JPH05159579A - メモリ回路 - Google Patents

メモリ回路

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Publication number
JPH05159579A
JPH05159579A JP3324539A JP32453991A JPH05159579A JP H05159579 A JPH05159579 A JP H05159579A JP 3324539 A JP3324539 A JP 3324539A JP 32453991 A JP32453991 A JP 32453991A JP H05159579 A JPH05159579 A JP H05159579A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
address selection
memory
potential
memory cell
circuit
Prior art date
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Pending
Application number
JP3324539A
Other languages
English (en)
Inventor
Shinichiro Muto
伸一郎 武藤
Takakuni Douseki
隆国 道関
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Telegraph and Telephone Corp
Original Assignee
Nippon Telegraph and Telephone Corp
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Publication date
Application filed by Nippon Telegraph and Telephone Corp filed Critical Nippon Telegraph and Telephone Corp
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 必ずしもビット線を細くしたり、各配線間の
余裕を低減することなく、メモリセルの高集積化を図る
ことができるメモリ回路を提供することにある。 【構成】 データを記憶するメモリセルを行列状に配置
したメモリセルアレイを有し、前記各メモリセルは、行
方向番地情報と列方向番地情報により選択状態が決定さ
れ、行方向に隣接する当該メモリセルが同一のビット線
に接続されているメモリ回路。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、メモリ回路に関し、特
に、フリップフロップ回路で構成したSRAM(Stati
c Random AccessMemory)のメモリセルに関するもの
である。
【0002】
【従来の技術】図4は、従来のメモリ回路の構成例を示
す図であり、行番地と列番地の両者により選択状態が決
定されるメモリセルを3×3の行列状に配置した図であ
る。同一行に配置されるメモリセルは同一の行番地選択
線RAに駆動される。また、同一列に配置されるメモリ
セルは同一の列番地選択線CAに駆動され、それぞれ2
本づつのビット線BL(BLの上にバーが施されたもの
を含む)が接続される。
【0003】前記従来例の動作を説明する。例えば行番
地選択線RA2、列番地選択線CA2だけが選択された
場合、その両者に接続しているメモリセルM5(2,
2)だけが選択され、低電位情報を記憶したノードに接
続するビット線BL2(BLの上にバーが施されたもの
を含む)のいずれか一方からメモリセル内の低電位電源
Vssへと動作電流が流れ、その電位は低下する。
【0004】図5は、前記メモリセル(特願平3−86
142号,「メモリ回路」、武藤、他)の一例である。
PチャネルMOSFET,Q1,Q3、NチャネルMO
SFET,Q2,Q4で構成されるフリップフロップ回
路の端子NA,NBがNチャネルMOSFET,QR
1,QR2、QC1,QC2を介してビット線BL(B
Lの上にバーが施されたものを含む)に接続されてい
る。QR1,QR2は行番地選択線RAにより、また、
QC1,QC2は列番地選択線CAにより駆動される。
【0005】同一の行番地選択にn個のセルが接続され
ている場合、メモリセルアレイ全体ではビット線総数が
2n本となり、高集積化が進むと、ビット線BL(BL
の上にバーが施されたものを含む)によってメモリセル
アレイの面積が規定されるようになる。
【0006】前記図4及び図5において、1は行番地選
択回路、2は列番地選択回路、Vddは高電位電源、V
ssは低電位電源、M1(1,1)〜M9(3,3)は
メモリセル、BL(BLの上にバーが施されたものを含
む)はビット線、Q1,Q3はPチャネルMOSFE
T、Q2,Q4はNチャネルMOSFET、QR1,Q
R2、QC1,QC2はMOSFET、NA,NBは節
点、RA,RA1〜RA3は行番地選択線、CA,CA
1〜CA3は列番地選択線である。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】従って、従来技術で
は、メモリ回路の高集積化を実現するためには、ビット
線を細くする、あるいは各配線間の余裕を低減するな
ど、集積回路製造技術に大きな負担を強いなければなら
なかった。
【0008】本発明は、前記問題点を解決するためにな
されたものであり、本発明の目的は、必ずしもビット線
を細くしたり、各配線間の余裕を低減することなく、メ
モリセルの高集積化を図ることができるメモリ回路を提
供することにある。
【0009】本発明の前記ならびにその他の目的及び新
規な特徴は、本明細書の記述及び添付図面によって明ら
かになる。
【0010】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、本発明のメモリ回路においては、データを記憶する
メモリセルを行列状に配置したメモリセルアレイを有
し、前記各メモリセルは、行方向番地情報と列方向番地
情報により選択状態が決定され、行方向に隣接する当該
メモリセルが同一のビット線に接続されていることを最
も主要な特徴とする。
【0011】
【作用】前述の手段によれば、行番地選択信号と列番地
選択信号により選択状態が決定されるメモリセルを行列
状に配置し、行方向に互いに隣接するメモリセルを共通
のビット線に接続するので、メモリセルアレイにおいて
ビット線の総数を低減でき、メモリの高集積化を実現す
ることができる。
【0012】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面を用いて詳細に
説明する。
【0013】図1は、本発明のメモリ回路の一実施例の
構成を示す回路図である。行番地と列番地の両者により
選択状態が決定されるメモリセルを3×3の行列状に配
置している。1は行番地選択回路、2は列番地選択回
路、RA1〜RA3は行番地選択線、CA1〜CA3は
列番地選択線、BL1〜BL4はビット線、M1(1,
1)〜M9(3,3)はメモリセルであり、x=1,
2,3、y=1,2,3である。ここで前記メモリセル
の一例としては図5のようなセルが挙げられる。
【0014】次に、本実施例のメモリ回路の動作を説明
する。例えば、行番地選択線RA2、列番地選択線CA
2だけが選択された場合、その両者に接続しているメモ
リセルM5(2,2)だけが選択され、低電位情報を記
憶したノードに接続するビット線BL2,BL3のいず
れか一方(例えばBL3)からメモリセル内の低電位電
源(Vss)へと動作電流が流れ、その電位は低下す
る。電位が低下するBL3にはメモリセルM6(2,
3)が接続しているが、CA3は非選択であるため、メ
モリセルM6(2,3)に記憶されている情報はビット
線電位に影響を受けない。
【0015】図2は、本実施例の効果を説明するための
図であり、ビット線本数の列方向メモリセル数依存性を
示している。n個のメモリセルが接続されている場合、
メモリセルアレイ全体のビット総数は、従来では2n本
であったが、本実施例によれば、n+1本に低減され
る。図2により、メモリ規模が大きくなるほど、本発明
の効果が大きくなることがわかる。
【0016】なお、本発明のメモリセルアレイ構成を採
用した場合には、図3に示すようなマルチプレクサ回路
を用いることにより、従来どおりのデータの読み書き動
作が可能となる。図3において、メモリセルM1(1,
1)〜メモリセルM4(1,4)は本発明のメモリセル
アレイ、BL1〜BL5はビット線、RA1は行番地選
択線、CA1〜CA4は列番地選択線、M1R/M1L
〜M4R/M4Lはトランスファゲート用NチャネルM
OSFETである。CD/CDBは共通データ線でデー
タ入出力回路に接続される。SAはデータ入力回路の例
として示したセンス回路(センスアンプ)であり、Dou
tはデータ出力端子である。また、WBはデータ入力回
路の一例として示した書き込みバッファであり、Dinは
データ入力端子である。2つのメモリセルが接続するビ
ット線には2つのトランスファゲートが接続され、各々
異なる列番地選択線に接続されることが特徴である。
【0017】前記センス回路(センスアンプ)SAで
は、負(−)入力端子の電位に比べて正(+)入力端子
の電位が高ければ、データ出力端子Doutには高電位が
出力され、負(−)入力端子の電位に比べて正(+)入
力端子の電位が低ければ、データ出力端子Doutには低
電位が出力される。
【0018】前記書き込みバッファWBでは、データ入
力端子Dinが高電位であれば、正(+)出力端子は高電
位になり、負(−)出力端子は低電位になる。また、デ
ータ入力端子Dinが低電位であれば、正(+)出力端子
は低電位になり、負(−)出力端子は高電位になる。
【0019】以上、本発明を実施例に基づき具体的に説
明したが、本発明は、前記実施例に限定されるものでは
なく、その要旨を逸脱しない範囲において種々変更し得
ることはいうまでもない。
【0020】
【発明の効果】以上、説明したように、本発明によれ
ば、行番地選択信号と列番地選択信号により選択状態が
決定されるメモリセルを行列状に配置し、行方向に互い
に隣接するメモリセルが共通のビット線に接続されるの
で、ビット線を細くすることなく、あるいは配線間の余
裕を小さくすることなく、メモリの高集積化を図ること
ができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明のメモリ回路の一実施例の構成を示す
回路図、
【図2】 本実施例の効果を説明するための図、
【図3】 本発明のメモリ回路を用いたメモリセルアレ
イ構成におけるデータの読み書き動作を説明するための
回路図、
【図4】 従来のメモリセルアレイの構成を示す図、
【図5】 従来のメモリセルの構成を示す図。
【符号の説明】
1…行番地選択回路、2…列番地選択回路、Vdd…高
電位電源、Vss…低電位電源、BL(BLの上にバー
が施されたものを含む)…ビット線、M1(1,1)〜
M9(3,3)…メモリセル、Q1,Q3…Pチャネル
MOSFET、Q2,Q4…NチャネルMOSFET、
QR1,QR2、QC1,QC2…MOSFET、N
A,NB…節点、RA1〜RA3…行番地選択線、CA
1〜CA3…列番地選択線。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 データを記憶するメモリセルを行列状に
    配置したメモリセルアレイを有し、前記各メモリセル
    は、行方向番地情報と列方向番地情報により選択状態が
    決定され、行方向に隣接する当該メモリセルが同一のビ
    ット線に接続されていることを特徴とするメモリ回路。
JP3324539A 1991-12-09 1991-12-09 メモリ回路 Pending JPH05159579A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3324539A JPH05159579A (ja) 1991-12-09 1991-12-09 メモリ回路

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3324539A JPH05159579A (ja) 1991-12-09 1991-12-09 メモリ回路

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Publication Number Publication Date
JPH05159579A true JPH05159579A (ja) 1993-06-25

Family

ID=18166934

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP3324539A Pending JPH05159579A (ja) 1991-12-09 1991-12-09 メモリ回路

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JP (1) JPH05159579A (ja)

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