JPH05163085A - 丸瓦の施釉装置 - Google Patents

丸瓦の施釉装置

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JPH05163085A
JPH05163085A JP3351887A JP35188791A JPH05163085A JP H05163085 A JPH05163085 A JP H05163085A JP 3351887 A JP3351887 A JP 3351887A JP 35188791 A JP35188791 A JP 35188791A JP H05163085 A JPH05163085 A JP H05163085A
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JP
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glaze
tile
channel tile
round
chain
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JP3351887A
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Nobumichi Itou
伸道 伊東
Takashi Mizoguchi
隆 溝口
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Descente Ltd
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Tsuruya Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 釉薬膜厚の均一化を図って焼成治具との融着
を未然に防止すると共に、必要個所への釉薬の塗布を確
実に行い、而も機構を簡素化して装置の製造を容易にす
る。 【構成】 循環駆動されるチェーン3に、丸瓦を傾斜状
に載置すべき載置アーム体を設け、一方追動自在となす
補助釉薬塗布部を配設すると共に、釉薬を滝状に流下さ
せる釉薬タンクを配設したもの、又循環駆動されるチェ
ーン3に、水平状から傾斜状に姿勢変更する載置アーム
体を設け、一方釉薬を滝状に流下させる釉薬タンクを配
設している。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は屋根の棟部に使用される
丸瓦を起立状態で焼成する際の焼成治具における支持突
起と丸瓦との釉薬による融着を防止する丸瓦の施釉装置
に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、この種の丸瓦を施釉する装置とし
ては、図14に示す様に水平面内を循環駆動されるエンド
レスのチェーンaを設け、このチェーンaの外周側より
外方に支持アームbを水平に突設し、一方支持アームb
の循環経路の適宜上方には施釉タンクcを設け、この施
釉タンクcにおけるスリット状の吐出口より釉薬を下方
に滝状に流している。
【0003】そして、前記支持アームb上に断面を半円
弧状と成した丸瓦dを載置し、施釉タンクcの吐出口下
方を通過させて丸瓦dに釉薬を滝掛けし、しかる後適宜
乾燥したら丸瓦dの尻側d1を下方にして焼成治具e上
に起立状態にて載置し、かかる状態にて焼成炉にて焼成
している。
【0004】然しながら、釉薬を塗布する際の丸瓦dの
姿勢は水平状態であるため、図15に示す様に、特に丸瓦
dの表面中央部位d2(斜線部位)が他の周辺部位の膜
厚に比し、厚くなるため、焼成時にこの余分な釉薬が下
方へ流れ落ち、焼成治具eにおける転倒防止のための支
持突起e1と丸瓦dとの隙間に入り込み、これが焼成さ
れて融着し、焼成後に丸瓦dを取り外すと丸瓦d自体が
破損するトラブルが発生していた。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明は丸瓦を傾斜状
と成して釉薬を塗布し、膜厚の均一化を図って起立状態
での焼成時における焼成治具の支持突起との融着を未然
に防止すると共に、必要個所への釉薬の塗布を確実に行
い、而も機構を簡素化して装置の製造を容易にする丸瓦
の施釉装置を提供せんとするものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は上記従来技術に
基づく塗布された釉薬の膜厚の不均一による焼成時の融
着等の課題に鑑み、丸瓦を傾斜させた状態で移動し、か
かる移動過程で釉薬を塗布することによって丸瓦に塗布
される釉薬の膜厚の均一化を図って焼成時の釉薬垂れ現
象を無くし、丸瓦と焼成治具との融着を未然に防止する
ことを要旨とする丸瓦の施釉装置を提供して上記欠点を
解消せんとしたものである。
【0007】以下本発明の丸瓦の施釉装置は、循環駆動
されるチェーン、丸瓦を載置すべき載置アーム体、塗布
ノズルを有する補助釉薬塗布部、釉薬タンクから第一の
施釉装置を構成している。
【0008】又、チェーンは水平面内に配設され、載置
アーム体は丸瓦の水返し溝を上方と成して傾斜状に載置
可能と成してチェーンに連設され、一方補助釉薬塗布部
の塗布ノズルは丸瓦の水返し溝に倣って追動自在と成
し、又釉薬タンクは釉薬を滝状に流下させる様にしてい
る。
【0009】又、第二の施釉装置は、循環駆動されるチ
ェーン、レール面を有する案内レール、丸瓦を載置すべ
き載置アーム体、釉薬タンクから構成している。
【0010】又、チェーンは水平面内に配設され、載置
アーム体は蝶番を介してチェーンに連設すると共に、下
部にレール面を転動するコロを設け、一方案内レールは
チェーンの循環軌道に沿って載置アーム体の下方に設け
られると共に、レール面を水平状から傾斜状に変更する
姿勢変更区間を設け、この姿勢変更区間の前に釉薬タン
クを配設している。
【0011】
【作用】本発明の第一の施釉装置については、丸瓦を傾
斜状に順次載置アーム体に載置し、循環駆動されるチェ
ーンによって搬送すると、補助釉薬塗布部の塗布ノズル
が水返し溝内に嵌まり込んだ状態で丸瓦が順次移行する
ことにより、塗布ノズルが水返し溝に倣って追動し、塗
布ノズルより吐出する釉薬にて水返し溝内と、該水返し
溝の下方の一部を塗布すると共に、釉薬タンクの吐出部
より滝状に流下する釉薬を丸瓦に塗布し、釉薬の膜厚を
均一にする。
【0012】次に、第二の施釉装置については、丸瓦を
水平状の載置アーム体に載置し、循環駆動されるチェー
ンによって搬送すると、案内レールの姿勢変更区間の前
に到達した時に釉薬タンクの吐出部より吐出する釉薬を
塗布し、その後釉薬の流動性を有する間である案内レー
ルでの姿勢変更区間を順次移行するに従って載置アーム
体を水平状から傾斜状へと姿勢変更し、この移行過程中
にて釉薬の膜厚を均一にする。
【0013】
【実施例】以下本発明の一実施例を図面に基づいて説明
すると、1は本発明に係る丸瓦の第一の施釉装置であ
り、基台2における水平面内を循環駆動されるエンドレ
スのチェーン3を設け、このチェーン3の外周側より外
方へ突出させて載置アーム体4を所定間隔毎に多数固定
している。
【0014】又、この載置アーム体4はチェーン3と連
結固定する水平腕部5より垂直に連続形成される垂直腕
部6の上端より所定幅を有する板状腕部7を外方にして
且つ、下方へ適宜角度(本実施例では概ね45度程度)
を以って傾斜させて連続形成し、この板状体部7の下端
には丸瓦Wにおける頭側W1の裏面に形成される嵌合部
W2内に嵌まり込む様に周縁側を円弧状と成した係合突
起8を形成し、一方垂直腕部6には水平状に支持杆9を
両側方へ延出させて固定している。
【0015】10は載置アーム体4上に尻側W3を上方と
成して載置される丸瓦Wにおける水返し溝W4に倣って
追動自在となす補助釉薬塗布部であり、該補助釉薬塗布
部10は基台2の適宜上方に配設する支持パイプ11の先端
部位に垂直面内を傾斜自在と成す様に揺動ブロック12を
設け、該揺動ブロック12の下部より支持軸13を垂設し、
該支持軸13の下端には軸受14を介して回転ブロック15を
設けている。
【0016】又、回転ブロック15にはアーム体16の基部
を固定して支持軸13の軸心を中心としてアーム体16を揺
動自在と成し、このアーム体16の先端部位に釉薬を吐出
させる塗布ノズル17を設けている。
【0017】又、塗布ノズル17の先端における吐出口の
形状は、略楕円状にパイプ体を偏平させ、かかる偏平個
所における長円部18、18aに段差を設け、一方の長円部1
8を丸瓦Wの水返し溝W4に倣って案内される様に形成
している。
【0018】19は補助釉薬塗布部10を構成するブレーキ
機構であり、該ブレーキ機構19は揺動ブロック12に、一
端部に拡径状の掛止部20を形成する保持軸21を摺動自在
に支持軸13と平行に配設し、この保持軸21の掛止部20と
揺動ブロック12との間にスプリング22を介装すると共
に、保持軸21の掛止部20の端面と回転ブロック15との間
にボール23を介装し、スプリング22の弾発力にて回転ブ
ロック15の回転にブレーキ力を加える様にし、戻り方向
への揺動速度をチェーン3の搬送速度に対応させてい
る。
【0019】24は主釉薬塗布部であり、該主釉薬塗布部
24は補助釉薬塗布部10に隣接(本実施例では搬送下流
側)して配設する釉薬タンク25の下部にスリット状の吐
出口を有する吐出部26を設け、該吐出部26より釉薬を滝
状に流下させ、下方を通過する丸瓦Wの主要部分に釉薬
を塗布する様にしている。
【0020】次に、本発明に係る他の実施例の第二の施
釉装置1aについては、上記基台2に設けるチェーン3の
外周側に蝶番27を介して上記係合突起8、支持杆9を有
する板状腕部7を外方へ突出させる載置アーム体4aを所
定間隔毎に多数固定している。
【0021】又、この載置アーム体4aの基部下方にはチ
ェーン3の循環軌道に沿って案内レール28を設けると共
に、該案内レール28の上面におけるレール面29を転動す
るコロ30を載置アーム体4aの基部の下部に設けている。
【0022】又、案内レール28は所定位置まで上記レー
ル面29を水平と成すと共に、これに連続してレール面29
を下方へ適宜角度(本実施例では概ね45度程度)とな
るまで順次変位させる姿勢変更区間Xを設け、該姿勢変
更区間Xによって載置アーム体4aの姿勢を水平状から傾
斜状へと姿勢変更する様にしている。
【0023】そして、上記主釉薬塗布部24を載置アーム
体4aの姿勢が水平状から傾斜状へと姿勢変更される姿勢
変更区間Xの前方(搬送上流側)に設け、この載置アー
ム体4aに載置する丸瓦Wに釉薬を塗布する様にしてい
る。
【0024】尚、かかる水平状から傾斜状への姿勢変更
区間Xの距離は丸瓦Wに塗布された釉薬が流動性を具有
している状態の範囲で決定される。
【0025】次に本発明に係る丸瓦の施釉装置の作用に
ついて説明すると、先ず、第一の施釉装置1について
は、丸瓦Wにおける頭側W1の嵌合部W2に係合突起8
を係合させると共に、支持杆9に丸瓦Wの両側下縁部を
当接させて左右の傾斜及び下方への位置ズレを規制した
状態で傾斜状に順次載置アーム体4に載置すると、循環
駆動されるチェーン3によって補助釉薬塗布部10、釉薬
タンク25の下方を通過させて丸瓦Wに釉薬を塗布する。
【0026】かかる釉薬塗布状態については、先ず搬送
上流側に位置する補助釉薬塗布部10の塗布ノズル17にお
ける長円部18が水返し溝W4内に嵌まり込んだ状態で丸
瓦Wが順次移行することにより、塗布ノズル17が水返し
溝W4に倣って追動し、塗布ノズル17より吐出する釉薬
にて水返し溝W4内と、該水返し溝W4の下方の一部を
塗布し、続いて搬送下流側に位置する釉薬タンク25の吐
出部26より滝状に流下する釉薬にて丸瓦Wの大部分を塗
布する。
【0027】この様に丸瓦Wが傾斜状態のままで丸瓦W
の水返し溝W4より下方の部位を全て釉薬にて塗布し、
而も傾斜状であるために釉薬の膜厚を均一にする。
【0028】尚、補助釉薬塗布部10にはブレーキ機構19
を設けていることにより、丸瓦Wの搬送上流側における
水返し溝W4に倣って確実に塗布ノズル17を追動させる
ことが出来る。
【0029】次に、第二の施釉装置1aについては、丸瓦
Wにおける頭側W1の嵌合部W2に係合突起8を係合さ
せると共に、支持杆9に丸瓦Wの両側下縁部を当接させ
て左右の傾斜及び下方への位置ズレを規制した状態で水
平状の載置アーム体4aに載置すると、循環駆動されるチ
ェーン3によって釉薬タンク25の下方を通過させて丸瓦
Wに釉薬を塗布し、その後この釉薬の流動性を有する間
である案内レール28での姿勢変更区間Xを順次移行する
に従って載置アーム体4aが水平状から傾斜状へと姿勢変
更され、この移行過程中にて釉薬の膜厚を均一にする。
【0030】
【発明の効果】要するに本発明は、水平面内を循環駆動
されるエンドレスのチェーン3を設け、該チェーン3の
外周側に、丸瓦Wの水返し溝W4を上方と成して傾斜状
に載置すべき載置アーム体4を多数突出固定し、一方丸
瓦Wの水返し溝W4に倣って追動自在となす塗布ノズル
17を有する補助釉薬塗布部10を配設すると共に、該補助
釉薬塗布部10に隣接して釉薬を滝状に流下させる釉薬タ
ンク25を配設したので、塗布する釉薬は丸瓦Wが傾斜状
に成していることにより、膜厚を均一にすることが出来
るため、焼成時に尻側W3を下方にして焼成治具e上に
起立状態にて載置しても、従来の様に余分な釉薬が塗布
されていないので、焼成治具eにおける転倒防止のため
の支持突起e1と丸瓦dと融着を未然に防止することが
出来、又傾斜状に載置する丸瓦Wであっても、水返し溝
W4に倣って追動自在となす塗布ノズル17を設けている
ため、かかる水返し溝W4内にも確実に釉薬を塗布する
ことが出来る。
【0031】又、水平面内を循環駆動されるエンドレス
のチェーン3を設け、該チェーン3の外周側に、丸瓦W
の水返し溝W4を内側と成して載置すべき載置アーム体
4を蝶番27を介して多数突出固定し、この載置アーム体
4aの下方にはチェーン3の循環軌道に沿ってレール面29
を有する案内レール28を設けると共に、載置アーム体4a
の下部にレール面29を転動するコロ30を設け、このレー
ル面29を水平状から傾斜状に変更する姿勢変更区間Xを
案内レール28に設け、この姿勢変更区間Xの前に釉薬を
滝状に流下させる釉薬タンク25を配設したので、上記と
同様に焼成治具eにおける転倒防止のための支持突起e
1と丸瓦dと融着を未然に防止することが出来ると共
に、機構的に簡素であるため製造を容易にすることが出
来る等その実用的効果甚だ大なるものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る丸瓦の第一の施釉装置の概略平面
図である。
【図2】図1のAーA要部矢視図である。
【図3】補助釉薬塗布部における塗布ノズルの先端拡大
図である。
【図4】図1のBーB要部矢視図である。
【図5】補助釉薬塗布部におけるアーム体の追動状態を
示す概略図である。
【図6】載置アーム体の平面図である。
【図7】載置アーム体の側面図である。
【図8】載置アーム体の正面図である。
【図9】丸瓦の第二の施釉装置の概略平面図である。
【図10】図9のCーC要部矢視図である。
【図11】図9のDーD要部矢視図である。
【図12】図9のEーE要部矢視図である。
【図13】載置アーム体の姿勢変更状態を示す概略図で
ある。
【図14】従来の施釉装置の部分側面図である。
【図15】丸瓦を焼成治具に載置した状態の正面図であ
る。
【図16】従来における丸瓦の表面中央部位より流れ落
ちた釉薬が焼成治具の支持突起に融着した状態を示す拡
大図である。
【符号の説明】
3 チェーン 4、4a 載置アーム体 10 補助釉薬塗布部 17 塗布ノズル 25 釉薬タンク 27 蝶番 28 案内レール 29 レール面 30 コロ

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 水平面内を循環駆動されるエンドレスの
    チェーンを設け、該チェーンの外周側に、丸瓦の水返し
    溝を上方と成して傾斜状に載置すべき載置アーム体を多
    数突出固定し、一方丸瓦の水返し溝に倣って追動自在と
    なす塗布ノズルを有する補助釉薬塗布部を配設すると共
    に、該補助釉薬塗布部に隣接して釉薬を滝状に流下させ
    る釉薬タンクを配設したことを特徴とする丸瓦の施釉装
    置。
  2. 【請求項2】 水平面内を循環駆動されるエンドレスの
    チェーンを設け、該チェーンの外周側に、丸瓦の水返し
    溝を内側と成して載置すべき載置アーム体を蝶番を介し
    て多数突出固定し、この載置アーム体の下方にはチェー
    ンの循環軌道に沿ってレール面を有する案内レールを設
    けると共に、載置アーム体の下部にレール面を転動する
    コロを設け、一方このレール面を水平状から傾斜状に変
    更する姿勢変更区間を案内レールに設け、この姿勢変更
    区間の前に釉薬を滝状に流下させる釉薬タンクを配設し
    たことを特徴とする丸瓦の施釉装置。
JP3351887A 1991-12-13 1991-12-13 丸瓦の施釉装置 Expired - Fee Related JPH0796472B2 (ja)

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