JPH05181122A - カラー液晶表示素子 - Google Patents
カラー液晶表示素子Info
- Publication number
- JPH05181122A JPH05181122A JP35857191A JP35857191A JPH05181122A JP H05181122 A JPH05181122 A JP H05181122A JP 35857191 A JP35857191 A JP 35857191A JP 35857191 A JP35857191 A JP 35857191A JP H05181122 A JPH05181122 A JP H05181122A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- sio
- liquid crystal
- transparent electrode
- electrode
- Prior art date
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 透明電極の断線等を防止すると共にシール部
の接着性を向上すること。 【構成】 液晶層を挾んで対向配置される透明基板の一
方の基板１に、カラーフィルタ層２、オーバーコート層
３、島状に分布する薄いＳｉＯ2層５、透明電極４を順
次形成する。 【効果】 極めて薄いＳｉＯ2層によって電極の接着力
が向上するので、剥離や断線等が生じない。またＳｉＯ
2層は島状になっているため液晶層のシール部の接着力
には悪影響を与えず、シール部の剥離も生じない。
の接着性を向上すること。 【構成】 液晶層を挾んで対向配置される透明基板の一
方の基板１に、カラーフィルタ層２、オーバーコート層
３、島状に分布する薄いＳｉＯ2層５、透明電極４を順
次形成する。 【効果】 極めて薄いＳｉＯ2層によって電極の接着力
が向上するので、剥離や断線等が生じない。またＳｉＯ
2層は島状になっているため液晶層のシール部の接着力
には悪影響を与えず、シール部の剥離も生じない。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、透明電極の断線等を
防止するようにしたカラー液晶表示素子の改良に関す
る。
防止するようにしたカラー液晶表示素子の改良に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】カラー液晶表示素子は液晶セルを構成す
る一方の透明基板上にカラーフィルタを備えており、そ
の上にオーバーコート層と透明電極が順次形成されてい
る。図３はその概略断面図を示したものであり、図にお
いて、１はガラス等の透明基板、２は不透明な材料から
なる遮光膜２ａと透明樹脂からなるＲ、Ｇ、Ｂのフィル
タ部２ｂを有するカラーフィルタ層、３はカラーフィル
タ２の上面に形成されたオーバーコート層、４はオーバ
ーコート層３の上面に形成された走査用あるいは信号用
の透明電極である。これらの各部は、周知の方法によっ
て遮光膜２ａ、フィルタ部２ｂ、オーバーコート層３、
電極４の順で透明基板１上に形成される。なお、電極４
の上に更に配向膜が形成されるが図示を省略してある。
る一方の透明基板上にカラーフィルタを備えており、そ
の上にオーバーコート層と透明電極が順次形成されてい
る。図３はその概略断面図を示したものであり、図にお
いて、１はガラス等の透明基板、２は不透明な材料から
なる遮光膜２ａと透明樹脂からなるＲ、Ｇ、Ｂのフィル
タ部２ｂを有するカラーフィルタ層、３はカラーフィル
タ２の上面に形成されたオーバーコート層、４はオーバ
ーコート層３の上面に形成された走査用あるいは信号用
の透明電極である。これらの各部は、周知の方法によっ
て遮光膜２ａ、フィルタ部２ｂ、オーバーコート層３、
電極４の順で透明基板１上に形成される。なお、電極４
の上に更に配向膜が形成されるが図示を省略してある。
【０００３】上記のような構造ではオーバーコート層３
と透明電極４が直接接することになるが、オーバーコー
ト層３と電極４には一般にポリイミドとＩＴＯがそれぞ
れ使用されており、材料の性質上両者の熱膨張係数には
大きな差があり、しかも相互間の付着力も小さい。この
ため、電極形成工程やエッチング工程で透明電極４の剥
離、ひび割れ、断線等の問題が生じやすく、工程管理に
十分な注意が必要であった。これを解決するために、オ
ーバーコート層３と透明電極４の間にＳｉＯ2やＳｉＯ
の層を約１０００Åの厚みで形成することが提案されて
いる(例えば特開昭６３−２９４５２４号公報参照)。し
かし、ＳｉＯ2等の層は液晶層のシール部との密着力が
弱いため、シール部の剥離等が発生して液晶の注入不良
などが生じやすくなるという別の問題がある。
と透明電極４が直接接することになるが、オーバーコー
ト層３と電極４には一般にポリイミドとＩＴＯがそれぞ
れ使用されており、材料の性質上両者の熱膨張係数には
大きな差があり、しかも相互間の付着力も小さい。この
ため、電極形成工程やエッチング工程で透明電極４の剥
離、ひび割れ、断線等の問題が生じやすく、工程管理に
十分な注意が必要であった。これを解決するために、オ
ーバーコート層３と透明電極４の間にＳｉＯ2やＳｉＯ
の層を約１０００Åの厚みで形成することが提案されて
いる(例えば特開昭６３−２９４５２４号公報参照)。し
かし、ＳｉＯ2等の層は液晶層のシール部との密着力が
弱いため、シール部の剥離等が発生して液晶の注入不良
などが生じやすくなるという別の問題がある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】この発明はこの点に着
目し、透明電極の断線等を防止すると共にシール部の接
着性を向上することを課題としてなされたものである。
目し、透明電極の断線等を防止すると共にシール部の接
着性を向上することを課題としてなされたものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上述の課題を解決するた
めに、この発明では、液晶層を挾んで対向配置された２
枚の透明基板の一方の基板に、カラーフィルタ層とオー
バーコート層を順次形成し、更にこのオーバーコート層
の上面に島状に分布した状態となるように二酸化珪素
(以下ＳｉＯ2と記す)層を薄く形成し、その上に透明電
極を形成するようにしている。上記のＳｉＯ2層は、厚
みが１００Å以下、好ましくは３０〜１００Åとなるよ
うな成膜条件で形成されることが望ましい。
めに、この発明では、液晶層を挾んで対向配置された２
枚の透明基板の一方の基板に、カラーフィルタ層とオー
バーコート層を順次形成し、更にこのオーバーコート層
の上面に島状に分布した状態となるように二酸化珪素
(以下ＳｉＯ2と記す)層を薄く形成し、その上に透明電
極を形成するようにしている。上記のＳｉＯ2層は、厚
みが１００Å以下、好ましくは３０〜１００Åとなるよ
うな成膜条件で形成されることが望ましい。
【０００６】
【作用】オーバーコート層の表面は、ＳｉＯ2層が極め
て薄いためにオーバーコート層の材料が露出した部分と
ＳｉＯ2層が付着している部分とが混在した状態となっ
ており、ＳｉＯ2と透明電極の材料とは接着力が強いた
めに電極の剥離等は生じにくくなる。またシール部はオ
ーバーコート層と同様な樹脂材料であり、露出したオー
バーコート層の材料との間の接着力が強いために薄いＳ
ｉＯ2層の影響を受けることがなく、シール部の剥離等
は生じないのである。
て薄いためにオーバーコート層の材料が露出した部分と
ＳｉＯ2層が付着している部分とが混在した状態となっ
ており、ＳｉＯ2と透明電極の材料とは接着力が強いた
めに電極の剥離等は生じにくくなる。またシール部はオ
ーバーコート層と同様な樹脂材料であり、露出したオー
バーコート層の材料との間の接着力が強いために薄いＳ
ｉＯ2層の影響を受けることがなく、シール部の剥離等
は生じないのである。
【０００７】
【実施例】次に、この発明の一実施例について説明す
る。図１は図３に対応した概略断面図、図２はＳｉＯ2
層の形成状態を示す拡大図であり、１は透明基板、２は
遮光膜２ａとフィルタ部２ｂを有するカラーフィルタ
層、３はポリイミドからなるオーバーコート層、４はＩ
ＴＯからなる透明電極であることは図３と同様である。
５はこの発明によってオーバーコート層３と透明電極４
の間に形成された極めて薄いＳｉＯ2層である。
る。図１は図３に対応した概略断面図、図２はＳｉＯ2
層の形成状態を示す拡大図であり、１は透明基板、２は
遮光膜２ａとフィルタ部２ｂを有するカラーフィルタ
層、３はポリイミドからなるオーバーコート層、４はＩ
ＴＯからなる透明電極であることは図３と同様である。
５はこの発明によってオーバーコート層３と透明電極４
の間に形成された極めて薄いＳｉＯ2層である。
【０００８】このＳｉＯ2層５は図１では便宜上一定の
厚みを持つ連続した層として例示してあるが、実際には
極めて薄く、材料が不足気味となるために連続した層に
はならないで途切れ途切れの状態となり、図２に示すよ
うにオーバーコート層３の上面に島状に分布して形成さ
れている。このような薄くしかも島状のＳｉＯ2層５
は、厚みが１００Å以下となるような成膜条件を設定し
て、例えばスパッタ法、真空蒸着法、イオンプレーティ
ング法等の適宜の方法で成膜することによって形成する
ことができる。
厚みを持つ連続した層として例示してあるが、実際には
極めて薄く、材料が不足気味となるために連続した層に
はならないで途切れ途切れの状態となり、図２に示すよ
うにオーバーコート層３の上面に島状に分布して形成さ
れている。このような薄くしかも島状のＳｉＯ2層５
は、厚みが１００Å以下となるような成膜条件を設定し
て、例えばスパッタ法、真空蒸着法、イオンプレーティ
ング法等の適宜の方法で成膜することによって形成する
ことができる。
【０００９】このような構成により、透明電極４のオー
バーコート層３との接着力の不足はＳｉＯ2層５との強
い接着力によって十分カバーされて透明電極４の接着力
が向上し、またシール部(図示せず)のＳｉＯ2層５との
接着力の不足はオーバーコート層３との直接接着によっ
て十分カバーされる。このため、電極形成工程やエッチ
ング工程で透明電極４に剥離やひび割れ、あるいは断線
等の不良箇所が生ずることがなくなり、またシール部の
剥離等によって液晶の注入不良などが生ずることもなく
なるのである。
バーコート層３との接着力の不足はＳｉＯ2層５との強
い接着力によって十分カバーされて透明電極４の接着力
が向上し、またシール部(図示せず)のＳｉＯ2層５との
接着力の不足はオーバーコート層３との直接接着によっ
て十分カバーされる。このため、電極形成工程やエッチ
ング工程で透明電極４に剥離やひび割れ、あるいは断線
等の不良箇所が生ずることがなくなり、またシール部の
剥離等によって液晶の注入不良などが生ずることもなく
なるのである。
【００１０】ちなみに、ＳｉＯ2層５の厚みの異なる多
数のサンプルについて透明電極の密着性とシール部の信
頼性を試験したところ、厚みが３０〜１００Åとなるよ
うな成膜条件でＳｉＯ2層５を形成したものでは、全く
問題がなく良好な結果を得ることができた。しかし、１
００Åを越えたものではシール部の信頼性が低下し始
め、２００Åでは約半数に異常が認められ、１０００Å
ではほとんどに異常が認められた。また３０Å未満のも
のでは透明電極の断線等の異常が見られ、密着性が低下
していることが認められた。
数のサンプルについて透明電極の密着性とシール部の信
頼性を試験したところ、厚みが３０〜１００Åとなるよ
うな成膜条件でＳｉＯ2層５を形成したものでは、全く
問題がなく良好な結果を得ることができた。しかし、１
００Åを越えたものではシール部の信頼性が低下し始
め、２００Åでは約半数に異常が認められ、１０００Å
ではほとんどに異常が認められた。また３０Å未満のも
のでは透明電極の断線等の異常が見られ、密着性が低下
していることが認められた。
【００１１】なお、上記ではオーバーコート層の材料と
してポリイミドが使用されているとして説明している
が、他の材料、例えばアクリル系やエポキシ系の樹脂を
使用したものでも、ＳｉＯ2のない場合には同様に透明
電極の断線等の異常が生じやすいのに対して、この発明
により薄いＳｉＯ2層を形成したものではこれらの不具
合が生ずることはなく、薄いＳｉＯ2層の効果が確認さ
れた。またシール部材としては現在主としてエポキシ系
の樹脂が使用されているが、他の樹脂材料を使用した場
合でもＳｉＯ2層が厚いと剥離等の問題が生ずると考え
られ、これらの材料でもこの発明のようにＳｉＯ2層が
極めて薄い場合にはこのような問題は生じないと考えら
れる。
してポリイミドが使用されているとして説明している
が、他の材料、例えばアクリル系やエポキシ系の樹脂を
使用したものでも、ＳｉＯ2のない場合には同様に透明
電極の断線等の異常が生じやすいのに対して、この発明
により薄いＳｉＯ2層を形成したものではこれらの不具
合が生ずることはなく、薄いＳｉＯ2層の効果が確認さ
れた。またシール部材としては現在主としてエポキシ系
の樹脂が使用されているが、他の樹脂材料を使用した場
合でもＳｉＯ2層が厚いと剥離等の問題が生ずると考え
られ、これらの材料でもこの発明のようにＳｉＯ2層が
極めて薄い場合にはこのような問題は生じないと考えら
れる。
【００１２】
【発明の効果】上述の実施例から明らかなように、この
発明は、液晶層を挾んで対向配置された２枚の透明基板
の一方の基板に、カラーフィルタ層、オーバーコート
層、島状に分布する薄いＳｉＯ2層及び透明電極を順次
形成したものである。従って、オーバーコート層と透明
電極の熱膨張係数の差や相互間の付着力が小さいことに
よる電極の剥離、ひび割れ、断線等の問題はＳｉＯ2層
によって解消され、しかもこのＳｉＯ2層は極めて薄く
島状になっているため液晶層のシール部の接着力には影
響を与えず、シール部の剥離が生ずることは防止される
のであり、製造の歩留まりや信頼性が向上されて表示品
質のよい液晶表示素子を得ることが容易となるのであ
る。
発明は、液晶層を挾んで対向配置された２枚の透明基板
の一方の基板に、カラーフィルタ層、オーバーコート
層、島状に分布する薄いＳｉＯ2層及び透明電極を順次
形成したものである。従って、オーバーコート層と透明
電極の熱膨張係数の差や相互間の付着力が小さいことに
よる電極の剥離、ひび割れ、断線等の問題はＳｉＯ2層
によって解消され、しかもこのＳｉＯ2層は極めて薄く
島状になっているため液晶層のシール部の接着力には影
響を与えず、シール部の剥離が生ずることは防止される
のであり、製造の歩留まりや信頼性が向上されて表示品
質のよい液晶表示素子を得ることが容易となるのであ
る。
【図１】この発明の一実施例の概略断面図である。
【図２】同実施例の要部の拡大図である。
【図３】従来例の概略断面図である。
１ 透明基板 ２ カラーフィルタ層 ３ オーバーコート層 ４ 透明電極 ５ 極めて薄いＳｉＯ2層
Claims (1)
- 【請求項１】 液晶層を挾んで対向配置された２枚の透
明基板の一方の基板に、カラーフィルタ層、オーバーコ
ート層、島状に分布する薄い二酸化珪素(ＳｉＯ2)層及
び透明電極が順次形成されていることを特徴とするカラ
ー液晶表示素子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35857191A JPH05181122A (ja) | 1991-12-28 | 1991-12-28 | カラー液晶表示素子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35857191A JPH05181122A (ja) | 1991-12-28 | 1991-12-28 | カラー液晶表示素子 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05181122A true JPH05181122A (ja) | 1993-07-23 |
Family
ID=18460001
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP35857191A Pending JPH05181122A (ja) | 1991-12-28 | 1991-12-28 | カラー液晶表示素子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05181122A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR19980060793A (ko) * | 1996-12-31 | 1998-10-07 | 손욱 | 액정 표시 소자 |
| JP2010243888A (ja) * | 2009-04-08 | 2010-10-28 | Konica Minolta Opto Inc | 光学素子及びその製造方法 |
-
1991
- 1991-12-28 JP JP35857191A patent/JPH05181122A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR19980060793A (ko) * | 1996-12-31 | 1998-10-07 | 손욱 | 액정 표시 소자 |
| JP2010243888A (ja) * | 2009-04-08 | 2010-10-28 | Konica Minolta Opto Inc | 光学素子及びその製造方法 |
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