JPH05166811A - 半田バンプの形成方法 - Google Patents

半田バンプの形成方法

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JPH05166811A
JPH05166811A JP3336846A JP33684691A JPH05166811A JP H05166811 A JPH05166811 A JP H05166811A JP 3336846 A JP3336846 A JP 3336846A JP 33684691 A JP33684691 A JP 33684691A JP H05166811 A JPH05166811 A JP H05166811A
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JP
Japan
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solder
stud bump
bump
aluminum electrode
forming
Prior art date
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Pending
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JP3336846A
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English (en)
Inventor
Osamu Umeda
修 梅田
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Fujitsu General Ltd
Original Assignee
Fujitsu General Ltd
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Publication date
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    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/10Bump connectors ; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/11Manufacturing methods
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
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    • H01L2224/13001Core members of the bump connector
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 IC等の半導体部品のアルミ電極に金のスタ
ッドバンプをワイヤーボンダで形成し、その上に半田で
スタッドバンプを形成することで拡散防止のバリアメタ
ルの形成を省略する。 【構成】 IC等の半導体部品1のアルミ電極2に金の
スタッドバンプ3をまず形成し、さらにその上に半田の
スタッドバンプ4を形成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ハイブリッドICに係
り、チップ部品のアルミ電極に金のスタッドバンプを形
成しその上に半田のスタッドバンプを形成する方法に関
する。
【0002】
【従来の技術】従来、ハイブリッドIC等の高密度の表
面実装を行う方法として、セラミック基板を多層としフ
ァインパターンを形成して小型化したIC部品を搭載す
る。このような実装方法としてフリップチップ工法があ
る。IC等の半導体のアルミ電極に金または半田等のバ
ンプを形成し、バンプを形成した面を裏返しこのバンプ
とセラミック基板等を半田または接着剤で接続する。I
C等の半導体のアルミ電極にワイヤーボンダ用キャピラ
リーを使用して半田のスタッドバンプを形成することは
アルミと半田は簡単には付かないのでできなかった。そ
こでIC等の半導体のアルミ電極に前処理として半田の
拡散防止のバリアメタルをメッキ・蒸着等で形成し後で
エッチングで不必要な部分を取る必要があった。前処理
に時間・人手がかかりコストが高くなり、設備が必要な
ために何処ででも簡単に作業をすることができなかっ
た。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記従来の
問題点に鑑みなされたもので、IC等の半導体のアルミ
電極に金のスタッドバンプをワイヤーボンダで形成し、
その上に半田でスタッドバンプを形成することで拡散防
止のバリアメタルの形成を省略する。
【0004】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明では、IC等の半導体部品のアルミ電極に金の
スタッドバンプを形成し、その上に半田のスタッドバン
プを形成したことを特徴とする半田バンプの形成方法を
提供するものである。
【0005】
【作用】上記構成によれば、IC等の半導体部品のアル
ミ電極に金のスタッドバンプをまず形成し、さらにその
上に半田のスタッドバンプを形成する。
【0006】
【実施例】本発明の実施例を添付図面を参照して詳細に
説明する。図1は本発明の半田バンプの形成方法の一実
施例を示す側面図、図2は本発明の半田バンプの形成方
法の側面図である。図において、1はICで、半導体部
品である。2はICの電極で、材質はアルミである。3
は金のスタッドバンプで、アルミ電極2の上部に図示し
ないがワイヤーボンダのキャピラリーで金のスタッドバ
ンプ3が形成される。図2は本発明の半田バンプの形成
方法の側面図で、図において、4は半田のスタッドバン
プで、金のスタッドバンプ3の上部にワイヤーボンダの
キャピラリーで半田のスタッドバンプ4が形成される。
このようにして加工されたIC1は裏返して図示しない
が、基板の上面に置かれ半田または接着剤で基板と接続
される。
【0007】
【発明の効果】以上のように本発明においては、アルミ
電極に半田のスタッドバンプを形成する場合、従来のよ
うに前処理としてバリアメタルを形成する代わりに金の
スタッドバンプを形成してその上に半田のスタッドバン
プを形成すればよく、設備が簡単になり、コストダウン
が図れる、高さの均一性がえられる、蒸着による熱履歴
がなくなり高信頼性が得られる等の効果は大きい。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の半田バンプの形成方法の一実施例を示
す側面図である。
【図2】本発明の半田バンプの形成方法の側面図であ
る。
【符号の説明】
1 IC 2 ICのアルミ電極 3 金のスタッドバンプ 4 半田のスタッドバンプ

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 IC等の半導体部品のアルミ電極に金の
    スタッドバンプを形成し、その上に半田のスタッドバン
    プを形成したことを特徴とする半田バンプの形成方法。
JP3336846A 1991-12-19 1991-12-19 半田バンプの形成方法 Pending JPH05166811A (ja)

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JP3336846A JPH05166811A (ja) 1991-12-19 1991-12-19 半田バンプの形成方法

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Publications (1)

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JPH05166811A true JPH05166811A (ja) 1993-07-02

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JP3336846A Pending JPH05166811A (ja) 1991-12-19 1991-12-19 半田バンプの形成方法

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JP (1) JPH05166811A (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08264540A (ja) * 1995-03-22 1996-10-11 Nec Corp バンプ構造、バンプ製造用キャピラリ及びバンプ製造方 法
JPH098045A (ja) * 1995-06-23 1997-01-10 Nec Corp 半導体素子の接続工法
US7407877B2 (en) 2001-02-27 2008-08-05 Chippac, Inc. Self-coplanarity bumping shape for flip-chip
US7494924B2 (en) 2006-03-06 2009-02-24 Freescale Semiconductor, Inc. Method for forming reinforced interconnects on a substrate

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JPH098045A (ja) * 1995-06-23 1997-01-10 Nec Corp 半導体素子の接続工法
US7407877B2 (en) 2001-02-27 2008-08-05 Chippac, Inc. Self-coplanarity bumping shape for flip-chip
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