JP6812612B2

JP6812612B2 - 酸化エチレン除去方法

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Publication number: JP6812612B2
Application number: JP2017048639A
Authority: JP
Inventors: 龍也飛弾野; 橋本　幸恵; 幸恵橋本
Original assignee: Taiyo Nippon Sanso Corp
Current assignee: Taiyo Nippon Sanso Corp
Priority date: 2017-03-14
Filing date: 2017-03-14
Publication date: 2021-01-13
Anticipated expiration: 2037-03-14
Also published as: JP2018149508A

Description

本発明は、燻蒸ガスに含まれる酸化エチレンを除去可能な酸化エチレン除去方法に関する。

酸化エチレンは、殺虫・殺菌等に対して有効な成分であるため、燻蒸ガスとして広く用いられている。しかしながら、酸化エチレンは、人体に対して発がん性を有しており、慢性及び急性中毒症状を引き起こす可能性がある有害な物質である。また、酸化エチレンを大気中に排出した場合、環境汚染を引き起こす恐れがある。このため、酸化エチレンの大気中への排出に対する規制が強化されている。

燻蒸作業（燻蒸処理）は、ある程度の湿気がある空気雰囲気下で、密閉した室内、或いは専用の燻蒸庫内（以下、「燻蒸空間」という）に燻蒸対象となる物品（燻蒸対象物）を置いた後、燻蒸空間内に燻蒸ガスを封入して行なう。また、燻蒸終了後は、燻蒸空間内の燻蒸ガスを含んだ空気（以下、「混合ガス」という）を、外部から取り込んだ新鮮な空気によって置換して、混合ガスを排出する。

なお、混合ガスの排出開始時には、混合ガス中に１．０〜１．５％程度の酸化エチレンが含まれるが、徐々に酸化エチレンの濃度が低下する。最終的には、混合ガス中の酸化エチレンの濃度が１ｐｐｍ以下になるまで置換、排出を続ける。

ところで、酸化エチレンは可燃性物質であるため、酸化エチレン単体であれば触媒を用いた燃焼によって無害化させることが可能である。しかしながら、酸化エチレンを燻蒸ガスとして用いる場合、希釈ガスとして不燃性の代替フロン（例えば、フロン／ＨＦＣ１３４ａ等）が混合されているため、燻蒸ガス中の酸化エチレンを燃焼によって無害化処理することは適切ではなかった。

そこで、燻蒸処理後の混合ガス中に含まれる酸化エチレンを、吸着剤を用いて除去する吸着除去方法が用いられている。例えば、特許文献１〜３には、吸着剤を利用した従来の酸化エチレンの処理方法が開示されている。

特許文献１には、気体中の酸化エチレンの濃度が高濃度のときは活性炭を用いて酸化エチレンを吸着し、酸化エチレンの濃度が低濃度のときは吸着した酸化エチレンを放出することで、気体中の酸化エチレン濃度を平準化し、平準化された気体中の酸化エチレンを触媒燃焼によって無害化する方法が開示されている。

また、特許文献２には、シクロヘキサン及びエチレンオキシド用の吸着剤として、０．４３〜１．２９ｍｏｌ／Ｌの硫酸を含有する活性炭が開示されている。

特許文献３には、酸化エチレンガス滅菌器から排出された酸化エチレンガスを含む排ガスを、細孔径０．５〜１．０ｎｍ、表面積８０〜１００ｍ^２／ｇの固体酸で処理する、酸化エチレンの処理方法が開示されている。

特開平１１−９０１７７号公報特開２００４−２１６２３８号公報特開２００８−１１４２１０号公報

しかしながら、特許文献１に開示された方法では、活性炭（吸着剤）が吸着する酸化エチレンの吸着量が少ないため、大量の活性炭を必要とするという問題や、吸着した酸化エチレンが脱着しやすいという問題があった。

また、特許文献２は、防毒マスク等を想定した吸着剤に関する発明であるため、除去対象となる大気中の酸化エチレン濃度は２０ｐｐｍ程度である。一方、燻蒸用ガスは、酸化エチレン濃度が最大で１〜２％含まれる燻蒸ガスを処理するため、大量の吸着剤が必要になるという問題があった。

また、特許文献３に開示された、表面積が８０〜１００ｍ^２／ｇの吸着剤では、燻蒸用ガスに含まれる酸化エチレンガスを処理するには処理能力が不充分であった。また、細孔径が０．５〜１．０ｎｍである固体酸は、燻蒸用ガス中のＨＦＣ−１３４ａ等の希釈剤も吸着してしまうおそれがあった。これにより、過剰な吸着熱が発生して、局所的に急激な温度上昇が生じる恐れがあった。

本発明は上記事情に鑑みたものであり、酸化エチレンに対して優れた吸着特性を有する吸着剤を用いて、気体中に含まれる酸化エチレンを効率的かつ安全に除去可能な酸化エチレン除去方法を提供することを課題とする。

上記課題を解決するため、本発明は以下の構成を備える。
［１］気体中に含まれる酸化エチレンを、ＣａＡ型ゼオライトによって吸着除去する、酸化エチレン除去方法。
［２］前記気体が、ＨＦＣ１３４ａ、ＨＦＣ１２５のうち、少なくとも１つを含む、前項［１］に記載の酸化エチレン除去方法。
［３］前記気体と、水分を含む空気とを混合して混合ガスとした後、前記混合ガス中に含まれる前記酸化エチレンを、前記ＣａＡ型ゼオライトによって吸着除去する、前項［１］又は［２］に記載の酸化エチレン除去方法。
［４］前記空気中の水分濃度が、１．０〜４．０（％）である、前項［３］に記載の酸化エチレン除去方法。
［５］前記気体が、酸化エチレンを含む燻蒸ガスを燻蒸空間内に封入して燻蒸処理した後、前記燻蒸空間から排出されるガスである、前項［１］乃至［４］のいずれか一項に記載の酸化エチレン除去方法。

本発明の酸化エチレン除去方法は、酸化エチレンに対して優れた吸着特性を有するＣａＡ型ゼオライトを吸着剤として用いるため、少ない使用量で酸化エチレンを吸着除去できるとともに、吸着した酸化エチレンの脱着を抑制することができる。
また、ＣａＡ型ゼオライトは、ＨＦＣ−１３４ａ等の希釈剤の吸着量が少なく、過剰な吸着熱が発生して局所的に急激な温度上昇が生じる恐れがない。
したがって、本発明の酸化エチレン除去方法によれば、気体中に含まれる酸化エチレンを効率的かつ安全に吸着除去できる。

本発明の一実施形態である酸化エチレン除去方法を行う際に使用する、燻蒸処理設備兼酸化エチレン除去装置の構成を模式的に示す系統図である。実施例で用いた試験装置３０の構成を示す系統図である。実施例における経過時間に対する酸化エチレンの濃度変化、及びＨＦＣ１３４ａの濃度変化と、経過時間に対する吸着剤３３の温度と、を示す図である。実施例における経過時間に対する脱着した酸化エチレンの脱着量を示す図である。

以下、本発明を適用した一実施形態の酸化エチレン除去方法について、これに用いる酸化エチレン除去装置の構成とともに、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、以下の説明で用いる図面は、本発明の実施形態の構成を説明するためのものであり、図示される各部の大きさや厚さや寸法等は、実際の燻蒸処理及び酸化エチレン除去装置の寸法関係とは異なる場合がある。

＜酸化エチレン除去装置＞
先ず、本発明の一実施形態である酸化エチレン除去方法に用いることが可能な酸化エチレン除去装置の構成について、燻蒸処理に適用する場合を一例として説明する。
図１は、本発明の一実施形態である酸化エチレン除去方法を行う際に使用する、燻蒸処理設備兼酸化エチレン除去装置の構成を模式的に示す系統図である。

図１に示すように、本実施形態の酸化エチレン除去方法に適用可能な、燻蒸処理設備兼酸化エチレン除去装置（以下、単に「除去装置」という）１０は、燻蒸室１１と、空気導入部１２と、排出部１３と、第１のガス排出ライン１７−１と、第２のガス排出ライン１７−２と、排気装置１８と、吸着剤２３を収容する吸着塔２２とを備えて、概略構成されている。

燻蒸室１１は、その内側に気密可能な燻蒸空間１１Ａを有する。この燻蒸室１１内（燻蒸空間１１Ａ）には、燻蒸対象物１４（例えば、木材や紙類）が載置される。また、燻蒸空間１１Ａには、燻蒸ガスとして酸化エチレン及び希釈用ガスを含む混合ガスが供給される。なお、燻蒸ガスの供給は、例えば、燻蒸ガスが充填されたボンベ（図示せず）から当該燻蒸ガスを抜き出し、気化器を通過させた後に燻蒸室１１の下部に供給する。また、燻蒸ガスの希釈用ガスとしては、例えば、ＨＦＣ１３４ａ、又はＨＦＣ１２５を用いることができる。

空気導入部１２は、燻蒸処理が終了後、燻蒸室１１内から燻蒸ガスを排出する際、燻蒸室１１内に水分を含んだ空気を導入するために、燻蒸室１１の上方寄りに設けられている。
排出部１３は、燻蒸処理が終了後、燻蒸室１１内から燻蒸ガス及び水分を含んだ空気を含む混合ガスを、第１のガス排出ライン１７−１に排出するために、燻蒸室１１の下方寄りに設けられている。

第１のガス排出ライン１７−１は、燻蒸室１１内から排出された上記混合ガスを吸着塔２２に供給するために、燻蒸室１１と吸着塔２２との間に設けられている。具体的には、第１のガス排出ライン１７−１は、一端が排出部１３と接続されており、他端が吸着塔２２の導入口と接続されている。

第２のガス排出ライン１７−２は、酸化エチレンの濃度が十分に低下した混合ガスを大気中に放出するために、吸着塔２２の後段（二次側）に設けられている。具体的には、第２のガス排出ライン１７−２は、一端が吸着塔２２の導出口と接続されている。

排気装置１８は、第１のガス排出ライン１７−１に設けられている。排気装置１８は、燻蒸処理後に燻蒸室１１内から混合ガスを強制的に排気させるために設けられている。排気装置１８としては、特に限定されないが、具体的には、排気ファンや排気ブロア等を用いることができる。

吸着塔２２は、その内部に吸着剤２３を収容している。すなわち、吸着剤２３は、吸着塔２２内に充填されている。
吸着剤２３の形状としては、特に限定されないが、例えば、粒状（具体的には、球状、ペレット状等）とすることができる。
吸着剤２３の大きさとしては、特に限定されないが、例えば、球状の場合には直径が１．０〜５．０ｍｍの範囲であることが好ましい。また、吸着剤２３がペレット状の場合には、直径が１．０〜２．０ｍｍ、長さが１．０〜４．０ｍｍの範囲であることが好ましい。

本実施形態の酸化エチレン除去方法に適用可能な除去装置１０は、気体中の酸化エチレンの吸着剤２３として、ＣａＡ型ゼオライトを用いる。

燻蒸ガス中に希釈ガスとして含まれているＨＦＣ１３４ａ等の分子径は、ＣａＡ型ゼオライトの細孔径よりも大きいとされている。これにより、希釈用ガスがＣａＡ型ゼオライトに吸着されにくくなるため、局所的な過度の吸着熱の発生を抑制することができる。

ＣａＡ型ゼオライトの比表面積は、特に限定されないが、５００ｍ^２／ｇ以上とすることがより好ましい。ＣａＡ型ゼオライトの比表面積を５００ｍ^２／ｇ以上とすることで、気体中の酸化エチレンをより効率的に除去することができる。

なお、吸着剤２３となるＣａＡ型ゼオライトとして、Ｎａを含む市販されたＣａＡ型ゼオライトを用いてもよい。

＜酸化エチレン除去方法＞
次に、本実施形態の酸化エチレン除去方法について説明する。
本実施形態の酸化エチレン除去方法は、気体中に含まれる酸化エチレンを、ＣａＡ型ゼオライトによって吸着除去するものである。以下、本実施形態の酸化エチレン除去方法を、上述した除去装置１０を用いた燻蒸処理に適用する場合を一例として説明する。

先ず、図１に示すように、燻蒸室１１内の気密な燻蒸空間１１Ａに燻蒸対象物１４を載置する。次いで、燻蒸ガスが充填されたボンベ等、図示略の燻蒸ガス供給源から、燻蒸空間１１Ａに燻蒸ガスを供給する。この際、燻蒸空間１１Ａ内に拡散する酸化エチレンの濃度が１〜２体積％となるように、燻蒸空間１１Ａ内に燻蒸ガスを封入する。

次に、上記燻蒸ガスを用いて、燻蒸対象物１４の燻蒸処理を行う。
次いで、燻蒸処理が終了した後、排気装置１８を稼働して、燻蒸空間１１Ａに存在する燻蒸ガスを、燻蒸空間１１Ａから排出部１３を介して第１のガス排出ライン１７−１内に排出する。

このとき、燻蒸室１１内の圧力が少し負圧となるため、空気導入部１２を介して、燻蒸空間１１Ａに水分を含む空気が導入される。
このため、排出部１３からは、燻蒸空間１１Ａから排出された燻蒸ガス（酸化エチレン及び希釈用ガスを含むガス）と、水分を含む空気とが混合された混合ガスが排出される。
なお、上記混合ガスに含まれる酸化エチレンの濃度は、燻蒸空間１１Ａに水分を含む空気が導入されるにつれて低下する。

ここで、水分を含む空気とは、空気中の水分濃度が、１．０〜４．０（％）であることを示している。また、空気中の水分濃度は、２．０〜４．０（％）であることがより好ましい。水分を含む空気を燻蒸ガスと混合することにより、燻蒸ガスによる燻蒸対象物への燻蒸処理効果を高めることができる。
なお、空気中の水分濃度は、市販されている家庭用の湿度計等を用いて測定することができる。

次に、排出部１３から排出される混合ガスを、第１のガス排出ライン１７−１によって、吸着塔２２に供給する。これにより、吸着塔２２内に充填された吸着剤２３であるＣａＡ型ゼオライトによって、混合ガス中に含まれる酸化エチレンが吸着除去される。

次に、吸着塔２２から第２のガス排出ライン１７−２を介して、酸化エチレンが除去された混合ガス（言い換えれば、酸化エチレンの濃度が十分に低減された混合ガス）を大気中に放出する。

なお、燻蒸空間１１Ａから混合ガスの排出が進むにつれて、当該燻蒸空間１１Ａ内に載置された燻蒸対象物１４から、徐々に酸化エチレンが脱離することが知られている。したがって、燻蒸空間１１Ａから排気される混合ガス中の酸化エチレンの濃度が低下した後も、比較的長い時間、混合ガス中には低濃度の酸化エチレンが含まれることとなる。このため、燻蒸空間１１Ａから排出される混合ガスの吸着処理を続ける必要がある。

ところで、従来の吸着剤である活性炭を酸化エチレンの吸着除去に用いた場合、低濃度の酸化エチレンを含む混合ガスを活性炭に流し続けると、活性炭に吸着した酸化エチレンが脱着して大気中に放出されてしまうことが知られていた。このため、酸化エチレンが活性炭から脱着する前に、吸着塔を封じきることが必要であった。

これに対して、本実施形態の酸化エチレン除去方法によれば、酸化エチレンの吸着剤２３として用いるＣａＡ型ゼオライトは、吸着した酸化エチレンを固定化する吸着特性を有している。このため、低濃度の酸化エチレンを含む混合ガスを吸着塔２２に流し続けた場合であっても、吸着剤からの酸化エチレンの脱着を抑制することができる。

なお、細孔径が０．４１ｎｍ程度であるＮａＡ型ゼオライトは、酸化エチレンを固定化可能で、かつＨＦＣ１３４ａが吸着しない点において、活性炭よりも好ましい吸着剤であるが、酸化エチレンの吸着性能に関しては、活性炭と同程度であるため、吸着剤としては、ＣａＡ型ゼオライトの方が良好な特性を有する。
また、ＣａＡ型ゼオライトとして、Ｎａを含む市販されたＣａＡ型ゼオライトを用いてもよい。

以上説明したように、本実施形態の酸化エチレン除去方法によれば、酸化エチレンに対して優れた吸着特性を有するＣａＡ型ゼオライトを吸着剤として用いるため、活性炭と比較して少ない使用量で酸化エチレンを吸着除去できる。これにより、燻蒸処理設備兼酸化エチレン除去装置１０の小型化を図ることができる。

また、ＣａＡ型ゼオライトは、吸着した酸化エチレンの脱着を抑制することができる。これにより、吸着後の吸着塔２２を封じ切る必要がない。

また、ＣａＡ型ゼオライトは、ＨＦＣ−１３４ａ等の希釈剤の吸着量が少なく、過剰な吸着熱が発生して局所的に急激な温度上昇が生じる恐れがない。

したがって、本実施形態の酸化エチレン除去方法によれば、混合ガス中に含まれる酸化エチレンを効率的かつ安全に吸着除去できる。

なお、本発明の技術範囲は上記実施の形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。すなわち、上述した実施形態では、燻蒸処理に適用する場合を一例として酸化エチレン除去方法を説明したが、これに限定されるものではない。酸化エチレンを含む気体中から当該酸化エチレンを除去する種々の用途に適用することが可能である。

以下、実施例および比較例を用いて、本発明の効果を詳細に説明する。
（実施例１）
実施例１では、図２に示す試験装置３０を用いると共に、吸着剤３３としてペレット状のＣａＡ型ゼオライト（東ソー株式会社製、「ＳＡ−５００Ａ」）を用いて、酸化エチレンの除去処理を行った。

吸着塔３２には、内径２３．９ｍｍ×高さ１ｍの金属製の筒を用いた。この吸着塔に、ＣａＡ型ゼオライトを高さ０．８ｍ分充填した。

ガス供給ライン３１を介して、０．６％の酸化エチレン、１．４６％のＨＦＣ１３４ａ、及び相対湿度が７０％の空気（水蒸気濃度２．２％）を含み、かつ温度が２５℃とされた混合ガスを、１８ＮＬ／ｍｉｎの供給量で、大気圧にて吸着塔３２に供給した。ガス排出ライン３５から排出される混合ガスに含まれる酸化エチレンの濃度変化及びＨＦＣ１３４ａの濃度変化と、吸着塔３２の高さ方向及び径の中心に設けられた温度測定部３６の温度（吸着剤３３の内部）と、を測定した。結果を図２に示す。

なお、酸化エチレンの濃度、及びＨＦＣ１３４ａの濃度は、ガス排出ライン３５に接続した分析計３４で測定した。分析計３４は、島津製作所株式会社製のガスクロマトグラフＧＣ−８Ａを用いた。ガスクロマトグラフＧＣ−８Ａは、カラムであるＨａｙｅＳｅｐＰ（Φ３．２ｍｍ×４ｍ）と、水素炎イオン化検出器（ＦＩＤ）と、を有する。
また、カラムの温度は、２００℃とした。
また、温度測定部３６にて測定される、吸着剤３３の温度変化は、吸着による発熱状態を観察する目的で、株式会社ネツシン製のＫ熱電対を用いて測定した。

図３は、実施例における経過時間に対する酸化エチレンの濃度変化及びＨＦＣ１３４ａの濃度変化と、経過時間に対する吸着剤３３の温度変化と、を示す図である。
ここで、混合ガスを吸着塔３２に流通し始めてから、酸化エチレンの濃度が５ｐｐｍ検出されるまでの時間を酸化エチレンの破過時間とし、破過時間までの間に、吸着剤３３に吸着された酸化エチレンの量を破過吸着量[ｍｏｌ／ｋｇ]とした。なお、破過吸着量は、混合ガスの組成と流量と流通時間とから求めた吸着剤３３への酸化エチレンの流入量を、吸着剤３３の重量で除したものである。

更に、分析計３４において酸化エチレンの濃度が０．６体積％（混合ガスと同濃度）検出されるまで混合ガスを流し続けた。吸着塔３２に混合ガスを流通し始めてから、酸化エチレンの濃度が０．６体積％を検出するまでの間に吸着剤３３に吸着された酸化エチレンの量を飽和吸着量[ｍｏｌ／ｋｇ]とした。

酸化エチレン濃度が０．６％となった段階で混合ガスの供給を止め、替わりに酸化エチレン及びＨＦＣ１３４ａを含まないガス（具体的には、温度が２５℃の乾燥空気）を１０ＮＬ／ｍｉｎの供給量で、大気圧にて吸着塔３２に供給した。乾燥空気により吸着剤３３から酸化エチレンを脱着させつつ、分析計３４で脱着した酸化エチレンの濃度を測定した。乾燥空気を流し始めてから酸化エチレンが１ｐｐｍ検出されるまでの間に脱着した酸化エチレンの量を、吸着剤３３の重量で除し、脱着量[ｍｏｌ／ｋｇ]とした。また、脱着量の飽和吸着量に対する割合を脱着率とした。
図４は、実施例における経過時間に対する吸着剤３３から脱着した酸化エチレンの濃度変化を示す図である。

本実施例では、破過吸着量が２．０ｍｏｌ／ｋｇ、脱着率が０．２％であった。
また、ＨＦＣ１３４ａは、吸着剤３３にほとんど吸着されなかった。本実施例の酸化エチレン除去時における吸着塔３２内の最大到達温度は、耐熱性硬質ポリ塩化ビニルの耐熱温度である９０℃よりも低い８５℃であった。

（比較例１）
比較例１では、吸着剤３３として活性炭を用いて、実施例と同様な評価を行った。
活性炭の酸化エチレン破過吸着量は、実施例の破過吸着量である２．０ｍｏｌ／ｋｇよりもかなり低い０．３４ｍｏｌ／ｋｇであった。
また、比較例１の脱着率は８０％であり、酸化エチレン除去時における吸着塔３２内の最大到達温度は、３５℃であった。

（比較例２）
比較例２では、吸着剤３３としてＮａＸ型ゼオライト（細孔径０．７４ｎｍ）を用いて、実施例と同様な評価を行った。
ＮａＸ型ゼオライトの酸化エチレン破過吸着量は、実施例の破過吸着量である２．０ｍｏｌ／ｋｇよりも大きい２．４ｍｏｌ／ｋｇであり、良好な結果が得られた。

しかしながら、脱着率は９０％であり、吸着したほとんどの酸化エチレンが脱着してしまうことが分かった。
また、比較例２の酸化エチレン除去時における吸着塔３２内の最大到達温度は、１２５℃であり、かなり高い温度に到達することが確認できた。

（比較例３）
比較例３では、吸着剤３３として硫酸添着活性炭（添着量が１．８ｍｏｌ／Ｌ）を用い、実施例と同様な評価を行った。
硫酸添着活性炭の酸化エチレン破過吸着量は、実施例の破過吸着量である２．０ｍｏｌ／ｋｇよりもかなり小さい０．１４ｍｏｌ／ｋｇであった。
また、比較例３の脱着率は、２％であり、実施例よりも少し悪い結果となった。また、比較例３の酸化エチレン除去時における吸着塔２２内の最大到達温度は、３３℃であった。

（実施例及び比較例の評価結果のまとめ）
表１に、実施例及び比較例における破過吸着量、脱着率、吸着剤の最高到達温度を示す。
実施例１では、吸着剤３３としてＣａＡ型ゼオライトを用いると、活性炭や硫酸添着活性炭より破過吸着量が一桁大きく（具体的には、２．０ｍｏｌ／ｋｇ）することができ、かつ脱着率を極力低減（具体的には、０．２％）できることが確認できた。
比較例２のＮａＸ型ゼオライトは、ＣａＸ型ゼオライトより破過吸着量が大きいものの、脱着率が高く、吸着剤の最高到達温度も高かった。すなわち、ＣａＡ型ゼオライトは、比較例１〜３の吸着剤より酸化エチレンの除去に適していることが確認できた。

本発明は、吸着剤に吸着した酸化エチレンの脱着を抑制可能であり、少ない量の吸着剤で酸化エチレンの除去処理を効率良く行うことが可能であり、かつ局所的に発生する急激な温度上昇を抑制することが可能な、気体中に含まれる酸化エチレンの除去方法に適用できる。

１０…燻蒸処理設備兼酸化エチレン除去装置、１１…燻蒸室、１１Ａ…燻蒸空間、１２…空気導入部、１３…排出部、１４…燻蒸対象物、１７−１…第１のガス排出ライン、１７−２…第２のガス排出ライン、１８…排気装置、２２，３２…吸着塔、２３，３３…吸着剤、３０…試験装置、３１…ガス供給ライン、３４…分析計、３５…ガス排出ライン

Claims

気体中に含まれる酸化エチレンを、ＣａＡ型ゼオライトによって吸着除去する、酸化エチレン除去方法。
前記気体が、ＨＦＣ１３４ａ、ＨＦＣ１２５のうち、少なくとも１つを含む、請求項１に記載の酸化エチレン除去方法。
前記気体と、水分を含む空気とを混合して混合ガスとした後、前記混合ガス中に含まれる前記酸化エチレンを、前記ＣａＡ型ゼオライトによって吸着除去する、請求項１又は２に記載の酸化エチレン除去方法。
前記空気中の水分濃度が、１．０〜４．０（％）である、請求項３に記載の酸化エチレン除去方法。
前記気体が、酸化エチレンを含む燻蒸ガスを燻蒸空間内に封入して燻蒸処理した後、前記燻蒸空間から排出されるガスである、請求項１乃至４のいずれか一項に記載の酸化エチレン除去方法。