JPH05135591A - Ram書き込み回路 - Google Patents

Ram書き込み回路

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JPH05135591A
JPH05135591A JP3320968A JP32096891A JPH05135591A JP H05135591 A JPH05135591 A JP H05135591A JP 3320968 A JP3320968 A JP 3320968A JP 32096891 A JP32096891 A JP 32096891A JP H05135591 A JPH05135591 A JP H05135591A
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JP
Japan
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point
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potential
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Pending
Application number
JP3320968A
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English (en)
Inventor
Tomoji Marumoto
共治 丸本
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Rohm Co Ltd
Original Assignee
Rohm Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】書き換えのスピ−ドをアップしたRAMのデ−
タ書き込み回路を提供する。 【構成】RAMを構成するセル1cが、互いに直列接続
された一対のインバ−タ2、3と、該一対のインバ−タ
2、3の各接続点(イ)(ロ)に接続されデ−タ書き込
みの際に前記接続点を第1、第2のデ−タライン4、5
に結合する手段6、7とから成り、一方デ−タ書き込み
手段が、デ−タ書き込み前に前記第1、第2のデ−タラ
インを一時的に充電する手段21、22と、デ−タ書き
込み時に前記第1、第2のデ−タラインの一方を接地点
に結合する手段11とから成るRAMのデ−タ書き込み
回路において、デ−タ書き込み時に前記第1、第2のデ
−タラインのうち接地されない方のデ−タラインをハイ
レベル電源に結合する手段12を設けた構成。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はRAMにデ−タを書き込
む回路に関するものである。
【0002】
【従来の技術】図3において、RAMにおける多数のセ
ルのうち3個のセルを1a、1b、1cで示す。これら
のセルは1cに示すようにラッチ部を形成する2個のイ
ンバ−タ2、3と、それらをデ−タライン4、5に接続
するスイッチ用のNチャンネルMOSトランジスタ6、
7とから構成されている。
【0003】そして、前記トランジスタ6、7のゲ−ト
はセレクトラインA3に接続される。トランジスタ6、
7に対応する他のセル1a、1bのトランジスタのゲ−
トは、それぞれセレクトラインA1、A2に接続されて
いる。図3の下方に示されているNチャンネルMOSト
ランジスタQ1、Q2、Q3及びインバ−タ8はライン
9を通して与えられるデ−タを上記デ−タライン4又は
5へ伝送するためのアンプ11を構成している。尚、C
1、C2は上記回路をIC回路で構成したとき付随的に
生じる容量である。21、22は読み出し及び書き換え
の直前にONになって、容量C1、C2を充電すること
によりデ−タライン4、5の電圧をVDDに充電するス
イッチである。このスイッチ21、22はMOSトラン
ジスタで構成される。
【0004】次に、この図3に示すRAMの書き込み回
路の動作を説明する。今、セル1cには(イ)点が1、
(ロ)点が0となるデ−タが記憶されているものとす
る。この状態で、(イ)点を0、(ロ)点を1とするよ
うにデ−タを書き換える場合、まず、その書き換えのタ
イミングより少し前にスイッチ21、22が一時的にO
Nとなり、デ−タライン4、5を電源電圧VDDに充電
する。
【0005】次にセレクトラインA3が一定時間ハイレ
ベルになり(図4(b))、同時に書き込みイネ−ブル
ライン10もハイレベルになる(図4(c))。ライン
10のハイレベル化によりPチャンネルMOSトランジ
スタQ3がONする。
【0006】一方、デ−タライン9のデ−タによってト
ランジスタQ2がON、トランジスタQ1がOFFとな
る。セレクトラインA3のハイレベル化により、セル1
cのトランジスタ6、7もONになり、(イ)点の1
(ハイレベル)はトランジスタ6→Q2→Q3→接地点
を通して電流が流れることにより、図4(e)に示す如
くVDDのレベルから接地レベルに下がっていく。この
とき容量C1が存在するので、容量C1を含むデ−タラ
イン4の所定の時定数に従って下がる。
【0007】一方、トランジスタQ1がOFFであるた
めデ−タライン5は浮いた状態となっており、(ロ)点
のレベル反転は(イ)点のレベルによってのみ決定され
る。即ち、(イ)点のレベルが下がると、それに応じて
インバ−タ3により反転されたレベルが(ロ)点に現わ
れるのである。このようにして、最終的に(イ)点は
0、(ロ)点は1となり、デ−タの書換えが完了する。
【0008】尚、この状態から更に(イ)点を1、
(ロ)点を0に書き換える際には、トランジスタQ1が
ON、トランジスタQ2がOFFになって、(ロ)点の
レベルが下がり、それに伴って(イ)点のレベルが上が
る。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この従
来例では、デ−タの書き換えの際に容量C1やC2によ
る時定数の影響を受けて(イ)点及び(ロ)点のレベル
変化が緩慢となり、書き換えスピ−ドが遅いという欠点
があった。例えば(イ)点が1、(ロ)点が0の状態を
書き換えるとき、(イ)点→6→Q2→Q3で電流が流
れるが、C1にチャ−ジされていた電荷がQ2→Q3→
接地点へ流れてしまわないと、(イ)点は0にはなら
ず、このC1の放電に要する時間によって書き換えスピ
−ドが遅くなる。本発明はこのような点に鑑みなされた
ものであって、書き換えのスピ−ドをアップしたRAM
の書き込み回路を提供することを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め本発明では、RAMを構成するセルが、互いに直列接
続された一対のインバ−タと、該一対のインバ−タの各
接続点に接続されデ−タ書き込みの際に前記接続点を第
1、第2のデ−タラインに結合する手段とから成り、一
方デ−タ書き込み手段が、デ−タ書き込み前に前記第
1、第2のデ−タラインを一時的に充電する手段と、デ
−タ書き込み時に前記第1、第2のデ−タラインの一方
を接地点に結合する手段とから成るRAMのデ−タ書き
込み回路において、デ−タ書き込み時に前記第1、第2
のデ−タラインのうち接地されない方のデ−タラインを
ハイレベル電源に結合する手段を設けた構成としてい
る。
【0011】
【作用】このような構成によると、デ−タの書き込み時
に、接地点に結合されたデ−タラインを通してセルの一
方の接続点から電流が接地点に流れ、その際に容量を含
む放電時定数のため、そのデ−タラインを通しての電位
低下に基づく書き込み動作に加えて、他方のデ−タライ
ンに与えられるハイレベル電源からの電流により、セル
の他方の接続点の電位をハイレベルに保持し、それによ
りインバ−タを介して前記他方の接続点の電位低下が図
られ、総じて書き込みが迅速に行なわれる。
【0012】
【実施例】本発明を実施した図1において、図3の従来
例と同一部分には同一符号を付して重複した説明を省略
する。本実施例が従来例と相違する点はデ−タの書き換
えの際に、従来電気的に浮いていたデ−タライン5(又
は4)に積極的に電位を与えることによって書き換えの
スピ−ドをアップするように働く補助回路12を設けた
点である。
【0013】この補助回路12はPチャンネルMOSト
ランジスタQ4、Q5、Q6を図示のように接続して構
成されており、トランジスタQ4のゲ−トにはアンプ1
1のトランジスタQ1と同一極性のデ−タ電圧が与えら
れる。ただし、トランジスタQ1とQ4はn型とp型と
いう具合いに異なる導電型のトランジスタであるため、
一方がONのとき他方はOFFという関係で動作する。
【0014】トランジスタQ5のゲ−トにはインバ−タ
13で反転されたデ−タ電圧が印加されるため、トラン
ジスタQ2と同一の極性のデ−タ電圧が与えられること
になる。ただし、この場合も互いに異なる導電型のトラ
ンジスタであるので、一方がONのとき他方はOFFと
なる関係で動作する。トランジスタQ6のゲ−トには書
き込みイネ−ブル信号がインバ−タ14で反転されて与
えられる。
【0015】次に書き込みの動作を説明する。今、セル
1cの(イ)点が1、(ロ)点が0となるデ−タが記憶
されている状態で、(イ)点を0、(ロ)点を1にする
ようにデ−タを書き換える場合、従来と同様に書き換え
の直前でスイッチ21、22が一時的にONとなって、
デ−タライン4、5はハイレベル(VDD)になる。次
に書き換えに伴う各信号が図2に示すように変化し、ア
ンプ11はトランジスタQ2とQ3がONで、トランジ
スタQ1がOFFとなる。このとき、補助回路12では
トランジスタQ4とQ6がONで、トランジスタQ5が
OFFとなる。勿論、セル1cのトランジスタ6、7も
ONとなる。
【0016】従って、(イ)点→トランジスタ6→Q2
→Q3→接地点の経路で電流が流れるので、(イ)点の
レベルは下がっていく。一方、トランジスタQ4、Q6
がONになることにより、VDD→Q6→Q4→5→Q
7→(ロ)点の経路で電流が流れるため、(ロ)点の電
位は上昇する。このときC2は予め充電されているの
で、(ロ)点の電位上昇がC2によって遅延することは
ない。
【0017】先にも述べたように(イ)点が0になるた
めにはC1の電荷が放電しなければならないが、本実施
例では(ロ)点側がQ6,Q4、7を通して電圧が印加
されるため、C1の放電動作に加えて(ロ)点側が1に
なり、それをインバ−タ2が反転して(イ)点を0にす
る補助動作が同時に行なわれる。従って、セレクトライ
ンのハイレベル期間(及びイネ−ブル信号のハイレベル
期間)を短縮できる。これは書き込みがC1やC2に影
響され難くなり、早くなることを意味する。
【0018】次に、この状態から更に(イ)点を元の
1、(ロ)点を0になるように書き換える場合は、トラ
ンジスタQ1、Q3、Q5、Q6がON、トランジスタ
Q2、Q4がOFFとなり、(ロ)点の電位は(イ)点
の電位がすぐにハイレベルとなることにより、迅速にロ
−レベルとなる。
【0019】
【発明の効果】上述したように本発明によれば、デ−タ
の書き込み時に、接地点に結合されたデ−タラインを通
してセルの一方の接続点から電流が接地点にながれ、そ
の際に容量を含む放電時定数のため、そのデ−タライン
を通しての電位低下に基づく書き込み動作に加えて、他
方のデ−タラインに与えられるハイレベル電源からの電
流により、セルの他方の接続点の電位をハイレベルに保
持し、それによりインバ−タを介して前記他方の接続点
の電位低下が図られ、総じて書き込みが迅速に行なわれ
る。そのため書き込みスピ−ドの早いRAMを実現する
ことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明を実施したRAMのデ−タ書き込み回
路を示す回路図。
【図2】 その各部の信号のタイムチャ−トを示す図。
【図3】 従来例の回路図。
【図4】 その各部の信号のタイムチャ−トを示す図。
【符号の説明】
1a、1b、1c セル 2、3 インバ−タ 4、5 デ−タライン 6、7 スイッチ用NチャンネルMOSトランジスタ 11 アンプ 12 補助回路(アンプ) C1、C2 容量 VDD 電源電圧 (イ)(ロ)接続点

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】RAMを構成するセルが、互いに直列接続
    された一対のインバ−タと、該一対のインバ−タの各接
    続点に接続されデ−タ書き込みの際に前記接続点を第
    1、第2のデ−タラインに結合する手段とから成り、一
    方デ−タ書き込み手段が、デ−タ書き込み前に前記第
    1、第2のデ−タラインを一時的に充電する手段と、デ
    −タ書き込み時に前記第1、第2のデ−タラインの一方
    を接地点に結合する手段とから成るRAMのデ−タ書き
    込み回路において、 デ−タ書き込み時に前記第1、第2のデ−タラインのう
    ち接地されない方のデ−タラインをハイレベル電源に結
    合する手段を設けたことを特徴とするRAMのデ−タ書
    き込み回路。
JP3320968A 1991-11-08 1991-11-08 Ram書き込み回路 Pending JPH05135591A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3320968A JPH05135591A (ja) 1991-11-08 1991-11-08 Ram書き込み回路

Applications Claiming Priority (1)

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JP3320968A JPH05135591A (ja) 1991-11-08 1991-11-08 Ram書き込み回路

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JPH05135591A true JPH05135591A (ja) 1993-06-01

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ID=18127313

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP3320968A Pending JPH05135591A (ja) 1991-11-08 1991-11-08 Ram書き込み回路

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JP (1) JPH05135591A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100708808B1 (ko) * 2000-02-18 2007-04-17 오리온 21 에이. 디. 피티와이 리미티드 발광성 젤 코팅물 및 성형가능한 수지
JP2009140578A (ja) * 2007-12-07 2009-06-25 Oki Semiconductor Co Ltd 半導体記憶装置

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KR100708808B1 (ko) * 2000-02-18 2007-04-17 오리온 21 에이. 디. 피티와이 리미티드 발광성 젤 코팅물 및 성형가능한 수지
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