JPH05147342A - 印画装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 格段の長寿命化を図ることができるととも
に、保守点検作業が不要となる印画装置を提供すること
である。 【構成】 絶縁基板３３上に配列された印画素子３４
は、コイル４１として構成され、コイル４１に共通電極
３５および個別電極３６を用いて高周波電流を流す。コ
イル４１からは交流磁場↑Ｂが発生され、記録媒体４５
で当該交流磁場↑Ｂに対応する誘導電場↑Ｅ（ｒ）が形
成され、これにより記録媒体４５に備えられるマイクロ
カプセル５４内のコレステリック液晶５３が、その配向
方向が無秩序になり、入射光が散乱して黒地に白い印画
が行われる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は印画装置に関し、とりわ
け記録媒体と非接触で印画を行う印画装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】各種コンピュータやワードプロセッサな
どの印字装置として、近年普及している記録方式には、
ジュール発熱を利用して記録媒体に直接感熱記録を行う
サーマル方式といわゆる電子写真方式とインクジェット
プリンタなどのように、記録媒体上に記録流体を噴出し
て行う方式などが知られている。

【０００３】図１９は従来例のサーマルヘッド１の斜視
図であり、図２０は図１９の切断面線Ｘ２０−Ｘ２０か
ら見た断面図であり、図２１はサーマルヘッド１の拡大
断面図である。サーマルヘッド１の発熱部の構造の詳細
は図２１に示される。すなわちアルミナなどのセラミッ
ク材料から成る絶縁基板２上に、ガラスなどによる蓄熱
層３が形成され、この上に発熱抵抗体層４、個別電極
５、共通電極６および保護層７が形成される。個別電極
５と共通電極６との間の発熱抵抗体８に、各発熱抵抗体
８毎に独立に駆動電力が供給され、発熱抵抗体８はジュ
ール発熱をする。この発熱が保護層７上に接触した感熱
紙９に熱伝達することによって、感熱紙９を発色させ
る。

【０００４】感熱紙９は、プラテン１０により保護層７
と接触しながらＡ１方向に走査し、また各印画ライン毎
の発色の制御が駆動回路１１により選択的に行われ、こ
れによって感熱紙９上に印画が行われる。絶縁基板２は
粘着剤２２で放熱板２３に固定され、コネクタ２４を備
え駆動回路１１に外部から信号を供給する外部配線基板
２５は放熱板２３上に固着される。

【０００５】図２２は、他の印画装置としての電子写真
装置１２の構成を示す断面図である。電子写真装置１２
は、矢印Ａ２方向に回転駆動される感光ドラム１３を備
え、コロナ放電器１４によって感光ドラム１３の全面に
わたって所定の電位に帯電される。画像露光部１５から
印画データに対応する光が感光ドラム１３に照射するこ
とによって、感光ドラム１３上に静電潜像が形成され
る。この後、現像器１６によってトナーが感光ドラム１
３上の電荷残存領域に付着する。記録紙１７は、転写コ
ロナ放電器１８によって帯電され、前記トナーが転写さ
れる。この後、記録紙１７上の画像は定着器１９によっ
て定着される。転写動作終了後の感光ドラム１３上の残
存トナーは、クリーナ２０によって除去され、さらに除
電ランプ２１によって感光ドラム１３上の表面が除電さ
れる。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】前記サーマルヘッド１
を用いる記録方式では、発熱抵抗体８の近傍が感熱紙９
と接触するため、 保護層７の摩耗、および発熱抵抗体８近傍の保護層７
の領域と感熱紙９との間に異物が噛込むことにより、保
護層７にクラックが生じるなど破壊され、サーマルヘッ
ド１の寿命の極端な短縮が発生する。

【０００７】感熱紙９には、各種腐食性イオンが含有
されており、このイオンが保護層７に存在あるいは形成
された微小なクラックを介して内部に侵入し、発熱抵抗
体層４および電極５，６を腐食させ断線させる。

【０００８】などの不具合を有している。

【０００９】また電子写真方式では、感光ドラム１３が
記録紙１７と接触してトナーの転写を行うため、感光ド
ラム１３の摩耗および異物の噛込みによる感光ドラム１
３表面の感光体層の破壊により、寿命が短くなるという
不具合を有している。

【００１０】上述したようにサーマル記録方式および電
子写真方式のいずれにおいても大きく寿命を低下させる
不具合が生じるため、各種部品の定期的なメンテナンス
が必要であり、手間と労力とを要している。

【００１１】またインクジェット方式のように印画を行
うインクを記録紙上に噴出する方式では、インク噴射を
行うノズルの目詰まりを生じやすく、やはり定期的なメ
ンテナンスを必要とする。

【００１２】本発明の目的は、上述の技術的課題を解消
し、格段の長寿命化を図ることができるとともに、保守
点検作業が不要となる印画装置を提供することである。

【００１３】

【課題を解決するための手段】本発明は、配線基板上に
直線状に配列され、高周波駆動電力の印加／遮断に対応
して、配線基板の法線方向に沿う進行方向の高周波磁場
を発生する複数の印画素子と、印画データに基づいて各
印画素子に高周波駆動電力を選択的に印加／遮断する駆
動回路素子とを備え、各印画素子が発生する前記高周波
磁場に基づいて、当該高周波磁場が及ぶ範囲の領域が視
覚化される物理作用を生じる記録媒体を用いて、当該記
録媒体とは非接触で印画を行うことを特徴とする印画装
置である。

【００１４】また本発明は、配線基板上に直線状に配列
され、高周波駆動電力の印加／遮断に対応して、配線基
板の法線方向に沿う交番高周波電場を発生する複数の印
画素子と、印画データに基づいて各印画素子に高周波駆
動電力を選択的に印加／遮断する駆動回路素子とを備
え、各印画素子が発生する前記高周波電場の及ぶ範囲の
領域が視覚化される物理作用を生じる記録媒体を用い
て、前記印画素子と非接触で印画を行うことを特徴とす
る印画装置である。

【００１５】

【作用】本発明に従う印画装置は、配線基板上に直線状
に印画素子が配列され、駆動回路素子から印画データに
基づいて、各印画素子に高周波駆動電力が選択的に印加
／遮断される。各印画素子は高周波駆動電力の印加／遮
断に対応して、配線基板の法線方向に沿う進行方向の高
周波磁場を発生する。

【００１６】このような印画装置は、各印画素子が発生
する前記高周波磁場に基づいて、当該高周波磁場が及ぶ
範囲の領域が視覚化される物理作用を生じる記録媒体を
用いて、当該記録媒体とは非接触で印画を行う。

【００１７】また本発明に従う印画装置は、配線基板上
に直線状に印画素子が配列され、駆動回路素子から印画
データに基づいて、各印画素子に高周波駆動電力が選択
的に印加／遮断される。各印画素子は、高周波駆動電力
の印加／遮断に応じて、配線基板の法線方向に交番高周
波電場を発生させる。画像の形成は、前記印画データに
基づいて発生された交番高周波電場が及ぶ範囲の領域が
視覚化される物理作用を生じる記録媒体を用いて非接触
で行われる。

【００１８】すなわち本発明の印画装置は、記録媒体と
は非接触で印画動作を実現し、記録媒体との接触の際に
生じる摩耗やクラック発生、あるいは記録媒体からのイ
オン侵入などの現象による腐食などの接触記録方式に発
生する問題を防止でき、格段の長寿命化を図ることがで
きるともに、ほぼメンテナンスフリーとなり、印画装置
の保守点検作業に要する手間、労力を解消することがで
きる。

【００１９】

【実施例】図１は本発明の一実施例の印画装置３１の斜
視図であり、図２は図１の切断面線Ｘ２−Ｘ２から見た
断面図である。印画装置３１は、金属材料などから成る
ベースプレート３２上に、絶縁基板３３が固定され、絶
縁基板３３上には、絶縁基板３３の法線方向に高周波磁
場を発生させる後述するような構成を有する複数の印画
素子３４が直線状に配列され、各印画素子３４が共通に
接続される共通電極３５と、各印画素子３４に個別に接
続される複数の個別電極３６および各個別電極３６が所
定数ずつ接続され、各印画素子３４を選択的に駆動して
後述するような印画動作を行わせる複数の駆動回路素子
３７とが配置される。

【００２０】駆動回路素子３７には、外部から印画用の
印画データや制御信号などを入力するための複数の信号
ライン３８がそれぞれ接続されており、この信号ライン
３８はベースプレート３２に載置される外部配線基板３
９の回路配線（図示せず）に接続される。また外部配線
基板３９にはコネクタ４０が設けられ、たとえばコンピ
ュータなどの外部機器が接続されて、印画データや各種
制御信号が入力される。

【００２１】図３は印画装置３１付近の拡大平面図であ
り、図４は図３の切断面線Ｘ４−Ｘ４から見た断面図で
ある。前記絶縁基板３３は、たとえばガラスなどの表面
が平滑な材料から形成され、その上に配列される印画素
子３４はｎ巻（本実施例では５巻）のコイル４１によっ
て実現される。各コイル４１は線幅Ｗ１（たとえば１０
μｍ）および層厚ｔ１（例として１μｍ）の銅Ｃｕ、ア
ルミニウムＡｌなどの金属膜によって内径Ｄ１（例とし
て８０μｍ）、外径Ｄ２（例として１００μｍ）で隣接
コイル間の間隔Ｗ３（例として１５μｍ）で形成され
る。各コイル４１の１巻毎の巻線４３ａ〜４３ｅの間に
は、たとえば酸化シリコンＳｉＯ₂、窒化シリコンＳｉ
Ｎなどの材料をスパッタリングなどの真空成膜技術で、
あるいは金属アルコキシド法などによって層厚ｔ２（例
として１μｍ）の層間絶縁膜４２ａ〜４２ｅがそれぞれ
形成される。

【００２２】このコイル４１が形成された領域を含み、
例として絶縁基板３３の全面にわたってたとえば層間絶
縁膜４２ａ〜４２ｅと同一の材料から成る保護膜４６が
形成される。このような印画装置３１は、プラテンロー
ラ４４に巻回されたシート状の記録媒体４５に距離Ｌ１
を隔てる非接触状態で後述するようにして印画を行う。

【００２３】図５は印画装置３１の製造工程を説明する
工程図であり、図６はこの製造工程を説明する平面図で
ある。図１〜図４を併せて参照する。工程ａ１では、絶
縁基板３３上に図６（１）に示すように、個別電極３６
と信号ライン３８と第１層目の巻線４３ａをパターンニ
ングする。図６（１）に示されるように、３６０度より
も若干小さな角度θ１にわたって、内径Ｄ１で第１層目
の巻線４３ａを形成し、当該巻線４３ａの反時計まわり
方向終端部において、前記個別電極３６が一体的に連な
るようにする。このとき巻線４３ａの周方向の両端部の
間には、この間の電気的絶縁を後述する層間絶縁膜４２
ａで達成できる程度の周方向に沿う距離を有する隙間４
７ａが形成される。

【００２４】工程ａ２では、図６（２）に示すように、
絶縁基板３３上に第１層目の層間絶縁膜４２ａを成膜
し、工程ａ３では、この層間絶縁膜４２ａにおいて、巻
線４３ａの時計まわり方向の終端部４８ａにスルーホー
ル４９ａを形成する。

【００２５】工程ａ４では、この製造段階の絶縁基板３
３上に、第２層目の巻線４３ｂを図６（３）で示すよう
にパターンニングする。巻線４３ｂは平面視が前記第１
層目の巻線４３ａと重複し、かつ反時計まわり方向終端
部が、前記スルーホール４９ａを介して巻線４３ａと接
続され、３６０度より若干小さな角度θ２にわたり時計
まわり方向終端部４８ｂが、前記隙間４７ａと同程度の
隙間４７ｂを、前記反時計まわり方向終端部と隔てる長
さに形成される。工程ａ５では、図６（４）に示すよう
に、この段階の絶縁基板３３上に第２層目の層間絶縁膜
４２ｂを成膜し、工程ａ６では、前記巻線４３ｂの時計
まわり方向終端部４８ｂに相当する位置であって、前記
スルーホール４９ａから角度φ１を隔てる位置にスルー
ホール４９ｂを形成する。以下工程ａ４〜ａ６と同様の
工程を繰返しつつ、巻線４３ｃ，４３ｄおよび層間絶縁
膜４２ｃ，４２ｄを形成し、図３で示されるように、各
スルーホール４９ａ〜４９ｄは、前記角度φ１ずつずれ
た位置に順次形成される。

【００２６】工程ａ７では、第４層目の層間絶縁膜４２
ｄ上に第５層目の巻線４３ｅをパターンニングする。巻
線４３ｅは、第４層目の巻線４３ｄのスルーホール４９
ｆに反時計まわり方向の終端部が接続され、時計まわり
方向終端部４８ｅはコイル４１を介して、前記個別電極
３６と対称な位置に形成される。工程ａ８では、この段
階の絶縁基板３３を被覆して、第５層目の層間絶縁膜４
２ｅを成膜する。工程ａ９では、巻線４３ｅの時計まわ
り方向終端部４８ｅに相当する位置にスルーホール４９
ｅを形成する。工程ａ１０では、さらにこの上に共通電
極３５をパターンニングし、保護膜４６を成膜して印画
装置３１が構成される。

【００２７】図７は、本実施例の印画装置３１を用いて
後述するような構成を有する記録媒体４５に印画動作が
可能となる原理を説明する図である。前述したように構
成されるコイル４１の作用を分析する際に、コイル４１
をいわゆるソレノイドと近似して以下考察する。コイル
４１に流れる電流Ｉは、

【００２８】

【数１】Ｉ＝Ｉ₀ｓｉｎωｔ Ｉ₀ ；電流実効値 ω；電流の角周波数 であり、コイル４１の巻数ｎに対して、コイル４１で発
生する磁束密度↑Ｂ（以下、記号「↑」をベクトルを意
味する記号と定義する）は、

【００２９】

【数２】↑Ｂ＝（ｎμ₀Ｉ０ｓｉｎωｔ）・↑ａ μ₀ ；真空の透磁率（４π×１０^-7Ｎ／Ａ²） ↑ａ；絶縁基板に垂直な方向の単位ベクトル となる。

【００３０】コイル４１から発生する高周波磁場↑Ｂに
より、記録媒体４５に発生する図７に示す誘導電場↑Ｅ
は、マックスウエル方程式により、

【００３１】

【数３】

【００３２】となる。前記磁場↑Ｂの中心から半径ｒの
点での電場を↑Ｅ（ｒ）とすると、前記数３を半径ｒの
円内で面積分して、

【００３３】

【数４】

【００３４】となる。ストークスの積分定理より数４の
左辺は、

【００３５】

【数５】

【００３６】となる。数５の右辺の積分記号は、半径ｒ
の円周上の線積分である。

【００３７】前記数４および数５から電場↑Ｅ（ｒ）の
強さＥ（ｒ）として、

【００３８】

【数６】Ｅ（ｒ）＝（ｎμ₀Ｉ₀ω／２）ｒｃｏｓωｔ ＝Ｅ（ｒ）ｍａｘ・ｃｏｓωｔ が得られる。

【００３９】また、前記誘導電場↑Ｅを導電率σの物質
内に発生させる場合の電流密度Ｉ₂（ｒ）は近似的に、

【００４０】

【数７】Ｉ₂（ｒ）＝σ・Ｅ（ｒ） で表される。

【００４１】図８は、前述したようなコイル３４から発
生する磁場↑Ｂによって、各種キャラクタや図形などを
視覚化して印画を実現する記録媒体４５の断面図であ
る。記録媒体４５は、たとえば紙や樹脂フィルムなどか
ら成るシート状の基材５０上に、たとえば黒色塗料を塗
布して成る黒色層５１と、光変調層５２とが積層されて
構成される。光変調層５２は、後述するように記録表示
に寄与するコレステリック液晶５３を封入した、たとえ
ばＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）などから成る
直径Ｗ４（例として５０μｍ）程度のマイクロカプセル
５４、およびそのマイクロカプセル５４を均一な分布状
態で分散して固定するためのたとえば透明なアクリル樹
脂材料から成る保持層５５から構成される。本実施例
は、前記コレステリック液晶５３は、静電場中にある場
合には、電場の方向に沿って配列状態が整列され、高周
波電場中では、各コレステリック液晶分子の配向方向が
無秩序になる現象を用いるものである。

【００４２】図９は印画装置３１による印画動作が行わ
れていない記録媒体４５の断面図であり、図１０は記録
動作状態の記録媒体４５の断面図である。前述したよう
に記録媒体４５は、記録動作が行われていないとき静電
場が印加され、たとえば図９に示すように、記録媒体４
５の厚み方向と平行な方向に整列される。この状態の記
録媒体４５は、外部から光が入射した場合、入射光はコ
レステリック液晶５３の分子と平行に進行し、したがっ
てコレステリック液晶５３の分子によっては散乱されず
黒色層５１で吸収される。したがってこの状態の記録媒
体４５は黒色に見える。

【００４３】このような記録媒体４５に対して、前述し
たようなコイル４１から構成される印画素子３４からの
高周波磁場↑Ｂを印加すると、この高周波磁場↑Ｂによ
って、図７に示した誘電電場↑Ｅ（ｒ）が交番状態で発
生され、これによりマイクロカプセル５４内のコレステ
リック液晶５３の配向状態は無秩序になり、入射した光
はマイクロカプセル５４内のコレステリック液晶５３で
散乱され、前記黒色層５１に到達することなく反射す
る。したがってこの部分は記録媒体４５上で白濁状態と
なる。すなわち本実施例では、記録媒体４５に印画動作
を行うと、黒色地に白色の表示が行われることになる。

【００４４】このような表示は、前記コレステリック液
晶５３の配向状態によって達成されているが、コレステ
リック液晶５３の配向状態は外部から印加される電場を
取除いても保持される記憶効果を有している。したがっ
て記録媒体４５の印画内容を消去しようとすると、図１
１に示されるように、直流電源５６に記録媒体４５を接
続し、静電場↑Ｅを印加する。これによりコレステリッ
ク液晶５３の配向状態は、静電場↑Ｅの方向と一致する
方向に整列され、印画内容は消去される。

【００４５】すなわち本実施例では、印画装置３１を用
いて記録媒体４５に非接触で印画を行うことができる。
したがって図１９など従来技術の項で述べたように、コ
イル４１の近傍が記録媒体４５と接触することによる保
護層４６の摩耗およびコイル４１に相当する保護層４６
の領域とプラテンローラ４４との間に異物が噛込むこと
による保護層４６でのクラックの発生が防止され、印画
装置３１の長寿命化を図ることができる。また各種記録
媒体には、各種イオンが保護層４６に形成される微小ク
ラックを介して内部に侵入する事態が防止され、コイル
４１の腐食、接続不良あるいは断線などの事態を防止で
きる。したがって印画装置３１の格段の長寿命化を図る
ことができるとともに、保守点検作業が不要となる。

【００４６】図１２は、本発明における記録媒体の他の
実施例を示す断面図である。本実施例の記録媒体４５ａ
は、耐熱性合成樹脂材料のフィルムなどから成る基材５
０と、たとえば金属から成る発熱層５６と、熱溶融性顔
料などが含浸された網状体から成る感熱層５７とから構
成される。この記録媒体４５ａは、前述の構成を有する
印画素子３４に交流電流を流すことにより生じる電磁場
のうち、電場によって発熱層５６に生じる誘導電流によ
り、当該電磁場が到達する範囲の発熱層５６を発熱さ
せ、感熱層５７の顔料などを溶融させて記録紙５８に印
画を行うものである。

【００４７】このような実施例においても、前記印画装
置３１と記録媒体４５ａとは、前記実施例のように距離
Ｌ１を隔てて印画が可能となる。すなわちこのような実
施例においても、前述の実施例で述べた効果と同様な効
果を達成することができる。

【００４８】図１３は本発明の他の実施例の印画装置で
ある記録ヘッド６１の斜視図であり、図１４は記録ヘッ
ド６１の背面図であり、図１５は図１３の切断面線Ｘ１
５−Ｘ１５から見た断面図であり、図１６は図１５の部
分Ｘ１６付近の拡大断面図である。記録ヘッド６１は、
金属材料から成るベースプレート６２に対して、絶縁基
板６３、および外部の電子機器と接続するためのコネク
タ６４を有する外部配線基板６５が接着され、固定され
ている。絶縁基板６３上には、後述する交番高周波電場
を発生させる後述するような構成を有する印画素子６
６、前記印画素子６６に高周波電力を印加するための個
別電極６７、共通電極６８および電流制限用抵抗部６９
が形成され、さらに前記個別電極６７に、制御信号を出
力するための駆動回路素子７０、そしてこの駆動回路素
子７０の制御信号配線７１が形成される。

【００４９】制御信号配線７１は、駆動信号ラインと駆
動電源ラインとを含み、これらは絶縁基板６３と同じく
ベースプレート６２上に接着された外部配線基板６５に
よって、コネクタ６４からの入力を導入する。印画素子
６６を駆動させるもう一方の電源ライン７２は、共通電
極６８と絶縁基板６３の背面側で接続され、この電源ラ
イン７２は、ベースプレート６２を挿通して配置される
ジャンパ線７３によって外部配線基板６５に接続され、
コネクタ６４に同様に結線される。

【００５０】図１６は図１５の部分Ｘ１６付近の拡大断
面図であり、図１７は印画素子６６付近の展開図であ
る。前記印画素子６６は個別電極６７、共通電極６８と
一体的に絶縁基板６３のたとえば図１６に示すように断
面が台形状を成す端部７４の端面７５上に形成される。
この形成法は、まず絶縁基板７３上に例としてタンタル
Ｔａ、窒化タンタルＴａＮあるいはチタンＴｉなどから
成る抵抗体層７６およびアルミニウムＡｌなどの金属材
料から成る電極層が連続してスパッタリング法などの真
空成膜技術によって、絶縁基板６３の前記端部７４の表
面およびこれに連続する絶縁基板６３の両側面７７にわ
たって形成される。

【００５１】次に成膜が施された領域全体にわたってホ
トレジストを塗布し、さらに図１７に示した印画素子群
６６、個別電極群６７および共通電極群６８を形成する
マスクを用いて露光現像を行う。さらに適当な酸、アル
カリ溶液内においてエッチングを行い、上記素子群を形
成する。印画素子６６は図１７に示されるように、絶縁
基板６３の幅Ｌ２（例として３００μｍ）を有する前記
端面７５上に、副走査方向すなわち図１７の上下方向の
長さＷ８（例として１５０μｍ）で、主走査方向、すな
わち図１７の左右方向の長さＷ５（例として１００μ
ｍ）の矩形状に形成され、前記電極６７，６８は線幅Ｗ
６（例として３０μｍ）に形成され、前記矩形状の印画
素子６６の間隔は、距離Ｗ７（例として１５μｍ）を１
素子として形成される。

【００５２】さらに個別電極６７を介して、各印画素子
６６に導入される駆動電力に対して電流制限を行うため
の電流制限用抵抗部６９を形成するために、上記の一連
のホトエッチング技術を用いて、図１６に示されるよう
に、個別電極６７をその下部の抵抗体層７６が必要な抵
抗値に対応する長さＬ３だけ露出するように、個別電極
６７を除去する。さらに印画素子６６の経年変化を防止
するための保護層７８を、たとえば酸化シリコンＳｉＯ
₂などの材料で真空成膜技術を用いて形成する。その
後、共通電極６８と前記ジャンパ線７３とを結線するた
めに、共通電極６８上に接続部７９をメッキなどの方法
によって、たとえば図１６に示されるように、ニッケル
Ｎｉ層８０および金Ａｕ層８１を積層して構成する。

【００５３】上述のような構成を有する記録ヘッド６１
を用いた本実施例の記録方法の原理を以下に説明する。
本実施例における記録に用いる材料（感熱記録における
感熱記録紙に相当する）として、コレステリック液晶の
記憶効果を利用するものであり、前記実施例において図
８〜図１１を参照して説明した記録媒体４５と同一のも
のを用いる。前記マイクロカプセル５４の直径Ｗ４は、
１画素が１個以上のマイクロカプセルの発色に対応する
ように例として１００μｍ程度以下、具体的には５０μ
ｍ程度に形成される。

【００５４】以下、本実施例における発色の原理を、前
記図９〜図１１を参照して説明する。未印字状態の記録
媒体４５では、図９に示すように、マイクロカプセル５
４内の液晶５３の分子は、予め外部からの直流電場によ
って記録媒体４５の厚み方向に平行に配向されている。
このような配向状態はコレステリック液晶の特徴とし
て、前記静電場を除去しても記憶されるものである。こ
の状態の記録媒体４５は、黒色層５１のために、記録層
５２に入射した光線（ｈν）はほとんど吸収されて黒く
見える。この状態の記録媒体４５に対して、図１３に示
される記録ヘッド６１を用いて、図１８で示すように、
記録ヘッド６１の間隔ｄ２を隔てる上方で記録媒体４５
をプラテン８２に装着し、駆動回路素子７０を介して記
録動作を行うべき印画素子６６に対して高周波電力発生
装置８３から選択的に高周波電力を印加する。

【００５５】これにより高周波電力が印加された印画素
子６６は、前記端面７５の法線方向すなわち図１８上方
側に対して交番高周波電場を発生させ、これによって記
録媒体４５内の液晶５３の分子に高周波電場を印加す
る。上記高周波電場の印加によって、マイクロカプセル
５４内のコレステリック液晶５３は、その配向状態が整
列状態から乱されて任意の方向となり、記録媒体４５へ
の入射光を散乱する。すなわち白色光線下では、印画部
分が白濁したように発色する。この発色が記録ヘッド６
１の各印画素子６６によって適宜選ばれるため、任意の
画像が形成されることになる。

【００５６】このコレステリック液晶５３の擾乱された
配向状態は図１１に示されるように、外部からの静電場
が再度印加されない限り、その状態が保持されるため、
前記記録ヘッド６１によって得られた印画画像もこれに
従って保持される。このようにして行われた記録は、記
録媒体４５に再度静電場を印加することによって、図９
に示した最初の配向状態に復帰させることができ、記録
された画像の消去処理を行うことができる。このため、
本実施例の記録媒体４５は複数回の記録が可能となる。

【００５７】以下、図１８を参照して記録ヘッド６１を
用いる記録媒体４５への記録動作の詳細について説明す
る。記録ヘッド６１に対して、高周波電力発生装置８３
からコネクタ６４を介して高周波電力が供給されるとと
もに、高周波電力発生装置８３の一方の電源ライン（接
地端子でもよい）を、基準電位板８２に接続する。この
ようにして記録ヘッド６１の印画素子６６に高周波電力
を印加すると、印画素子６６の電位は、印加電力に従っ
て交流変化し、基準電位板８２との間に交番高周波電場
↑Ｅを発生する。

【００５８】この記録ヘッド６１と基準電位板８２との
間に、前述したような記録媒体４５を、基準電位板８２
に密着させ、かつ記録ヘッド６１の最先端と距離ｄ２
（例として１００μｍ程度）を隔てて配置したとき、交
番高周波電場↑Ｅによって記録媒体４５内のコレステリ
ック液晶５３が無秩序配向となり、前述のように発色す
る。このような発色現象を記録ヘッド６１内の任意の印
画素子６６に対して選択し、かつ記録媒体４５を印画素
子６６の配列方向に対して垂直方向に移動させることに
よって、任意の印画画像が形成される。

【００５９】すなわちこのような実施例においても、前
記実施例で述べた効果と同様の効果を達成することがで
きる。

【００６０】本発明の印画装置に用いられる印画素子
は、前記実施例におけるコイル４１から成る印画素子３
４、あるいは矩形状の金属薄膜から成る印画素子６６の
構成例に限定されるものではなく、記録媒体に視覚化で
きる物理作用を、記録媒体から離れた位置で発生する手
段ならばその種類は限定されるものではない。

【００６１】また本発明の記録媒体は、前記実施例の記
録媒体４５，４５ａの構成例に限定されるものではな
く、印画素子からの作用に対して視覚化される作用を生
じる構成に関して広く実施されるものである。

【００６２】

【発明の効果】以上のように本発明に従う印画装置は、
記録媒体とは非接触で印画動作を実現し、記録媒体との
接触の際に生じる摩耗やクラック発生、あるいは記録媒
体からのイオン侵入などの問題による腐食などの接触記
録方式に発生する問題を防止でき、格段の長寿命化を図
ることができるともに、ほぼメンテナンスフリーとな
り、印画装置の保守点検作業に要する手間、労力を解消
することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例の印画装置３１の斜視図であ
る。

【図２】図１の切断面線Ｘ２−Ｘ２から見た断面図であ
る。

【図３】印画素子３４の拡大平面図である。

【図４】図３の切断面線Ｘ４−Ｘ４から見た断面図であ
る。

【図５】印画装置３１の製造工程を説明する工程図であ
る。

【図６】本実施例の製造工程を説明する平面図である。

【図７】本実施例の作用を説明する斜視図である。

【図８】記録媒体４５の断面図である。

【図９】未印画動作状態の記録媒体４５の断面図であ
る。

【図１０】印画動作中の記録媒体４５の断面図である。

【図１１】印画内容を消去する動作を説明する断面図で
ある。

【図１２】本発明の他の実施例の記録媒体４５ａの断面
図である。

【図１３】本発明の他の実施例の記録ヘッド６１の斜視
図である。

【図１４】記録ヘッド６１の背面図である。

【図１５】図１３の切断面線Ｘ１５−Ｘ１５から見た断
面図である。

【図１６】図１５の部分Ｘ１６付近の拡大断面図であ
る。

【図１７】印画素子６６付近の展開図である。

【図１８】記録ヘッド６１の印画動作を説明する系統図
である。

【図１９】従来例のサーマルヘッド１の斜視図である。

【図２０】図１９の切断面線Ｘ２０−Ｘ２０から見た断
面図である。

【図２１】サーマルヘッド１の拡大断面図である。

【図２２】従来例の電子写真装置１８の系統図である。

【符号の説明】

３１ 印画装置 ３３，６３ 絶縁基板 ３４，６６ 印画素子 ４１ コイル ４２ａ〜４２ｅ 層間絶縁膜 ４３ａ〜４３ｅ 巻線 ４５，４５ａ 記録媒体 ５３ コレステリック液晶 ５４ マイクロカプセル ５６ 発熱体層 ５７ 感熱層 ６１ 記録ヘッド ７６ 抵抗体層

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 配線基板上に直線状に配列され、高周波
   駆動電力の印加／遮断に対応して、配線基板の法線方向
   に沿う進行方向の高周波磁場を発生する複数の印画素子
   と、 印画データに基づいて各印画素子に高周波駆動電力を選
   択的に印加／遮断する駆動回路素子とを備え、 各印画素子が発生する前記高周波磁場に基づいて、当該
   高周波磁場が及ぶ範囲の領域が視覚化される物理作用を
   生じる記録媒体を用いて、当該記録媒体とは非接触で印
   画を行うことを特徴とする印画装置。
2. 【請求項２】 配線基板上に直線状に配列され、高周波
   駆動電力の印加／遮断に対応して、配線基板の法線方向
   に沿う交番高周波電場を発生する複数の印画素子と、 印画データに基づいて各印画素子に高周波駆動電力を選
   択的に印加／遮断する駆動回路素子とを備え、 各印画素子が発生する前記高周波電場の及ぶ範囲の領域
   が視覚化される物理作用を生じる記録媒体を用いて、前
   記印画素子と非接触で印画を行うことを特徴とする印画
   装置。