の粒径が３５０Åの場合に
はレベルダウンは非常に良好であった。また、粒径１８
０Åの場合では、上記範囲内で良好な結果が得られるも
のの、その範囲が極めて狭いために実用性に乏しい。こ
れに対して、粒径２５０Åの場合では、上記範囲内で使
用可能であり、十分に実用性を有することが判った。

【００４３】以上の結果から、上記非磁性支持体上に大
きさの異なる２種類の表面突起を形成し、これら表面突
起を形成している粒子の密度を上述の範囲内に規定すれ
ば、電磁変換特性と走行性のバランスに優れた磁気テー
プを得ることができることが判った。

【００４４】実験例２ 本実験例は、粒子を保持する非磁性支持体上に金属磁性
薄膜、保護層が形成されてなる磁気記録媒体（下塗り式
磁気記録媒体）と、表面平坦な非磁性支持体上に形成さ
れた金属磁性薄膜表面に粒子を配置し、さらに該金属磁
性薄膜上に保護層が形成されてなる磁気記録媒体（上塗
り式磁気記録媒体）の特性を比較検討した例である。

【００４５】（１）上塗り式磁気記録媒体の作製 図８に示す上塗り式磁気記録媒体を表面突起の密度を変
えて各種作成した。

【００４６】先ず、厚さ９．８μｍのポリエチレンテレ
フタレート（ＰＥＴ）フィルム１１上に、膜厚２００ｎ
ｍのＣｏ−Ｎｉ金属磁性薄膜１２を蒸着法により形成し
た。蒸着条件を以下に示す。 Ｃｏ−Ｎｉ蒸着条件 テープ送り速度：１４ｍ／分 酸素導入量 ：２５０ｃｃ／分 最小入射角 ：４５° 蒸着源 ：Ｃｏ₈₀−Ｎｉ₂₀（数値は重量％）

【００４７】次いで、形成された金属磁性薄膜１２上
に、エマルジョン１３を配置して表面突起を各種密度で
形成した。なお、エマルジョンの配置は、粒径３０ｎｍ
の耐アルコール性エマルジョンがノルマルプロピルアル
コール中に各種濃度で分散されてなるエマルジョン分散
液をオフセット方式により金属磁性薄膜上に塗布，乾燥
することにより行った。

【００４８】そして、表面突起が形成された金属磁性薄
膜１２上に、膜厚１０ｎｍのカーボン保護層１４をＲＦ
スパッタ法により形成した。スパッタ条件を以下に示
す。 スパッタ条件 テープ送り速度：１．５ｍ／分 パワー ：５ｋＷ

【００４９】最後に、ＰＥＴフィルム１１の保護層１４
を形成した側とは反対側の表面にカーボンを主原料とす
るバックコート塗料を塗布，乾燥して膜厚０．８μｍの
バックコート層１５を形成し、保護層１４上にはフッ素
系潤滑剤を塗布してトップコート層を形成し、各種上塗
り式磁気記録媒体（上塗り式媒体１）を作製した。

【００５０】（２）下塗り式磁気記録媒体の作製 図９に示す下塗り式の磁気記録媒体を表面突起の密度を
変えて各種作製した。

【００５１】先ず、厚さ９．８μｍのＰＥＴフィルム２
１上に、各種濃度のエマルジョン分散液をオフセット方
式にて塗布，乾燥することにより、エマルジョン２２を
配置した。

【００５２】次いで、エマルジョン２２が配置されたＰ
ＥＴフィルム２１上に上述と同様にしてＣｏ−Ｎｉ金属
磁性薄膜２３を形成した。このとき形成された金属磁性
薄膜２３表面には、非磁性支持体２１上に配置されたエ
マルジョン２２の形状を反映した突起が形成されてい
る。そして、保護層２４，バックコート層２５，トップ
コート層を形成し、各種下塗り式磁気記録媒体（下塗り
式媒体１）を作製した。

【００５３】さらに下塗り式磁気記録媒体については保
護層２４を有さないもの（下塗り式媒体２）も上記下塗
り式媒体１に準じて作製した。

【００５４】（３）特性の検討 このようにして作製された磁気記録媒体について、スチ
ル寿命，保磁力，飽和磁化量，電磁変換特性について調
べた。

【００５５】ここで保磁力，飽和磁化量は、試料振動型
磁力計（ＶＳＭ）を用いて測定した。電磁変換特性は、
周波数７ＭＨｚ，相対速度３．８ｍ／秒，記録波長０．
４９μｍで記録した記録信号を再生したときの再生出力
によって評価した。なお、測定はソニー社製，商品名Ｅ
Ｖ−Ｓ９００改造機を用いて行った。

【００５６】スチル寿命は、スチル再生したときに再生
出力が３ｄＢ低下するまでの時間によって評価した。ス
チル寿命，保磁力，飽和磁化量，電磁変換特性の測定結
果を図１０〜図１３にそれぞれ示す。

【００５７】まず、図１０からわかるように、スチル寿
命は、上塗り式媒体１，下塗り式媒体１，下塗り式媒体
２のいずれにおいても表面突起の密度の増加に伴って向
上することがわかる。例えば保護層を有する場合であれ
ば表面突起を５００万個／ｍｍ² 以上の密度で形成する
と現在汎用されている記録再生装置において実用的な走
行耐久性が得られる。

【００５８】次にこのような結果を踏まえて、図１１及
び図１２を見ると、下塗り式媒体１では、表面突起の密
度を増加させるとそれに伴って、保持力，飽和磁化量が
低下する。これは、非磁性支持体上に形成されている表
面突起により金属磁性薄膜を構成する磁性粒子の配向性
が悪影響を受けるからと考えられる。これに対して、上
塗り式媒体１においては、表面突起の密度を増加させて
も保磁力，飽和磁化量は、何ら影響を受けず、表面突起
を形成しない場合と同程度の値を維持している。

【００５９】さらに、図１３を見ると、下塗り式媒体１
では、表面突起の密度を増加させると、それに伴って電
磁変換特性が大きく低下し、表面突起を５００万個／ｍ
ｍ²で形成した場合には再生出力が−２ｄＢに満たない
程度にまで落ち込む。下塗り式磁気記録媒体においても
保護層が形成されていない下塗り式媒体２では、保護層
がない分スペーシングロスが抑えられ、表面突起の密度
が高くても電磁変換特性はそれ程小さい値にはならない
ものの（下塗り式媒体１よりも１０ｄＢ大きな値）、保
護層を設けないと図１０を見てわかるように走行耐久性
が不十分となる。

【００６０】これに対して、上塗り式媒体１において
は、表面突起の密度の増加に伴って若干は電磁変換特性
が低下するもののその低下の割合は小さい。例えば表面
突起を実用的な走行耐久性が得られる５００万個／ｍｍ
² で形成した場合にも十分実用的な電磁変換特性が得ら
れる。

【００６１】すなわち、下塗り式磁気記録媒体では、表
面突起の密度を増加させようとすると磁気特性，電磁変
換特性が劣化する。このため表面突起の密度を十分に増
やすことができず、走行耐久性の確保が困難である。こ
れに対して、上塗り式磁気記録媒体においては、表面突
起の密度を増加させても下塗り式磁気記録媒体のような
特性劣化がほとんど生じないため、表面突起の密度を増
加させるとが可能であり走行耐久性の向上に有利であ
る。

【００６２】

【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明では、非磁性支持体上に金属磁性薄膜が形成されてな
る磁気記録媒体において、金属磁性薄膜上に高さの異な
る２種類の突起を形成するこにより表面性を制御するの
で、スペーシングロスによる電磁変換特性の劣化を抑え
て走行耐久性の向上を図ることができる。

【００６３】したがって、本発明によれば従来より問題
となっているＰＯＭ製ガイドと磁性層表面との静摩擦係
数が高い時に発生する画質異常（所謂、ヒキツレ現象）
が防止できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明を適用した磁気記録媒体の一例の構成を
示す断面図である。

【図２】第１の粒子の密度とＲＦ特性の関係を示す特性
図である。

【図３】非磁性支持体内に内添される第１の粒子の密度
とクロッグまでのパス回数の関係を示す特性図である。

【図４】第１の粒子の密度とレベルダウンの関係を示す
特性図である。

【図５】非磁性支持体上に分散される第２の粒子の密度
とスチル特性の関係を示す特性図である。

【図６】第２の粒子の密度とＲＦ特性の関係を示す特性
図である。

【図７】第２の粒子の密度とレベルダウンの関係を示す
特性図である。

【図８】上塗り式磁気記録媒体の一構成例を示す断面図
である。

【図９】下塗り式磁気記録媒体の一構成例を示す断面図
である。

【図１０】表面突起の密度とスチル寿命の関係を示す特
性図である。

【図１１】表面突起の密度と保持力の関係を示す特性図
である。

【図１２】表面突起の密度と飽和磁化量の関係を示す特
性図である。

【図１３】表面突起の密度と再生出力の関係を示す特性
図である。

【符号の説明】

１・・・非磁性支持体 ２・・・磁性層 ３・・・第１の表面突起 ４・・・第２の表面突起 ５・・・第１の粒子 ６・・・第２の粒子

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 伊藤 条太 東京都品川区北品川６丁目７番35号 ソニ ー株式会社内 (72)発明者 内海 俊治 東京都品川区北品川６丁目７番35号 ソニ ー株式会社内 (72)発明者 鈴木 耐三 東京都品川区北品川６丁目７番35号 ソニ ー株式会社内

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 非磁性支持体上に金属磁性薄膜よりなる
   磁性層を有する磁気記録媒体において、 上記磁性層表面に高さ９００ű１００Åの表面突起を
   ０．８×１０⁴ 〜３．８×１０⁴ 個／ｍｍ² の密度で有
   し、高さ２５０ű５０Åの表面突起を４５０×１０⁴
   〜２０００×１０⁴ の密度で有することを特徴とする磁
   気記録媒体。
2. 【請求項２】 上記磁性層の膜厚が５０００Å以下であ
   る請求項１記載の磁気記録媒体。
3. 【請求項３】 非磁性支持体上に金属磁性薄膜よりなる
   磁性層を有する磁気記録媒体において、 上記磁性層上に粒径９００ű１００Åなる第１の粒子
   によって形成される表面突起と、粒径２５０ű５０Å
   なる第２の粒子によって形成される表面突起を有し、 且つ上記第１の粒子の密度が０．８×１０⁴ 〜３．８×
   １０⁴ 個／ｍｍ² 、上記第２の粒子の密度が４５０×１
   ０⁴ 〜２０００×１０⁴ 個／ｍｍ² であることを特徴と
   する磁気記録媒体。
4. 【請求項４】 上記磁性層上に保護層が形成されている
   請求項３記載の磁気記録媒体。
5. 【請求項５】 非磁性支持体上に金属磁性薄膜よりなる
   磁性層を有する磁気記録媒体において、 上記非磁性支持体上に粒径９００ű１００Åなる第１
   の粒子によって形成される表面突起と、粒径２５０ű
   ５０Åなる第２の粒子によって形成される表面突起を有
   し、 且つ上記第１の粒子の密度が０．８×１０⁴ 〜３．８×
   １０⁴ 個／ｍｍ² 、上記第２の粒子の密度が４５０×１
   ０⁴ 〜２０００×１０⁴ 個／ｍｍ² であることを特徴と
   する磁気記録媒体。
6. 【請求項６】 上記粒子はＳｉＯ₂ 粒子である請求項３
   または請求項５記載の磁気記録媒体。