JPH05159571A - 半導体記憶装置 - Google Patents

半導体記憶装置

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JPH05159571A
JPH05159571A JP3348250A JP34825091A JPH05159571A JP H05159571 A JPH05159571 A JP H05159571A JP 3348250 A JP3348250 A JP 3348250A JP 34825091 A JP34825091 A JP 34825091A JP H05159571 A JPH05159571 A JP H05159571A
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JP
Japan
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refresh
address
word line
memory
signal
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Pending
Application number
JP3348250A
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English (en)
Inventor
Hiroyuki Uchida
博之 内田
Masahiro Ogata
正弘 緒方
Yoshihiko Yasu
義彦 安
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP3348250A priority Critical patent/JPH05159571A/ja
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【目的】 リフレッシュ周期を縮めることなくしかも冗
長素子を用いることなく、電荷リーク量の多いメモリセ
ルを救済できる半導体記憶装置を実現する。 【構成】 擬似スタティック型RAM等のセルフリフレ
ッシュモードにおいてリフレッシュすべきワード線を指
定するためのリフレッシュアドレス信号R0〜Riを形
成するリフレッシュ制御回路RFCを、例えば、内部制
御信号RCに従って歩進されるリフレッシュアドレスカ
ウンタRCTRと、電荷リーク量の多いメモリセルが結
合されるワード線のアドレスを保持するワード線アドレ
スメモリWROMと、内部制御信号RSLに従ってリフ
レッシュアドレスカウンタRCTRの出力信号C0〜C
iあるいはワード線アドレスメモリWROMの出力信号
M0〜Miを選択的にリフレッシュアドレス信号R0〜
Riとして伝達するリフレッシュアドレスセレクタRA
SLとにより構成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、半導体記憶装置に関
し、例えば、セルフリフレッシュモードを備える擬似ス
タティック型RAM(ランダムアクセスメモリ)等に利
用して特に有効な技術に関するものである。
【0002】
【従来の技術】高集積化・大容量化が可能なダイナミッ
ク型RAMを基本構成としかつ通常のスタティック型R
AMとの互換性を有する擬似スタティック型RAMがあ
る。擬似スタティック型RAMは、通常の書き込み及び
読み出しモードに加えて、例えばバッテリーバックアッ
プ時に一連のワード線に関するリフレッシュ動作を所定
の周期で自律的に実行するためのセルフリフレッシュモ
ードを備える。
【0003】セルフリフレッシュモードを備える擬似ス
タティック型RAMについては、例えば、特開平2−2
46088号公報等に記載されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上記に記載されるよう
な従来の擬似スタティック型RAMのセルフリフレッシ
ュモードにおいて、一連のワード線に関するリフレッシ
ュ動作は、すべて同一のリフレッシュ周期をもって実行
される。
【0005】一方、擬似スタティック型RAMのリフレ
ッシュ周期は、メモリセルの情報保持特性に従って設定
され、セルフリフレッシュモードにおける擬似スタティ
ック型RAMの消費電力は、リフレッシュ周期に比例し
て大きくなる。このため、一連のワード線に関するリフ
レッシュ動作がすべて同一のリフレッシュ周期をもって
実行される従来の擬似スタティック型RAMでは、情報
蓄積キャパシタの電荷リーク量の多いメモリセルつまり
は情報保持特性の悪いメモリセルにあわせてリフレッシ
ュ周期が制約を受け、これによって擬似スタティック型
RAMの低消費電力化が妨げられる。また、これに対処
するために電荷リーク量の多いメモリセルを除外しよう
とすると、冗長素子数に制約があることから、擬似スタ
ティック型RAMの製品歩留まりを低下させる結果とな
る。
【0006】この発明の目的は、そのリフレッシュ周期
を縮めることなく電荷リーク量の多いメモリセルを救済
しうる擬似スタティック型RAM等の半導体記憶装置を
提供することにある。この発明の他の目的は、その製品
歩留まりを犠牲にすることなくセルフリフレッシュモー
ドを備える擬似スタティック型RAM等の低消費電力化
を推進することにある。
【0007】この発明の前記ならびにその他の目的と新
規な特徴は、この明細書の記述及び添付図面から明らか
になるであろう。
【0008】
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば、次
の通りである。すなわち、擬似スタティック型RAM等
のセルフリフレッシュモードにおいてリフレッシュすべ
きワード線を指定するためのリフレッシュアドレス信号
を形成するリフレッシュ制御回路を、例えば、第1の内
部制御信号に従って歩進されるリフレッシュアドレスカ
ウンタと、電荷リーク量の多いメモリセルが結合される
ワード線のアドレスを保持するワード線アドレスメモリ
と、第2の内部制御信号に従って上記リフレッシュアド
レスカウンタ又はワード線アドレスメモリの出力信号を
選択的に上記リフレッシュアドレス信号して伝達するリ
フレッシュアドレスセレクタとにより構成する。
【0009】
【作用】上記手段によれば、一連のワード線に関する通
常のリフレッシュ動作の合間をぬって電荷リーク量の多
いメモリセルが結合されるワード線のリフレッシュ動作
を追加して実行でき、電荷リーク量の多いメモリセルが
結合されるワード線に関するリフレッシュ周期のみを選
択的に縮小することができる。その結果、全体としての
リフレッシュ周期を縮めることなくしかも冗長素子を用
いることなく電荷リーク量の多いメモリセルを救済でき
るため、その製品歩留まりを犠牲にすることなくセルフ
リフレッシュモードを備える擬似スタティック型RAM
等の低消費電力化を推進することができる。
【0010】
【実施例】図1には、この発明が適用された擬似スタテ
ィック型RAM(PSRAM)の一実施例のブロック図
が示されている。また、図2には、図1の擬似スタティ
ック型RAMに含まれるメモリアレイMARY及びセン
スアンプSAの一実施例の回路図が示されている。これ
らの図をもとに、まずこの実施例の擬似スタティック型
RAMの構成及び動作の概要について説明する。なお、
図2の回路素子ならびに図1の各ブロックを構成する回
路素子は、公知の半導体集積回路の製造技術により、単
結晶シリコンのような1個の半導体基板上に形成され
る。また、図2において、そのチャネル(バックゲー
ト)部に矢印が付されるMOSFET(金属酸化物半導
体型電界効果トランジスタ。この明細書では、MOSF
ETをして絶縁ゲート型電界効果トランジスタの総称と
する)はPチャンネル型であって、矢印の付されないN
チャンネルMOSFETと区別して示される。
【0011】図1において、この実施例の擬似スタティ
ック型RAMは、半導体基板面の大半を占めて配置され
るメモリアレイMARYをその基本構成とする。メモリ
アレイMARYは、図2に示されるように、同図の垂直
方向に平行して配置されるm+1本のワード線W0〜W
mと、水平方向に平行して配置されるn+1組の相補ビ
ット線B0*〜Bn*(ここで、例えば非反転ビットB
0と反転ビット線B0Bとをあわせて相補ビット線B0
*のように*を付して表す。また、それが有効とされる
とき選択的にロウレベルとされるいわゆる反転信号又は
反転信号線等については、その名称の末尾にBを付して
表す。以下同様)とを含む。これらのワード線及び相補
ビット線の交点には、情報蓄積キャパシタCs及びアド
レス選択MOSFETQmからなる(m+1)×(n+
1)個のダイナミック型メモリセルが格子状に配置され
る。
【0012】周知のように、メモリセルの情報保持特性
は、情報蓄積キャパシタCsに蓄えられた電荷のリーク
量によって決まる。以下の説明は、図2に点線で示され
るように、ワード線W1及び相補ビット線Bn*の交点
に結合されるメモリセルの電荷リーク量が他のメモリセ
ルに比較して多い場合を例に進められる。
【0013】メモリアレイMARYを構成するワード線
W0〜Wmは、XアドレスデコーダXDに結合され、択
一的に選択状態とされる。XアドレスデコーダXDに
は、XアドレスバッファXBからi+1ビットの内部ア
ドレス信号X0〜Xiが供給され、タイミング発生回路
TGから内部制御信号XDGが供給される。また、Xア
ドレスバッファXBには、アドレス入力端子AX0〜A
Xiを介してXアドレス信号AX0〜AXiが供給さ
れ、リフレッシュ制御回路RFCからリフレッシュアド
レス信号R0〜Riが供給されるとともに、タイミング
発生回路TGから内部制御信号XL及びSRFが供給さ
れる。リフレッシュ制御回路RFCには、タイミング発
生回路TGから内部制御信号SRF及びRC(第1の内
部制御信号)ならびにRSL(第2の内部制御信号)が
供給される。ここで、内部制御信号SRFは、擬似スタ
ティック型RAMがセルフリフレッシュモードとされる
間、ハイレベルとされる。また、内部制御信号RC及び
RSLは、後述するように、擬似スタティック型RAM
がセルフリフレッシュモードとされるときそれぞれ所定
の周期で一時的にハイレベルとされる。
【0014】XアドレスデコーダXDは、上記内部制御
信号XDGがハイレベルとされることで選択的に動作状
態とされる。この動作状態において、Xアドレスデコー
ダXDは、内部アドレス信号X0〜Xiをデコードし、
メモリアレイMARYの対応するワード線W0〜Wmを
択一的にハイレベルの選択状態とする。
【0015】XアドレスバッファXBは、擬似スタティ
ック型RAMが通常の動作モードとされ内部制御信号S
RFがロウレベルとされるとき、アドレス入力端子AX
0〜AXiを介して供給されるXアドレス信号AX0〜
AXiを内部制御信号XLに従って取り込み、保持する
とともに、これらのXアドレス信号をもとに内部アドレ
ス信号X0〜Xiを形成する。擬似スタティック型RA
Mがセルフリフレッシュモードとされ内部制御信号SR
Fがハイレベルとされるとき、XアドレスバッファXB
は、リフレッシュ制御回路RFCから供給されるリフレ
ッシュアドレス信号R0〜Riを内部制御信号XLに従
って取り込み、これらのリフレッシュアドレス信号をも
とに内部アドレス信号X0〜Xiを形成する。
【0016】リフレッシュ制御回路RFCは、後述する
ように、内部制御信号RCに従って歩進されるリフレッ
シュアドレスカウンタRCTRと、メモリアレイMAR
Yの電荷リーク量の多いメモリセルが結合されるワード
線のアドレスを保持するワード線アドレスメモリWRO
Mと、内部制御信号RSLに従ってリフレッシュアドレ
スカウンタRCTR又はワード線アドレスメモリWRO
Mの出力信号を選択的に上記リフレッシュアドレス信号
R0〜Riとして伝達するリフレッシュアドレスセレク
タRASLとを含む。リフレッシュ制御回路RFCは、
擬似スタティック型RAMがセルフリフレッシュモード
とされ内部制御信号SRFがハイレベルとされることで
選択的に動作状態とされる。この動作状態において、リ
フレッシュ制御回路RFCは、リフレッシュアドレス信
号R0〜Riを所定の条件で形成し、Xアドレスバッフ
ァXBに供給する。リフレッシュ制御回路RFCの具体
的な構成及び動作については、後で詳細に説明する。
【0017】次に、メモリアレイMARYを構成する相
補ビット線B0*〜Bn*は、センスアンプSAの対応
する単位回路に結合される。センスアンプSAは、図2
に示されるように、メモリアレイMARYの相補ビット
線B0*〜Bn*に対応して設けられるn+1個の単位
回路を備える。センスアンプSAの各単位回路は、Nチ
ャンネルMOSFETQ1及びPチャンネルMOSFE
TQ11あるいはNチャンネルMOSFETQ2及びP
チャンネルMOSFETQ12により構成される一対の
CMOSインバータが交差結合されてなる単位増幅回路
と、これらの単位増幅回路の非反転又は反転入出力ノー
ドと相補共通データ線CD*との間に設けられる一対の
スイッチMOSFETQ3及びQ4とをそれぞれ含む。
各単位増幅回路を構成するNチャンネルMOSFETQ
1及びQ2のソースは、コモンソース線SNに共通結合
され、PチャンネルMOSFETQ11及びQ12のソ
ースは、コモンソース線SPに共通結合される。また、
各対のスイッチMOSFETQ3及びQ4のゲートはそ
れぞれ共通結合され、YアドレスデコーダYDから対応
するビット線選択信号YS0〜YSnが供給される。
【0018】これにより、センスアンプSAの各単位増
幅回路は、コモンソース線SN及びSPを介して回路の
接地電位及び電源電圧が供給されることで、選択的にか
つ一斉に動作状態とされる。この動作状態において、各
単位増幅回路は、メモリアレイMARYの選択されたワ
ード線に結合されるn+1個のメモリセルから対応する
相補ビット線B0*〜Bn*を介して出力される微小読
み出し信号を増幅し、ハイレベル又はロウレベルの2値
読み出し信号とする。一方、センスアンプSAのスイッ
チMOSFETQ3及びQ4は、対応するビット線選択
信号YS0〜YSnがハイレベルとされることで選択的
にオン状態となり、メモリアレイMARYの対応する相
補ビット線B0*〜Bn*つまりは対応する単位増幅回
路と相補共通データ線CD*とを択一的に接続状態とす
る。なお、センスアンプSAの各単位増幅回路によって
増幅された2値読み出し信号は、擬似スタティック型R
AMが通常の読み出しモードとされるとき、相補共通デ
ータ線CD*からデータ入出力回路IOならびにデータ
出力端子Doutを介して択一的に出力される。また、
擬似スタティック型RAMがセルフリフレッシュモード
とされるとき、選択されたワード線に結合されるn+1
個のメモリセルに一斉に再書き込みされ、これによって
これらのメモリセルのリフレッシュ動作が実現される。
【0019】YアドレスデコーダYDには、Yアドレス
バッファYBからj+1ビットの内部アドレス信号Y0
〜Yjが供給され、タイミング発生回路TGから内部制
御信号YDGが供給される。また、Yアドレスバッファ
YBには、アドレス入力端子AY0〜AYjを介してY
アドレス信号AY0〜AYjが供給され、タイミング発
生回路TGから内部制御信号YLが供給される。
【0020】YアドレスデコーダYDは、上記内部制御
信号YDGがハイレベルとされることで、選択的に動作
状態とされる。この動作状態において、Yアドレスデコ
ーダYDは、内部アドレス信号Y0〜Yjをデコード
し、対応する上記ビット線選択信号YS0〜YSnを択
一的にハイレベルとする。YアドレスバッファYBは、
アドレス入力端子AY0〜AYjを介して供給されるY
アドレス信号AY0〜AYjを内部制御信号YLに従っ
て取り込み、保持するとともに、これらのYアドレス信
号をもとに内部アドレス信号Y0〜Yjを形成して、Y
アドレスデコーダYDに供給する。
【0021】相補共通データ線CD*は、データ入出力
回路IOに結合される。データ入出力回路IOは、ライ
トアンプ及びメインアンプならびにデータ入力バッファ
及びデータ出力バッファを含む。このうち、ライトアン
プの入力端子は、データ入力バッファの出力端子に結合
され、その出力端子は、相補共通データ線CD*に結合
される。また、メインアンプの入力端子は、相補共通デ
ータ線CD*に結合され、その出力端子は、データ出力
バッファの入力端子に結合される。データ入力バッファ
の入力端子は、データ入力端子Dinに結合され、デー
タ出力バッファの出力端子は、データ出力端子Dout
に結合される。
【0022】データ入出力回路IOのデータ入力バッフ
ァは、擬似スタティック型RAMが通常の書き込みモー
ドとされるとき、データ入力端子Dinを介して供給さ
れる書き込みデータを取り込み、ライトアンプに伝達す
る。この書き込みデータは、ライトアンプによって所定
の相補書き込み信号とされ、相補共通データ線CD*を
介してメモリアレイMARYの選択された1個のメモリ
セルに書き込まれる。一方、データ入出力回路IOのメ
インアンプは、擬似スタティック型RAMが通常の読み
出しモードとされるとき、メモリアレイMARYの選択
された1個のメモリセルから相補共通データ線CD*を
介して出力される読み出し信号をさらに増幅し、データ
出力バッファに伝達する。この読み出し信号は、データ
出力バッファからデータ出力端子Doutを介して外部
に送出される。
【0023】タイミング発生回路TGは、外部から起動
制御信号として供給されるチップイネーブル信号CEB
及びライトイネーブル信号WEBならびに出力イネーブ
ル信号OEBをもとに、上記各種の内部制御信号を形成
して、擬似スタティック型RAMの各部に供給する。
【0024】図3には、図1の擬似スタティック型RA
Mに含まれるリフレッシュ制御回路RFCの第1の実施
例のブロック図が示され、図4には、その一実施例の信
号波形図が示されている。これらの図をもとに、この実
施例のリフレッシュ制御回路RFCの具体的な構成及び
動作とセルフリフレッシュモードの概要ならびにその特
徴について説明する。なお、以下の説明は、前述のよう
に、他の正常なメモリセルに比較して電荷リーク量の多
いメモリセルがワード線W1に結合される場合を例に進
められる。
【0025】図3において、この実施例のリフレッシュ
制御回路RFCは、特に制限されないが、リフレッシュ
アドレスカウンタRCTR及びワード線アドレスメモリ
WROMならびにリフレッシュアドレスセレクタRAS
Lを含む。このうち、リフレッシュアドレスカウンタR
CTRには、タイミング発生回路TGから内部制御信号
SRF及びRCが供給され、リフレッシュアドレスセレ
クタRASLには、内部制御信号RSLが供給される。
ここで、内部制御信号SRFは、擬似スタティック型R
AMがセルフリフレッシュモードとされるとき、ハイレ
ベルとされる。また、内部制御信号RCは、図4に示さ
れるように、擬似スタティック型RAMがセルフリフレ
ッシュモードとされるとき、比較的短い周期で周期的に
かつ一時的にハイレベルとされ、内部制御信号RSL
は、比較的長い周期でかつ一時的にハイレベルとされ
る。この実施例において、内部制御信号RCの周期Tr
cは、擬似スタティック型RAMのリフレッシュ周期を
Trfとし、そのワード線数をmとするとき、ほぼ、 Trc≒Trf/m とされる。なお、擬似スタティック型RAMのリフレッ
シュ周期Trfは、電荷リーク量の少ない正常なメモリ
セルの情報保持特性に応じて設定される。また、内部制
御信号RSLの周期Tscは、電荷リーク量の多いメモ
リセルの情報保持特性に応じて設定され、上記リフレッ
シュ周期Trfの整数分の1とされる。さらに、内部制
御信号RSLがハイレベルとされるパルス幅Twsは、
内部制御信号RCの周期Trcと一致する。
【0026】リフレッシュ制御回路RFCのリフレッシ
ュアドレスカウンタRCTRは、擬似スタティック型R
AMが通常の動作モードとされ内部制御信号SRFがロ
ウレベルとされる間、リセットされ、その計数値はゼロ
すなわちワード線W0を指定する初期値とされる。擬似
スタティック型RAMがセルフリフレッシュモードとさ
れ内部制御信号SRFがハイレベルとされると、リフレ
ッシュアドレスカウンタRCTRは動作状態とされ、内
部制御信号RCの立ち上がりエッジに同期してその計数
値を歩進する。擬似スタティック型RAMの出力信号C
0〜Ciは、リフレッシュアドレスセレクタRASLの
一方の入力端子に供給される。
【0027】一方、リフレッシュ制御回路RFCのワー
ド線アドレスメモリWROMは、レーザ等により切断可
能なi+1個のヒューズ手段を含むリードオンリーメモ
リからなり、これらのヒューズ手段が選択的に切断状態
とされることで、電荷リーク量の多いメモリセルが結合
されるワード線すなわちワード線W1のアドレスを保持
する。ワード線アドレスメモリWROMの出力信号M0
〜Miは、リフレッシュアドレスセレクタRASLの他
方の入力端子に供給される。
【0028】リフレッシュ制御回路RFCのリフレッシ
ュアドレスセレクタRASLは、i+1個の選択回路か
らなり、内部制御信号RSLに従って上記リフレッシュ
アドレスカウンタRCTR又はワード線アドレスメモリ
WROMの出力信号を選択的にXアドレスバッファXB
に伝達する。すなわち、内部制御信号RSLがロウレベ
ルとされるとき、リフレッシュアドレスセレクタRAS
LはリフレッシュアドレスカウンタRCTRの出力信号
C0〜Ciを選択し、リフレッシュアドレス信号R0〜
RiとしてXアドレスバッファXBに伝達する。内部制
御信号RSLがハイレベルとされると、リフレッシュア
ドレスセレクタRASLはワード線アドレスメモリWR
OMの出力信号M0〜Miを選択し、リフレッシュアド
レス信号R0〜RiとしてXアドレスバッファXBに伝
達する。
【0029】これらのことから、この実施例の擬似スタ
ティック型RAMのセルフリフレッシュモードでは、図
4に示されるように、リフレッシュアドレスカウンタR
CTRの出力信号C0〜Ciに従ってワード線W0〜W
iに関するリフレッシュ動作が順次実行されるととも
に、その合間をぬって電荷リーク量の多いメモリセルが
結合されるワード線W1のリフレッシュ動作が追加して
実行される。言い換えるならば、電荷リーク量の多いメ
モリセルが結合されるワード線W1は、冗長用のワード
線に置き換えられることなく救済され、正常に機能しう
るものとなる。このとき、正常なメモリセルが結合され
るワード線に関するリフレッシュ周期は、電荷リーク量
の多いメモリセルの情報保持特性に引きずられることな
く短めに設定され、これによって全体としてのリフレッ
シュ周期が縮小される。その結果、その製品歩留まりを
犠牲にすることなく、セルフリフレッシュモードを備え
る擬似スタティック型RAMの低消費電力化を推進でき
るものである。
【0030】図5には、図1の擬似スタティック型RA
Mに含まれるリフレッシュ制御回路RFCの第2の実施
例のブロック図が示され、図6には、その一実施例の信
号波形図が示されている。なお、この実施例のリフレッ
シュ制御回路RFCは、前記図3及び図4の実施例を基
本的に踏襲するものであるため、これと異なる部分につ
いてのみ説明を追加する。
【0031】図5において、この実施例のリフレッシュ
制御回路RFCは、タイミング発生回路TGから内部制
御信号SRF及びRC(第3の内部制御信号)を受ける
リフレッシュアドレスカウンタRCTRと、ワード線ア
ドレスメモリWROMと、内部制御信号RSLを受ける
リフレッシュアドレスセレクタRASLとを含む。ここ
で、内部制御信号SRFは、図4の実施例と同様に、擬
似スタティック型RAMがセルフリフレッシュモードと
されるとき、選択的にハイレベルとされる。また、内部
制御信号RCは、擬似スタティック型RAMがセルフリ
フレッシュモードとされるとき、そのサイクルタイムに
近い短い周期で周期的にかつ一時的にハイレベルとされ
る。さらに、内部制御信号RSLは、図6に示されるよ
うに、擬似スタティック型RAMがセルフリフレッシュ
モードとされるとき、リフレッシュアドレスカウンタR
CTRの出力信号C0〜Ciが一巡されるまでの間、ロ
ウレベルとされた後、ハイレベルとされ、これを擬似ス
タティック型RAMのリフレッシュ周期Trfで繰り返
す。なお、内部制御信号RSLがハイレベルとされる期
間は、リフレッシュアドレスカウンタRCTRの出力信
号C0〜Ciが一巡されるために要する時間の整数倍と
される。
【0032】この実施例のリフレッシュ制御回路RFC
は、さらに、リフレッシュアドレスカウンタRCTR及
びワード線アドレスメモリWROMの出力信号を受ける
アドレス比較回路ACを備える。このアドレス比較回路
ACは、リフレッシュアドレスカウンタRCTRの出力
信号C0〜Ciとワード線アドレスメモリWROMの出
力信号M0〜Miとをビットごとに比較照合して、これ
らの出力信号が全ビット一致するとき、その出力信号A
Mを選択的にハイレベルとする。アドレス比較回路AC
の出力信号AMは、リフレッシュアドレスセレクタRA
SLに供給されるとともに、特に制限されないが、タイ
ミング発生回路TGに供給され、リフレッシュ動作の起
動制御に供される。
【0033】この実施例において、リフレッシュアドレ
スセレクタRASLは、内部制御信号RSLがロウレベ
ルとされるとき、リフレッシュアドレスカウンタRCT
Rの出力信号C0〜Ciを選択し、リフレッシュアドレ
ス信号R0〜RiとしてXアドレスバッファXBに伝達
する。内部制御信号RSLがハイレベルとされると、リ
フレッシュアドレスセレクタRASLは、アドレス比較
回路ACの出力信号AMがハイレベルであることを条件
に、ワード線アドレスメモリWROMの出力信号M0〜
Miを選択し、リフレッシュアドレス信号R0〜Riと
してXアドレスバッファXBに伝達する。
【0034】これらのことから、この実施例の擬似スタ
ティック型RAMのセルフリフレッシュモードでは、図
6に示されるように、ワード線W0〜Wiに関するリフ
レッシュ動作が一巡して実行された後、言い換えるなら
ばワード線W0〜Wiに関する一連のリフレッシュ動作
が繰り返される合間をぬって、電荷リーク量の多いメモ
リセルが結合されるワード線W1のリフレッシュ動作が
リフレッシュアドレスカウンタRCTRの一巡周期をも
って周期的に実行される。その結果、前記図3及び図4
の実施例と同様な効果を得ることができるものである。
【0035】以上の本実施例に示されるように、この発
明をセルフリフレッシュモードを備える擬似スタティッ
ク型RAM等の半導体記憶装置に適用することで、次の
ような作用効果が得られる。すなわち、 (1)擬似スタティック型RAM等のセルフリフレッシ
ュモードにおいてリフレッシュすべきワード線を指定す
るためのリフレッシュアドレス信号を形成するリフレッ
シュ制御回路を、第1の内部制御信号に従って歩進され
るリフレッシュアドレスカウンタと、電荷リーク量の多
いメモリセルが結合されるワード線のアドレスを保持す
るワード線アドレスメモリと、第2の内部制御信号に従
ってリフレッシュアドレスカウンタ又はワード線アドレ
スメモリの出力信号を選択的にリフレッシュアドレス信
号して伝達するリフレッシュアドレスセレクタとにより
構成し、あるいは第3の内部制御信号に従って歩進され
るリフレッシュアドレスカウンタと、電荷リーク量の多
いメモリセルが結合されるワード線のアドレスを保持す
るワード線アドレスメモリと、リフレッシュアドレスカ
ウンタ及びワード線アドレスメモリの出力信号を比較照
合しこれらが全ビット一致したときその出力信号を選択
的に有効とするアドレス比較回路と、リフレッシュアド
レスカウンタの出力信号を一巡してリフレッシュアドレ
ス信号として伝達した後、アドレス比較回路の出力信号
が有効とされるとき選択的にワード線アドレスメモリの
出力信号をリフレッシュアドレス信号として伝達するリ
フレッシュアドレスセレクタとにより構成することで、
一連のワード線に関する通常のリフレッシュ動作の合間
に電荷リーク量の多いメモリセルが結合されるワード線
のリフレッシュ動作を追加して実行でき、電荷リーク量
の多いメモリセルが結合されるワード線に関するリフレ
ッシュ周期のみを選択的に縮小できるという効果が得ら
れる。
【0036】(2)上記(1)項により、擬似スタティ
ック型RAM全体としてのリフレッシュ周期を縮めるこ
となくしかも冗長素子を用いることなく、電荷リーク量
の多いメモリセルを救済できるという効果が得られる。 (3)上記(1)項及び(2)項により、その製品歩留
まりを犠牲にすることなく、セルフリフレッシュモード
を備える擬似スタティック型RAM等の低消費電力化を
推進できるという効果が得られる。
【0037】以上、本発明者によってなされた発明を実
施例に基づき具体的に説明したが、この発明は、上記実
施例に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない
範囲で種々変更可能であることは言うまでもない。例え
ば、図1において、擬似スタティック型RAMは、複数
ビットの記憶データを同時に入力又は出力するいわゆる
多ビット構成とすることができるし、そのブロック構成
はこの実施例による制約を受けない。図2において、メ
モリアレイMARYは、複数のメモリマット又はサブメ
モリアレイに分割することができるし、いわゆるシェア
ドセンス方式を採ることもできる。図5において、アド
レス比較回路ACの出力信号AMがハイレベルとされる
ときには、ワード線アドレスメモリWROMの出力信号
M0〜Miに代えて、リフレッシュアドレスカウンタR
CTRの出力信号C0〜Ciをリフレッシュアドレス信
号R0〜Riとして出力してもよい。図3及び図5にお
いて、リフレッシュ制御回路RFCのワード線アドレス
メモリWROMは、ヒューズ手段以外を記憶素子とする
他種のリードオンリーメモリに置き換えることができ
る。リフレッシュ制御回路RFCは、複数のワード線ア
ドレスメモリWROMを備えることができる。この場
合、内部制御信号RSLに相当する内部制御信号を各ワ
ード線アドレスメモリWROMに対応して設け、これら
の内部制御信号の周期を対応するワード線に結合される
メモリセルの情報保持特性に応じて設定すればよい。さ
らに、図2に示されるメモリアレイMARY及びセンス
アンプSAならびに図3及び図5に示されるリフレッシ
ュ制御回路RFCの構成は、これらの実施例による制約
を受けないし、図4及び図6に示される各内部制御信号
の論理レベル及び組み合わせ等は、種々の実施形態を採
りうる。
【0038】以上の説明では、主として本発明者によっ
てなされた発明をその背景となった利用分野である擬似
スタティック型RAMに適用した場合について説明した
が、それに限定されるものではなく、例えば、通常のダ
イナミック型RAMやダイナミック型RAMを基本構成
とする各種のメモリ集積回路装置ならびにこれらのメモ
リ集積回路装置を内蔵するディジタル集積回路装置等に
も適用できる。この発明は、少なくともセルフリフレッ
シュモードを有する半導体記憶装置ならびにこのような
半導体記憶装置を含む半導体装置に広く適用できる。
【0039】
【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下
記の通りである。すなわち、擬似スタティック型RAM
等のセルフリフレッシュモードにおいてリフレッシュす
べきワード線を指定するためのリフレッシュアドレス信
号を形成するリフレッシュ制御回路を、例えば、第1の
内部制御信号に従って歩進されるリフレッシュアドレス
カウンタと、電荷リーク量の多いメモリセルが結合され
るワード線のアドレスを保持するワード線アドレスメモ
リと、第2の内部制御信号に従ってリフレッシュアドレ
スカウンタ又はワード線アドレスメモリの出力信号を選
択的に上記リフレッシュアドレス信号して伝達するリフ
レッシュアドレスセレクタとにより構成することで、一
連のワード線に関する通常のリフレッシュ動作の合間に
電荷リーク量の多いメモリセルが結合されるワード線の
リフレッシュ動作を追加して実行でき、電荷リーク量の
多いメモリセルが結合されるワード線に関するリフレッ
シュ周期のみを選択的に縮小することができる。その結
果、全体としてのリフレッシュ周期を縮めることなくし
かも冗長素子を用いることなく電荷リーク量の多いメモ
リセルを救済できるため、その製品歩留まりを犠牲にす
ることなくセルフリフレッシュモードを備える擬似スタ
ティック型RAM等の低消費電力化を推進できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明が適用された擬似スタティック型RA
Mの一実施例を示すブロック図である。
【図2】図1の擬似スタティック型RAMに含まれるメ
モリアレイ及びセンスアンプの一実施例を示す回路図で
ある。
【図3】図1の擬似スタティック型RAMに含まれるリ
フレッシュ制御回路の第1の実施例を示すブロック図で
ある。
【図4】図3のリフレッシュ制御回路の一実施例を示す
信号波形図である。
【図5】図1の擬似スタティック型RAMに含まれるリ
フレッシュ制御回路の第2の実施例を示すブロック図で
ある。
【図6】図5のリフレッシュ制御回路の一実施例を示す
信号波形図である。
【符号の説明】
PSRAM・・・擬似スタティック型RAM、MARY
・・・メモリアレイ、SA・・・センスアンプ、XD・
・・Xアドレスデコーダ、YD・・・Yアドレスデコー
ダ、XB・・・Xアドレスバッファ、RFC・・・リフ
レッシュ制御回路、YB・・・Yアドレスバッファ、I
O・・・データ入出力回路、TG・・・タイミング発生
回路。W0〜Wm・・・ワード線、B0*〜Bn*・・
・相補ビット線、Cs・・・情報蓄積キャパシタ、Qm
・・・アドレス選択MOSFET、Q1〜Q4・・・N
チャンネルMOSFET、Q11〜Q12・・・Pチャ
ンネルMOSFET。RCTR・・・リフレッシュアド
レスカウンタ、WROM・・・ワード線アドレスメモ
リ、RASL・・・リフレッシュアドレスセレクタ。A
C・・・アドレス比較回路。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 直交して配置されるワード線及びビット
    線ならびにこれらのワード線及びビット線の交点に格子
    状に配置されるダイナミック型メモリセルとを含むメモ
    リアレイと、所定のリフレッシュモードにおいてリフレ
    ッシュすべきワード線のアドレスを指定するためのリフ
    レッシュアドレス信号を形成するリフレッシュ制御回路
    とを具備し、一連のワード線を順次指定しつつ実行され
    る通常のリフレッシュ動作の合間に電荷リーク量の多い
    メモリセルが結合されるワード線のリフレッシュ動作を
    追加して実行することで、電荷リーク量の多いメモリセ
    ルが結合されるワード線に関するリフレッシュ周期を選
    択的に縮小しうることを特徴とする半導体記憶装置。
  2. 【請求項2】 上記リフレッシュ制御回路は、第1の内
    部制御信号に従って歩進されリフレッシュすべきワード
    線のアドレスを順次指定するリフレッシュアドレスカウ
    ンタと、電荷リーク量の多いメモリセルが結合されるワ
    ード線のアドレスを保持するワード線アドレスメモリ
    と、第2の内部制御信号に従って上記リフレッシュアド
    レスカウンタ又はワード線アドレスメモリの出力信号を
    選択的に上記リフレッシュアドレス信号して伝達するリ
    フレッシュアドレスセレクタとを含むものであることを
    特徴とする請求項1の半導体記憶装置。
  3. 【請求項3】 上記リフレッシュ制御回路は、第3の内
    部制御信号に従って歩進されリフレッシュすべきワード
    線のアドレスを順次指定するリフレッシュアドレスカウ
    ンタと、電荷リーク量の多いメモリセルが結合されるワ
    ード線のアドレスを保持するワード線アドレスメモリ
    と、上記リフレッシュアドレスカウンタ及びワード線ア
    ドレスメモリの出力信号を比較照合しこれらの出力信号
    が全ビット一致したときその出力信号を選択的に有効と
    するアドレス比較回路と、上記リフレッシュアドレスカ
    ウンタの出力信号を一巡して上記リフレッシュアドレス
    信号として伝達した後、上記アドレス比較回路の出力信
    号が有効とされるとき選択的に上記リフレッシュアドレ
    スカウンタ又はワード線アドレスメモリの出力信号を上
    記リフレッシュアドレス信号として伝達するリフレッシ
    ュアドレスセレクタとを含むものであることを特徴とす
    る請求項1の半導体記憶装置。
  4. 【請求項4】 上記半導体記憶装置は、擬似スタティッ
    ク型RAMであり、上記リフレッシュモードは、セルフ
    リフレッシュモードであって、上記ワード線アドレスメ
    モリは、保持すべきワード線のアドレスに従って選択的
    に切断される複数のヒューズ手段を含むリードオンリー
    メモリであることを特徴とする請求項1,請求項2又は
    請求項3の半導体記憶装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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