JPH05152231A - 縦型拡散・cvd装置における炉内温度分布プロフアイル測定方法 - Google Patents

縦型拡散・cvd装置における炉内温度分布プロフアイル測定方法

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Publication number
JPH05152231A
JPH05152231A JP33999791A JP33999791A JPH05152231A JP H05152231 A JPH05152231 A JP H05152231A JP 33999791 A JP33999791 A JP 33999791A JP 33999791 A JP33999791 A JP 33999791A JP H05152231 A JPH05152231 A JP H05152231A
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JP
Japan
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furnace
temperature
distribution profile
temperature distribution
vertical
Prior art date
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Application number
JP33999791A
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English (en)
Inventor
Yoshikatsu Kanamori
芳勝 金盛
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Kokusai Electric Corp
Original Assignee
Kokusai Electric Corp
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Publication date
Application filed by Kokusai Electric Corp filed Critical Kokusai Electric Corp
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 炉内温度分布プロファイルをより一層正確に
しかもウェーハ実装状態で測定し、炉内の清浄度を保持
してウェーハ面内の膜付分布均一性を向上する。 【構成】 反応管1とボート2との間の周部に通ずる複
数個の差込み口3を炉口蓋4及びキャップ5等に等角度
おきに設け、これらの差込み口3にそれぞれ測温素子6
を挿設し、これらの測温素子6により炉内温度分布プロ
ファイルを測定することを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は半導体素子製造装置、特
に縦型拡散・CVD装置における炉内温度分布プロファ
イル測定方法に関する。
【0002】
【従来の技術】図3は従来の拡散装置の炉口部を示す縦
断面図、図4は従来の縦型CVD装置の炉口部を示す縦
断面図である。図3,図4において1は反応管、2は反
応管1内に下方炉口より挿設されたボートで、多数のウ
ェーハが載置される。4は炉口蓋、5はキャップ、7は
均熱管、8はヒータ、9は反応ガス導入口、10は排気
口である。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】図3の従来例は、反応
管1と均熱管7との間にカスケード熱電対6を差込み、
この熱電対6により反応管1の外側温度を屋内温度(反
応管1内側でウェーハ付近の温度)として測定している
ため、ボート2にウェーハを実装したまでの測温が可能
であるが、炉内温度を正確に把握できないという課題が
ある。
【0004】図4の従来例は、アウタチューブ1bと共
に反応管1を構成するインナチューブ1aの内側に通じ
る1個の差込み口3を炉口蓋4等に設け、この差込み口
3に熱電対6を挿設し、この1本の熱電対6により炉内
温度を1点で測定しているため、炉内温度分布プロファ
イルを測定できず、かつ炉内での温度差を検知できない
ばかりでなく、ボート2にウェーハを実装したままでの
炉内温度プロファイルの測定ができないという課題があ
る。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明方法は、上記の課
題を解決するため、図1に示すように反応管1とボート
2との間の周部に通ずる複数個の差込み口3を炉口蓋4
及びキャップ5等に等角度おきに設け、これらの差込み
口3にそれぞれ測温素子6を挿設し、これらの測温素子
6により炉内温度分布プロファイルを測定することを特
徴とする。
【0006】
【作用】本発明方法は上記のように反応管1とボート2
との間の周部に等角度おきに複数個の測温素子6を挿設
して、これらの測温素子6により炉内温度を複数点で測
定するようにしたので、炉内温度分布プロファイルをよ
り正確にしかもボート2にウェーハを実装したまま測定
し制御することができ、かつ炉内での温度差を検知でき
ることになる。
【0007】又、炉口蓋4及びキャップ5等に設けた複
数個の差込み口3にそれぞれ測温素子6を挿設したの
で、炉口を開閉することなく測温素子6を抜き差し可能
になり、炉内の清浄度を保持することができ、ウェーハ
面内の膜付け分布均一性を向上することができることに
なる。
【0008】
【実施例】図1は本発明方法を実施する縦型拡散装置の
炉口部を示す簡略横断平面図、図2はその縦断面図であ
る。本実施方法では、反応管1とボート2との間の周部
に通ずる4個の差込み口3を炉口蓋4及びキャップ5等
に90°おきに設け、これらの差込み口3にそれぞれ熱
電対6を挿設し、これらの熱電対6により炉内温度分布
プロファイルを測定するようにする。なお、本発明方法
は縦型CVD装置の炉口部に同様に実施することができ
る。
【0009】本実施方法は、反応管1とボート2との間
の周部に90°おきに4個の熱電対6を挿設して、これ
らの熱電対6により炉内温度を4点で測定するようにし
たので、炉内温度分布プロファイルをより正確にしかも
ボート2にウェーハを実装したまま測定し制御すること
ができ、かつ炉内での温度差を検知できることになる。
【0010】又、炉口蓋4及びキャップ5等に設けた複
数個の差込み口3にそれぞれ熱電対6を挿設したので、
炉口を開閉することなく熱電対6を抜き差し可能にな
り、炉内の清浄度を保持することができ、ウェーハ面内
の膜付け分布均一性を向上することができることにな
る。
【0011】
【発明の効果】上述のように本発明によれば、反応管1
とボート2との間の周部に等角度おきに複数個の測温素
子6を挿設して、これらの測温素子6により炉内温度を
複数点で測定するようにしたので、炉内温度分布プロフ
ァイルをより一層正確にしかもボート2にウェーハを実
装したまま測定し制御することができ、かつ炉内での温
度さを検知することができる。
【0012】又、炉口蓋4及びキャップ5等に設けた複
数個の差込み口3にそれぞれ測温素子6を挿設したの
で、炉口を開閉することなく測温素子6を抜き差し可能
になり、炉内の清浄度を保持することができ、ウェーハ
面内の膜付け分布均一性を向上することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明方法を実施する縦型拡散装置の炉口部を
示す簡略横断平面図である。
【図2】その縦断面図である。
【図3】従来の拡散装置の炉口部を示す縦断面図であ
る。
【図4】従来の縦型CVD装置の炉口部を示す縦断面図
である。
【符号の説明】
1 反応管 2 ボート 3 差込み口 4 炉口蓋 5 キャップ 6 測温素子(熱電対)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 21/66 T 8406−4M

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 反応管(1)とボート(2)との間の周
    部に通ずる複数個の差込み口(3)を炉口蓋(4)及び
    キャップ(5)等に等角度おきに設け、これらの差込み
    口(3)にそれぞれ測温素子(6)を挿設し、これらの
    測温素子(6)により炉内温度分布プロファイルを測定
    することを特徴とする縦型拡散・CVD装置における炉
    内温度分布プロファイル測定方法。
JP33999791A 1991-11-28 1991-11-28 縦型拡散・cvd装置における炉内温度分布プロフアイル測定方法 Pending JPH05152231A (ja)

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JP33999791A JPH05152231A (ja) 1991-11-28 1991-11-28 縦型拡散・cvd装置における炉内温度分布プロフアイル測定方法

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ID=18332761

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003282466A (ja) * 2002-03-25 2003-10-03 Seiko Instruments Inc 拡散炉用熱電対
CN103471966A (zh) * 2013-08-01 2013-12-25 中国石油天然气股份有限公司 油气藏孔隙介质内流体索瑞特参数的测试装置及方法
CN110455426A (zh) * 2019-09-02 2019-11-15 国核宝钛锆业股份公司 一种炉温测量坯料及炉温均匀性测量方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01309318A (ja) * 1988-02-24 1989-12-13 Tel Sagami Ltd 熱処理装置及び熱処理方法

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