JPH05144699A - レンズ保持装置及びそれを用いた投影露光装置 - Google Patents
レンズ保持装置及びそれを用いた投影露光装置Info
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- JPH05144699A JPH05144699A JP3334436A JP33443691A JPH05144699A JP H05144699 A JPH05144699 A JP H05144699A JP 3334436 A JP3334436 A JP 3334436A JP 33443691 A JP33443691 A JP 33443691A JP H05144699 A JPH05144699 A JP H05144699A
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- G02B7/02—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for lenses
- G02B7/022—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for lenses lens and mount having complementary engagement means, e.g. screw/thread
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- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
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- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
- G03F7/70883—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature of optical system
- G03F7/70891—Temperature
Abstract
(57)【要約】
【目的】 露光光の吸収による熱的変化に伴う光学特性
の変化が少なく、高解像度のパターン像が得られるレン
ズ保持装置及びそれを用いた投影露光装置。 【構成】 レンズ１０をレンズ鏡筒１２内に収納保持す
る際、該レンズを該レンズ鏡筒の熱伝導率よりも大きい
熱伝導率を有する材料より成るレンズ支持部材２０で支
持すると共に、該レンズと該レンズ支持部材との接触領
域に該レンズ鏡筒の熱伝導率よりも大きい熱伝導率を有
する材料２０ａを充填させて該レンズ鏡筒内に保持した
こと。
の変化が少なく、高解像度のパターン像が得られるレン
ズ保持装置及びそれを用いた投影露光装置。 【構成】 レンズ１０をレンズ鏡筒１２内に収納保持す
る際、該レンズを該レンズ鏡筒の熱伝導率よりも大きい
熱伝導率を有する材料より成るレンズ支持部材２０で支
持すると共に、該レンズと該レンズ支持部材との接触領
域に該レンズ鏡筒の熱伝導率よりも大きい熱伝導率を有
する材料２０ａを充填させて該レンズ鏡筒内に保持した
こと。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はレンズ保持装置及びそれ
を用いた投影露光装置に関し、特にＩＣ、ＬＳＩ等の半
導体素子を製造する際にレチクル面上の電子回路パター
ンをウエハ面上に投影光学系（投影レンズ）により投影
するときの投影光学系を構成するレンズの露光光の熱吸
収による温度上昇を防止し、光学性能を良好に維持し、
高精度な投影パターン像が得られるようにしたものであ
る。
を用いた投影露光装置に関し、特にＩＣ、ＬＳＩ等の半
導体素子を製造する際にレチクル面上の電子回路パター
ンをウエハ面上に投影光学系（投影レンズ）により投影
するときの投影光学系を構成するレンズの露光光の熱吸
収による温度上昇を防止し、光学性能を良好に維持し、
高精度な投影パターン像が得られるようにしたものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】従来よりＩＣ、ＬＳＩ等の半導体素子製
造用の投影露光装置（アライナー）においては非常に高
い組立精度と光学性能が要求されている。
造用の投影露光装置（アライナー）においては非常に高
い組立精度と光学性能が要求されている。
【０００３】このうちレチクル面上の電子回路パターン
をウエハ面上に所定倍率で投影する投影光学系の光学性
能は特に重要となっている。投影光学系の光学性能に悪
影響を及ぼす一要因に投影光学系を構成するレンズの露
光時における露光光の熱吸収による温度上昇に伴う焦点
位置変動、結像倍率変動、像面湾曲等の光学特性の変化
がある。
をウエハ面上に所定倍率で投影する投影光学系の光学性
能は特に重要となっている。投影光学系の光学性能に悪
影響を及ぼす一要因に投影光学系を構成するレンズの露
光時における露光光の熱吸収による温度上昇に伴う焦点
位置変動、結像倍率変動、像面湾曲等の光学特性の変化
がある。
【０００４】又、半導体素子の高集積化に伴い、投影光
学系の高ＮＡ化が図られている。一般に投影光学系の高
ＮＡ化を図るとレンズ口径が増大し、それに伴い露光光
の吸収も増大し、又レンズの自重によりレンズ形状が変
化し、光学特性が大きく変化してくるという傾向があっ
た。
学系の高ＮＡ化が図られている。一般に投影光学系の高
ＮＡ化を図るとレンズ口径が増大し、それに伴い露光光
の吸収も増大し、又レンズの自重によりレンズ形状が変
化し、光学特性が大きく変化してくるという傾向があっ
た。
【０００５】従来より投影光学系を構成するレンズが露
光光を吸収し、熱的変化を起こしたときに生じる投影光
学系の光学特性の変化を補正する方法が種々と提案され
ている。
光光を吸収し、熱的変化を起こしたときに生じる投影光
学系の光学特性の変化を補正する方法が種々と提案され
ている。
【０００６】例えば特開昭６０−７８４５６号公報では
投影光学系中にレンズ密閉空間を形成し、該レンズ密閉
空間内の気圧を制御して補正する方法を提案している。
投影光学系中にレンズ密閉空間を形成し、該レンズ密閉
空間内の気圧を制御して補正する方法を提案している。
【０００７】この他、被投影面であるウエハをウエハス
テージを利用して光軸方向に駆動させて補正する方法
や、投影光学系を構成する一部のレンズを光軸方向に移
動させて補正する方法等が提案されている。
テージを利用して光軸方向に駆動させて補正する方法
や、投影光学系を構成する一部のレンズを光軸方向に移
動させて補正する方法等が提案されている。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】投影光学系の高解像力
化に伴いレンズ鏡筒内にレンズを収納保持する際、各レ
ンズを高精度に保持し、光学特性が変化しないようにす
ることが重要となっている。
化に伴いレンズ鏡筒内にレンズを収納保持する際、各レ
ンズを高精度に保持し、光学特性が変化しないようにす
ることが重要となっている。
【０００９】従来は図８や図９に示すような方法により
レンズをレンズ鏡筒内に収納保持している。図８ではレ
ンズ鏡筒１２にレンズ１０を組み込み、上方から押え環
１１によってレンズ１０を固定保持している。図９では
レンズ鏡筒１２にレンズ１０を組み込み、レンズ１０の
面取り部分をカシメ１３によって固定保持している。
レンズをレンズ鏡筒内に収納保持している。図８ではレ
ンズ鏡筒１２にレンズ１０を組み込み、上方から押え環
１１によってレンズ１０を固定保持している。図９では
レンズ鏡筒１２にレンズ１０を組み込み、レンズ１０の
面取り部分をカシメ１３によって固定保持している。
【００１０】図８や図９に示すレンズ保持方法はレンズ
１０をレンズ鏡筒１２内に単に固定保持しているだけで
あり、レンズが露光光を吸収したときの光学特性の変化
の防止やレンズ１０の自重によるレンズ面形状の変化に
対しては何んら対策がとられていなかった。
１０をレンズ鏡筒１２内に単に固定保持しているだけで
あり、レンズが露光光を吸収したときの光学特性の変化
の防止やレンズ１０の自重によるレンズ面形状の変化に
対しては何んら対策がとられていなかった。
【００１１】本発明は投影光学系を構成する各レンズを
レンズ鏡筒内に適切に収納保持することにより、レンズ
が露光光を吸収したときの温度上昇を効果的に防止し、
レンズ面やレンズ形状の変化及び光学特性の変化が少な
く、高解像度のパターン像が得られるレンズ保持装置及
びそれを用いた投影露光装置の提供を目的とする。
レンズ鏡筒内に適切に収納保持することにより、レンズ
が露光光を吸収したときの温度上昇を効果的に防止し、
レンズ面やレンズ形状の変化及び光学特性の変化が少な
く、高解像度のパターン像が得られるレンズ保持装置及
びそれを用いた投影露光装置の提供を目的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】本発明のレンズ保持装置
は、レンズをレンズ鏡筒内に収納保持する際、該レンズ
を該レンズ鏡筒の熱伝導率よりも大きい熱伝導率を有す
る材料より成るレンズ支持部材で支持すると共に、該レ
ンズと該レンズ支持部材との接触領域に該レンズ鏡筒の
熱伝導率よりも大きい熱伝導率を有する材料を充填させ
て該レンズ鏡筒内に保持したことを特徴としている。
は、レンズをレンズ鏡筒内に収納保持する際、該レンズ
を該レンズ鏡筒の熱伝導率よりも大きい熱伝導率を有す
る材料より成るレンズ支持部材で支持すると共に、該レ
ンズと該レンズ支持部材との接触領域に該レンズ鏡筒の
熱伝導率よりも大きい熱伝導率を有する材料を充填させ
て該レンズ鏡筒内に保持したことを特徴としている。
【００１３】又本発明の投影露光装置は、レチクル面上
のパターンを投影光学系によりウエハ面上に投影露光す
る投影露光装置において、該投影光学系を構成する少な
くとも１つのレンズはレンズ鏡筒の熱伝導率よりも大き
い熱伝導率を有する材料より成るレンズ支持部材で支持
すると共に、該レンズと該レンズ支持部材との接触領域
に該レンズ鏡筒の熱伝導率よりも大きい熱伝導率を有す
る材料を充填させて該レンズを該レンズ鏡筒内に保持さ
れていることを特徴としている。
のパターンを投影光学系によりウエハ面上に投影露光す
る投影露光装置において、該投影光学系を構成する少な
くとも１つのレンズはレンズ鏡筒の熱伝導率よりも大き
い熱伝導率を有する材料より成るレンズ支持部材で支持
すると共に、該レンズと該レンズ支持部材との接触領域
に該レンズ鏡筒の熱伝導率よりも大きい熱伝導率を有す
る材料を充填させて該レンズを該レンズ鏡筒内に保持さ
れていることを特徴としている。
【００１４】そして本発明では、このような投影露光装
置を用いて半導体素子を製造している。
置を用いて半導体素子を製造している。
【００１５】
【実施例】図１は本発明のレンズ保持装置を利用した投
影光学系によりレチクル面上のパターンをウエハ面上に
投影露光し、半導体素子を製造する投影露光装置の実施
例１の要部概略図である。
影光学系によりレチクル面上のパターンをウエハ面上に
投影露光し、半導体素子を製造する投影露光装置の実施
例１の要部概略図である。
【００１６】同図において２はレチクルであり、その面
上には電子回路パターンが形成されている。２ａはレチ
クルチャックであり、レチクル２を吸着保持している。
４は照明系であり、光源手段として例えばエキシマレー
ザ又は超高圧水銀灯等を有し、レチクル２面上の電子回
路パターンを露光光で均一な照度分布で照明している。
上には電子回路パターンが形成されている。２ａはレチ
クルチャックであり、レチクル２を吸着保持している。
４は照明系であり、光源手段として例えばエキシマレー
ザ又は超高圧水銀灯等を有し、レチクル２面上の電子回
路パターンを露光光で均一な照度分布で照明している。
【００１７】１は投影光学系（投影レンズ）であり、照
明系４からの露光光で照明されたレチクル２面上の電子
回路パターンを所定倍率（例えば１／５又は１／１０）
でウエハ３面上に投影している。尚投影光学系１を構成
する少なくとも１つのレンズ１０は後述するレンズ保持
装置によりレンズ鏡筒内に保持されている。
明系４からの露光光で照明されたレチクル２面上の電子
回路パターンを所定倍率（例えば１／５又は１／１０）
でウエハ３面上に投影している。尚投影光学系１を構成
する少なくとも１つのレンズ１０は後述するレンズ保持
装置によりレンズ鏡筒内に保持されている。
【００１８】ウエハ３はその面上にレジスト等の感光材
料が塗布されている。５はウエハチャックであり、ウエ
ハ３を吸着保持している。６はウエハステージであり、
ウエハチャック５を所定面内（ＸＹ平面内）に駆動して
いる。
料が塗布されている。５はウエハチャックであり、ウエ
ハ３を吸着保持している。６はウエハステージであり、
ウエハチャック５を所定面内（ＸＹ平面内）に駆動して
いる。
【００１９】同図ではレチクル２とウエハ３を所定の関
係となるように位置決めした後、シャッター手段（不図
示）を開閉し、レチクル２面上の電子回路パターンをウ
エハ３面上に投影露光している。その後、ウエハ３をウ
エハステージ６により所定量Ｘ・Ｙ平面内に駆動させ
て、ウエハ３の他の領域を順次同じように投影露光する
ようにした所謂ステップアンドリピート方式を採用して
いる。
係となるように位置決めした後、シャッター手段（不図
示）を開閉し、レチクル２面上の電子回路パターンをウ
エハ３面上に投影露光している。その後、ウエハ３をウ
エハステージ６により所定量Ｘ・Ｙ平面内に駆動させ
て、ウエハ３の他の領域を順次同じように投影露光する
ようにした所謂ステップアンドリピート方式を採用して
いる。
【００２０】本実施例ではこのようにして得たウエハを
公知の現像処理工程を介して、これより半導体素子を製
造している。
公知の現像処理工程を介して、これより半導体素子を製
造している。
【００２１】次に本発明に係るレンズ保持装置について
説明する。
説明する。
【００２２】１０は投影光学系１を構成する１つのレン
ズであり、レンズ支持部材２０により支持されている。
レンズ支持部材２０はレンズ１０を支持しつつ、レンズ
鏡筒１２の突部１２ａに保持されている。レンズ鏡筒１
２の材料は例えばステンレス鋼（熱伝導率１４ｋｃａｌ
／ｍｈ℃）より成っている。レンズ支持部材２０はレン
ズ鏡筒１２の熱伝導率よりも大きな熱伝導率の材料、例
えば銀（熱伝導率３６０ｋｃａｌ／ｍｈ℃）、銅（熱伝
導率３２２ｋｃａｌ／ｍｈ℃）、アルミニウム（熱伝導
率１９６ｋｃａｌ／ｍｈ℃）、等より成っている。
ズであり、レンズ支持部材２０により支持されている。
レンズ支持部材２０はレンズ１０を支持しつつ、レンズ
鏡筒１２の突部１２ａに保持されている。レンズ鏡筒１
２の材料は例えばステンレス鋼（熱伝導率１４ｋｃａｌ
／ｍｈ℃）より成っている。レンズ支持部材２０はレン
ズ鏡筒１２の熱伝導率よりも大きな熱伝導率の材料、例
えば銀（熱伝導率３６０ｋｃａｌ／ｍｈ℃）、銅（熱伝
導率３２２ｋｃａｌ／ｍｈ℃）、アルミニウム（熱伝導
率１９６ｋｃａｌ／ｍｈ℃）、等より成っている。
【００２３】１１は押え環であり、レンズ支持部材２０
をレンズ鏡筒１２内に固定保持している。レンズ１０と
レンズ保持部材２０との間の接触領域には、レンズ鏡筒
１２の熱伝導率よりも大きな熱伝導率を有する材料２０
ａ、例えば粘性の銀ペーストを充填している。これによ
りレンズ１０とレンズ支持部材２０との接触面積を増大
させ、熱伝導を良くし、レンズ１０の温度上昇を防止す
ると共にレンズ１０の固定度を高め、自重によるレンズ
面の変形を最小にしている。
をレンズ鏡筒１２内に固定保持している。レンズ１０と
レンズ保持部材２０との間の接触領域には、レンズ鏡筒
１２の熱伝導率よりも大きな熱伝導率を有する材料２０
ａ、例えば粘性の銀ペーストを充填している。これによ
りレンズ１０とレンズ支持部材２０との接触面積を増大
させ、熱伝導を良くし、レンズ１０の温度上昇を防止す
ると共にレンズ１０の固定度を高め、自重によるレンズ
面の変形を最小にしている。
【００２４】本実施例ではこのような材料より成るレン
ズ支持部材２０と材料２０ａ、そしてレンズ鏡筒１２よ
りレンズ保持装置を構成している。
ズ支持部材２０と材料２０ａ、そしてレンズ鏡筒１２よ
りレンズ保持装置を構成している。
【００２５】図１に示す構成において投影露光が開始さ
れるとレンズ１０が露光光を熱吸収して温度が上昇し、
温度分布が生じてくる。このときレンズ１０に生じる熱
は材料２０ａとレンズ支持部材２０を介してレンズ鏡筒
１２に散逸するようになり、本実施例ではこれによりレ
ンズ１０が高温になるのを効果的に防止している。
れるとレンズ１０が露光光を熱吸収して温度が上昇し、
温度分布が生じてくる。このときレンズ１０に生じる熱
は材料２０ａとレンズ支持部材２０を介してレンズ鏡筒
１２に散逸するようになり、本実施例ではこれによりレ
ンズ１０が高温になるのを効果的に防止している。
【００２６】特にレンズが露光光を吸収して熱的に定常
状態（吸収される熱量と散逸する熱量とが等しい状態）
に達した際の温度分布の最大値を低く抑えている。
状態（吸収される熱量と散逸する熱量とが等しい状態）
に達した際の温度分布の最大値を低く抑えている。
【００２７】又、本発明者の試算では図２のように、レ
ンズ１０の一部分（太線）１０ａを一定の温度に保つ場
合と図３のようにレンズ側面１０ｂ全体を一定の温度に
保つ場合とを比較すると定常状態に達したときの温度分
布の最大値は図３の場合の方が図２に比べて１〜２割程
度低いという結果が得られている。
ンズ１０の一部分（太線）１０ａを一定の温度に保つ場
合と図３のようにレンズ側面１０ｂ全体を一定の温度に
保つ場合とを比較すると定常状態に達したときの温度分
布の最大値は図３の場合の方が図２に比べて１〜２割程
度低いという結果が得られている。
【００２８】特にレンズ支持部材との接触面積が大きい
レンズ（貼合せレンズや凹レンズ等）では温度分布の最
大値は３割程度抑制されるという結果が得られている。
レンズ（貼合せレンズや凹レンズ等）では温度分布の最
大値は３割程度抑制されるという結果が得られている。
【００２９】又、一般に図４（Ａ），（Ｂ）に示すよう
にレンズ１０の周辺部をリング状に固定支持する場合と
図５（Ａ），（Ｂ）に示すようにレンズ１０の側面を固
定支持する場合とを比較すると、レンズ面の変形は凸レ
ンズの場合は図５（Ａ）の方法は図４（Ａ）の方法に比
べて１／２〜１／３倍程度少なくなり、凹レンズの場合
は図５（Ｂ）の方法は図４（Ｂ）の方法に比べて１／４
〜１／５倍程度少なくなるという結果が得られている。
にレンズ１０の周辺部をリング状に固定支持する場合と
図５（Ａ），（Ｂ）に示すようにレンズ１０の側面を固
定支持する場合とを比較すると、レンズ面の変形は凸レ
ンズの場合は図５（Ａ）の方法は図４（Ａ）の方法に比
べて１／２〜１／３倍程度少なくなり、凹レンズの場合
は図５（Ｂ）の方法は図４（Ｂ）の方法に比べて１／４
〜１／５倍程度少なくなるという結果が得られている。
【００３０】本実施例では投影レンズ１を構成する複数
のレンズを前述した構成のレンズ保持装置で固定保持す
ることにより、レンズの露光光の熱吸収による熱的変化
に伴う光学特性の変化及びレンズ面形状の変化が少なく
なるようにしている。
のレンズを前述した構成のレンズ保持装置で固定保持す
ることにより、レンズの露光光の熱吸収による熱的変化
に伴う光学特性の変化及びレンズ面形状の変化が少なく
なるようにしている。
【００３１】図６，図７は各々本発明のレンズ保持装置
の実施例２，３の一部分の要部断面図である。図中、図
１の実施例１と同じ要素には同符番を付している。
の実施例２，３の一部分の要部断面図である。図中、図
１の実施例１と同じ要素には同符番を付している。
【００３２】図６の実施例２においては図１の実施例１
に比べて押え環２１の材料をレンズ支持部材２０と同様
にレンズ鏡筒１２の熱伝導率よりも大きい熱伝導率の材
料（例えば前述した銀、銅、アルミニウム等）より構成
している点が異なっており、その他の構成は同じであ
る。尚本実施例においても実施例１と同様にレンズ１０
と押え環２１、レンズ支持部材２０との接触領域に銀ペ
ースト等の材料２０ａが充填されている。
に比べて押え環２１の材料をレンズ支持部材２０と同様
にレンズ鏡筒１２の熱伝導率よりも大きい熱伝導率の材
料（例えば前述した銀、銅、アルミニウム等）より構成
している点が異なっており、その他の構成は同じであ
る。尚本実施例においても実施例１と同様にレンズ１０
と押え環２１、レンズ支持部材２０との接触領域に銀ペ
ースト等の材料２０ａが充填されている。
【００３３】図７の実施例３ではレンズ７０の側面に溝
２３を設け、該溝２３に実施例１と同様の銀ペースト等
の材料２０ａを充填している。これによりレンズ１０と
レンズ支持部材２０との接触面積の増大を図り、レンズ
７０の露光光の吸収による熱的変化を少なくしている。
２３を設け、該溝２３に実施例１と同様の銀ペースト等
の材料２０ａを充填している。これによりレンズ１０と
レンズ支持部材２０との接触面積の増大を図り、レンズ
７０の露光光の吸収による熱的変化を少なくしている。
【００３４】本実施例は例えばレンズの中心部が厚く、
周辺部が薄い両凸レンズのようにレンズ側面とレンズ支
持部材との接触面積が少ない割に露光光を吸収する割合
の高い、即ち体積が大きいレンズに特に有効である。
周辺部が薄い両凸レンズのようにレンズ側面とレンズ支
持部材との接触面積が少ない割に露光光を吸収する割合
の高い、即ち体積が大きいレンズに特に有効である。
【００３５】
【発明の効果】本発明によれば前述のごとく投影光学系
を構成する各レンズをレンズ鏡筒内に適切に収納保持す
ることにより、レンズが露光光を吸収したときの温度上
昇を効果的に防止し、レンズ面やレンズ形状の変化及び
光学特性の変化が少なく、高解像度のパターン像が得ら
れるレンズ保持装置及びそれを用いた投影露光装置を達
成することができる。
を構成する各レンズをレンズ鏡筒内に適切に収納保持す
ることにより、レンズが露光光を吸収したときの温度上
昇を効果的に防止し、レンズ面やレンズ形状の変化及び
光学特性の変化が少なく、高解像度のパターン像が得ら
れるレンズ保持装置及びそれを用いた投影露光装置を達
成することができる。
【図１】 本発明の投影露光装置の実施例１の要部概
略図
略図
【図２】 レンズの温度を一定に保つ部分の説明図
【図３】 レンズの温度を一定に保つ部分の説明図
【図４】 レンズを支持する方法の説明図
【図５】 レンズを支持する方法の説明図
【図６】 本発明のレンズ保持装置の実施例２の要部
断面図
断面図
【図７】 本発明のレンズ保持装置の実施例３の要部
断面図
断面図
【図８】 従来のレンズの支持方法の説明図
【図９】 従来のレンズの支持方法の説明図
１ 投影光学系 ２ レチクル ３ ウエハ ４ 照明系 ５ ウエハチャック ６ ウエハステージ １０，７０ レンズ １１，２１ 押え環 １２ レンズ鏡筒 ２０ レンズ支持部材 ２０ａ 材料
Claims (3)
- 【請求項１】 レンズをレンズ鏡筒内に収納保持する
際、該レンズを該レンズ鏡筒の熱伝導率よりも大きい熱
伝導率を有する材料より成るレンズ支持部材で支持する
と共に、該レンズと該レンズ支持部材との接触領域に該
レンズ鏡筒の熱伝導率よりも大きい熱伝導率を有する材
料を充填させて該レンズ鏡筒内に保持したことを特徴と
するレンズ保持装置。 - 【請求項２】 レチクル面上のパターンを投影光学系に
よりウエハ面上に投影露光する投影露光装置において、
該投影光学系を構成する少なくとも１つのレンズはレン
ズ鏡筒の熱伝導率よりも大きい熱伝導率を有する材料よ
り成るレンズ支持部材で支持すると共に、該レンズと該
レンズ支持部材との接触領域に該レンズ鏡筒の熱伝導率
よりも大きい熱伝導率を有する材料を充填させて該レン
ズを該レンズ鏡筒内に保持されていることを特徴とする
投影露光装置。 - 【請求項３】 前記投影露光装置を用いて半導体素子を
製造するようにしたことを特徴とする半導体素子の製造
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3334436A JPH05144699A (ja) | 1991-11-22 | 1991-11-22 | レンズ保持装置及びそれを用いた投影露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3334436A JPH05144699A (ja) | 1991-11-22 | 1991-11-22 | レンズ保持装置及びそれを用いた投影露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05144699A true JPH05144699A (ja) | 1993-06-11 |
Family
ID=18277362
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3334436A Pending JPH05144699A (ja) | 1991-11-22 | 1991-11-22 | レンズ保持装置及びそれを用いた投影露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05144699A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1898241A1 (en) * | 2005-06-14 | 2008-03-12 | Nikon Corporation | Optical element, optical element holding apparatus, exposure apparatus and device manufacturing method |
-
1991
- 1991-11-22 JP JP3334436A patent/JPH05144699A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1898241A1 (en) * | 2005-06-14 | 2008-03-12 | Nikon Corporation | Optical element, optical element holding apparatus, exposure apparatus and device manufacturing method |
| EP1898241A4 (en) * | 2005-06-14 | 2010-11-03 | Nikon Corp | OPTICAL ELEMENT, OPTICAL ELEMENT SUPPORT APPARATUS, EXPOSURE APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD |
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