JPH05154333A - 有害ガスの浄化方法 - Google Patents
有害ガスの浄化方法Info
- Publication number
- JPH05154333A JPH05154333A JP3327577A JP32757791A JPH05154333A JP H05154333 A JPH05154333 A JP H05154333A JP 3327577 A JP3327577 A JP 3327577A JP 32757791 A JP32757791 A JP 32757791A JP H05154333 A JPH05154333 A JP H05154333A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- harmful
- purifying agent
- activated carbon
- ammonia
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Treating Waste Gases (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】アンモニア、トリメチルアミンなど塩基性ガス
を含む空気、窒素、水素などからこれらの有害ガスを除
去し無害化する。 【構成】塩基性ガスを含むガスを硫酸銅を活性炭に担持
させた浄化剤と接触させる。
を含む空気、窒素、水素などからこれらの有害ガスを除
去し無害化する。 【構成】塩基性ガスを含むガスを硫酸銅を活性炭に担持
させた浄化剤と接触させる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は有害ガスの除去方法に関
し、さらに詳細にはガスボンベなどから高濃度の塩基性
ガスが急激に漏洩したような場合に、これを効率良く除
去するための有害ガスの浄化方法に関する。近年、半導
体工業やオプトエレクトロニクス工業の発展とともに、
アンモニア、アミン類などの塩基性ガスの使用量が増加
している。これらの塩基性ガスは化学気相成長法などの
半導体製造工程などにおいて、不可欠な物質であるが、
いずれも毒性が高く、刺激臭を放つとともに人体や環境
に悪影響を与える。これらのガスの許容濃度については
例えばアンモニアが２５ｐｐｍ、トリメチルアミン
〔（ＣＨ3 ）3 Ｎ〕が１０ｐｐｍなどである。これらの
塩基性がスは通常は下記のように容量が０．１〜５０Ｌ
程度のガスボンベに充填して市販されている。ガスボン
ベはガスが漏洩した場合に直接外部の空気を汚染するこ
とを防止するため、通常はボンベボックスと呼ばれる換
気ダクトに接続されたボンベ収納器内に収納された状態
で半導体プロセスなどへのガスの供給配管に接続して使
用される。このようなボンベボックス内に収納されてい
ても思わぬ事故などにより、例えば５〜１０分程度の短
時間でボンベが空になるような急激な漏洩が発生する危
険性が皆無といえず、このような事故に対処しうる万全
の対策が強く要望されている。
し、さらに詳細にはガスボンベなどから高濃度の塩基性
ガスが急激に漏洩したような場合に、これを効率良く除
去するための有害ガスの浄化方法に関する。近年、半導
体工業やオプトエレクトロニクス工業の発展とともに、
アンモニア、アミン類などの塩基性ガスの使用量が増加
している。これらの塩基性ガスは化学気相成長法などの
半導体製造工程などにおいて、不可欠な物質であるが、
いずれも毒性が高く、刺激臭を放つとともに人体や環境
に悪影響を与える。これらのガスの許容濃度については
例えばアンモニアが２５ｐｐｍ、トリメチルアミン
〔（ＣＨ3 ）3 Ｎ〕が１０ｐｐｍなどである。これらの
塩基性がスは通常は下記のように容量が０．１〜５０Ｌ
程度のガスボンベに充填して市販されている。ガスボン
ベはガスが漏洩した場合に直接外部の空気を汚染するこ
とを防止するため、通常はボンベボックスと呼ばれる換
気ダクトに接続されたボンベ収納器内に収納された状態
で半導体プロセスなどへのガスの供給配管に接続して使
用される。このようなボンベボックス内に収納されてい
ても思わぬ事故などにより、例えば５〜１０分程度の短
時間でボンベが空になるような急激な漏洩が発生する危
険性が皆無といえず、このような事故に対処しうる万全
の対策が強く要望されている。
【０００２】
【従来の技術】ガス中に含有される塩基性ガスなどを除
去する方法としては、スクラバー吸収分解させる湿式法
があり、吸収液として主に酸性成分を含む水溶液が用い
られている。
去する方法としては、スクラバー吸収分解させる湿式法
があり、吸収液として主に酸性成分を含む水溶液が用い
られている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、湿式法
は装置が大型化するとともに後処理に困難性があり、装
置の保守費用も大きくなるという欠点がある。さらに、
吸着効率が必ずしも高くなく、高濃度の有害ガスの場合
には完全に処理しきれないのが現状である。従って、前
記したようなボンベから有害ガスが急激に漏洩したよう
な緊急時に対して、効率よく、しかも極めて迅速に処理
しうる除去性能の優れた浄化方法が要望されている。
は装置が大型化するとともに後処理に困難性があり、装
置の保守費用も大きくなるという欠点がある。さらに、
吸着効率が必ずしも高くなく、高濃度の有害ガスの場合
には完全に処理しきれないのが現状である。従って、前
記したようなボンベから有害ガスが急激に漏洩したよう
な緊急時に対して、効率よく、しかも極めて迅速に処理
しうる除去性能の優れた浄化方法が要望されている。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らはこれらの問
題点を解決するべく鋭意検討を重ねた結果、担体として
活性炭に硫酸銅を担持させた浄化剤を用いることにより
空気中などに漏洩した高濃度の塩基性ガスを効率良く除
去しうることを見い出し、本発明を完成した。すなわち
本発明は、有害成分として塩基性ガスを含有するガス
を、硫酸銅を活性炭に担持させてなる浄化剤と接触さ
せ、該ガスから有害成分を除去することを特徴とする有
害ガスの浄化方法である。本発明の浄化方法は空気、窒
素および水素になど、主に空気中に含有されるアンモニ
アおよびジメチルアミン、トリメチルアミン、モノメチ
ルアミンなどのアミン類を含有する有害ガスに適用され
る。特に本発明の浄化方法は多量の有害ガスを迅速に、
しかも常温で除去することができ、例えば、ボンベから
急激に漏洩するなどで有害ガスによって汚染されたガス
（通常は空気）の迅速な浄化などに優れた効果が得られ
る。
題点を解決するべく鋭意検討を重ねた結果、担体として
活性炭に硫酸銅を担持させた浄化剤を用いることにより
空気中などに漏洩した高濃度の塩基性ガスを効率良く除
去しうることを見い出し、本発明を完成した。すなわち
本発明は、有害成分として塩基性ガスを含有するガス
を、硫酸銅を活性炭に担持させてなる浄化剤と接触さ
せ、該ガスから有害成分を除去することを特徴とする有
害ガスの浄化方法である。本発明の浄化方法は空気、窒
素および水素になど、主に空気中に含有されるアンモニ
アおよびジメチルアミン、トリメチルアミン、モノメチ
ルアミンなどのアミン類を含有する有害ガスに適用され
る。特に本発明の浄化方法は多量の有害ガスを迅速に、
しかも常温で除去することができ、例えば、ボンベから
急激に漏洩するなどで有害ガスによって汚染されたガス
（通常は空気）の迅速な浄化などに優れた効果が得られ
る。
【０００５】本発明において硫酸銅を活性炭に担持させ
た浄化剤が使用される。硫酸銅としては、無水物から５
水和物まで種々の水和物が知られているが３〜５水和物
が一般的に好ましく、特に５水和物が空気中での安定性
がよいことなどから好適である。硫酸銅を担持させるた
めの活性炭は、椰子殻炭、木炭、骨炭などいずれでもよ
いが、椰子殻炭が好ましい。活性炭の比表面積は２００
ｍ2／ｇ以上、好ましくは５００ｍ2 ／ｇ以上のもので
ある。活性炭に担持される硫酸銅の量には特に制限はな
く、塩基性ガスの種類、濃度などによって選択される
が、例えば、活性炭１００重量部に対して硫酸銅の５水
和物として３〜１００重量部、好ましくは１０〜８０重
量部程度とされる。硫酸銅が３重量部よりも少ないと浄
化効率が低くなり、一方、１００重量部を越えると活性
炭に十分に保持されず、かつ、高価にもなる。本発明に
おいて、有害成分の除去効率をより高める目的で浄化剤
に硫酸銅の結晶水に加え、ある程度の遊離水分を保有せ
しめることが望ましい。遊離水分の保有量としては通常
は、浄化剤全重量に対し、１〜５０重量％、好ましくは
１０〜４０重量％である。浄化剤を得るには、例えば硫
酸銅を温水に溶解し、これを活性炭に含浸せしめた後、
３０〜１００℃程度で所定の水分含有量になるまで乾燥
することによって製造することができる。
た浄化剤が使用される。硫酸銅としては、無水物から５
水和物まで種々の水和物が知られているが３〜５水和物
が一般的に好ましく、特に５水和物が空気中での安定性
がよいことなどから好適である。硫酸銅を担持させるた
めの活性炭は、椰子殻炭、木炭、骨炭などいずれでもよ
いが、椰子殻炭が好ましい。活性炭の比表面積は２００
ｍ2／ｇ以上、好ましくは５００ｍ2 ／ｇ以上のもので
ある。活性炭に担持される硫酸銅の量には特に制限はな
く、塩基性ガスの種類、濃度などによって選択される
が、例えば、活性炭１００重量部に対して硫酸銅の５水
和物として３〜１００重量部、好ましくは１０〜８０重
量部程度とされる。硫酸銅が３重量部よりも少ないと浄
化効率が低くなり、一方、１００重量部を越えると活性
炭に十分に保持されず、かつ、高価にもなる。本発明に
おいて、有害成分の除去効率をより高める目的で浄化剤
に硫酸銅の結晶水に加え、ある程度の遊離水分を保有せ
しめることが望ましい。遊離水分の保有量としては通常
は、浄化剤全重量に対し、１〜５０重量％、好ましくは
１０〜４０重量％である。浄化剤を得るには、例えば硫
酸銅を温水に溶解し、これを活性炭に含浸せしめた後、
３０〜１００℃程度で所定の水分含有量になるまで乾燥
することによって製造することができる。
【０００６】本発明に適用される有害ガスの濃度は、通
常は１％以下、好ましくは１０００ｐｐｍ以下である。
また、浄化剤とガスとの接触温度は０〜９０℃程度であ
り、通常は室温（１０〜５０℃）で操作され、特に加熱
や冷却を必要としない。なお接触開始後は反応熱によっ
て、有害ガスの濃度に応じて温度上昇が見られる。接触
時の圧力は、通常は常圧であるが、減圧乃至１ｋｇ／ｃ
ｍ2 Ｇのような加圧下で操作することも可能である。本
発明が適用される空気、窒素および水素などのガスは乾
燥状態または湿潤状態であっても結露を生じない程度で
あればよいが、一般的には通常の大気に相当する３０〜
１００％の相対湿度で使用されることが多く、このよう
な場合には浄化剤中の遊離水分が１０〜３０重量％程度
のものが好適である。また、空気中などの炭酸ガスによ
って悪影響を受けることはなく、炭酸ガスの存在は状況
によっては却って浄化能力を高めることもある。
常は１％以下、好ましくは１０００ｐｐｍ以下である。
また、浄化剤とガスとの接触温度は０〜９０℃程度であ
り、通常は室温（１０〜５０℃）で操作され、特に加熱
や冷却を必要としない。なお接触開始後は反応熱によっ
て、有害ガスの濃度に応じて温度上昇が見られる。接触
時の圧力は、通常は常圧であるが、減圧乃至１ｋｇ／ｃ
ｍ2 Ｇのような加圧下で操作することも可能である。本
発明が適用される空気、窒素および水素などのガスは乾
燥状態または湿潤状態であっても結露を生じない程度で
あればよいが、一般的には通常の大気に相当する３０〜
１００％の相対湿度で使用されることが多く、このよう
な場合には浄化剤中の遊離水分が１０〜３０重量％程度
のものが好適である。また、空気中などの炭酸ガスによ
って悪影響を受けることはなく、炭酸ガスの存在は状況
によっては却って浄化能力を高めることもある。
【０００７】浄化剤は、通常は有害ガスの浄化筒に充填
され、固定床として用いられるが移動床、流動床として
用いることも可能である。本発明において浄化剤が浄化
筒に充填されたときの充填密度は０．６〜０．９ｇ／ｍ
ｌ程度である。浄化剤は、例えば図１のフローシートで
示されたような浄化筒１に充填されて使用される。そし
て浄化筒１はガスボンベ２が収納されたボンベボックス
３とボンベボックス３内の空気を連続的に吸引換気する
ためのブロアー４とを接続する換気ダクト５に介在させ
て使用される。浄化剤は有害ガスの濃度が１％を超える
ような高濃度では発熱が大きくなるため、除熱手段が必
要となる場合がある。しかしながら、図１のような設備
では通常、有害ガスの急激な漏洩が生じても空気との混
合によって、その濃度が１％以下に希釈されるに充分な
容量のブロアーが設けられている。具体的には換気容量
が５〜２００ｍ3 ／ｍｉｎ程度のブロアーが設置されて
おり、例えば容量が０．１〜５０Ｌ程度のガスボンベが
５〜１０分で空になるような漏洩が生じた場合の空気中
などの有害ガスの濃度は５０〜１０００ｐｐｍ程度にな
ると想定される。浄化筒内の浄化剤の充填長はガスの流
量および有害ガスの濃度などにより、一概に特定はでき
ないが、実用上通常は５０〜５００ｍｍ程度とされ、浄
化筒の内径は筒内を流れるガスの空筒線速度（ＬＶ）で
０．１〜１．５ｍ／ｓｅｃ程度となるように設計され、
充填層の圧力損失、ガスの接触効率および有害ガスの濃
度などに応じて定められる。
され、固定床として用いられるが移動床、流動床として
用いることも可能である。本発明において浄化剤が浄化
筒に充填されたときの充填密度は０．６〜０．９ｇ／ｍ
ｌ程度である。浄化剤は、例えば図１のフローシートで
示されたような浄化筒１に充填されて使用される。そし
て浄化筒１はガスボンベ２が収納されたボンベボックス
３とボンベボックス３内の空気を連続的に吸引換気する
ためのブロアー４とを接続する換気ダクト５に介在させ
て使用される。浄化剤は有害ガスの濃度が１％を超える
ような高濃度では発熱が大きくなるため、除熱手段が必
要となる場合がある。しかしながら、図１のような設備
では通常、有害ガスの急激な漏洩が生じても空気との混
合によって、その濃度が１％以下に希釈されるに充分な
容量のブロアーが設けられている。具体的には換気容量
が５〜２００ｍ3 ／ｍｉｎ程度のブロアーが設置されて
おり、例えば容量が０．１〜５０Ｌ程度のガスボンベが
５〜１０分で空になるような漏洩が生じた場合の空気中
などの有害ガスの濃度は５０〜１０００ｐｐｍ程度にな
ると想定される。浄化筒内の浄化剤の充填長はガスの流
量および有害ガスの濃度などにより、一概に特定はでき
ないが、実用上通常は５０〜５００ｍｍ程度とされ、浄
化筒の内径は筒内を流れるガスの空筒線速度（ＬＶ）で
０．１〜１．５ｍ／ｓｅｃ程度となるように設計され、
充填層の圧力損失、ガスの接触効率および有害ガスの濃
度などに応じて定められる。
【０００８】
実施例１〜４ 浄化剤の調製 硫酸銅５水和物１６０〜３５０ｇを４００〜８００ｍｌ
の温水に溶解し、バット中にて活性炭（武田薬品工業
（株）製、粒状白サギ、４〜６メッシュ）４２０ｇと混
合した後、８０℃にて乾燥させ、硫酸銅の含有量および
遊離水分含有量の異なる４種類の浄化剤を得た。この４
種類の浄化剤を用いてそれぞれ有害ガスの浄化試験をお
こなった。浄化剤３７７ｍｌ（充填密度；遊離水分２３
ｗｔ％のもの０．８１ｇ／ｍｌ、１５ｗｔ％のもの０．
６６ｇ／ｍｌ）を内径４０ｍｍ、長さ５００ｍｍのパイ
レックスガラス製の浄化筒に充填し、アンモニアを４０
０ｐｐｍ含有する乾燥窒素を２０℃、常圧下で３０．２
Ｌ／ｍｉｎ（ＬＶ＝０．４）の流量で流通させた。浄化
筒の出口ガスの一部をサンプリングし、ガス検知管（ガ
ステック社製、検知下限２ｐｐｍ）で測定し、アンモニ
アが許容濃度上限（２５ｐｐｍ）に到達するまでの時間
（有効処理時間）を測定した。その結果を表１に示す。
の温水に溶解し、バット中にて活性炭（武田薬品工業
（株）製、粒状白サギ、４〜６メッシュ）４２０ｇと混
合した後、８０℃にて乾燥させ、硫酸銅の含有量および
遊離水分含有量の異なる４種類の浄化剤を得た。この４
種類の浄化剤を用いてそれぞれ有害ガスの浄化試験をお
こなった。浄化剤３７７ｍｌ（充填密度；遊離水分２３
ｗｔ％のもの０．８１ｇ／ｍｌ、１５ｗｔ％のもの０．
６６ｇ／ｍｌ）を内径４０ｍｍ、長さ５００ｍｍのパイ
レックスガラス製の浄化筒に充填し、アンモニアを４０
０ｐｐｍ含有する乾燥窒素を２０℃、常圧下で３０．２
Ｌ／ｍｉｎ（ＬＶ＝０．４）の流量で流通させた。浄化
筒の出口ガスの一部をサンプリングし、ガス検知管（ガ
ステック社製、検知下限２ｐｐｍ）で測定し、アンモニ
アが許容濃度上限（２５ｐｐｍ）に到達するまでの時間
（有効処理時間）を測定した。その結果を表１に示す。
【０００９】
【表１】 表１ 実施例 硫酸銅 遊離水分 有害ガス 空筒線速度 有効処理時間 含有率 含有率 の濃度 ＬＶ （ｗｔ％）（ｗｔ％） （ｐｐｍ） （ｍ／ｓｅｃ） （ｍｉｎ） １ １０ １５ ４００ ０．４ ２４０ ２ １２ 〃 〃 〃 ３２０ ３ 〃 ２３ 〃 〃 ４６９ ４ ３０ 〃 〃 〃 ７００
【００１０】実施例５〜１１ 実施例３と同じ浄化剤を用い、アンモニア濃度およびガ
スの流通速度（ＬＶ）を種々変えた他は実施例１と同様
にして浄化試験をおこなった。その結果を表２に示す。
スの流通速度（ＬＶ）を種々変えた他は実施例１と同様
にして浄化試験をおこなった。その結果を表２に示す。
【００１１】
【表２】 表２ 実施例 硫酸銅 遊離水分 有害ガス 空筒線速度 有効処理時間 含有率 含有率 の濃度 ＬＶ （ｗｔ％）ｗｔ％） （ｐｐｍ） （ｍ／ｓｅｃ） （ｍｉｎ） ５ １２ ２３ ２０００ ０．４ ５６ ６ 〃 〃 〃 ０．３ ８５ ７ 〃 〃 〃 ０．２ ２１４ ８ 〃 〃 ４００ １．０ １２３ ９ 〃 〃 〃 ０．３ ６４０ １０ 〃 〃 〃 ０．２ １６４２ １１ 〃 〃 ４０ ０．４ ７８１４
【００１２】実施例１２、１３ 実施例３と同じ浄化剤を用い、アンモニアの代りにトリ
メチルアミンを４００ｐｐｍ含有する窒素について流通
速度（ＬＶ）を変え、実施例１と同様にして浄化試験を
おこないトリメチルアミンの濃度が許容濃度上限（１０
ｐｐｍ）に達するまでの時間を測定した。その結果を表
３に示す。
メチルアミンを４００ｐｐｍ含有する窒素について流通
速度（ＬＶ）を変え、実施例１と同様にして浄化試験を
おこないトリメチルアミンの濃度が許容濃度上限（１０
ｐｐｍ）に達するまでの時間を測定した。その結果を表
３に示す。
【００１３】
【表３】 表３ 実施例 硫酸銅 遊離水分 有害ガス 空筒線速度 有効処理時間 含有率 含有率 の濃度 ＬＶ （ｗｔ％）ｗｔ％） （ｐｐｍ） （ｍ／ｓｅｃ） （ｍｉｎ） １２ １２ ２３ ４００ ０．４ １２０ １３ 〃 〃 〃 ０．３ ３２０
【００１４】比較例１ 硫酸銅５水和物を温水に溶解したものを実施例の活性炭
に変えてシリカアルミナ（ノートン社製）と混合し、こ
れを８０℃で乾燥して硫酸銅含有率が１２ｗｔ％、遊離
水分含有率が２３ｗｔ％としたものを浄化剤とし、実施
例におけると同様にしてアンモニア（比較例１）および
トリメチルアミン（比較例２）について有効処理時間を
測定した。結果を表４に示す。
に変えてシリカアルミナ（ノートン社製）と混合し、こ
れを８０℃で乾燥して硫酸銅含有率が１２ｗｔ％、遊離
水分含有率が２３ｗｔ％としたものを浄化剤とし、実施
例におけると同様にしてアンモニア（比較例１）および
トリメチルアミン（比較例２）について有効処理時間を
測定した。結果を表４に示す。
【００１５】
【表４】 表４ 比較例 有害ガス 空筒線速度 有効処理時間 の濃度 ＬＶ （ｐｐｍ） （ｃｍ／ｓｅｃ） （ｍｉｎ） １ ４００ ０．４ ２８ ２ 〃 〃 ７
【００１６】
【発明の効果】本発明のガスの浄化方法によれば、ガス
中に含有されるアンモニア、トリメチルアミンなどの塩
基性ガスを効率よく除去することができる。特に、大量
で比較的高濃度の有害ガスを効率よく、しかも極めて迅
速に除去することがでるので、例えば、ガスボンベから
有害ガスが急激に漏洩するなどの緊急時の除害装置に使
用することによって優れた効果が得られる。
中に含有されるアンモニア、トリメチルアミンなどの塩
基性ガスを効率よく除去することができる。特に、大量
で比較的高濃度の有害ガスを効率よく、しかも極めて迅
速に除去することがでるので、例えば、ガスボンベから
有害ガスが急激に漏洩するなどの緊急時の除害装置に使
用することによって優れた効果が得られる。
【００１７】
【図１】有害ガスの浄化方法の例を示すフローシートで
ある。
ある。
１ 浄化筒 ２ ガスボンベ ３ ボンベボックス ４ ブロアー ５ 換気ダクト
Claims (3)
- 【請求項１】有害成分となる塩基性ガスを含有するガス
を、硫酸銅を活性炭に担持させてなる浄化剤と接触さ
せ、該ガスから有害成分を除去することを特徴とする有
害ガスの浄化方法。 - 【請求項２】塩基性ガスがアンモニア、モノメチルアミ
ン、ジメチルアミン、トリメチルアミンから選ばれる１
種または２種以上である請求項１に記載の有害ガスの浄
化方法。 - 【請求項３】浄化剤が１〜５０重量％の遊離水分を含有
してなる請求項１に記載の有害ガスの浄化方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3327577A JPH05154333A (ja) | 1991-12-11 | 1991-12-11 | 有害ガスの浄化方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3327577A JPH05154333A (ja) | 1991-12-11 | 1991-12-11 | 有害ガスの浄化方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05154333A true JPH05154333A (ja) | 1993-06-22 |
Family
ID=18200616
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3327577A Pending JPH05154333A (ja) | 1991-12-11 | 1991-12-11 | 有害ガスの浄化方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05154333A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0624392A1 (en) * | 1993-05-11 | 1994-11-17 | Japan Pionics Co., Ltd. | Process for cleaning harmful gas |
| US5632964A (en) * | 1994-06-13 | 1997-05-27 | Japan Pionics Co., Ltd. | Cleaning method for exhaust gas containing ammonia and silane |
-
1991
- 1991-12-11 JP JP3327577A patent/JPH05154333A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0624392A1 (en) * | 1993-05-11 | 1994-11-17 | Japan Pionics Co., Ltd. | Process for cleaning harmful gas |
| US5632964A (en) * | 1994-06-13 | 1997-05-27 | Japan Pionics Co., Ltd. | Cleaning method for exhaust gas containing ammonia and silane |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS6151935B2 (ja) | ||
| KR100320372B1 (ko) | 유해가스의정화방법 | |
| JPS6161619A (ja) | 排ガスの処理方法 | |
| JP3073321B2 (ja) | 有害ガスの浄化方法 | |
| US5756060A (en) | Process for cleaning harmful gas | |
| EP0625368B1 (en) | Process for cleaning harmful gas | |
| JPH05154333A (ja) | 有害ガスの浄化方法 | |
| KR100684201B1 (ko) | 불소 포함 배기가스의 처리방법 및 이의 방법을 사용하기위한 흡착 컬럼 장치 | |
| KR920007856B1 (ko) | 기체상태의 산성 할로겐 화합물의 제거방법 | |
| JP3382857B2 (ja) | 有害物質含有ガスの処理方法及び装置 | |
| JP3384464B2 (ja) | 揮発性有機塩素化合物の処理方法 | |
| US4813410A (en) | Gas mask filter for the removal of low level ethylene oxide contaminants from air comprising dried cationic exchange resins | |
| JPS61101231A (ja) | フツ素ガスの除去方法 | |
| JP2009082785A (ja) | 有害物質含有ガスの処理方法及び装置 | |
| JP3260825B2 (ja) | 有害ガスの浄化方法 | |
| JPH06319939A (ja) | 有害ガスの浄化方法 | |
| JP6812612B2 (ja) | 酸化エチレン除去方法 | |
| JPH06319938A (ja) | 有害ガスの浄化方法 | |
| JP2000058464A (ja) | 排気ガス処理方法および処理装置 | |
| JP2004181299A (ja) | ベントガスの除害方法 | |
| JPH06154535A (ja) | 有害ガスの浄化方法 | |
| JPS63283752A (ja) | 有害ガスの除去触媒 | |
| JP6812613B2 (ja) | 酸化エチレン除去方法 | |
| JPH0910545A (ja) | 有害ガスの浄化方法 | |
| EP0037450B1 (en) | Process for the removal of acid and acid precursor gases and vapors from gas streams |