JPH05125525A - 有機薄膜形成装置 - Google Patents

有機薄膜形成装置

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Publication number
JPH05125525A
JPH05125525A JP28855791A JP28855791A JPH05125525A JP H05125525 A JPH05125525 A JP H05125525A JP 28855791 A JP28855791 A JP 28855791A JP 28855791 A JP28855791 A JP 28855791A JP H05125525 A JPH05125525 A JP H05125525A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
crucible
heating
substrate
thin film
clusters
Prior art date
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Pending
Application number
JP28855791A
Other languages
English (en)
Inventor
Seiichi Ohashi
誠一 大橋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP28855791A priority Critical patent/JPH05125525A/ja
Publication of JPH05125525A publication Critical patent/JPH05125525A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 ルツボの加熱,冷却時間を短縮することがで
き、有機薄膜基板の製造能力が向上する有機薄膜形成装
置を得ることを目的とする。 【構成】 ルツボ3を取り囲むように配設された電熱線
30と、ルツボ3に接触するように配設されるとともに
電熱線30を保持する筒部31と、この筒部31に接触
して取り囲むように配設された水冷ジャケット32とを
備えたものである。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、クラスタイオンビー
ム蒸着法により有機薄膜を形成する有機薄膜形成装置に
関するものである。
【0002】
【従来の技術】図3は例えば特公昭54−9592号公
報に示された従来の薄膜形成装置を模式的に示す概略構
成図であり、図において1は所定の真空度に保持された
真空槽、2はこの真空槽1を真空状態に排気する真空排
気系、3は真空槽1内の下部に置かれた密閉型のルツ
ボ,4はこのルツボ3の上部に設けられた少なくとも一
つのノズル、5はルツボ3内に充填された蒸着物質、6
はルツボ3を加熱する加熱用フィラメント、7はこの加
熱用フィラメント6からの熱を遮る熱シールド板、8は
ルツボ3上部に設けられたノズル4から蒸着物質を噴出
させて形成したクラスター(塊状原子集団)、9はルツ
ボ3、加熱用フィラメント6および熱シールド板7によ
り構成された蒸気発生源である。
【0003】10は電子ビームを放出するイオン化フィ
ラメント、11はこのイオン化フィラメント10から電
子を引き出し加速する電子ビーム引出電極、12はイオ
ン化フィラメント10の熱を遮る熱シールド板、13は
イオン化フィラメント10、電子ビーム引出電極11お
よび熱シールド板12により構成されたイオン化手段で
ある。14はこのイオン化手段13によってイオン化さ
れたイオン化クラスター、15aおよび15bはこのイ
オン化クラスター14を電界で加速し、運動エネルギー
を付与する加速手段である加速電極とアース電極であ
る。16はその表面に薄膜が形成される基板である。
【0004】17は加熱用フィラメント6を加熱する第
一交流電源、18はルツボ3の電位を加熱用フィラメン
ト6に対して正にバイアスする第一直流電源、19はイ
オン化フィラメント10を加熱する第二交流電源、20
はイオン化フィラメント10を電子ビーム引出電極11
に対して負にバイアスする第二直流電源、21はルツボ
3、電子ビーム引出電極11および加速電極15aをア
ース電極15bに対して正にバイアスする第三直流電
源、22は第一交流電源17、第一直流電源18、第二
交流電源19、第二直流電源20および第三直流電源2
1を収納する電源装置である。
【0005】従来の薄膜形成装置は上述したように構成
され、真空槽1を10-6torr程度の真空度になるま
で真空排気系2によって排気する。加熱用フィラメント
6から放出される電子を第一直流電源18で印加される
電界によって引き出し、この引き出された電子をルツボ
3に衝突させ、ルツボ3内の蒸気圧が数Torrになる
温度まで加熱する。この加熱によって、ルツボ3内の蒸
着物質5は蒸発し、ノズル4から真空槽1中に噴射され
る。この蒸着物質5の蒸気は、ノズル4を通過する際、
断熱膨張により加速冷却されて凝縮し、クラスター8と
呼ばれる塊状原子集団が形成される。このクラスター8
は、イオン化フィラメント10から放出される電子ビー
ムによって一部がイオン化されることにより、イオン化
クラスター14となる。このイオン化クラスター14
は、イオン化されていない中性のクラスター8と共にア
ース電極15bで印加される電界により加速され、基板
16表面に衝突して薄膜が形成される。
【0006】なお、電源装置22内の各直流電源の機能
は次のとおりである。第一直流電源18は、第一交流電
源17によって加熱された加熱用フィラメント6から放
出された熱電子をルツボに衝突させる。第二直流電源2
0は、電子ビーム引出電極11に対して第二交流電源1
9で加熱されたイオン化フィラメント10を負にバイア
スし、イオン化フィラメント10から放出された熱電子
を電子ビーム引出電極11内部に引き出す。第三直流電
極21は、アース電位にあるアース電極15bに対して
ルツボ3、電子ビーム引出電極11および加速電極15
aを正にバイアスし、加速電極15aとアース電極15
bとの間に形成される電界レンズによって、正電荷のイ
オン化クラスター14を加速制御する。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】従来の薄膜形成装置
は、以上のように構成されているので、ルツボ3は加熱
用フィラメント6からのふく射熱で加熱されるため比較
的低温で加熱する有機物質の場合、ルツボ3の加熱に時
間がかかると同時に、運転終了時のルツボ3の冷却も熱
ふく射で熱を取り去るため、長時間の冷却時間が必要で
あるなどの課題があった。
【0008】この発明、上記のような課題を解消するた
めになされたもので、ルツボの加熱を短時間でできると
ともに、運転終了時のルツボの冷却も短時間ででき、有
機薄膜基板の製造能力が向上する有機薄膜形成装置を得
ることを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】この発明に係る有機薄膜
形成装置は、ルツボを取り囲むように配設された電熱線
と、ルツボに接触するように配設されるとともに電熱線
を保持する筒部と、この筒部に接触して取り囲むように
配設された水冷ジャケットとを備えたものである。
【0010】
【作用】この発明における筒部は、電熱線から発せられ
る熱を熱伝導にてルツボに伝達させる。また、運転終了
時、水冷ジャケットは筒部に接触しているので、ルツボ
の熱を熱伝導で外部へ取り去る。
【0011】
【実施例】
実施例1.以下、この発明の一実施例を図について説明
する。図1において30は加熱部であるルツボ加熱用電
熱線、31は前記ルツボ加熱用電熱線30を保持し、ル
ツボ3の外周に接触するように配設された内筒部、32
は内筒部31に接触して取り囲むように配設された水冷
ジャケット、33は内筒部31、および水冷ジャケット
32を電気的に絶縁するためのセラミック支柱を示す。
【0012】図2において、34はルツボ加熱用電熱線
30を外部被膜するSUSチューブ、35はルツボ加熱
用電熱線30とSUSチューブ34とを電気的に絶縁す
るための酸化マグネシウムを示す。
【0013】上記実施例の有機薄膜形成装置では、ルツ
ボ加熱用電熱線30は、第1交流電源17により発熱せ
られ、その熱は熱伝導により内筒部31を通じてルツボ
3に伝えられる。この場合、図3において説明した第一
直流電源18は、蒸着材料である有機物の加熱温度が低
いため不用である。この加熱によって、ルツボ3内の有
機物質である蒸着物質は蒸発し、ノズル4から真空槽1
中に噴出される。
【0014】運転終了時、ルツボ3を冷却するために、
水冷ジャケット32に純水を流す。この場合、水冷ジャ
ケット32は印加された状態となっており、純水を流す
必要がある。ルツボ3の熱は内筒部31に熱伝導で伝わ
り、またその熱は内筒部31から水冷ジャケット32の
純水に熱伝導で伝わり、純水により外部へ出される。
【0015】
【発明の効果】以上説明したように、この発明の有機薄
膜形成装置によれば、ルツボの加熱を電熱線からの熱伝
導により行なうので、ルツボの昇温加熱時間が短く、ま
た運転終了時、ルツボを冷却する場合、ルツボに接触し
た筒部を水冷ジャケットで冷却しているので、短時間で
冷却が可能となり、有機薄膜基板の製造能力が向上する
という効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の一実施例による有機薄膜形成装置の
概念を示す構成図である。
【図2】図1の要部拡大図である。
【図3】従来の薄膜形成装置の一例を示す構成図であ
る。
【符号の説明】
1 真空槽 3 ルツボ 30 ルツボ加熱用電熱線 31 円筒部(筒部) 32 水冷ジャケット

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 所定の真空度に保持された真空槽と、こ
    の真空槽内に配置された基板と、この基板に対向して設
    けられ、この基板に向けて蒸着有機物質の蒸気を噴出し
    て蒸気物質のクラスターを発生させるルツボと、このル
    ツボを加熱する加熱部と、この加熱部と前記基板との間
    に配設され、前記クラスターの一部をイオン化するため
    のイオン化部と、このイオン化部と前記基板との間に配
    設され、前記イオン化部によってイオン化されたクラス
    ターを前記基板に向けて運動エネルギーを付与して衝突
    させるための加速部とを備えた有機薄膜形成装置におい
    て、前記加熱部は、前記ルツボを取り囲むように配設さ
    れた電熱線で構成されているとともに、この電熱線は前
    記ルツボに接触するように配設された筒部で保持され、
    またこの筒部に接触しかつ取り囲むように水冷ジャケッ
    トが配設されたことを特徴とする有機薄膜形成装置。
JP28855791A 1991-11-05 1991-11-05 有機薄膜形成装置 Pending JPH05125525A (ja)

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JP28855791A JPH05125525A (ja) 1991-11-05 1991-11-05 有機薄膜形成装置

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JP28855791A JPH05125525A (ja) 1991-11-05 1991-11-05 有機薄膜形成装置

Publications (1)

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JPH05125525A true JPH05125525A (ja) 1993-05-21

Family

ID=17731795

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JP28855791A Pending JPH05125525A (ja) 1991-11-05 1991-11-05 有機薄膜形成装置

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JP (1) JPH05125525A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013057129A (ja) * 2004-03-22 2013-03-28 Global Oled Technology Llc 流動化した有機材料の気化

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2013057129A (ja) * 2004-03-22 2013-03-28 Global Oled Technology Llc 流動化した有機材料の気化

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