JPH05124998A - 共沸様組成物 - Google Patents

共沸様組成物

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JPH05124998A
JPH05124998A JP3310215A JP31021591A JPH05124998A JP H05124998 A JPH05124998 A JP H05124998A JP 3310215 A JP3310215 A JP 3310215A JP 31021591 A JP31021591 A JP 31021591A JP H05124998 A JPH05124998 A JP H05124998A
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JP
Japan
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methylpentane
weight
hfc
decafluoropentane
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JP3310215A
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Hideaki Kikuchi
秀明 菊地
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Chemours Mitsui Fluoroproducts Co Ltd
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Du Pont Mitsui Fluorochemicals Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 本発明は、共沸乃至それに近い挙動を示し洗
浄剤として優れた特性を持つ、高度に弗素化されたハイ
ドロフルオロカーボンをベースとする共沸様組成物を提
供することを目的とする。 【構成】 本発明に係る共沸様組成物は、デカフルオロ
ペンタン及び3-メチルペンタンからなり、特に70〜99重
量%の1,1,1,2,3,4,4,5,5,5-デカフルオロペンタンと30
〜1 重量%の3-メチルペンタンからなることを特徴とす
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、高度に弗素化されたハ
イドロフルオロカーボンをベースとする共沸乃至それに
近い挙動を示す組成物に関するものである。更に詳しく
は、加工や錆止めとして金属部品に使用されているグリ
ースや加工油等の脱脂洗浄、半導体製造時のフラックス
除去の為に好適に使用されるほか、発泡剤、作動媒体、
電気絶縁剤等の用途を代替することが可能な共沸様組成
物に関する。
【0002】
【従来の技術】クロロフルオロカーボンは毒性が少なく
難燃性で、化学的、熱的に安定なものが多いため、溶
剤、発泡剤、冷媒等に広く使用され、フラックス除去等
の半導体製品の洗浄には、クロロフルオロカーボン系溶
剤である1,1,2-トリクロロ−1,2,2-トリフルオロエタン
(CFC-113,沸点約48℃)、或は塩素系溶剤である1,1,1-
トリクロロエタン等が使用されていた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしオゾン層保護の
観点から、ウイーン条約(1985年)やモントリオール議
定書(1987年)に基づき、わが国でもCFC-11(トリクロ
ロフルオロメタン)、CFC-12(ジクロロジフルオロメタ
ン)、 CFC-113、 CFC-114、CFC-115などのクロロフル
オロカーボンについては生産量削減、使用規制等が実施
された。また塩素系溶剤についても発ガン性が指摘され
ており、地下水汚染などの問題もあって使用規制が検討
されている。そこで本発明は、オゾン層を破壊する恐れ
が無く、発ガン性の問題がない、塩素を含まない新規な
ハイドロフルオロカーボンをベースとして、共沸乃至そ
れに近い挙動を示す組成物を提供することを目的とす
る。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明に係る共沸様組成
物は、デカフルオロペンタン及び3-メチルペンタンから
なり、特に70〜99重量%の1,1,1,2,3,4,4,5,5,5-デカフ
ルオロペンタン(以下HFC-43-10meeと記す)と30〜1 重
量%の3-メチルペンタンからなることを特徴とする。
【0005】実施例で用いたHFC-43-10meeは沸点が54.7
℃であった。3-メチルペンタンは市販の溶剤グレードの
ものを使用できる。
【0006】沸点54.7℃のHFC-43-10meeを用いた場合、
本発明の組成物は、下記の実施例1から明らかなよう
に、82.3重量%のHFC-43-10mee及び17.7重量%の3-メチ
ルペンタンからなる組成において45.8℃に低下し気相と
液相の組成がほぼ同一となり、明らかに共沸様組成物と
なっている。
【0007】本発明の組成物は共沸乃至それに近い挙動
を示す組成であるため、使用工程において蒸留操作があ
っても成分変化が少ないので該組成物の特性を維持する
ことができ、また組成物の回収や再利用に好都合であ
り、かつ炭化水素の溶解性がデカフルオロペンタンのみ
の場合よりも向上する。
【0008】本発明の共沸様組成物中には、必要によっ
て安定化剤として従来クロロフルオロカーボンに用いら
れてきたニトロアルカン類、エポキシド類、フラン類、
ベンゾトリアゾール類、フェノール類、アミン類、ホス
フェイト類から選ばれる少なくとも1種が含まれていて
も構わない。安定剤の配合量は、共沸様組成物に対して
0.01〜5 重量%、好ましくは0.05〜0.5 重量%である。
【0009】また本発明の共沸様組成物の引火性は、3-
メチルペンタン単品の引火点に対して大幅に上昇し、安
全性が向上している。
【0010】洗浄剤用途として具体的には、フラック
ス、油脂、バフ研磨剤などの汚染物除去のため、金属部
品、プラスチック部品、ゴム製品や、これらを組み合わ
せた精密機械部品、電子部品の洗浄剤や、ドライクリー
ニング用洗浄剤として用いられる。洗浄剤として用いる
場合、常温洗浄法でのぬぐい落とし、浸漬、はけ洗い、
フラッシュ、スプレー、超音波洗浄や、加熱洗浄法での
沸騰状態での浸漬、蒸気ゆすぎ、蒸気洗浄等が適用で
き、これらを組み合わせるとより効果的である。
【0011】本発明の共沸様組成物は従来のフロンと同
様に、洗浄剤の他、発泡剤、作動媒体、フルオロポリマ
ー重合用溶剤、電気絶縁油等の各種用途にも使用でき
る。
【0012】以下実施例により本発明を詳細に説明す
る。
【0013】
【実施例1】HFC-43-10mee(沸点54.7℃)90重量%及び
3-メチルペンタン(和光純薬製:沸点63℃)10重量%よ
りなる混合液 400gをフラスコ(500ml)に入れ理論段
数30段のオルダーショウ型蒸留カラムを用いて還流比50
で大気圧下で蒸留を行った。その結果カラム塔頂温度が
45.8℃の一定温度で初期重量の約41%に相当する 164g
の留分を得ることができた。この一定温度45.8℃におい
て共沸様を呈した留分をガスクロマトグラフィー(島津
製作所製GC-14A)により分析したところ、HFC-43-10mee
82.3重量%、3-メチルペンタン17.7重量%よりなる組成
物であった。
【0014】
【実施例2】サンプル瓶(20ml)に、HFC-43-10mee8.
23g及び3-メチルペンタン1.77gを採り室温で混合し、
その中に冷凍機油(アトモスHAB15F:日本石油製) 0.1
gを入れ室温で手で振って撹拌した。冷凍機油は該混合
組成物に均一に溶解した。
【0015】
【実施例3】85重量%のHFC-43-10meeと15重量%の3-メ
チルペンタンからなる組成物をJISK-2265に従って測定
した。この組成物の引火点は3-メチルペンタン単品の引
火点に対して大幅な上昇が見られた。
【0016】
【比較例1】サンプル瓶(20ml)に、HFC-43-10meeを
10gを計り採り、その中に実施例2で使用したのと同じ
冷凍機油 0.1gを入れ室温で手で振って撹拌したところ
静置後二層分離した。油脂に対する溶解性は、HFC-43-1
0mee単独の場合よりも、本発明の共沸様組成物の方が明
らかに優れている。
【0017】
【発明の効果】本発明の組成物(極小沸点45.8℃)は、
実施例より明かなようにCFC-113 (沸点約48℃)と沸点
が近く、従来用いてきた装置をそのまま使用でき、また
共沸乃至はそれに近い挙動を示すので、液管理が容易で
ある。また油脂に対する溶解性がHFC-43-10mee単独の場
合よりも大きいため、加工や錆止めとして金属部品に使
用されるグリースや加工油等の脱脂洗浄そして半導体製
造時のフラックス除去等に有用である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C23G 5/028 7308−4K // H05K 3/26 6736−4E

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 デカフルオロペンタン及び3-メチルペン
    タンからなることを特徴とする共沸様組成物。
  2. 【請求項2】 70〜99重量%の1,1,1,2,3,4,4,5,5,5-デ
    カフルオロペンタンと30〜1 重量%の3-メチルペンタン
    からなる請求項1記載の共沸様組成物。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5578137A (en) * 1993-08-31 1996-11-26 E. I. Du Pont De Nemours And Company Azeotropic or azeotrope-like compositions including 1,1,1,2,3,4,4,5,5,5-decafluoropentane
USRE39819E1 (en) 1998-07-24 2007-09-04 Atofina Cleaning or drying compositions based on 1,1,1,2,3,4,4,5,5,5-decafluoropentane
JP2008147204A (ja) * 2006-12-05 2008-06-26 Fuji Name Plate Kk 導電回路形成方法、導電回路形成部品、抵抗体の製造方法、及び基板の製造方法

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USRE39819E1 (en) 1998-07-24 2007-09-04 Atofina Cleaning or drying compositions based on 1,1,1,2,3,4,4,5,5,5-decafluoropentane
JP2008147204A (ja) * 2006-12-05 2008-06-26 Fuji Name Plate Kk 導電回路形成方法、導電回路形成部品、抵抗体の製造方法、及び基板の製造方法

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