JPH05190427A - 減圧チャンバーの圧力制御方法およびその装置 - Google Patents
減圧チャンバーの圧力制御方法およびその装置Info
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- JPH05190427A JPH05190427A JP4019528A JP1952892A JPH05190427A JP H05190427 A JPH05190427 A JP H05190427A JP 4019528 A JP4019528 A JP 4019528A JP 1952892 A JP1952892 A JP 1952892A JP H05190427 A JPH05190427 A JP H05190427A
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- G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 停電時に、減圧チャンバ−内の吸着手段の真
空吸着力が不足して基板が落下するのを防止する。 【構成】 第１の真空ポンプ３によって減圧され、給気
ライン４から供給されるヘリウムガスによって減圧ヘリ
ウムガス雰囲気に維持される減圧チャンバ−１に非常用
給気ライン１９を設ける。停電時には、非常用給気ライ
ンの第１弁１９ａが開いて、前記減圧チャンバ−１内に
大気を導入して該減圧チャンバ−１の圧力低下を防ぐ。
従って該減圧チャンバ−１内に設けられたウエハチャッ
ク７、検知台チャック１０および各吸着ハンド１１ａ，
１１ｂの真空吸着力が不足することはない。
空吸着力が不足して基板が落下するのを防止する。 【構成】 第１の真空ポンプ３によって減圧され、給気
ライン４から供給されるヘリウムガスによって減圧ヘリ
ウムガス雰囲気に維持される減圧チャンバ−１に非常用
給気ライン１９を設ける。停電時には、非常用給気ライ
ンの第１弁１９ａが開いて、前記減圧チャンバ−１内に
大気を導入して該減圧チャンバ−１の圧力低下を防ぐ。
従って該減圧チャンバ−１内に設けられたウエハチャッ
ク７、検知台チャック１０および各吸着ハンド１１ａ，
１１ｂの真空吸着力が不足することはない。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、シンクロトロン放射光
を用いるＸ線露光装置等の減圧チャンバーの圧力制御方
法およびその装置に関し、特に減圧チャンバー内におい
て、真空吸着力を利用してウエハ等基板の受渡しを行う
に当って、停電時に、ウエハ等基板の落下を防止する減
圧チャンバーの圧力制御方法およびその装置に関するも
のである。
を用いるＸ線露光装置等の減圧チャンバーの圧力制御方
法およびその装置に関し、特に減圧チャンバー内におい
て、真空吸着力を利用してウエハ等基板の受渡しを行う
に当って、停電時に、ウエハ等基板の落下を防止する減
圧チャンバーの圧力制御方法およびその装置に関するも
のである。
【０００２】
【従来の技術】シンクロトロン放射光を用いるＸ線露光
装置の減圧チャンバーは、シンクロトロン放射光の減衰
を防ぐためにビームパスの雰囲気を減衰の少ないＨｅ等
のガスで低圧状態に置き換えるためのものであり、Ｘ線
の強度を安定にするため、温度、圧力、ガス純度を高精
度に維持されている。この減圧チャンバーには、純度管
理のために常時一定量の温度・純度の管理されたＨｅガ
スがチャンバー内に供給されており、圧力を管理するた
めに真空ポンプと排気バルブにより、チャンバー圧が１
５０Ｔｏｒｒ程度の低圧にコントロールされている。
装置の減圧チャンバーは、シンクロトロン放射光の減衰
を防ぐためにビームパスの雰囲気を減衰の少ないＨｅ等
のガスで低圧状態に置き換えるためのものであり、Ｘ線
の強度を安定にするため、温度、圧力、ガス純度を高精
度に維持されている。この減圧チャンバーには、純度管
理のために常時一定量の温度・純度の管理されたＨｅガ
スがチャンバー内に供給されており、圧力を管理するた
めに真空ポンプと排気バルブにより、チャンバー圧が１
５０Ｔｏｒｒ程度の低圧にコントロールされている。
【０００３】このような減圧チャンバー内において、ウ
エハ等の基板（以下基板と称する）を保持するウエハチ
ャックおよび基板のオリフラ面を検出するオリフラ検知
台の検知台チャックは、いずれも真空吸着力によって基
板を吸着するものであり、前記ウエハチャックおよび検
知台チャック間における基板の搬送および受渡しは、両
者の間を往復移動する吸着ハンドによって行われる。シ
ンクロトロン放射光を利用した露光装置では、光源から
Ｘ線は略水平状態で入射してくるため、基板を焼付けの
ため位置決めするステージは縦型のものが使われる。従
って、基板をウエハステージに受け渡す際などは、基板
を立てた状態で受け渡すことになる。
エハ等の基板（以下基板と称する）を保持するウエハチ
ャックおよび基板のオリフラ面を検出するオリフラ検知
台の検知台チャックは、いずれも真空吸着力によって基
板を吸着するものであり、前記ウエハチャックおよび検
知台チャック間における基板の搬送および受渡しは、両
者の間を往復移動する吸着ハンドによって行われる。シ
ンクロトロン放射光を利用した露光装置では、光源から
Ｘ線は略水平状態で入射してくるため、基板を焼付けの
ため位置決めするステージは縦型のものが使われる。従
って、基板をウエハステージに受け渡す際などは、基板
を立てた状態で受け渡すことになる。
【０００４】これらのことを踏え、従来例を第４図を参
照し説明する。
照し説明する。
【０００５】減圧チャンバー１０１は、排気ライン１０
２の制御弁１０２ａを介して第１の真空ポンプ１０３に
よって減圧される一方、ヘリウムガス供給源１０５から
調整弁１０４ａを経てヘリウムガスを連続的に供給さ
れ、減圧チャンバー１０１の減圧雰囲気は、制御弁１０
２ａによって１５０Ｔｏｒｒ程度の一定減圧雰囲気に維
持される。減圧チャンバー１０１内にはウエハステ−ジ
１０８、ウエハチャック１０７、オリフラ検知台１０
９、検知台チャック１１０、ウエハチャック１０７と検
知台チャック１１０との間において、基板であるウエハ
１０６の搬送および受渡しを行う１対の吸着ハンド１１
１ａ，１１１ｂ、該吸着ハンドを移動させるトラバ−サ
−１１２が配置される。ウエハチャック１０７、検知台
チャック１１０、各吸着ハンド１１１ａ，１１１ｂの排
気ライン１１３，１１４，１１５，１１６はそれぞれ制
御弁１１３ａ，１１４ａ，１１５ａ，１１６ａを介して
第２の真空ポンプ１１７によって、ウエハを吸着するた
めの真空吸着力を与えられる。上記ウエハの搬送および
受渡しは、ほぼ垂直状態で行われるため、停電時に真空
吸着力が消滅すると、ウエハが落下するおそれがある。
このような非常時にウエハの落下を防ぐ目的で、第２の
真空ポンプ１１７は、通常の操作時に接続される主電源
回路（図示せず）の他に停電時に接続される無停電電源
回路１１８を備えている。
２の制御弁１０２ａを介して第１の真空ポンプ１０３に
よって減圧される一方、ヘリウムガス供給源１０５から
調整弁１０４ａを経てヘリウムガスを連続的に供給さ
れ、減圧チャンバー１０１の減圧雰囲気は、制御弁１０
２ａによって１５０Ｔｏｒｒ程度の一定減圧雰囲気に維
持される。減圧チャンバー１０１内にはウエハステ−ジ
１０８、ウエハチャック１０７、オリフラ検知台１０
９、検知台チャック１１０、ウエハチャック１０７と検
知台チャック１１０との間において、基板であるウエハ
１０６の搬送および受渡しを行う１対の吸着ハンド１１
１ａ，１１１ｂ、該吸着ハンドを移動させるトラバ−サ
−１１２が配置される。ウエハチャック１０７、検知台
チャック１１０、各吸着ハンド１１１ａ，１１１ｂの排
気ライン１１３，１１４，１１５，１１６はそれぞれ制
御弁１１３ａ，１１４ａ，１１５ａ，１１６ａを介して
第２の真空ポンプ１１７によって、ウエハを吸着するた
めの真空吸着力を与えられる。上記ウエハの搬送および
受渡しは、ほぼ垂直状態で行われるため、停電時に真空
吸着力が消滅すると、ウエハが落下するおそれがある。
このような非常時にウエハの落下を防ぐ目的で、第２の
真空ポンプ１１７は、通常の操作時に接続される主電源
回路（図示せず）の他に停電時に接続される無停電電源
回路１１８を備えている。
【０００６】図５は、それぞれ図４の各吸着ハンド１１
１ａ，１１１ｂが、ウエハチャック１０７に対してウエ
ハ１０６の受渡しを行う過程を説明する立面図である。
１ａ，１１１ｂが、ウエハチャック１０７に対してウエ
ハ１０６の受渡しを行う過程を説明する立面図である。
【０００７】図５の（Ａ）は、トラバ−サ−１１２によ
って、ウエハチャック１０７に対する受渡し位置に運ば
れた吸着ハンド１１１ａおよびウエハ１０６を示すもの
で、このとき位置決め用のウエハステ−ジ１０８に保持
されたウエハチャック１０７の真空吸着力は作用してい
ない。
って、ウエハチャック１０７に対する受渡し位置に運ば
れた吸着ハンド１１１ａおよびウエハ１０６を示すもの
で、このとき位置決め用のウエハステ−ジ１０８に保持
されたウエハチャック１０７の真空吸着力は作用してい
ない。
【０００８】図５の（Ｂ）に示すように、吸着ハンド１
１１ａが矢印Ａの方向に移動して、ウエハ１０６をウエ
ハチャック１０７の表面に対して所定の距離まで近づけ
たとき、ウエハチャック１０７の真空吸着が開始され
る。次いで図５の（Ｃ）に示すように、ウエハ１０６が
完全にウエハチャック１０７の表面に吸着された後、吸
着ハンド１１１ａの真空吸着力が解除される。
１１ａが矢印Ａの方向に移動して、ウエハ１０６をウエ
ハチャック１０７の表面に対して所定の距離まで近づけ
たとき、ウエハチャック１０７の真空吸着が開始され
る。次いで図５の（Ｃ）に示すように、ウエハ１０６が
完全にウエハチャック１０７の表面に吸着された後、吸
着ハンド１１１ａの真空吸着力が解除される。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】上記従来の技術におい
ては、減圧チャンバー内において、真空吸着力によっ
て、ウエハ等基板をウエハチャック、検知台チャックお
よび吸着ハンドに吸着させるものであり、前記真空吸着
力を発生させる真空ポンプ等の真空発生源は、停電時に
運転を停止することのないように無停電電源に接続され
ているため、基板の受渡しの途中で停電した場合に、基
板の保持していない保持手段であるウエハチャックかウ
エハハンドのいずれかから減圧チャンバー内のガスは排
気され、数分の後に、前記減圧チャンバーの雰囲気圧力
が低下して、充分な吸着力を発生させることができず
に、基板を落下させる危険がある。
ては、減圧チャンバー内において、真空吸着力によっ
て、ウエハ等基板をウエハチャック、検知台チャックお
よび吸着ハンドに吸着させるものであり、前記真空吸着
力を発生させる真空ポンプ等の真空発生源は、停電時に
運転を停止することのないように無停電電源に接続され
ているため、基板の受渡しの途中で停電した場合に、基
板の保持していない保持手段であるウエハチャックかウ
エハハンドのいずれかから減圧チャンバー内のガスは排
気され、数分の後に、前記減圧チャンバーの雰囲気圧力
が低下して、充分な吸着力を発生させることができず
に、基板を落下させる危険がある。
【００１０】すなわち、図５の（Ｂ）において、吸着ハ
ンド１１１ａに保持されたウエハ１０６がウエハチャッ
ク１０７に向って移動中であって、ウエハチャック１０
７の真空吸着力が作動を開始しており、しかもウエハ１
０６がウエハチャック１０７に未だ接触していない時に
停電が起こり、吸着ハンド１１１ａの移動が停止した場
合、第１の真空ポンプ１０３に接続された排気ライン１
０２の制御弁１０２ａおよびヘリウムガス供給ライン１
０４の調整弁１０４ａは自動的に閉じられる。この時、
各弁は停電時と長期休止時それぞれに対応しなくてはな
らないため、通常動作の弁は全て電源停止時に閉状態と
なる。これは、長期休止時にチャンバー内は、Ｎ2 等の
リークしにくくチャンバー内を汚染しないガスで充填す
るためである。第２の真空ポンプ１１７は無停電電源１
１８に接続され、これに接続された各吸着ライン１１
３，１１４，１１５，１１６もすべて停電の影響を受け
ることなくひき続いて作動するため、ウエハ１０６が未
接触であるウエハチャック１０７の吸着ライン１１３か
ら、減圧チャンバー１０１の雰囲気ガスが排出される。
停電が長びくと、雰囲気ガスの供給が停止した減圧チャ
ンバー１０１内の雰囲気圧力が著しく低下し、その結
果、吸着ハンド１１１ａの真空吸着力が相対的に不充分
となり、ウエハ１０６が落下する。
ンド１１１ａに保持されたウエハ１０６がウエハチャッ
ク１０７に向って移動中であって、ウエハチャック１０
７の真空吸着力が作動を開始しており、しかもウエハ１
０６がウエハチャック１０７に未だ接触していない時に
停電が起こり、吸着ハンド１１１ａの移動が停止した場
合、第１の真空ポンプ１０３に接続された排気ライン１
０２の制御弁１０２ａおよびヘリウムガス供給ライン１
０４の調整弁１０４ａは自動的に閉じられる。この時、
各弁は停電時と長期休止時それぞれに対応しなくてはな
らないため、通常動作の弁は全て電源停止時に閉状態と
なる。これは、長期休止時にチャンバー内は、Ｎ2 等の
リークしにくくチャンバー内を汚染しないガスで充填す
るためである。第２の真空ポンプ１１７は無停電電源１
１８に接続され、これに接続された各吸着ライン１１
３，１１４，１１５，１１６もすべて停電の影響を受け
ることなくひき続いて作動するため、ウエハ１０６が未
接触であるウエハチャック１０７の吸着ライン１１３か
ら、減圧チャンバー１０１の雰囲気ガスが排出される。
停電が長びくと、雰囲気ガスの供給が停止した減圧チャ
ンバー１０１内の雰囲気圧力が著しく低下し、その結
果、吸着ハンド１１１ａの真空吸着力が相対的に不充分
となり、ウエハ１０６が落下する。
【００１１】本発明は上記従来の技術の有する問題点に
鑑みてなされたものであり、停電時に減圧チャンバーに
非常用の雰囲気ガスを導入することによって、前記減圧
チャンバーの雰囲気の圧力低下を防ぎ、該減圧チャンバ
ー内において吸着手段によって保持される基板の落下の
危険性を排除する減圧チャンバーの圧力制御方法および
その装置を提供することを目的とする。
鑑みてなされたものであり、停電時に減圧チャンバーに
非常用の雰囲気ガスを導入することによって、前記減圧
チャンバーの雰囲気の圧力低下を防ぎ、該減圧チャンバ
ー内において吸着手段によって保持される基板の落下の
危険性を排除する減圧チャンバーの圧力制御方法および
その装置を提供することを目的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに本発明の減圧チャンバーの圧力制御方法および装置
は、主電源により駆動される真空発生源の真空吸引力に
よる複数の吸着手段と、停電時に前記真空吸引力を中断
させないための無停電電源を備えた減圧チャンバーにお
いて、停電時に、該減圧チャンバーの雰囲気の圧力を低
下させないための非常用雰囲気ガスを前記減圧チャンバ
ーに導入することを特徴とする。
めに本発明の減圧チャンバーの圧力制御方法および装置
は、主電源により駆動される真空発生源の真空吸引力に
よる複数の吸着手段と、停電時に前記真空吸引力を中断
させないための無停電電源を備えた減圧チャンバーにお
いて、停電時に、該減圧チャンバーの雰囲気の圧力を低
下させないための非常用雰囲気ガスを前記減圧チャンバ
ーに導入することを特徴とする。
【００１３】前記非常用雰囲気ガスは大気であっても、
ヘリウムガス供給源から供給されるヘリウムガスや、前
記減圧チャンバーから排出された該減圧チャンバーの雰
囲気ガスであってもよい。
ヘリウムガス供給源から供給されるヘリウムガスや、前
記減圧チャンバーから排出された該減圧チャンバーの雰
囲気ガスであってもよい。
【００１４】
【作用】停電時に減圧チャンバーの雰囲気ガスの供給が
止まり、前記複数の吸着手段のいずれか１つの真空吸着
によって前記雰囲気ガスが排出されると、前記減圧チャ
ンバーの雰囲気圧力が低下する。これを防ぐために、前
記減圧チャンバーに非常用雰囲気ガスを導入して、基板
を吸着している吸着手段の真空吸着力が相対的に不足す
るのを防ぐ。
止まり、前記複数の吸着手段のいずれか１つの真空吸着
によって前記雰囲気ガスが排出されると、前記減圧チャ
ンバーの雰囲気圧力が低下する。これを防ぐために、前
記減圧チャンバーに非常用雰囲気ガスを導入して、基板
を吸着している吸着手段の真空吸着力が相対的に不足す
るのを防ぐ。
【００１５】
【実施例】本発明の実施例を図面に基づいて説明する。
【００１６】図１は第１実施例を示す説明図であって、
減圧チャンバー１は排気ライン２の制御弁２ａを介して
第１の真空ポンプ３によって減圧される一方、給気ライ
ン４の調整弁４ａを経てヘリウムガス供給源であるボン
ベ５から連続的にヘリウムガスを供給される。減圧チャ
ンバー１のヘリウムガス雰囲気圧力は、前記制御弁２ａ
を調節することによって、１５０Ｔｏｒｒ以上の圧力に
維持される。
減圧チャンバー１は排気ライン２の制御弁２ａを介して
第１の真空ポンプ３によって減圧される一方、給気ライ
ン４の調整弁４ａを経てヘリウムガス供給源であるボン
ベ５から連続的にヘリウムガスを供給される。減圧チャ
ンバー１のヘリウムガス雰囲気圧力は、前記制御弁２ａ
を調節することによって、１５０Ｔｏｒｒ以上の圧力に
維持される。
【００１７】前記減圧チャンバー１内には、ウエハ６を
保持する吸着手段であるウエハチャック７、ウエハチャ
ック７の位置決めを行うウエハステ−ジ８、ウエハ６の
オリフラ面を検知するオリフラ検知台９、オリフラ検知
台９にウエハ６を保持する吸着手段である検知台チャッ
ク１０、ウエハチャック７と検知台チャック１０の間で
ウエハを搬送する吸着手段である１対の吸着ハンド１１
ａ，１１ｂ、および各吸着ハンド１１ａ，１１ｂを水平
方向に往復移動させるトラバ−サ−１２が設けられる。
保持する吸着手段であるウエハチャック７、ウエハチャ
ック７の位置決めを行うウエハステ−ジ８、ウエハ６の
オリフラ面を検知するオリフラ検知台９、オリフラ検知
台９にウエハ６を保持する吸着手段である検知台チャッ
ク１０、ウエハチャック７と検知台チャック１０の間で
ウエハを搬送する吸着手段である１対の吸着ハンド１１
ａ，１１ｂ、および各吸着ハンド１１ａ，１１ｂを水平
方向に往復移動させるトラバ−サ−１２が設けられる。
【００１８】ウエハチャック７に真空吸着力を作動させ
るための吸着ライン１３、検知台チャック１０に真空吸
着力を作動させるための吸着ライン１４、および各吸着
ハンド１１ａ，１１ｂにそれぞれ個別に真空吸着力を作
用させるための各吸着ライン１５，１６は、それぞれ制
御弁１３ａ，１４ａ，１５ａ，１６ａを介して真空発生
源である第２の真空ポンプ１７に接続され、第２の真空
ポンプ１７は通常使用される主電源回路（図示せず）の
ほかに、主電源回路が不作動となったとき、すなわち停
電時に、バックアップを行うための無停電電源である無
停電電源回路１８を備えている。
るための吸着ライン１３、検知台チャック１０に真空吸
着力を作動させるための吸着ライン１４、および各吸着
ハンド１１ａ，１１ｂにそれぞれ個別に真空吸着力を作
用させるための各吸着ライン１５，１６は、それぞれ制
御弁１３ａ，１４ａ，１５ａ，１６ａを介して真空発生
源である第２の真空ポンプ１７に接続され、第２の真空
ポンプ１７は通常使用される主電源回路（図示せず）の
ほかに、主電源回路が不作動となったとき、すなわち停
電時に、バックアップを行うための無停電電源である無
停電電源回路１８を備えている。
【００１９】さらに減圧チャンバー１は、末端を大気に
開放された非常用給気管である非常用給気ライン１９を
備えており、該非常用給気ライン１９は開閉弁である第
１弁１９ａおよび補助弁である第２弁１９ｂをもち、第
１弁１９ａは通電状態において閉じられており、停電時
に開いて、大気を減圧チャンバー１へ導入する。第２弁
１９ｂは、減圧チャンバー１の長期休止時にのみ閉じ
て、減圧チャンバー１に外気が流入するのを防ぐもので
あり、操業中は開放状態にある。第２弁１９ｂは、一般
には保持型のバルブとして市販されているものである。
従って、通常運転時は第１弁１９ａを通電し閉状態に、
又第２弁は開状態で保持しておく。長期休止時は第２弁
１９ｂを閉状態にした後、第１弁１９ａを開（電源ＯＦ
Ｆ）にする。
開放された非常用給気管である非常用給気ライン１９を
備えており、該非常用給気ライン１９は開閉弁である第
１弁１９ａおよび補助弁である第２弁１９ｂをもち、第
１弁１９ａは通電状態において閉じられており、停電時
に開いて、大気を減圧チャンバー１へ導入する。第２弁
１９ｂは、減圧チャンバー１の長期休止時にのみ閉じ
て、減圧チャンバー１に外気が流入するのを防ぐもので
あり、操業中は開放状態にある。第２弁１９ｂは、一般
には保持型のバルブとして市販されているものである。
従って、通常運転時は第１弁１９ａを通電し閉状態に、
又第２弁は開状態で保持しておく。長期休止時は第２弁
１９ｂを閉状態にした後、第１弁１９ａを開（電源ＯＦ
Ｆ）にする。
【００２０】前記一対の吸着ハンド１１ａ，１１ｂは、
ウエハトラバ−サ−１２によってそれぞれ交互に検知台
チャック１０およびウエハチャック７の近接位置へ移動
する。上記減圧チャンバーの操業中に停電が起きた場合
は、排気ライン２の第１の真空ポンプ３の停止とともに
制御弁２ａが閉じられ、また給気ライン４の調整弁４ａ
も閉じられるが、第２の真空ポンプ１７は無停電電源回
路１８によって作動が継続されるため、作動中の各吸着
ライン１３〜１６の真空吸着力は継続される。
ウエハトラバ−サ−１２によってそれぞれ交互に検知台
チャック１０およびウエハチャック７の近接位置へ移動
する。上記減圧チャンバーの操業中に停電が起きた場合
は、排気ライン２の第１の真空ポンプ３の停止とともに
制御弁２ａが閉じられ、また給気ライン４の調整弁４ａ
も閉じられるが、第２の真空ポンプ１７は無停電電源回
路１８によって作動が継続されるため、作動中の各吸着
ライン１３〜１６の真空吸着力は継続される。
【００２１】一方停電と同時に非常用給気ライン１９の
第１弁１９ａが開かれて減圧チャンバー１内へ大気が導
入され、減圧チャンバー１の雰囲気圧力の低下を防ぐ。
従って、ウエハチャック７、検知台チャック８または吸
着ハンド１１ａ，１１ｂのいずれかに吸着保持されたウ
エハ６が、真空吸着力の低下によって落下するおそれは
皆無である。すなわち、停電の直前に、吸着手段である
ウエハチャック７、検知台チャック８または吸着ハンド
１１ａ，１１ｂのいずれかの真空吸着が開始され、しか
も停電時にウエハ６の受渡しが完了していない場合は、
相互にウエハ６の受渡しを行う２つの吸着手段のうちの
一方が開放状態となるため、減圧チャンバー１の雰囲気
ガスが、該開放状態の吸着手段から排出され、減圧チャ
ンバー１内の雰囲気圧力が低下するおそれがあるが、上
述したように、停電と同時に非常用給気ライン１９の第
１弁１９ａが開かれて、減圧チャンバー１内に大気を導
入するため、雰囲気圧力が低下することなく、吸着手段
に吸着されたウエハ６が落下することはない。
第１弁１９ａが開かれて減圧チャンバー１内へ大気が導
入され、減圧チャンバー１の雰囲気圧力の低下を防ぐ。
従って、ウエハチャック７、検知台チャック８または吸
着ハンド１１ａ，１１ｂのいずれかに吸着保持されたウ
エハ６が、真空吸着力の低下によって落下するおそれは
皆無である。すなわち、停電の直前に、吸着手段である
ウエハチャック７、検知台チャック８または吸着ハンド
１１ａ，１１ｂのいずれかの真空吸着が開始され、しか
も停電時にウエハ６の受渡しが完了していない場合は、
相互にウエハ６の受渡しを行う２つの吸着手段のうちの
一方が開放状態となるため、減圧チャンバー１の雰囲気
ガスが、該開放状態の吸着手段から排出され、減圧チャ
ンバー１内の雰囲気圧力が低下するおそれがあるが、上
述したように、停電と同時に非常用給気ライン１９の第
１弁１９ａが開かれて、減圧チャンバー１内に大気を導
入するため、雰囲気圧力が低下することなく、吸着手段
に吸着されたウエハ６が落下することはない。
【００２２】図２は第２実施例を示す説明図であって、
本実施例の減圧チャンバー３１には、第１実施例の大気
に接続された非常用給気管である非常用給気ライン１９
の替わりに、ヘリウムガス供給源であるボンベ５０に接
続された非常用給気ライン４９が設けられる。
本実施例の減圧チャンバー３１には、第１実施例の大気
に接続された非常用給気管である非常用給気ライン１９
の替わりに、ヘリウムガス供給源であるボンベ５０に接
続された非常用給気ライン４９が設けられる。
【００２３】非常用給気ライン４９は、非通電時に開く
開閉弁である第１弁４９ａ、通常は開いており、減圧チ
ャンバーの長期休止時に閉じられる補助弁である第２弁
４９ｂ、およびボンベ５０から供給されるヘリウムガス
の圧力を大気圧より多少低いレベル、例えば０．７気圧
程度に調整するための調整弁４９Ｃを備えている。排気
ライン３２、第１の真空ポンプ３３、給気ライン４４、
ウエハチャック３７、検知台チャック４０、吸着ハンド
４１ａ，４１ｂ、トラバ−サ−４２、吸着ライン４３〜
４６、第２の真空ポンプ４７、無停電電源回路４８等に
ついては第１実施例と同様であるので詳しい説明は省略
する。
開閉弁である第１弁４９ａ、通常は開いており、減圧チ
ャンバーの長期休止時に閉じられる補助弁である第２弁
４９ｂ、およびボンベ５０から供給されるヘリウムガス
の圧力を大気圧より多少低いレベル、例えば０．７気圧
程度に調整するための調整弁４９Ｃを備えている。排気
ライン３２、第１の真空ポンプ３３、給気ライン４４、
ウエハチャック３７、検知台チャック４０、吸着ハンド
４１ａ，４１ｂ、トラバ−サ−４２、吸着ライン４３〜
４６、第２の真空ポンプ４７、無停電電源回路４８等に
ついては第１実施例と同様であるので詳しい説明は省略
する。
【００２４】停電時に減圧チャンバー３１の排気ライン
３２および給気ライン３４が閉じられると同時に、非常
用給気ライン４９の第１弁４９ａが開かれて、調整弁４
９ｃによって大気より少し低い圧力に調整されたヘリウ
ムガスが、減圧チャンバー３１内へ導入される。従っ
て、ウエハ３６の受渡しを行う吸着ライン４３〜４６の
いずれかから減圧チャンバー３１の雰囲気ガスが排出さ
れても、減圧チャンバー３１の雰囲気圧力は低下するこ
とはない。
３２および給気ライン３４が閉じられると同時に、非常
用給気ライン４９の第１弁４９ａが開かれて、調整弁４
９ｃによって大気より少し低い圧力に調整されたヘリウ
ムガスが、減圧チャンバー３１内へ導入される。従っ
て、ウエハ３６の受渡しを行う吸着ライン４３〜４６の
いずれかから減圧チャンバー３１の雰囲気ガスが排出さ
れても、減圧チャンバー３１の雰囲気圧力は低下するこ
とはない。
【００２５】本実施例においては非常用給気ライン４９
から導入されるガスも減圧チャンバー３１の雰囲気ガス
と同じヘリウムガスであるため、停電解消後の減圧チャ
ンバー３１の操業開始に当って、減圧チャンバー３１の
雰囲気ガスから不必要なガス成分を除去する作業が不要
であり、第１実施例に比べて、立上り時間が短縮され
る。
から導入されるガスも減圧チャンバー３１の雰囲気ガス
と同じヘリウムガスであるため、停電解消後の減圧チャ
ンバー３１の操業開始に当って、減圧チャンバー３１の
雰囲気ガスから不必要なガス成分を除去する作業が不要
であり、第１実施例に比べて、立上り時間が短縮され
る。
【００２６】図３は第３実施例を示す説明図であって、
本実施例の非常用給気管である非常用給気ライン７９は
フィルタ−７９ａをもち、吸着手段であるウエハチャッ
ク６７、検知台チャック７０および各吸着ハンド６１
ａ，６１ｂにそれぞれ真空吸着力を発生させるための第
２の真空ポンプ７７の吐出側に、三方弁７９ｂを介して
接続される。
本実施例の非常用給気管である非常用給気ライン７９は
フィルタ−７９ａをもち、吸着手段であるウエハチャッ
ク６７、検知台チャック７０および各吸着ハンド６１
ａ，６１ｂにそれぞれ真空吸着力を発生させるための第
２の真空ポンプ７７の吐出側に、三方弁７９ｂを介して
接続される。
【００２７】ウエハチャック６７、検知台チャック７
０、吸着ハンド６１ａ，６１ｂ、第２の真空ポンプ７
７、通常の操作時に減圧チャンバー５１にヘリウムガス
を供給する給気ライン５４、減圧チャンバー５１を排気
する排気ライン５２および第１の真空ポンプ５３、およ
び上記第２の真空ポンプ７７の無停電電源回路７８等に
ついては第１実施例と同じであるので詳しい説明は省略
する。三方弁７９ｂは、通常は第２の真空ポンプの排気
を大気中へ放出するが、停電時にはこれを非常用給気ラ
イン７９へ導入し、フィルタ−７９ａを経て減圧チャン
バー５１へ再流入させるものである。従って停電時に吸
着ライン７３〜７４のいずれかから減圧チャンバー５１
の雰囲気ガスが排出されることがあっても、非常用給気
ライン７９から再び減圧チャンバー５１へ再流入するた
め、減圧チャンバー５１の雰囲気圧力が低下することは
ない。
０、吸着ハンド６１ａ，６１ｂ、第２の真空ポンプ７
７、通常の操作時に減圧チャンバー５１にヘリウムガス
を供給する給気ライン５４、減圧チャンバー５１を排気
する排気ライン５２および第１の真空ポンプ５３、およ
び上記第２の真空ポンプ７７の無停電電源回路７８等に
ついては第１実施例と同じであるので詳しい説明は省略
する。三方弁７９ｂは、通常は第２の真空ポンプの排気
を大気中へ放出するが、停電時にはこれを非常用給気ラ
イン７９へ導入し、フィルタ−７９ａを経て減圧チャン
バー５１へ再流入させるものである。従って停電時に吸
着ライン７３〜７４のいずれかから減圧チャンバー５１
の雰囲気ガスが排出されることがあっても、非常用給気
ライン７９から再び減圧チャンバー５１へ再流入するた
め、減圧チャンバー５１の雰囲気圧力が低下することは
ない。
【００２８】すなわち、真空吸着力によってウエハチャ
ック６７、検知台チャック７０、または各吸着ハンド６
１ａ，６１ｂのいずれかに吸着されているウエハ６６が
落下するおそれはない。
ック６７、検知台チャック７０、または各吸着ハンド６
１ａ，６１ｂのいずれかに吸着されているウエハ６６が
落下するおそれはない。
【００２９】本実施例においては非常用給気ライン７９
から減圧チャンバー５１へ導入されるガスが該減圧チャ
ンバーから排出されたものであるため、停電解消後の操
業再開時に、減圧チャンバー５１の雰囲気ガスから不要
なガス成分を除去する必要がない。加えて減圧チャンバ
ー５１の雰囲気圧力の調整も短時間で行うことができ
る。
から減圧チャンバー５１へ導入されるガスが該減圧チャ
ンバーから排出されたものであるため、停電解消後の操
業再開時に、減圧チャンバー５１の雰囲気ガスから不要
なガス成分を除去する必要がない。加えて減圧チャンバ
ー５１の雰囲気圧力の調整も短時間で行うことができ
る。
【００３０】なお、上記各実施例はいずれも４個の吸着
手段をもつものを適用したものであるが、４個以外の複
数の吸着手段を備えた減圧チャンバーにも適用可能であ
ることは言うまでもない。
手段をもつものを適用したものであるが、４個以外の複
数の吸着手段を備えた減圧チャンバーにも適用可能であ
ることは言うまでもない。
【００３１】
【発明の効果】本発明は上述のとおり構成されているの
で、以下に記載するような効果を奏する。
で、以下に記載するような効果を奏する。
【００３２】減圧チャンバーの停電時に、減圧チャンバ
ーの雰囲気圧力が低下することなく、従って該減圧チャ
ンバー内の真空吸着手段によって保持されている基板が
落下するおそれがない。
ーの雰囲気圧力が低下することなく、従って該減圧チャ
ンバー内の真空吸着手段によって保持されている基板が
落下するおそれがない。
【図１】第１実施例を示す説明図である。
【図２】第２実施例を示す説明図である。
【図３】第３実施例を示す説明図である。
【図４】従来例を示す説明図である。
【図５】図４に示す各吸着ハンドが、ウエハの受渡しを
行う過程を示すもので、（Ａ）はウエハをウエハチャッ
クに対する受渡し位置に運んだ状態を示す説明図、
（Ｂ）は吸着ハンドがウエハステージに近づく過程を示
す説明図、（Ｃ）はウエハがウエハチャックに吸着され
た状態を示す説明図である。
行う過程を示すもので、（Ａ）はウエハをウエハチャッ
クに対する受渡し位置に運んだ状態を示す説明図、
（Ｂ）は吸着ハンドがウエハステージに近づく過程を示
す説明図、（Ｃ）はウエハがウエハチャックに吸着され
た状態を示す説明図である。
１，３１，６１ 減圧チャンバー ２，３２，６２ 排気ライン ３，３３，６３ 第１の真空ポンプ ４，３４，６４ 給気ライン ６，３６，６６ ウエハ ７，３７，６７ ウエハチャック １０，４０，７０ 検知台チャック １１ａ，１１ｂ，４１ａ，４１ｂ，７１ａ，７１ｂ
吸着ハンド １３〜１６，４３〜４６，７３〜７６ 吸着ライン １７，４７，７７ 第２の真空ポンプ １８，４８，７８ 無停電電源回路 １９，４９，７９ 非常用給気ライン １９ａ，４９ａ 第１弁 １９ｂ，４９ｂ 第２弁 ７９ｂ 三方弁
吸着ハンド １３〜１６，４３〜４６，７３〜７６ 吸着ライン １７，４７，７７ 第２の真空ポンプ １８，４８，７８ 無停電電源回路 １９，４９，７９ 非常用給気ライン １９ａ，４９ａ 第１弁 １９ｂ，４９ｂ 第２弁 ７９ｂ 三方弁
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 須藤 裕次 東京都大田区下丸子３丁目30番２号 キヤ ノン株式会社内
Claims (8)
- 【請求項１】 主電源により駆動される真空発生源の真
空吸引力による複数の吸着手段と、停電時に前記真空吸
引力を中断させないための無停電電源を備えた減圧チャ
ンバ−の圧力制御方法であって、停電時に、前記減圧チ
ャンバ−の雰囲気の圧力を低下させないための非常用雰
囲気ガスを、前記減圧チャンバ−に導入することを特徴
とする減圧チャンバ−の圧力制御方法。 - 【請求項２】 非常用雰囲気ガスが大気であることを特
徴とする請求項１記載の減圧チャンバ−の圧力制御方
法。 - 【請求項３】 非常用雰囲気ガスが、ボンベから供給さ
れるヘリウムガスであることを特徴とする請求項１記載
の減圧チャンバ−の圧力制御方法。 - 【請求項４】 非常用雰囲気ガスが減圧チャンバ−から
排出された該減圧チャンバ−の雰囲気ガスであることを
特徴とする請求項１記載の減圧チャンバ−の圧力制御方
法。 - 【請求項５】 主電源により駆動される真空発生源の真
空吸引力による複数の吸着手段と、停電時に前記真空吸
引力を中断させないための無停電電源を備えた減圧チャ
ンバ−であって、前記減圧チャンバーに非常用雰囲気ガ
スを供給する非常用給気管と、非通電時以外は、前記非
常用給気管を遮断する開閉弁とを有する減圧チャンバ−
の圧力制御装置。 - 【請求項６】 非常用給気管が大気に開放されたことを
特徴とする請求項５記載の減圧チャンバ−の圧力制御装
置。 - 【請求項７】 非常用給気管がヘリウムガス供給源に連
通されたことを特徴とする請求項５記載の減圧チャンバ
−の圧力制御装置。 - 【請求項８】 非常用給気管が、減圧チャンバ−の長期
停止時に前記非常用給気管を遮断する補助弁を備えてい
ることを特徴とする請求項５、６または７記載の減圧チ
ャンバ−の圧力制御装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4019528A JPH05190427A (ja) | 1992-01-08 | 1992-01-08 | 減圧チャンバーの圧力制御方法およびその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4019528A JPH05190427A (ja) | 1992-01-08 | 1992-01-08 | 減圧チャンバーの圧力制御方法およびその装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05190427A true JPH05190427A (ja) | 1993-07-30 |
Family
ID=12001841
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4019528A Pending JPH05190427A (ja) | 1992-01-08 | 1992-01-08 | 減圧チャンバーの圧力制御方法およびその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05190427A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000031780A1 (fr) * | 1998-11-19 | 2000-06-02 | Nikon Corporation | Dispositif optique, systeme d'exposition et source de faisceau laser, procede d'alimentation en gaz, procede d'exposition et procede de fabrication de dispositif |
| KR100550349B1 (ko) * | 2000-03-10 | 2006-02-08 | 삼성전자주식회사 | 반도체 웨이퍼 핸들링 장치 |
-
1992
- 1992-01-08 JP JP4019528A patent/JPH05190427A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000031780A1 (fr) * | 1998-11-19 | 2000-06-02 | Nikon Corporation | Dispositif optique, systeme d'exposition et source de faisceau laser, procede d'alimentation en gaz, procede d'exposition et procede de fabrication de dispositif |
| KR100550349B1 (ko) * | 2000-03-10 | 2006-02-08 | 삼성전자주식회사 | 반도체 웨이퍼 핸들링 장치 |
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